JPH0453945B2 - - Google Patents

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JPH0453945B2
JPH0453945B2 JP62051897A JP5189787A JPH0453945B2 JP H0453945 B2 JPH0453945 B2 JP H0453945B2 JP 62051897 A JP62051897 A JP 62051897A JP 5189787 A JP5189787 A JP 5189787A JP H0453945 B2 JPH0453945 B2 JP H0453945B2
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annealing
strength
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Akira Sugawara
Naoyuki Kanehara
Takashi Kurokawa
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Dowa Holdings Co Ltd
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Dowa Mining Co Ltd
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【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は、強度、弾性、電気伝導性に優れ且つ
曲げ加工性、メツキ信頼性、応力緩和特性に優れ
た電気・電子部品の端子・コネクター用高強度銅
合金の製造法に関する。 〔従来の技術および発明の背景〕 プラグ側およびソケツト側の導電端子を構成す
る端子・コネクター用材料は、その形状や大きさ
を問わず、強度、弾性、応力緩和特性、耐食性等
の様々な諸特性を兼備したうえ、加工が容易で且
つ安価な材料であることが要求される。かような
端子・コネクター用材料として従来より最も普通
に使用されているものに黄銅およびリン青銅があ
る。 黄銅は成形加工性が容易で且つ安価であるとい
う長所を持つが、耐食性、耐応力腐食割れ性が悪
くて、急激な進歩を遂げている最近の電気・電子
工業における端子・コネクター用材料としては信
頼性に欠ける場合がある。一方、リン青銅は強
度、弾性、耐食性および耐応力腐食割れ性は良好
であるが、特に強度が要求される場合にはSnを
5%以上含有するために高価であり、また導電率
や応力緩和特性が悪いという欠点をもつ。 特開昭60−184655号公報、特開昭61−159541号
公報、特開昭62−50428号公報等には適量のTiと
Niを含有させた銅基合金が示されている。この
種の合金はTi−Ni系の化合物をマトリツクス中
に分散析出させることによつて強度と導電率の向
上を図ることができる。 本発明は最近の電気・電子部品の進歩に伴つて
端子・コネクター用材料に対しても厳しく要求さ
るようになつた諸特性を併せもつ材料の開発を目
的としたものであり、特にTi、Ni、Znを適量含
有させると共にその製造条件を適正に規制するこ
とによつて、強度、弾性および電気伝導性が共に
良好で且つ曲げ加工性、半田メツキ耐熱密着性、
応力緩和特性等が優れた端子・コネクター用高強
度銅合金を提供するものである。 〔発明の要旨〕 本発明合金は、重量%において、Ni:1.0〜4.0
%、Ti;0.5〜2.0%、ただし、Ni/Tiの重量百分
率の比率が1.2〜3.3の範囲、Zn:0.1〜3.0%、さ
らに場合によつては、Zr、Mg、P、Bのうち1
種または2種以上を単独または総計で0.01〜0.5
%含み、残部がCuおよび不可避的不純物からな
り、Ni−Ti系金属間化合物が均一微細にCuマト
リツクス中に析出した組織を有し、以下の製造法
によつて、端子・コネクター、リードフレームに
要求される諸特性を併せて具備する合金とするこ
とができる。 すなわち本発明によれば、重量%において
Ni:1.0〜4.0%、Ti;0.5〜2.0%、ただしNi/Ti
の重量百分率の比率が1.2〜3.3の範囲、Zn:0.1〜
3.0%を含み、場合によつては更にZr、Mg、P、
Bのうち1種または2種以上を単独または総計で
0.01〜0.5%含み、残部がCuおよび不可避的不純
物からなる銅合金の板素材を製造し、これを900
℃以上の温度で溶体化処理し、最終板厚まで冷間
圧延する途中で700〜800℃の温度で1〜60分間の
焼鈍を少なくとも1回挟んで冷間圧延し、次いで
400〜600℃の温度で5〜720分間の時効処理を行
なうことを特徴とする端子・コネクター用高強度
銅合金の製造法を提供する。特に本発明合金にお
いて冷間圧延の途中に行なう該焼鈍は、後記の実
施例で示すように時効後の特性に有利に作用し、
良好な導電率と成形加工性をバランスよく具備し
た材料とすることができる。 〔発明の詳述〕 以下に、本発明合金の添加元素の含有量の範囲
選定理由と製造条件について個別に説明する。 本発明の銅基合金はNi−Ti系金属間化合物に
よる析出強化および分散強化を図つた点に基本的
な特徴があり、このためにNiとTiは本発明合金
において不可欠の元素である。 Ti含有量は0.5%(重量%、以下同じ)未満で
はNiとの共存下でも強度、弾性の向上効果が少
ない。一方、Ti含有量が2.0%を超えると析出物
が過度に多くなつて合金の延性、曲げ加工性、メ
ツキ信頼性を低下させる。したがつて、本発明合
金のTi含有量は0.5〜2.0%の範囲とする。 Niは、Tiと化合物を形成し、強度、弾性の向
上に寄与する元素である。また、鋳造組織を微細
にし且つ溶体化処理時の結晶粒粗大化を防止する
効果がある。このような効果を発揮するには、
1.0%以上の含有が必要であるが、4.0%を超えて
含有すると、電気および熱の伝導性の低下が顕著
となる。したがつてNi含有量は1.0〜4.0%の範囲
とする。 また、NiとTiはNi−Ti系金属間化合物として
析出するときに本発明の目的が達成される。この
Ni−Ti系金属間化合物の析出による強化を十分
に発揮するには、Ni/Tiの重量百分率による比
率を1.2〜3.3の範囲にすることが必要であること
がわかつた。Ni/Ti比が1.2より小さい場合には
TiとCuとの化合物であるTi−Cu系金属間化合物
が時効析出する。このTi−Cu系金属間化合物が
析出しても電気および熱の伝導性の向上は少な
い。また、溶体化処理時に結晶粒が粗大化し易
く、従つて曲げ加工時に表面肌荒れを生じ易くな
る。このようなことからNi/Ti比は1.2以上とす
る必要がある。他方、Ni/Ti比が3.3より大きい
場合には、マトリツクスに残留するNi量が多く
なつて電気および熱の伝導性を低下させる。この
ような理由から本発明合金の特性を十分に発揮す
るにはNi/Ti比を1.2〜3.3の範囲にすることが必
要である。 Znは、本発明合金のメツキ信頼性を向上させ
る。具体的にはSnメツキやSn−Pbメツキの耐熱
密着性を向上させる。電気・電子部品に対するメ
ツキはSnメツキやSn−Pbメツキが一般である
が、本発明合金のようにNiやTiを含有する材料
にこのメツキを施した場合には、通電や環境によ
つて長時間加熱された場合にNiやTiがメツキ界
面に拡散し、メツキのSnと反応して反応拡散層
を形成することがある。この反応拡散層は脆弱で
あるのでこれが生成するとメツキが剥離し易くな
り、メツキ信頼性を低下させる。Znを適量添加
するとNiやTiのCu中での拡散が抑制され、界面
の反応拡散層の形成を効果的に抑制できる。した
がつて、本発明合金においてZnはメツキ信頼性
の向上に有益に機能する。また、Znは脱酸作用
があるので溶湯の脱酸剤にもなるし、さらに溶湯
の流れ性を良くするので鋳造性も向上させる。こ
のようなZnの添加効果を発揮するには0.1%以上
の含有が必要であるが、3.0%を超えて含有する
と伝気電導性の低下が著しくなり、また応力腐食
割れ感受性が高まり耐食性が低下する。このよう
な理由からZnの含有量は0.1〜3.0%の範囲とす
る。 Zr、Mg、P、Bは、本発明合金の溶製時にお
ける脱酸剤として有益である。十分な脱酸は添加
元素であるNiやTiの酸化防止にもなり、また合
金の材料特性を向上させることができる。例え
ば、ZrやMgは本発明合金の強度、弾性の改善効
果があり、PやBは加工性の改善効果がある。こ
のような効果を得るには、これら元素の1種また
は2種以上を総計で0.01%以上添加すればよい。
しかし総計で0.5%を超えて含有すると電気伝導
性および曲げ加工性が低下してくる。したがつて
これらの1種または2種以上の元素の添加量は総
計で0.01〜0.5%の範囲とする。 このような成分組成に調整した本発明の銅基合
金はNi−Ti系金属間化合物を均一微細に分散析
出させることによつて近時の電気・電子部品の要
求を満足する諸特性を同時に具備した材料とする
ことができる。このような諸特性は加工の途中に
適切な熱処理条件を採用した製造法によつて有利
に発現させることができる。 以下にその製造法の詳細を説明する。 まず、Ni:1.0〜4.0%、Ti;0.5〜2.0%、ただ
し、Ni/Tiの重量百分率の比率が1.2〜3.3の範
囲、Zn:0.1〜3.0%、場合によつてはさらに、
Zr、Mg、P、Bのうち1種または2種以上を単
独または総計で0.01〜0.5%含み、残部がCuおよ
び不可避的不純物からなる鋳片を溶解鋳造によつ
て製造する。この溶解鋳造は不活性ガスあるいは
還元ガス雰囲気中で行なうのが望ましい。次いで
鋳片(鋳塊)を熱間圧延して熱延板を製造し、脱
スケールを行なう。 以下、この熱延板を900℃以上の温度で溶体化
処理し、最終板厚まで冷間圧延する途中で700〜
800℃の温度で1〜60分間の焼鈍を少なくとも1
回挟んで冷間圧延し、次いで400〜600℃の温度で
5〜720分間の時効処理を行なうのであるが、そ
の作用を順に説明する。 溶体化処理については900℃以上で行なうこと
が必要である。900℃未満の温度では十分に溶体
化せず、したがつて、熱延の工程で生じた粗大な
析出物が十分に消失しないので特性の向上が図れ
ない。また、900℃未満の温度では結晶粒の調整
も難しい。この溶体化処理の時期については、溶
体化処理によつて生じることもある板のうねり等
を消去し且つ適度の加工硬化を付与する意味で、
冷間圧延の前に実施するのがよい。 時効処理は、板材製造の最終工程で実施するの
であるが、これは400〜600℃の温度で5〜720分
間の条件で実施する。600℃を超える温度では析
出するNi−Ti系金属間化合物が凝集粗大化して
特性の向上が期待できなくなり、また400℃未満
の温度では析出するに要する時間が長くなり過ぎ
るので好ましくない。したがつて時効温度は400
〜600℃の範囲とする。時効時間については5分
未満では析出物の形成が不十分であり、720分を
超えるような長時間では析出物の成長のうえから
もまた経済性のうえからも好ましくない。 一方、冷間圧延では目標板厚にまで圧延するさ
いに、圧延途中で700〜800℃の温度で1〜60分間
の焼鈍を少なくとも1回挟んで冷間圧延すること
によつて、時効処理後の動電率および曲げ加工性
を一層向上させることができる。この中間焼鈍は
溶体化処理温度より低い温度で且つ時効処理温度
より高い温度で行う。すなわち700℃より低い温
度では時効析出が進んで材料が硬化しその後の圧
延性を低下させ且つ曲げ加工性が低下するので
700℃以上の温度で実施する。しかし800℃を超え
る温度では合金の軟化が著しくなり、また再結晶
しはじめることによる結晶粒の混粒が材料の曲げ
加工性を低下させる。したがつて焼鈍温度は700
〜800℃の範囲とする。焼鈍時間については1分
未満では導電率および曲げ加工性の向上効果が少
なく、60分を超えると合金の軟化が著しくなり適
度の硬さを維持できなくなるので1〜60分とす
る。 この中間焼鈍の効果は二段時効処理(一段目は
低い温度、二段目は高い温度で行なう時効処理)
の一段目のそれと似たところがあるが、組織挙動
や作用は基本的な違いがあると考えてよい。この
点は後記の実施例で説明する。 以上の熱処理を経ることによつて、Ni−Ti系
金属間化合物がCuマトリツクス中に微細且つ均
一に分散析出した組織の銅基合金の薄板が製造で
きる。この合金は、後記の実施例に示すように、
高強度、高弾性、高導電率を兼備し、且つ曲げ加
工性、メツキ信頼性、応力緩和特性等に優れるの
で、近年の電気・電子部品の軽薄短小化を可能に
する端子・コネクター用材料として好適なもので
ある。 実施例 1 第1表にその化学成分値(重量%)を示す銅基
合金No.1〜No.11を高周波溶解炉を用いて溶製し、
40mm×40mm×140mmの鋳塊に鋳造した。溶解鋳造
雰囲気は完全に不活性ガスでシールドした。各鋳
塊を40mm×40mm×10mmの大きさに切断し、この鋳
片を950℃で熱間圧延し、厚さ3mmの熱延板を得
た。これを面削したあと1mmまで冷延し、950℃
の温度で30分間の溶体化処理を行つた。 これを水急冷、酸洗したあと、厚さ0.4mmまで
中間焼鈍なしで冷間圧延し、500℃の温度で60分
間の時効処理を施し、この処理を終えた材料を試
験材とした。なお、前述の各熱処理についてはそ
の雰囲気を不活性ガスまたは還元性ガス雰囲気と
して材料表面および内部の酸化をできるだけ抑制
した。 得られた試験材を用いて、硬度、引張強さ、ば
ね限界値、導電率、曲げ加工性、半田密着性を調
べた結果を第2表の中間焼鈍なしの欄に示した。 また、各銅基合金No.1〜No.11の板厚1mmの溶体
化処理材を板厚0.4mmまで冷間圧延するさいに、
0.6mmまで一段目の冷延を行い、次いで750℃×30
分の中間焼鈍を行つてから0.4mmまで二段目の冷
延を行つた以外は、前記例と同じ条件で時効処理
材を製造し、同様の試験を行つた結果を第2表の
中間焼鈍ありの欄に示した。 硬度、引張強さ、ばね限界値および導電率の測
定はそれぞれJISZ2244、JISZ2241、JISH3130お
よびJISH0505に従つて行つた。曲げ加工性は
90°W曲げ試験(CES−M0002−6、R=0.4mm)
を行い、中央部山表面が良好なものを○、割れが
発生したものを×として評価した。半田密着性は
半田メツキ(デイツプ:Sn−40wt.%Pb、230℃
×5sec、弱活性ロジンフラツクス使用)をした
後、150℃の温度で720時間加熱保持後、密着曲げ
し、セロハンテープにてピーリングテストを行
い、メツキが剥離しないものを○、剥離したもの
を×として評価した。 第2表の結果から次のことが明らかである。 本発明によるNo.1〜No.7の合金は、硬度、引張
強さ、ばね限界値、導電率のバランスが優れ、且
つ曲げ加工性および半田密着性も良好である。し
たがつて端子・コネクター用高強度銅合金として
非常に優れた特性を有する合金であることがわか
る。 これに対し、Ni/Ti比が本発明で規定するよ
り大きい比較合金No.8は強度および弾性が低く、
またNi/Ti比が本発明で規定するより小さい比
較合金No.9は導電率が低い。したがつて、Niお
よびTiの量が本発明で規定する範囲にあつても
Ni/Ti比が本発明で規定する範囲外であれば材
料特性のバランスが悪くて本発明の目的が達成で
きない。 また、Znを添加していない比較合金No.10は半
田密着性が悪く、Ti含有量が本発明で規定する
量より多い比較合金No.11は曲げ加工性および半田
密着性が悪い。 そして、中間焼鈍を行なうと、行わない場合に
比べて導電率が非常に向上することが明らかであ
る。
【表】
【表】 また、第1表の本発明合金No.1と市販のリン青
銅(C5191H材 0.4mmt)について応力緩和特性
の特定を行い、その結果を第3表に示した。その
試験は、試験片の中央部の応力が45Kgf/mm2にな
るようにU字曲げを行い、150℃の温度で500時間
保持後の曲げぐせを応力緩和率として次式により
算出した。 応力緩和率(%)={(L1−L2)/(L1−L0)}×
100 ただし、 L0:治具の長さ(mm) L1:開始時の試料長さ(mm) L2:処理後の試料端間の水平距離(mm)
【表】 第3表からは、本発明合金は従来の代表的な端
子・コネクター用材料であるリン青銅に比べて応
力緩和率が低く、応力緩和特性が優れていること
がわかる。 実施例 2 第1表のNo.7の化学成分を有する合金を製造条
件を変えて製造した。各製造条件は次のとおりで
ある。 (1) 実施例1の中間焼鈍なしのものに同じ。 (2) 実施例1の中間焼鈍ありのものに同じ。すな
わち板厚1mmの溶体化処理材を板厚0.4mmまで
冷間圧延するさいに、0.6mmまで一段目の冷延
を行い、次いで中間焼鈍を行つてから0.4mmま
で二段目の冷延を行つた以外は実施例1と同じ
とした。そのさいの中間焼鈍は750℃×30分で
ある。 (3) 溶体化処理を850℃×30分とした以外は実施
例1の中間焼鈍なしのものと同じ(溶体化処理
温度が低い比較例)。 (4) 溶体化処理を900℃×30分とし、そして時効
処理を390℃×60分とした以外は実施例1の中
間焼鈍なしのものと同じとした(時効処理温度
が低い比較例)。 (5) 溶体化処理を900℃×30分とし、そして時効
処理を610℃×30分とした以外は実施例1の中
間焼鈍なしのものと同じとした(時効処理温度
が高い比較例)。 (6) 中間焼鈍の条件を820℃×30分とした以外は
前記の(2)と同じとした。 (7) 中間焼鈍の条件を680℃×30分とした以外は
前記の(2)と同じとした。 得られた各材料を実施例1と同じ測定法で試験
し、硬度、引張強さ、ばね限界値、導電率および
曲げ加工性を調べ、その結果を第4表に示した。
【表】 第4表から明らかなように、本発明法にしたが
つて製造した(2)の合金は、硬度、引張強さ、ばね
限界値および導電率のバランスに優れ且つ曲げ加
工性が良好であるのに対し、溶体化処理温度の低
い比較例(3)、時効温度の低い比較例(4)、時効温度
の高い比較例(5)のものは、強度、弾性、導電率の
バランスが悪く、また(3)と(5)のものは更に曲げ加
工性も悪いことがわかる。 そして、中間焼鈍温度の高い比較例(6)のもの
は、硬度、引張強さ、ばね限界値、曲げ加工性に
劣つている。これは、焼鈍温度が高すぎるために
Ni−Ti系化合物の析出核が生成せず、或いは生
成しても再固溶し、さらには再結晶が起こり始め
て混粒となり、強度や曲げ加工性に悪影響を及ぼ
していると考えられる。 他方、中間焼鈍温度の低い比較例(7)のもので
は、強度は優れるものの曲げ加工性が劣化してい
る。これは、焼鈍温度が低すぎ、Ni−Ti系化合
物が転位線上或いは粒界等に次々に析出し成長す
る温度域に入り、このため時効析出による内部ひ
ずみの上昇が過度に大きくなつてその後の冷間圧
延と時効処理によつても強度と導電率等は向上で
きても成形加工性は向上できないものと考えられ
る。なおこの比較例(7)とほぼ同等の温度を最終時
効温度とした場合にも、先の比較例(5)に見られる
ようにばね限界値と曲げ加工性が悪くなる。 このように溶体化処理後、時効処理前の冷間圧
延途中において本発明合金に700〜800℃×1〜60
分の中間焼鈍を行なうことは強度、弾性、電気伝
導性および成形加工性をバランス良く具備した端
子・コネクター材料を得る上で有益な作用を供す
る。かような作用が奏される理由としては、既に
900℃以上の温度で溶体化処理が行われているの
で、添加元素のNi、Ti等は十分に再固溶してお
り、また均一粒に結晶粒が調整されていること、
焼鈍前の過飽和固溶体の板材に圧延加工が加えら
れているので転位が導入され析出物の核生成場所
が多数存在すること、さらには、この焼鈍温度に
おいてNi−Ti系化合物の析出核の生成・析出・
成長が起きるが、引き続き行なう圧延加工と時効
処理によつて更に該化合物を均一且つ微細に析出
させることができ、このためマトリツクス中に固
溶するNi、Tiが可能な限り減少すること、等が
考えられる。 以上のように、本発明法によれば、高強度、高
弾性、高伝導性を有し、且つ曲げ加工性、メツキ
信頼性、応力緩和特性に優れた端子・コネクター
用高強度銅合金が得られ、近年の電気・電子部品
の軽薄短小化、回路の高密度化に十分に対応でき
る有益な材料を提供できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 重量%において、Ni:1.0〜4.0%、Ti;0.5
    〜2.0%、ただし、Ni/Tiの重量百分率の比率が
    1.2〜3.3の範囲、Zn:0.1〜3.0%を含み、残部が
    Cuおよび不可避的不純物からなる銅合金の板素
    材を製造し、これを900℃以上の温度で溶体化処
    理し、最終板厚まで冷間圧延する途中で700〜800
    ℃の温度で1〜60分間の焼鈍を少なくとも1回挟
    んで冷間圧延し、次いで400〜600℃の温度で5〜
    720分間の時効処理を行なうことを特徴とする端
    子・コネクター用高強度銅合金の製造法。 2 重量%において、Ni:1.0〜4.0%、Ti;0.5
    〜2.0%、ただし、Ni/Tiの重量百分率の比率が
    1.2〜3.3の範囲、Zn:0.1〜3.0%を含み、更にZr、
    Mg、P、Bのうち1種または2種以上を単独ま
    たは総計で0.01〜0.5%含み、残部がCuおよび不
    可避的不純物からなる銅合金の板素材を製造し、
    これを900℃以上の温度で溶体化処理し、最終板
    厚まで冷間圧延する途中で700〜800℃の温度で1
    〜60分間の焼鈍を少なくとも1回挟んで冷間圧延
    し、次いで400〜600℃の温度で5〜720分間の時
    効処理を行なうことを特徴とする端子・コネクタ
    ー用高強度銅合金の製造法。
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