JPH0455335B2 - - Google Patents
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- JPH0455335B2 JPH0455335B2 JP58153560A JP15356083A JPH0455335B2 JP H0455335 B2 JPH0455335 B2 JP H0455335B2 JP 58153560 A JP58153560 A JP 58153560A JP 15356083 A JP15356083 A JP 15356083A JP H0455335 B2 JPH0455335 B2 JP H0455335B2
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- JP
- Japan
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- wafer
- carrier
- wafers
- pusher
- pitch
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/34—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H10P72/3411—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
- H10P72/3412—Batch transfer of wafers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
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- Attitude Control For Articles On Conveyors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(利用分野)
本発明は、自動ウエーハ移換機に関するもので
あり、特に、一方のキヤリア内にある一定のピツ
チで収納されたウエーハを、そのn倍または1/
n倍のピツチで他方のキヤリア内へ移換えて収納
する自動ウエーハ移換機に関するものである。
あり、特に、一方のキヤリア内にある一定のピツ
チで収納されたウエーハを、そのn倍または1/
n倍のピツチで他方のキヤリア内へ移換えて収納
する自動ウエーハ移換機に関するものである。
(従来技術)
半導体製造工程においては、半導体ウエーハに
種々の熱処理や化学処理、洗滌などが実施される
ことは周知のとおりである。このように、ウエー
ハに各種処理を施す場合、従来は、該処理の能率
をはかるために、該ウエーハをキヤリア内に多数
収納して行なつている。
種々の熱処理や化学処理、洗滌などが実施される
ことは周知のとおりである。このように、ウエー
ハに各種処理を施す場合、従来は、該処理の能率
をはかるために、該ウエーハをキヤリア内に多数
収納して行なつている。
該キヤリアは、前記ウエーハ収納用の溝が一定
ピツチで形成されているウエーハ収納用の箱であ
る。前記キヤリア内に収納する前記ウエーハは、
なるべく多く収納した方が収納の効率が良いのは
当然である。
ピツチで形成されているウエーハ収納用の箱であ
る。前記キヤリア内に収納する前記ウエーハは、
なるべく多く収納した方が収納の効率が良いのは
当然である。
しかし、処理の内容によつては、たとえば、熱
処理を施すかエツチング処理を施すかによつて
は、該処理の正常な効果を得るために、前記キヤ
リア内に収納された各々のウエーハの間隔を異な
らせることが必要である。
処理を施すかエツチング処理を施すかによつて
は、該処理の正常な効果を得るために、前記キヤ
リア内に収納された各々のウエーハの間隔を異な
らせることが必要である。
例えば、熱処理は、その効率を上げるためにウ
エーハの間隔を狭くして行ない、一方、CVDや
エツチング処理などは、これらの処理のむらを防
ぐために、前記ウエーハの間隔を熱処理時に比し
て大きくして行なうのである。
エーハの間隔を狭くして行ない、一方、CVDや
エツチング処理などは、これらの処理のむらを防
ぐために、前記ウエーハの間隔を熱処理時に比し
て大きくして行なうのである。
また、前記したような処理の違いによつて、前
記キヤリアの材質も変えなければならない。つま
り、熱処理はウエーハを石英製等のキヤリアに収
納して行ない、一方、エツチング処理は前記ウエ
ーハをテフロン等の樹脂性キヤリアに収納して行
なうのである。
記キヤリアの材質も変えなければならない。つま
り、熱処理はウエーハを石英製等のキヤリアに収
納して行ない、一方、エツチング処理は前記ウエ
ーハをテフロン等の樹脂性キヤリアに収納して行
なうのである。
したがつて、ウエーハをある処理工程から別の
処理工程へ移す場合、ある物質により形成された
第1のキヤリア内に、あるピツチで形成された溝
部に配置されたウエーハを、別の物質により形成
された他のキヤリア内に、別のピツチで形成され
た溝部に移換える操作を行なわなければならな
い。
処理工程へ移す場合、ある物質により形成された
第1のキヤリア内に、あるピツチで形成された溝
部に配置されたウエーハを、別の物質により形成
された他のキヤリア内に、別のピツチで形成され
た溝部に移換える操作を行なわなければならな
い。
前述の操作の従来例は、ピンセツト等を用い
て、人が一枚一枚ウエーハを直接手で行なうもの
であつた。あるいは、ウエーハの間隔は一定で、
キヤリアの材質だけを変えたい場合は、該ウエー
ハが水平方向に収納された状態にして、第1のキ
ヤリアに第2のキヤリアを各々のウエーハ挿入面
どうしが対向するように密着させ、第2のキヤリ
アが下にくるようにして、該ウエーハを第1のキ
ヤリアから第2のキヤリアへ移動させるものであ
つた。この場合の操作も人が該キヤリアを手で持
つて行なつていた。
て、人が一枚一枚ウエーハを直接手で行なうもの
であつた。あるいは、ウエーハの間隔は一定で、
キヤリアの材質だけを変えたい場合は、該ウエー
ハが水平方向に収納された状態にして、第1のキ
ヤリアに第2のキヤリアを各々のウエーハ挿入面
どうしが対向するように密着させ、第2のキヤリ
アが下にくるようにして、該ウエーハを第1のキ
ヤリアから第2のキヤリアへ移動させるものであ
つた。この場合の操作も人が該キヤリアを手で持
つて行なつていた。
しかし、前述の従来例では、ウエーハを第1の
キヤリアから第2のキヤリアへ移換える時、該ウ
エーハを汚したり、また該ウエーハが該第1およ
び第2のキヤリアと接触して、該ウエーハに傷が
付いたり、欠けたり、あるいは該ウエーハを床面
に落とし、破損する等の欠点があつた。
キヤリアから第2のキヤリアへ移換える時、該ウ
エーハを汚したり、また該ウエーハが該第1およ
び第2のキヤリアと接触して、該ウエーハに傷が
付いたり、欠けたり、あるいは該ウエーハを床面
に落とし、破損する等の欠点があつた。
特に、第1および第2のキヤリアを、各々のウ
エーハ挿入面どうしが対向するように密着させる
操作の場合は、傷やチツピング等を生じ、また粉
塵を発生してウエーアの発生を原因となつてい
た。また、人が直接操作するので効率が悪く、半
導体製作費の上昇等の欠点もあつた。
エーハ挿入面どうしが対向するように密着させる
操作の場合は、傷やチツピング等を生じ、また粉
塵を発生してウエーアの発生を原因となつてい
た。また、人が直接操作するので効率が悪く、半
導体製作費の上昇等の欠点もあつた。
(目的)
本発明は、前述の欠点を除去するためになされ
たものであり、その目的は、第1のキヤリア内に
第1のピツチで配置されたウエーハを、第2のキ
ヤリア内に、前記第1のピツチの整数倍または整
数分の1のピツチで配列されるように移換える場
合において、該ウエーハを傷つけたり、汚したり
することなく安全に移換えを行ない、かつ該移換
えの時間を短縮し、効率を良くするのに好適な自
動ウエーハ移換機を提供することにある。
たものであり、その目的は、第1のキヤリア内に
第1のピツチで配置されたウエーハを、第2のキ
ヤリア内に、前記第1のピツチの整数倍または整
数分の1のピツチで配列されるように移換える場
合において、該ウエーハを傷つけたり、汚したり
することなく安全に移換えを行ない、かつ該移換
えの時間を短縮し、効率を良くするのに好適な自
動ウエーハ移換機を提供することにある。
(概要)
前記の目的を達成するために、本発明は、その
底面にプツシヤ穴およびウエーハ係止溝を形成し
た第1のキヤリアと、その底面にプツシヤ穴およ
びウエーハ係止溝を形成した第2のキヤリアと、
前記キヤリアをのせ、該キヤリア底面に形成され
たプツシヤ穴とほぼ同形状の穴を形成したテーブ
ルと、その対向面に該ウエーハを挿入、係止でき
る第1の主溝および特定のピツチ位置にあるウエ
ーハだけを通過できる第2の主溝を有する1組の
ホルダと、該ホルダを回転させて複数の予定位置
で停止させ、該ホルダの回転方向での前記各主溝
の位置を選択してウエーハの通過・係止溝を制御
するホルダ回転装置と、該ホルダの上方に位置
し、その対向面に該ウエーハを挿入できる第3の
主溝を有する1組のガイドの、前記ホルダおよび
前記ガイドを支持する支持架枠と、該ガイドを上
昇または下降させるガイド昇降装置と、前記テー
ブルを下方に位置し、キヤリア内のウエーハを上
昇または下降させるプツシヤと、該プツシヤを上
昇または下降させるプツシヤ昇降装置と、該テー
ブルと支持架枠およびプツシヤを相対移動させる
装置とを具備した点に特徴がある。
底面にプツシヤ穴およびウエーハ係止溝を形成し
た第1のキヤリアと、その底面にプツシヤ穴およ
びウエーハ係止溝を形成した第2のキヤリアと、
前記キヤリアをのせ、該キヤリア底面に形成され
たプツシヤ穴とほぼ同形状の穴を形成したテーブ
ルと、その対向面に該ウエーハを挿入、係止でき
る第1の主溝および特定のピツチ位置にあるウエ
ーハだけを通過できる第2の主溝を有する1組の
ホルダと、該ホルダを回転させて複数の予定位置
で停止させ、該ホルダの回転方向での前記各主溝
の位置を選択してウエーハの通過・係止溝を制御
するホルダ回転装置と、該ホルダの上方に位置
し、その対向面に該ウエーハを挿入できる第3の
主溝を有する1組のガイドの、前記ホルダおよび
前記ガイドを支持する支持架枠と、該ガイドを上
昇または下降させるガイド昇降装置と、前記テー
ブルを下方に位置し、キヤリア内のウエーハを上
昇または下降させるプツシヤと、該プツシヤを上
昇または下降させるプツシヤ昇降装置と、該テー
ブルと支持架枠およびプツシヤを相対移動させる
装置とを具備した点に特徴がある。
(実施例)
以下に、図面を参照して、本発明を詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明の一実施例の概略正面図であ
る。
る。
第1図において、左ホルダ1aおよび右ホルダ
1bは、共に正方形柱状をなしている。該左ホル
ダ1aの両端には、該左ホルダ1aの正方形断面
の中心線延長上にその回転軸となる左回転軸8a
が突出し、また該右ホルダ1bの両端には、該右
ホルダ1bの正方形断面の中心線延長上にその回
転中心軸となる右回転軸8bが突出している。
1bは、共に正方形柱状をなしている。該左ホル
ダ1aの両端には、該左ホルダ1aの正方形断面
の中心線延長上にその回転軸となる左回転軸8a
が突出し、また該右ホルダ1bの両端には、該右
ホルダ1bの正方形断面の中心線延長上にその回
転中心軸となる右回転軸8bが突出している。
テーブル4の中央上方には図示されない支持架
枠がある。該支持架枠は、前記左ホルダ1aと右
ホルダ1bとの間がウエーハの外形よりもやや狭
い間隔を保つように、前記左回転軸8aおよび右
回転軸8bを保持している。該保持は前記ホルダ
1aおよび右ホルダ1bが回転自在になるように
なされている。
枠がある。該支持架枠は、前記左ホルダ1aと右
ホルダ1bとの間がウエーハの外形よりもやや狭
い間隔を保つように、前記左回転軸8aおよび右
回転軸8bを保持している。該保持は前記ホルダ
1aおよび右ホルダ1bが回転自在になるように
なされている。
前記左ホルダ1aおよび右ホルダ1bの同一側
の側面より突出した左回転軸8aおよび右回転軸
8bは、その一方が、前記支持架枠に固着された
図示されないホルダ回転装置に接続されている。
の側面より突出した左回転軸8aおよび右回転軸
8bは、その一方が、前記支持架枠に固着された
図示されないホルダ回転装置に接続されている。
該ホルダ回転装置は、前記左ホルダ1aおよび
右ホルダ1bを該左ホルダ1aおよび右ホルダ1
bを互いに反対方向に任意の角度回転させ、複数
の予定位置で停止させ、その位置を保持すること
ができる。
右ホルダ1bを該左ホルダ1aおよび右ホルダ1
bを互いに反対方向に任意の角度回転させ、複数
の予定位置で停止させ、その位置を保持すること
ができる。
左ガイド2aおよび右ガイド2bは共に矩形柱
状をなしている。前記左ホルダ1aの上方には左
ガイド2aが、前記右ホルダ1bの上方には右ガ
イド2bが位置し、該左ガイド2aと右ガイド2
bとの間がウエーハの外径よりもやや狭い間隔を
保つように、前記支持架枠に固着されている。
状をなしている。前記左ホルダ1aの上方には左
ガイド2aが、前記右ホルダ1bの上方には右ガ
イド2bが位置し、該左ガイド2aと右ガイド2
bとの間がウエーハの外径よりもやや狭い間隔を
保つように、前記支持架枠に固着されている。
前記支持架枠は図示されないガイド昇降装置よ
り、テーブル4に対して上下方向に移動すること
ができる。
り、テーブル4に対して上下方向に移動すること
ができる。
第1のキヤリア30はテーブル4の中央に設置
されている。第2のキヤリア40は該第1のキヤ
リア30の左側に、第3のキヤリア50は該第1
のキヤリア30の右側に、該第1のキヤリア30
とそれぞれ一定の間隔をおいて、前記テーブル4
に設置されている。
されている。第2のキヤリア40は該第1のキヤ
リア30の左側に、第3のキヤリア50は該第1
のキヤリア30の右側に、該第1のキヤリア30
とそれぞれ一定の間隔をおいて、前記テーブル4
に設置されている。
前記テーブル4は図示されないテーブル移動装
置により左右に移動することができる。
置により左右に移動することができる。
前記第1のキヤリア30の下方にはプツシヤ5
が設置されている。該プツシヤ5は図示されない
プツシヤ昇降装置により上下に移動することがで
き、第1のキヤリア30、あるいは第2および第
3のキヤリア40,50に設けられた補助溝を通
して該キヤリア内に進入することができる。
が設置されている。該プツシヤ5は図示されない
プツシヤ昇降装置により上下に移動することがで
き、第1のキヤリア30、あるいは第2および第
3のキヤリア40,50に設けられた補助溝を通
して該キヤリア内に進入することができる。
前記第2のキヤリア40の下方には左ローラ6
aが設置されている。また、前記第3のキヤリア
50の下方には右ローラ6bが設置されている。
該第1および第2のローラ6a,6bは図示され
ないローラ駆動装置により、回転および上下に移
動することができる。
aが設置されている。また、前記第3のキヤリア
50の下方には右ローラ6bが設置されている。
該第1および第2のローラ6a,6bは図示され
ないローラ駆動装置により、回転および上下に移
動することができる。
第2図は左および右ホルダ1a,1bの詳細図
であり、第1図と同一の符号は、同一または同等
部分をあらわしている。
であり、第1図と同一の符号は、同一または同等
部分をあらわしている。
第2図において、aは第1図と同様に左および
右ホルダ1a,1bの正面図、bは同図aの平面
図である。
右ホルダ1a,1bの正面図、bは同図aの平面
図である。
第2図において、左ホルダ1aと右ホルダ1b
のそれぞれ対向した面の間の距離は、ウエーハの
外径Dよりもやや狭い間隔に設定されている。
のそれぞれ対向した面の間の距離は、ウエーハの
外径Dよりもやや狭い間隔に設定されている。
該左ホルダ1aと右ホルダ1bとの対向面に
は、前記ウエーハの外径Dよりもやや広い間隔P
1を提供するような第1の主溝201が、矩形状
に、かつ該ウエーハの厚みよりもやや広く、第1
のキヤリア30に収納するウエーハの数だけ同一
ピツチで、またテーブル4に対して垂直方向に形
成されている。
は、前記ウエーハの外径Dよりもやや広い間隔P
1を提供するような第1の主溝201が、矩形状
に、かつ該ウエーハの厚みよりもやや広く、第1
のキヤリア30に収納するウエーハの数だけ同一
ピツチで、またテーブル4に対して垂直方向に形
成されている。
たとえば、第1、第2、第3および第4のウエ
ーハ101,102,103,104は、前記第
1の主溝201を通ることにより、左ホルダ1a
と右ホルダ1bとの間を矢印A方向に、つまり下
方から上方へ、あるいはその逆の上方から下方へ
自由に移動できる。
ーハ101,102,103,104は、前記第
1の主溝201を通ることにより、左ホルダ1a
と右ホルダ1bとの間を矢印A方向に、つまり下
方から上方へ、あるいはその逆の上方から下方へ
自由に移動できる。
左ホルダ1aに形成される第1の主溝201
は、前述のように、第1のキヤリア30に収納す
るウエーハの数だけ形成されている。
は、前述のように、第1のキヤリア30に収納す
るウエーハの数だけ形成されている。
さらに該第1の主溝201には、その1つおき
に、該第1の主溝201と同じ幅でまた、その溝
の底面から左回転軸8aの中心までの距離が、該
第1の主溝201の底面から左回転軸8aの中心
までの距離と等しくなるように、かつその溝の底
面が、前記第1の主溝201の底面と反時計方向
に45度の角度を形成するような第2の主溝202
が形成されている。
に、該第1の主溝201と同じ幅でまた、その溝
の底面から左回転軸8aの中心までの距離が、該
第1の主溝201の底面から左回転軸8aの中心
までの距離と等しくなるように、かつその溝の底
面が、前記第1の主溝201の底面と反時計方向
に45度の角度を形成するような第2の主溝202
が形成されている。
第2図bにおいては、左ホルダ1aの第2の主
溝202は、図面の下から数えて偶数番目の第1
の主溝201に形成されている。
溝202は、図面の下から数えて偶数番目の第1
の主溝201に形成されている。
また右ホルダ1bに形成された該第1の主溝2
01も、前述のように第1のキヤリア30に収納
するウエーハの数だけ形成されているる。
01も、前述のように第1のキヤリア30に収納
するウエーハの数だけ形成されているる。
さらに、該第1の主溝201にはその1つおき
に、前記左ホルダ1aに形成された第2の主溝2
02と対向するような位置に該第1の主溝201
と同じ幅で、またその溝の底面から右回転軸8b
の中心までの距離が、該第1の主溝201の底面
から右回転軸8bの中心までの距離と等しくなる
ように、かつその溝の底面が前記第1の主溝20
1の底面と時計方向に45度の角度を形成するよう
な第2の主溝202が形成されている。
に、前記左ホルダ1aに形成された第2の主溝2
02と対向するような位置に該第1の主溝201
と同じ幅で、またその溝の底面から右回転軸8b
の中心までの距離が、該第1の主溝201の底面
から右回転軸8bの中心までの距離と等しくなる
ように、かつその溝の底面が前記第1の主溝20
1の底面と時計方向に45度の角度を形成するよう
な第2の主溝202が形成されている。
第2図bにおいては、左ホルダ1bの第2の主
溝202は図面の下から数えて偶数番目の第1の
主溝201に対して形成されている。
溝202は図面の下から数えて偶数番目の第1の
主溝201に対して形成されている。
第3図は左および右ホルダ1a,1bが第2図
の状態から左および右回転軸8a,8bを中心と
して、該左および右ホルダ1a,1bの対向する
部分が上向きになつて第1の主溝201が上向き
になるように、すなわち矢印B方向に45度回転し
た状態図である。
の状態から左および右回転軸8a,8bを中心と
して、該左および右ホルダ1a,1bの対向する
部分が上向きになつて第1の主溝201が上向き
になるように、すなわち矢印B方向に45度回転し
た状態図である。
第3図aは正面図、第3図bは同図aの平面図
である。
である。
第3図より明らかなように、この状態において
は第1、第2、第3および第4のウエーハ10
1,102,103,104はいずれも左および
右ホルダ1a,1bに形成された第1の主溝20
1に係止されている。
は第1、第2、第3および第4のウエーハ10
1,102,103,104はいずれも左および
右ホルダ1a,1bに形成された第1の主溝20
1に係止されている。
すなわち、この状態では、第1、第2、第3お
よび第4のウエーハ101,102,103,1
04が挿入されている前記左および右ホルダ1
a,1b間の相対向する部分、つまり、対向する
第1の主溝201側端の底面部間の距離はすべて
等しく、これをP2とすると、P2<Dなる条件が
与えられているのである。
よび第4のウエーハ101,102,103,1
04が挿入されている前記左および右ホルダ1
a,1b間の相対向する部分、つまり、対向する
第1の主溝201側端の底面部間の距離はすべて
等しく、これをP2とすると、P2<Dなる条件が
与えられているのである。
第4図は、左および右ホルダ1a,1bが第3
図の状態から左および右回転軸8a,8bを中心
として、該左および右ホルダ1a,1bの対向す
る部分が下向きになつて第2の主溝202が対向
するように、すなわち、矢印C方向に90度回転し
た様子を示している。
図の状態から左および右回転軸8a,8bを中心
として、該左および右ホルダ1a,1bの対向す
る部分が下向きになつて第2の主溝202が対向
するように、すなわち、矢印C方向に90度回転し
た様子を示している。
第4図aは正面図、第4図bは同図aの平面図
である。
である。
第4図より明らかなように、この状態において
は、第1および第3のウエーハ101,103は
左および右ホルダ1a,1bに形成された第1の
主溝201に係止されている。
は、第1および第3のウエーハ101,103は
左および右ホルダ1a,1bに形成された第1の
主溝201に係止されている。
しかし、第2および第4のウエーハ102,1
04は第2の主溝202の間を通りぬけることが
できる。したがつて、該第2の主溝202を通る
ことにより、前記左および右ホルダ1a,1bと
の間を矢印A方向に、つまり下方から上方へ、上
方から下方へ自由に移動できるのである。
04は第2の主溝202の間を通りぬけることが
できる。したがつて、該第2の主溝202を通る
ことにより、前記左および右ホルダ1a,1bと
の間を矢印A方向に、つまり下方から上方へ、上
方から下方へ自由に移動できるのである。
この状態では、第1、第2、第3および第4の
ウエーハ101,102,103,104が挿入
されている前記左および右ホルダ1a,1b間の
相対向する部分は、第4図bにおいて、該図面の
下から数えて奇数番目のウエーハ、つもり第1、
第3のウエーハ101,103が挿入されている
部分においては第1の主溝であり、図面の下から
数えて偶数番目のウエーハ、つまり第2、第4の
ウエーハ102,104が挿入されている部分に
おいては第2の主溝である。
ウエーハ101,102,103,104が挿入
されている前記左および右ホルダ1a,1b間の
相対向する部分は、第4図bにおいて、該図面の
下から数えて奇数番目のウエーハ、つもり第1、
第3のウエーハ101,103が挿入されている
部分においては第1の主溝であり、図面の下から
数えて偶数番目のウエーハ、つまり第2、第4の
ウエーハ102,104が挿入されている部分に
おいては第2の主溝である。
前記第1の主溝201間の距離は第3図におけ
る説明と同様P2であるが、前記第2の主溝20
2の距離をP1とすると、P2<D<P1なる条件が
与えられているのである。
る説明と同様P2であるが、前記第2の主溝20
2の距離をP1とすると、P2<D<P1なる条件が
与えられているのである。
第5図は左および右ガイド2a,2bの詳細図
である。
である。
第5図において、aは第1図と同様に左および
右ガイド2a,2bの正面図、bは同図aの平面
図である。
右ガイド2a,2bの正面図、bは同図aの平面
図である。
第5図において、第1図〜第4図と同一の符号
は、同一または同等部分をあらわしている。
は、同一または同等部分をあらわしている。
左ガイド2aと右ガイド2bのそれぞれ対向し
た面の間の距離は、ウエーハの外径Dよりもやや
狭い間隔に設定されている。該左ガイド2aと右
ガイド2bの対向面には、前記ウエーハの外径D
よりもやや広い間隔P1を提供するような第3の
主溝203が、矩形状に、かつ該ウエーハの厚み
よりもやや広く、第1のキヤリア30に収納する
ウエーハの数だけ同ピツチで、また、テーブル4
に対して垂直方向に形成されている。
た面の間の距離は、ウエーハの外径Dよりもやや
狭い間隔に設定されている。該左ガイド2aと右
ガイド2bの対向面には、前記ウエーハの外径D
よりもやや広い間隔P1を提供するような第3の
主溝203が、矩形状に、かつ該ウエーハの厚み
よりもやや広く、第1のキヤリア30に収納する
ウエーハの数だけ同ピツチで、また、テーブル4
に対して垂直方向に形成されている。
前記ピツチは、左ホルダ1aおよび右ホルダ1
bに形成された第1の主溝201と同ピツチであ
り、また該第3の主溝203の断面形状は、前記
第1の主溝201の断面形状と同じに形成されて
いる。
bに形成された第1の主溝201と同ピツチであ
り、また該第3の主溝203の断面形状は、前記
第1の主溝201の断面形状と同じに形成されて
いる。
第5図bにおいて、図面の下の第3の主溝20
3から順に第1、第2、第3および第4のウエー
ハ101,102,103,104が挿入されて
いる。
3から順に第1、第2、第3および第4のウエー
ハ101,102,103,104が挿入されて
いる。
前記第1、第2、第3および第4のウエーハ1
01,102,103,104は前記第3の主溝
203を通ることにより、左ガイド2aと右ガイ
ド2bとの間を矢印方向へ、つまり下方から上方
へ、あるいは上方から下方へ自由に移動できる。
01,102,103,104は前記第3の主溝
203を通ることにより、左ガイド2aと右ガイ
ド2bとの間を矢印方向へ、つまり下方から上方
へ、あるいは上方から下方へ自由に移動できる。
第6図は、第1、第2および第3のキヤリア3
0,40,50およびテーブル4の詳細図であ
る。
0,40,50およびテーブル4の詳細図であ
る。
第6図aは、第1と同様に第1、第2および第
3のキヤリア30,40,50およびテーブル4
正面図、第6bは同図aの平面図である。
3のキヤリア30,40,50およびテーブル4
正面図、第6bは同図aの平面図である。
第6図において、第1図〜第5図と同一の符号
は、同一または同等部分をあらわしている。
は、同一または同等部分をあらわしている。
第1のキヤリア30はテーブル4の中央に設置
され、第2のキヤリア40は該第1のキヤリア3
0の左側に、また第3のキヤリア50は該第1の
キヤリア30の右側に、該第1のキヤリア30と
一定の間隔をおいて前記テーブル4に設置されて
いる。
され、第2のキヤリア40は該第1のキヤリア3
0の左側に、また第3のキヤリア50は該第1の
キヤリア30の右側に、該第1のキヤリア30と
一定の間隔をおいて前記テーブル4に設置されて
いる。
前記第1のキヤリア30はその断面が凹形をな
しており、該凹形内部にウエーハを収納できるよ
うに、その側面板の対向する内面の距離はウエー
ハの外径Dよりも大きくなつている。
しており、該凹形内部にウエーハを収納できるよ
うに、その側面板の対向する内面の距離はウエー
ハの外径Dよりも大きくなつている。
該第1のキヤリア30の底面の中央部には、矩
形状の第1のプツシヤ穴31が形成されている。
また、前記第1のキヤリア30の側面板に平行
な、該第1のプツシヤ穴31の対向する辺には、
ウエーハ係止用の第1のウエーハ係止溝301が
形成されている。
形状の第1のプツシヤ穴31が形成されている。
また、前記第1のキヤリア30の側面板に平行
な、該第1のプツシヤ穴31の対向する辺には、
ウエーハ係止用の第1のウエーハ係止溝301が
形成されている。
該第1のウエーハ係止溝301は、前記第1の
プツシヤ穴31の対向する辺のそれぞれに、第1
のキヤリア30に収納されるべきウエーハの数だ
け形成されている。
プツシヤ穴31の対向する辺のそれぞれに、第1
のキヤリア30に収納されるべきウエーハの数だ
け形成されている。
また、該第1のウエーハ係止溝301は、前記
左および右ホルダ1a,1bに形成された第1の
主溝201、および前記左および右ガイド2a,
2bに形成された第3の主溝203と同ピツチで
形成されている。
左および右ホルダ1a,1bに形成された第1の
主溝201、および前記左および右ガイド2a,
2bに形成された第3の主溝203と同ピツチで
形成されている。
前記第1のウエーハ係止溝301は、ウエーハ
の一部をそこに挿入した場合に、該ウエーハが倒
れないように支持するための溝であるので、その
形状は該ウエーハの大きさ、あるいは形状によつ
て慎重に定められるものである。
の一部をそこに挿入した場合に、該ウエーハが倒
れないように支持するための溝であるので、その
形状は該ウエーハの大きさ、あるいは形状によつ
て慎重に定められるものである。
前記第1のキヤリア30が設置されているテー
ブル4にも、該第1のキヤリア30に形成されて
いる第1のプツシヤ穴31とほぼ同形状のプツシ
ヤ穴31Tが加工されている。
ブル4にも、該第1のキヤリア30に形成されて
いる第1のプツシヤ穴31とほぼ同形状のプツシ
ヤ穴31Tが加工されている。
第2および第3のキヤリア40,50も第1の
キヤリア30の同様に、その断面が凹形をなして
おり、該凹形内部にウエーハを収納できるよう
に、その側面板の対向する内面の距離はウエーハ
の外径Dよりも大きくなつている。
キヤリア30の同様に、その断面が凹形をなして
おり、該凹形内部にウエーハを収納できるよう
に、その側面板の対向する内面の距離はウエーハ
の外径Dよりも大きくなつている。
前記第1、第2および第3のキヤリア30,4
0,50はウエーハの処理工程が違う場合に用い
られることになるので、その構成をなす材質は異
なることが多い。また、前記側面板の対向する内
面の距離は、それぞれ同じであるが、該側面板の
高さは必ずしも同じではない。
0,50はウエーハの処理工程が違う場合に用い
られることになるので、その構成をなす材質は異
なることが多い。また、前記側面板の対向する内
面の距離は、それぞれ同じであるが、該側面板の
高さは必ずしも同じではない。
前記第2および第3のキヤリア40,50に
は、前記第1のキヤリア30に形成された第1の
プツシヤ穴31と同形状の第2、第3のプツシヤ
穴41,51が、該第2および第3のキヤリア4
0,50の底面の中央部に形成されている。
は、前記第1のキヤリア30に形成された第1の
プツシヤ穴31と同形状の第2、第3のプツシヤ
穴41,51が、該第2および第3のキヤリア4
0,50の底面の中央部に形成されている。
前記第2のキヤリア40に形成された該第2の
プツシヤ穴41の、該第2のキヤリア40の側面
板と平行な、対向する辺には、ウエーハ係止用の
第2のウエーハ係止溝401が形成されている。
プツシヤ穴41の、該第2のキヤリア40の側面
板と平行な、対向する辺には、ウエーハ係止用の
第2のウエーハ係止溝401が形成されている。
該第2のウエーハ係止溝401は、各々の形状
は前記第1のウエーハ係止溝301の各々の形状
と同じであるが、そのピツチは、図示の例では、
前記第1のウエーハ係止溝301のそれの2倍で
ある。
は前記第1のウエーハ係止溝301の各々の形状
と同じであるが、そのピツチは、図示の例では、
前記第1のウエーハ係止溝301のそれの2倍で
ある。
また、それぞれの該第2のウエーハ係止溝40
1は、それぞれの該第1のウエーハ係止溝301
の同一直線上になければならず、縦方向のずれは
絶対に許されない。
1は、それぞれの該第1のウエーハ係止溝301
の同一直線上になければならず、縦方向のずれは
絶対に許されない。
第6図bにおいては、図面の下から数えて偶数
番目の前記第1のウエーハ係止溝301に対応し
て、偶数番目の第1のウエーハ係止溝301の左
側延長線上に第2のウエーハ係止溝401が位置
されている。
番目の前記第1のウエーハ係止溝301に対応し
て、偶数番目の第1のウエーハ係止溝301の左
側延長線上に第2のウエーハ係止溝401が位置
されている。
前記第2のキヤリア40が設置されているテー
ブル4にも、該第2のキヤリア40に形成されて
いる第2のプツシヤ穴41のほぼ同形状のプツシ
ヤ穴41Tが加工されている。
ブル4にも、該第2のキヤリア40に形成されて
いる第2のプツシヤ穴41のほぼ同形状のプツシ
ヤ穴41Tが加工されている。
前記第3のキヤリア50に形成された該第3の
プツシヤ穴51の、該第3のキヤリア50の側面
板と平行な、対向する辺に、ウエーハ係止用の第
3のウエーハ係止溝501が形成されている。
プツシヤ穴51の、該第3のキヤリア50の側面
板と平行な、対向する辺に、ウエーハ係止用の第
3のウエーハ係止溝501が形成されている。
該第3のウエーハ係止溝501は、各々の形状
は、前記第1および第2のウエーハ係止溝30
1,401の各々の形状と同じである。
は、前記第1および第2のウエーハ係止溝30
1,401の各々の形状と同じである。
該第3のウエーハ係止溝501のピツチは、前
記第1のウエーハ係止溝301のそれの2倍であ
り、第2のウエーハ係止溝401のそれと同じで
ある。
記第1のウエーハ係止溝301のそれの2倍であ
り、第2のウエーハ係止溝401のそれと同じで
ある。
第6図bにおいて、該第3のウエーハ係止溝5
01は、図面の下から数えて奇数番目の第1のウ
エーハ係止溝301に対応して、該奇数番目の第
1のウエーハ係止溝301の右側延長線上に位置
されている。
01は、図面の下から数えて奇数番目の第1のウ
エーハ係止溝301に対応して、該奇数番目の第
1のウエーハ係止溝301の右側延長線上に位置
されている。
それぞれの該第3のウエーハ係止溝501は、
第2のウエーハ係止溝401と同様、それぞれの
該第1のウエーハ係止溝301の同一線上になけ
ればならず、縦方向のずれは絶対に許されない。
第2のウエーハ係止溝401と同様、それぞれの
該第1のウエーハ係止溝301の同一線上になけ
ればならず、縦方向のずれは絶対に許されない。
前記第3のキヤリア50が設置されているテー
ブル4にも、該第3のキヤリア50に形成されて
いる第3のプツシヤ穴51とほぼ同形状のプツシ
ヤ穴51Tが加工されている。
ブル4にも、該第3のキヤリア50に形成されて
いる第3のプツシヤ穴51とほぼ同形状のプツシ
ヤ穴51Tが加工されている。
さて、第1図において説明したように、テーブ
ル4の中央部、すなわち、第1のキヤリア30の
上方に、図示されない支持架枠により、左および
右ホルダ1a,1bが支持され、さらに該左およ
び右ホルダ1a,1bの上方に左および右ガイド
2a,2bが支持されている。
ル4の中央部、すなわち、第1のキヤリア30の
上方に、図示されない支持架枠により、左および
右ホルダ1a,1bが支持され、さらに該左およ
び右ホルダ1a,1bの上方に左および右ガイド
2a,2bが支持されている。
また、前記左および右ホルダ1a,1bに形成
された第1の主溝201、前記左および右ガイド
2a,2bに形成された第3の主溝203および
第1のキヤリア30に形成された第1のウエーハ
係止溝301は同じピツチで同数だけ形成されて
いる。
された第1の主溝201、前記左および右ガイド
2a,2bに形成された第3の主溝203および
第1のキヤリア30に形成された第1のウエーハ
係止溝301は同じピツチで同数だけ形成されて
いる。
前記第1の主溝201、第3の主溝203およ
び第1のウエーハ係止溝301は、第1図を平面
図として見た場合、つまり、第1図において矢印
E方向から見た場合には、それぞれの溝の縦方向
の位置が一致するように構成されている。
び第1のウエーハ係止溝301は、第1図を平面
図として見た場合、つまり、第1図において矢印
E方向から見た場合には、それぞれの溝の縦方向
の位置が一致するように構成されている。
つまり、前記第1のキヤリア30に形成された
第1のウエーハ係止溝301を各々に、ウエーハ
が係止されている場合において、その各々のウエ
ーハは、該ウエーハを垂直に上昇させた時、第2
図に示された相対位置関係にある前記第1の主溝
201を通りぬけることができ、さらに、第5図
に示された前記左および右ガイド2a,2bに形
成された第3の主溝203に挿入されるように、
前記それぞれの溝は配置されているのである。
第1のウエーハ係止溝301を各々に、ウエーハ
が係止されている場合において、その各々のウエ
ーハは、該ウエーハを垂直に上昇させた時、第2
図に示された相対位置関係にある前記第1の主溝
201を通りぬけることができ、さらに、第5図
に示された前記左および右ガイド2a,2bに形
成された第3の主溝203に挿入されるように、
前記それぞれの溝は配置されているのである。
次にウエーハの移換えの手順を説明する。
第7図a〜第7図lは該移し換えの手順を次す
説明図である。
説明図である。
これらの図において、第1図〜第6図と同一の
符号は、同一または同等部分をあらわしている。
符号は、同一または同等部分をあらわしている。
第1図はウエーハ移換えの最初の状態をあらわ
している。第1のキヤリア30に形成された第1
のウエーハ係止溝301は50組が形成されてい
て、該50組の第1のウエーハ係止溝301には50
枚のウエーハ100がそれぞれ係止されている。
している。第1のキヤリア30に形成された第1
のウエーハ係止溝301は50組が形成されてい
て、該50組の第1のウエーハ係止溝301には50
枚のウエーハ100がそれぞれ係止されている。
左および右ホルダ1a,1bおよび左および右
ガイド2a,2bは、図示されない支持架枠によ
り、第1のキヤリア30の上方に位置されてい
る。前記左および右ホルダ1a,1bは第2図の
ような状態にある。
ガイド2a,2bは、図示されない支持架枠によ
り、第1のキヤリア30の上方に位置されてい
る。前記左および右ホルダ1a,1bは第2図の
ような状態にある。
第7図a〜第7図lにおいて、ウエーハ100
の円の中に書かれた数字は、該ウエーハ100の
枚数を示している。
の円の中に書かれた数字は、該ウエーハ100の
枚数を示している。
第7図aにおいて、図示されない支持架枠が図
示されないガイド昇降装置により下降し、該支持
架枠に支持された左および右ホルダ1a,1b
が、第1のキヤリア30の側面板に接近したとこ
ろで、該支持架枠は停止する。
示されないガイド昇降装置により下降し、該支持
架枠に支持された左および右ホルダ1a,1b
が、第1のキヤリア30の側面板に接近したとこ
ろで、該支持架枠は停止する。
該第1のキヤリア30下方に位置していたプツ
シヤ5は、図示されないプツシヤ昇降装置により
上昇する。該プツシヤ5は、50枚の前記ウエーハ
100に接触して該ウエーハ100を上昇させ
る。
シヤ5は、図示されないプツシヤ昇降装置により
上昇する。該プツシヤ5は、50枚の前記ウエーハ
100に接触して該ウエーハ100を上昇させ
る。
該プツシヤ5は、前記ウエーハ100が左およ
び右ホルダ1a,1bの第1の主溝201間を通
り、さらに左および右ガイド2a,2bの第3の
主溝203間に挿入されたところで停止する。
び右ホルダ1a,1bの第1の主溝201間を通
り、さらに左および右ガイド2a,2bの第3の
主溝203間に挿入されたところで停止する。
第7図bにおいて、図示されたいホルダ回転装
置は前記左および右ホルダ1a,1bを、該左お
よび右ホルダ1a,1bの対向する部分が上昇す
るように、つまり矢印B方向に45度回転させる。
したがつて、前記左および右ホルダ1a,1bは
第3図のような状態になる。
置は前記左および右ホルダ1a,1bを、該左お
よび右ホルダ1a,1bの対向する部分が上昇す
るように、つまり矢印B方向に45度回転させる。
したがつて、前記左および右ホルダ1a,1bは
第3図のような状態になる。
第7図cにおいては、前記プツシヤ5が、プツ
シヤ昇降装置により下降し、前記テーブル4の下
方に来たところで停止する。
シヤ昇降装置により下降し、前記テーブル4の下
方に来たところで停止する。
前記50枚のウエーハ100は、前記プツシヤ5
と共に下降し、前記左および右ホルダ1a,1b
に形成された第1の主溝201の対向する底面端
部にぶつかり、該底面端部に係止される。この状
態で支持架枠は上昇する。
と共に下降し、前記左および右ホルダ1a,1b
に形成された第1の主溝201の対向する底面端
部にぶつかり、該底面端部に係止される。この状
態で支持架枠は上昇する。
上昇は、前記左および右ホルダ1a,1bの下
端が、第1、第2および第3のキヤリア30,4
0,50のいずれの側面板よりも高い位置にくる
まで行なわれ、その後停止する。
端が、第1、第2および第3のキヤリア30,4
0,50のいずれの側面板よりも高い位置にくる
まで行なわれ、その後停止する。
第7図dにおいては、テーブル4は、図示され
ないテーブル移動装置により右方へ移動する。該
移動は、該テーブル4上に設置された第2のキヤ
リア40が、前記支持架枠の真下にくるまで行な
われる。
ないテーブル移動装置により右方へ移動する。該
移動は、該テーブル4上に設置された第2のキヤ
リア40が、前記支持架枠の真下にくるまで行な
われる。
前記支持架枠は、ガイド昇降装置により下降
し、前記左および右ホルダ1a,1bが前記第2
のキヤリア40の側面板に近接したところで停止
する。
し、前記左および右ホルダ1a,1bが前記第2
のキヤリア40の側面板に近接したところで停止
する。
第7図eにおいては、前述したテーブル4に右
方への移動により、前記第2のキヤリア40の下
方に位置することとなつた前記プツシヤ5は、プ
ツシヤ昇降装置により上昇する。
方への移動により、前記第2のキヤリア40の下
方に位置することとなつた前記プツシヤ5は、プ
ツシヤ昇降装置により上昇する。
そして、第2のキヤリア40の底面および前記
テーブル4に形成された第2のプツシヤ穴41お
よび41Tを通り、前記左および右ホルダ1a,
1bに形成された第1の主溝201の対向する底
面端部に係止された前記50枚のウエーハ100の
下部に接触する。
テーブル4に形成された第2のプツシヤ穴41お
よび41Tを通り、前記左および右ホルダ1a,
1bに形成された第1の主溝201の対向する底
面端部に係止された前記50枚のウエーハ100の
下部に接触する。
前記プツシヤ5はさらに上昇し、前記ウエーハ
100を左および右ガイド2a,2bに形成され
た第3の主溝203へ挿入する。この時、前記プ
ツシヤ5は上昇を停止する。
100を左および右ガイド2a,2bに形成され
た第3の主溝203へ挿入する。この時、前記プ
ツシヤ5は上昇を停止する。
第7図fにおいては、ホルダ回転装置は、前記
左および右ホルダ1a,1bを、該左および右ホ
ルダ1a,1bの対向する部分が下向きになるよ
うに、つまり矢印C方向に、90度回転させる。し
たがつて、前記左および右ホルダ1a,1bは第
4図のような状態になる。
左および右ホルダ1a,1bを、該左および右ホ
ルダ1a,1bの対向する部分が下向きになるよ
うに、つまり矢印C方向に、90度回転させる。し
たがつて、前記左および右ホルダ1a,1bは第
4図のような状態になる。
第7図gにおいては、前記50枚のウエーハ10
0を支持していた前記プツシヤ5は、プツシヤ昇
降装置により下降を始める。同時に前記ウエーハ
100も該プツシヤ5と共に下降する。
0を支持していた前記プツシヤ5は、プツシヤ昇
降装置により下降を始める。同時に前記ウエーハ
100も該プツシヤ5と共に下降する。
該50枚のウエーハ100は、前記左および右ホ
ルダ1a,1bの溝部にさしかかつたところで、
該左および右ホルダ1a,1bに形成された第2
の主溝202を通過するものは、前記プツシヤ5
と共に前記左および右ホルダ1a,1b下部へ通
過する。
ルダ1a,1bの溝部にさしかかつたところで、
該左および右ホルダ1a,1bに形成された第2
の主溝202を通過するものは、前記プツシヤ5
と共に前記左および右ホルダ1a,1b下部へ通
過する。
しかし、該左および右ホルダ1a,1bに形成
された前記第1の主溝201に進入するウエーハ
100は、該第1の主溝201の底面端部にて係
止される。
された前記第1の主溝201に進入するウエーハ
100は、該第1の主溝201の底面端部にて係
止される。
第4図bにより明らかなように、該第2の主溝
202は、それぞれの第1の主溝201の1つお
きに形成されているので、前記50枚のウエーハ1
00は、その1枚おきに、25枚は該左および右ホ
ルダ1a,1bの部分で係止され、残り25枚は前
記プツシヤ5と共に下降を続けることになる。
202は、それぞれの第1の主溝201の1つお
きに形成されているので、前記50枚のウエーハ1
00は、その1枚おきに、25枚は該左および右ホ
ルダ1a,1bの部分で係止され、残り25枚は前
記プツシヤ5と共に下降を続けることになる。
該プツシヤ5と共に下降を続ける25枚のウエー
ハ100は、第2のキヤリア40内に挿入され、
該第2のキヤリア40の底面に設けられた第2の
ウエーハ係止溝401のそれぞれに係止される。
ハ100は、第2のキヤリア40内に挿入され、
該第2のキヤリア40の底面に設けられた第2の
ウエーハ係止溝401のそれぞれに係止される。
前記プツシヤ5は、該第2のキヤリア40の底
面および前記テーブル4に設けられた第2のプツ
シヤ穴41および41Tを通過し、前記25枚のウ
エーハ100を前記第2のウエーハ係止溝401
に係止させた後、下降を停止する。
面および前記テーブル4に設けられた第2のプツ
シヤ穴41および41Tを通過し、前記25枚のウ
エーハ100を前記第2のウエーハ係止溝401
に係止させた後、下降を停止する。
その後、支持架枠はガイド昇降装置により、前
記左および右ホルダ1a,1bの下端が第1、第
2および第3のキヤリア30,40,50のいず
れの側面板よりも上部へ達するまで上昇する。
記左および右ホルダ1a,1bの下端が第1、第
2および第3のキヤリア30,40,50のいず
れの側面板よりも上部へ達するまで上昇する。
第7図hにおいては、前記テーブル4が図示さ
れないテーブル移動装置により左方へ移動する。
該移動は、該テーブル4上に設置された第3のキ
ヤリア50が、前記支持架枠の真下にくるまで行
なわれる。
れないテーブル移動装置により左方へ移動する。
該移動は、該テーブル4上に設置された第3のキ
ヤリア50が、前記支持架枠の真下にくるまで行
なわれる。
第7図iにおいては、支持架枠はガイド昇降装
置により再び下降し、該支持架枠は前記左および
右ホルダ1a,1bが前記第3のキヤリア50の
側面板に接近したところで停止する。
置により再び下降し、該支持架枠は前記左および
右ホルダ1a,1bが前記第3のキヤリア50の
側面板に接近したところで停止する。
そして、前述したテーブル4の右方への移動に
より、前記第3のキヤリア50の下方に位置する
こととなつた前記プツシヤ5は、プツシヤ昇降装
置により上昇する。
より、前記第3のキヤリア50の下方に位置する
こととなつた前記プツシヤ5は、プツシヤ昇降装
置により上昇する。
該プツシヤ5は、第3のキヤリア50の底面お
よびテーブル4に形成された第3のプツシヤ穴5
1および51Tを通り、前記左および右ホルダ1
a,1bに形成された第1の主溝201の底部端
部に係止された前記25枚のウエーハ100の下部
に接触する。
よびテーブル4に形成された第3のプツシヤ穴5
1および51Tを通り、前記左および右ホルダ1
a,1bに形成された第1の主溝201の底部端
部に係止された前記25枚のウエーハ100の下部
に接触する。
前記プツシヤ5はさらに上昇し、前記ウエーハ
100を前記左および右ガイド2a,2bに形成
された第3の主溝203内へ挿入する。この時、
前記プツシヤ5は上昇を停止する。
100を前記左および右ガイド2a,2bに形成
された第3の主溝203内へ挿入する。この時、
前記プツシヤ5は上昇を停止する。
第7図jにおいては、前記ガイド回転装置は、
前記右ホルダ1a,1bを、該左および右ホルダ
1a,1bの対向する部分が上向きになるよう
に、つまり矢印B方向に、45度回転させる。
前記右ホルダ1a,1bを、該左および右ホルダ
1a,1bの対向する部分が上向きになるよう
に、つまり矢印B方向に、45度回転させる。
したがつて、前記左および右ホルダ1a,1b
は始めの状態、つまり第2図のように、すべての
ウエーハを通過させる状態となる。
は始めの状態、つまり第2図のように、すべての
ウエーハを通過させる状態となる。
第7図kにおいては、前記プツシヤ5は、プツ
シヤ昇降装置により再び下降を始める。前記25枚
のウエーハ100も該プツシヤ5と共に下降す
る。
シヤ昇降装置により再び下降を始める。前記25枚
のウエーハ100も該プツシヤ5と共に下降す
る。
該25枚のウエーハ100は、前記左および右ホ
ルダ1a,1bに形成された第1の主溝201を
通過し、該左および右ホルダ1a,1bの下側へ
下降し、その後、前記第3のキヤリア50内へ挿
入される。
ルダ1a,1bに形成された第1の主溝201を
通過し、該左および右ホルダ1a,1bの下側へ
下降し、その後、前記第3のキヤリア50内へ挿
入される。
前記25枚のウエーハ100は、該第3のキヤリ
ア50の底面に設けられた第3のウエーハ係止溝
501のそれぞれに係止される。
ア50の底面に設けられた第3のウエーハ係止溝
501のそれぞれに係止される。
前記プツシヤ5は、前記第3のキヤリア50の
底面および前記テーブル4に設けられた第3のプ
ツシヤ穴51を通過し、前記25枚のウエーハ10
0を前記第3のウエーハ係止溝501に係止させ
た後、下降を停止する。
底面および前記テーブル4に設けられた第3のプ
ツシヤ穴51を通過し、前記25枚のウエーハ10
0を前記第3のウエーハ係止溝501に係止させ
た後、下降を停止する。
その後、支持架枠は、ガイド昇降装置により、
前記左および右ホルダ1a,1bの下端が、第
1、第2および第3のキヤリア30,40,50
のいずれの側面板よりも高い位置へ達するまで上
昇する。
前記左および右ホルダ1a,1bの下端が、第
1、第2および第3のキヤリア30,40,50
のいずれの側面板よりも高い位置へ達するまで上
昇する。
第7図lにおいては、前記テーブル4はテーブ
ル移動装置により右方へ移動する。該移動は、該
テーブル4上に設置された第1のキヤリア30
が、前記支持架枠の真下にくるまで行なわれ、そ
の後、停止する。
ル移動装置により右方へ移動する。該移動は、該
テーブル4上に設置された第1のキヤリア30
が、前記支持架枠の真下にくるまで行なわれ、そ
の後、停止する。
以上の第1図、第7図a〜lの操作により、該
第1図において第1のキヤリア30内に収納され
た50枚のウエーハ100は、該第1のキヤリア3
0の左右に設置された第2および第3のキヤリア
40,50内に25枚づつ、かつ前記第1のキヤリ
ア30内に収納されていたウエーハ100間のピ
ツチの2倍のピツチで収納されたことになる。
第1図において第1のキヤリア30内に収納され
た50枚のウエーハ100は、該第1のキヤリア3
0の左右に設置された第2および第3のキヤリア
40,50内に25枚づつ、かつ前記第1のキヤリ
ア30内に収納されていたウエーハ100間のピ
ツチの2倍のピツチで収納されたことになる。
なお第7図d,h,lにおいては、テーブル4
を図示されないテーブル移動装置により右方ある
いは左方に移動したが、該テーブル4を固定して
おいて、左および右ホルダ1a,1b、左および
右ガイド2a,2b、プツシヤ5および左および
右ローラ6a,6bを移動させても同様の効果が
得られることは明白である。
を図示されないテーブル移動装置により右方ある
いは左方に移動したが、該テーブル4を固定して
おいて、左および右ホルダ1a,1b、左および
右ガイド2a,2b、プツシヤ5および左および
右ローラ6a,6bを移動させても同様の効果が
得られることは明白である。
一般に、ウエーハはゲルマニウムやシリコン等
の単結晶であるが、該単結晶の方向を示すため
に、該ウエーハは円形形状の該ウエーハの一部に
直線状のカツトが施されている。そして、キヤリ
ア内にウエーハを収納する場合、該ウエーハの結
晶方位、つまり円形形状の一部を直線状にカツト
した部分を一定方向にそろえる必要がある場合が
多い。
の単結晶であるが、該単結晶の方向を示すため
に、該ウエーハは円形形状の該ウエーハの一部に
直線状のカツトが施されている。そして、キヤリ
ア内にウエーハを収納する場合、該ウエーハの結
晶方位、つまり円形形状の一部を直線状にカツト
した部分を一定方向にそろえる必要がある場合が
多い。
前述の操作においては、該ウエーハ100の方
向をそろえる操作はしていないので、第7図のl
における第2および第3のキヤリア40,50に
収納されたウエーハ100は、その方向がばらば
らである。
向をそろえる操作はしていないので、第7図のl
における第2および第3のキヤリア40,50に
収納されたウエーハ100は、その方向がばらば
らである。
以下に、第2および第3のキヤリア40,50
に収納されたウエーハ100の方向をそろえる手
順を示す。
に収納されたウエーハ100の方向をそろえる手
順を示す。
第7図m〜第7図pはウエーハ100の方向を
そろえる手順は説明する説明図である。
そろえる手順は説明する説明図である。
第1図〜第6図および第7図a〜第7図lにお
いては、ウエーハ100の前記切欠直線部は示し
ていなかつたが、第7図m〜第7図pにおいては
該切欠直線部を示してある。
いては、ウエーハ100の前記切欠直線部は示し
ていなかつたが、第7図m〜第7図pにおいては
該切欠直線部を示してある。
また、ウエーハ100の円の中に書かれた数字
は、該ウエーハ100の枚数を示している。
は、該ウエーハ100の枚数を示している。
第7図m〜第7図pにおいて、第1図〜第6
図、および第7図a〜第7図lと同一の符号は、
同一または同等部分をあらわしている。
図、および第7図a〜第7図lと同一の符号は、
同一または同等部分をあらわしている。
前述のように第7図aにおいて、第1のキヤリ
ア30内に収納されていた50枚のウエーハ100
は、第7図lにおいては、第2および第3のキヤ
リア40,50内に25枚ずつ、かつ前記第1のキ
ヤリア30内に収納されたウエーハ100間のピ
ツチの2倍のピツチで収納されている。
ア30内に収納されていた50枚のウエーハ100
は、第7図lにおいては、第2および第3のキヤ
リア40,50内に25枚ずつ、かつ前記第1のキ
ヤリア30内に収納されたウエーハ100間のピ
ツチの2倍のピツチで収納されている。
第7図mにおいては、前記第2および第3のキ
ヤリア40,50の下方に設置された左および右
ローラ6a,6bが、図示されないローラ駆動装
置により上昇する。
ヤリア40,50の下方に設置された左および右
ローラ6a,6bが、図示されないローラ駆動装
置により上昇する。
前記第2および第3のキヤリア40,50内に
収納されたウエーハ100は、第2および第3の
ウエーハ係止溝401,501に挿入、係止され
ているが、該ウエーハ100の最下部は第2およ
び第3のプツシヤ穴41,51の下面に若干突出
している。
収納されたウエーハ100は、第2および第3の
ウエーハ係止溝401,501に挿入、係止され
ているが、該ウエーハ100の最下部は第2およ
び第3のプツシヤ穴41,51の下面に若干突出
している。
前記左および右ローラ6a,6bの上昇は、前
記第2および第3のプツシヤ穴41,51の下面
に突出した前記ウエーハ100の最下部の円弧状
部分に接触するまで行なわれる。
記第2および第3のプツシヤ穴41,51の下面
に突出した前記ウエーハ100の最下部の円弧状
部分に接触するまで行なわれる。
この時、ウエーハ100の結晶方位を示す前記
直接部が、この最下部にあるウエーハ100に
は、前記左および右ローラ6a,6bは接触しな
い。
直接部が、この最下部にあるウエーハ100に
は、前記左および右ローラ6a,6bは接触しな
い。
第7図nにおいては、前記左および右ローラ6
a,6bは、図示されないローラ駆動装置により
一定時間回転する。回転方向は、時計方向、反時
計方向のどちらでもよい。
a,6bは、図示されないローラ駆動装置により
一定時間回転する。回転方向は、時計方向、反時
計方向のどちらでもよい。
前記左および右ローラ6a,6bの回転によ
り、該左および右ローラ6a,6bと接触してい
る前記ウエーハ100は、その摩擦力のために回
転する。
り、該左および右ローラ6a,6bと接触してい
る前記ウエーハ100は、その摩擦力のために回
転する。
任意の方向に向いていた前記ウエーハ100の
直線部は、前記回転のため、該ウエーハ100の
最下部へ回転させられる。該ウエーハ100の最
下部に移動した該ウエーハ100の直線部は、前
記左および右ローラ6a,6bに接触しなくな
る。
直線部は、前記回転のため、該ウエーハ100の
最下部へ回転させられる。該ウエーハ100の最
下部に移動した該ウエーハ100の直線部は、前
記左および右ローラ6a,6bに接触しなくな
る。
したがつて、前記左および右ローラ6a,6b
が回転を続けても、該ウエーハ100はその回転
を停止する。前記左および右ローラ6a,6b
は、前記すべてのウエーハ100の直線部が該ウ
エーハ100の最下部に移動し、該すべてのウエ
ーハ100の回転が停止するまで続けられる。
が回転を続けても、該ウエーハ100はその回転
を停止する。前記左および右ローラ6a,6b
は、前記すべてのウエーハ100の直線部が該ウ
エーハ100の最下部に移動し、該すべてのウエ
ーハ100の回転が停止するまで続けられる。
この状態において、前記ウエーハ100の結晶
方位は、すべて同一方向に揃えられたことにな
る。さらに、前記ウエーハ100の直接部を、該
ウエーハ100の下以外に向けたい場合には、以
下の操作を行なう。
方位は、すべて同一方向に揃えられたことにな
る。さらに、前記ウエーハ100の直接部を、該
ウエーハ100の下以外に向けたい場合には、以
下の操作を行なう。
第7図oにおいては、そのすべての直接部が、
その最下部に位置する前記ウエーハ100に対し
て、前記左および右ローラ6a,6bは図示され
ないローラ駆動装置により、さらに上昇する。該
左および右ローラ6a,6bは、前記ウエーハ1
00の直線部に接触すると同時に、その上昇を停
止する。
その最下部に位置する前記ウエーハ100に対し
て、前記左および右ローラ6a,6bは図示され
ないローラ駆動装置により、さらに上昇する。該
左および右ローラ6a,6bは、前記ウエーハ1
00の直線部に接触すると同時に、その上昇を停
止する。
第7図pにおいては、前記左および右ローラ6
a,6bは、前記図示されないローラ駆動装置に
より回転する。回転方向は、時計方向、反時計方
向のどちらでもよい。
a,6bは、前記図示されないローラ駆動装置に
より回転する。回転方向は、時計方向、反時計方
向のどちらでもよい。
前記ウエーハ100は、前記左および右ローラ
6a,6bの回転により回転する。前記ウエーハ
100の直線部が希望する任意の方向に向けられ
たところで、前記左および右ローラ6a,6b
は、その回転を停止する。第7図pにおいては、
前記ウエーハ100の直線部はすべて該ウエーハ
の最上部に位置している。
6a,6bの回転により回転する。前記ウエーハ
100の直線部が希望する任意の方向に向けられ
たところで、前記左および右ローラ6a,6b
は、その回転を停止する。第7図pにおいては、
前記ウエーハ100の直線部はすべて該ウエーハ
の最上部に位置している。
前記ウエーハ100の直線部が希望する任意の
方向に向けられ、前記左および右ローラ6a,6
bの回転が停止したところで、前記左および右ロ
ーラ6a,6bは下降する。
方向に向けられ、前記左および右ローラ6a,6
bの回転が停止したところで、前記左および右ロ
ーラ6a,6bは下降する。
以上の操作により、その直線部が種々の方向に
向けられていたウエーハ100は、すべて希望す
る同一方向へ向けられたことになる。
向けられていたウエーハ100は、すべて希望す
る同一方向へ向けられたことになる。
また、以上の操作の逆の操作、つまり第2およ
び第3のキヤリア40,50内に収められたウエ
ーハ100を、第1のキヤリア30内へ移換える
操作も、前述した操作を全く逆の手順により行え
ば容易に達成できる。
び第3のキヤリア40,50内に収められたウエ
ーハ100を、第1のキヤリア30内へ移換える
操作も、前述した操作を全く逆の手順により行え
ば容易に達成できる。
また、第1のキヤリア30の左右両側へ第2、
第3のキヤリア40,50を設けたが、これに限
らず、前記第1のキヤリア30を端部に設け、第
2または第3のキヤリア40,50を中央に設け
てもよいのは当然である。
第3のキヤリア40,50を設けたが、これに限
らず、前記第1のキヤリア30を端部に設け、第
2または第3のキヤリア40,50を中央に設け
てもよいのは当然である。
本発明の一実施例では、ウエーハ100の移換
えに、第1または第2および第3のキヤリア3
0,40,50に形成された第1または第2およ
び第3のウエーハ係止溝301,401,501
に係止されたそれぞれのウエーハ100を、左お
よび右ホルダ1a,1bおよび左および右ガイド
2a,2bに形成されたそれぞれの第1、第2お
よび第3の主溝201,202,203内に挿入
あるいは係止する手段、あるいはその逆の手段を
用いている。
えに、第1または第2および第3のキヤリア3
0,40,50に形成された第1または第2およ
び第3のウエーハ係止溝301,401,501
に係止されたそれぞれのウエーハ100を、左お
よび右ホルダ1a,1bおよび左および右ガイド
2a,2bに形成されたそれぞれの第1、第2お
よび第3の主溝201,202,203内に挿入
あるいは係止する手段、あるいはその逆の手段を
用いている。
前記第1、第2および第3のウエーハ係止溝3
01,401,501および第1、第2および第
3の主溝201,202,203は、前記ウエー
ハ100を係止あるいは保持するための溝である
から、該溝の幅はあまり広くできないが、適度か
遊びは必要である。
01,401,501および第1、第2および第
3の主溝201,202,203は、前記ウエー
ハ100を係止あるいは保持するための溝である
から、該溝の幅はあまり広くできないが、適度か
遊びは必要である。
前記第1、第2および第3のキヤリア30,4
0,50に形成された前記第1、第2および第3
のウエーハ係止溝301,401,501に係止
された前記ウエーハ100は、該ウエーハ係止溝
の前記遊びのために、該キヤリアの底面に対して
垂直に立つことができず、該キヤリアの底面の垂
直面に対して若干の傾斜角度をなして、あるウエ
ーハは該垂直面の手前側、また、他のウエーハは
反対側に傾斜して立てことになる。
0,50に形成された前記第1、第2および第3
のウエーハ係止溝301,401,501に係止
された前記ウエーハ100は、該ウエーハ係止溝
の前記遊びのために、該キヤリアの底面に対して
垂直に立つことができず、該キヤリアの底面の垂
直面に対して若干の傾斜角度をなして、あるウエ
ーハは該垂直面の手前側、また、他のウエーハは
反対側に傾斜して立てことになる。
したがつて、キヤリア内での各ウエーハ100
間の上部にピツチが異なり、この状態では、前記
左および右ホルダ1a,1bおよび左および右ガ
イド2a,2bに形成された第1、第2および第
3の主溝201,202,203内に、該ウエー
ハ100を円滑に挿入することがむずかしくな
る。
間の上部にピツチが異なり、この状態では、前記
左および右ホルダ1a,1bおよび左および右ガ
イド2a,2bに形成された第1、第2および第
3の主溝201,202,203内に、該ウエー
ハ100を円滑に挿入することがむずかしくな
る。
はなはだしい場合には、前述の移換え動作に支
障を生じたり、ウエーハを損傷したりする欠点が
ある。
障を生じたり、ウエーハを損傷したりする欠点が
ある。
上記欠点の解決策として、図示されない手段に
より前記テーブル4を、該テーブル4と前記ウエ
ーハ100との交線と平行な仮想軸のまわりに傾
斜させてやることが考えられる。
より前記テーブル4を、該テーブル4と前記ウエ
ーハ100との交線と平行な仮想軸のまわりに傾
斜させてやることが考えられる。
前記テーブル4の傾斜により、前記のすべての
ウエーハ100は同一方向に傾斜し、したがつ
て、該ウエーハ100間の上部のピツチは、その
キヤリアごとに同じになる。
ウエーハ100は同一方向に傾斜し、したがつ
て、該ウエーハ100間の上部のピツチは、その
キヤリアごとに同じになる。
なお、前記傾斜が大きい場合には、前記第1の
キヤリア30に形成された第1のウエーハ係止溝
301と、前記左および右ホルダ1a,1bおよ
び左および右ガイド2a,2bに形成された第
1、第2および第3の主溝201,202,20
3との相対位置を調整する必要がある。
キヤリア30に形成された第1のウエーハ係止溝
301と、前記左および右ホルダ1a,1bおよ
び左および右ガイド2a,2bに形成された第
1、第2および第3の主溝201,202,20
3との相対位置を調整する必要がある。
また、前述のように左および右ホルダ1a,1
bおよび左および右ガイド2a,2bに形成され
た第1、第2および第3の主溝201,202,
203も、前記ウエーハ100が挿入された時に
適度な遊びが生ずるように形成されている。
bおよび左および右ガイド2a,2bに形成され
た第1、第2および第3の主溝201,202,
203も、前記ウエーハ100が挿入された時に
適度な遊びが生ずるように形成されている。
該遊びは、前記ウエーハ係止溝に係止された前
記ウエーハ100を前記プツシヤ5により上昇さ
せる際、前記第1、第2および第3の主溝20
1,202,203に挿入しやすくする為のもの
である。
記ウエーハ100を前記プツシヤ5により上昇さ
せる際、前記第1、第2および第3の主溝20
1,202,203に挿入しやすくする為のもの
である。
しかし、該遊びのために、前記ウエーハ100
が、それぞれ平行に保持されなくなるおそれがあ
る。したがつて、この状態では、前記左および右
ホルダ1a,1bにより保持された前記ウエーハ
100を前記第1、第2および第3のウエーハ係
止溝301,401,501内へ挿入、係止させ
ることはむずかしくなる。
が、それぞれ平行に保持されなくなるおそれがあ
る。したがつて、この状態では、前記左および右
ホルダ1a,1bにより保持された前記ウエーハ
100を前記第1、第2および第3のウエーハ係
止溝301,401,501内へ挿入、係止させ
ることはむずかしくなる。
上記欠点の解決のためには、前記第1、第2お
よび第3の主溝201,202,203を、その
断面が矩形ではなく、該溝の底面部が該ウエーハ
100の幅の同じて、該溝の開口部が前記底面部
の幅よりも広くなるような台形であるような形状
とするのがよい。
よび第3の主溝201,202,203を、その
断面が矩形ではなく、該溝の底面部が該ウエーハ
100の幅の同じて、該溝の開口部が前記底面部
の幅よりも広くなるような台形であるような形状
とするのがよい。
この場合には、第1、第2および第3のウエー
ハ係止溝301,401,501内に係止された
ウエーハ100を、第1、第2および第3の主溝
201,202,203へ挿入する場合は、その
断面を矩形状とし、遊びを大きくした場合と同様
に容易であり、また該ウエーハ100を保持する
場合は、該ウエーハ係止溝の底面部にて、前記ウ
エーハ100が保持されるので、該ウエーハ10
0と該第1、第2および第3の主溝201,20
2,203との間に遊びは生じない。
ハ係止溝301,401,501内に係止された
ウエーハ100を、第1、第2および第3の主溝
201,202,203へ挿入する場合は、その
断面を矩形状とし、遊びを大きくした場合と同様
に容易であり、また該ウエーハ100を保持する
場合は、該ウエーハ係止溝の底面部にて、前記ウ
エーハ100が保持されるので、該ウエーハ10
0と該第1、第2および第3の主溝201,20
2,203との間に遊びは生じない。
前記一実施例においては、左および右ホルダ1
a,1bを正方形柱状としたが、特に正方形柱状
に限らず、円柱状あるいは他の形状であつてもよ
い。
a,1bを正方形柱状としたが、特に正方形柱状
に限らず、円柱状あるいは他の形状であつてもよ
い。
また、第2および第3のキヤリア40,50の
底面に形成された第2および第3のウエーハ係止
溝401,501のそれぞれのピツチを、第1の
キヤリア30の底面に形成された第1のウエーハ
係止溝301のそれぞれのピツチの2倍とした
が、該第1のウエーハ係止溝301のそれぞれの
ピツチと同一にしても良いことは明らかである。
底面に形成された第2および第3のウエーハ係止
溝401,501のそれぞれのピツチを、第1の
キヤリア30の底面に形成された第1のウエーハ
係止溝301のそれぞれのピツチの2倍とした
が、該第1のウエーハ係止溝301のそれぞれの
ピツチと同一にしても良いことは明らかである。
この場合、第1のキヤリア30と第2および第
3のキヤリア40,50との材質が同じ時は、第
1のキヤリア30をもつて、第2および第3のキ
ヤリア40,50に代えることができる。
3のキヤリア40,50との材質が同じ時は、第
1のキヤリア30をもつて、第2および第3のキ
ヤリア40,50に代えることができる。
さて、本発明の一実施例は、1つのキヤリア内
に収められた50枚のウエーハを別の2つとキヤリ
ア内へ25枚ずつ移し換え、また該別の2つのキヤ
リア内へ25枚ずつ移し換えられたウエーハ間のピ
ツチは、始めの1つのキヤリア内に収められた50
枚のウエーハ間のピツチの2倍であつた。
に収められた50枚のウエーハを別の2つとキヤリ
ア内へ25枚ずつ移し換え、また該別の2つのキヤ
リア内へ25枚ずつ移し換えられたウエーハ間のピ
ツチは、始めの1つのキヤリア内に収められた50
枚のウエーハ間のピツチの2倍であつた。
つまり、第1のキヤリアへ収納されていたウエ
ーハの枚数は、第2および第3のキヤリアへ収納
された枚数の2倍であつた。
ーハの枚数は、第2および第3のキヤリアへ収納
された枚数の2倍であつた。
しかし、左および右ホルダに形成された第2の
主溝を、第1の主溝の一端に2つおきに形成する
とともに、もう1組の前記第2の主溝と同形状の
第4の主溝を前記第2の主溝が形成されいない前
記第1の主溝の他端に2つおきに形成し、また、
さらに第4のキヤリアを設け、第2、第3および
第4のキヤリアに第1のキヤリアに形成された第
1のウエーハ係止溝の3倍のピツチで第2、第3
および第4のウエーハ係止溝を形成し、該第1の
ウエーハ係止溝のすべてが該第2、第3および第
4のウエーハ係止溝の延長線上に位置するように
構成することにより、前記比率を3倍にすること
ができる。
主溝を、第1の主溝の一端に2つおきに形成する
とともに、もう1組の前記第2の主溝と同形状の
第4の主溝を前記第2の主溝が形成されいない前
記第1の主溝の他端に2つおきに形成し、また、
さらに第4のキヤリアを設け、第2、第3および
第4のキヤリアに第1のキヤリアに形成された第
1のウエーハ係止溝の3倍のピツチで第2、第3
および第4のウエーハ係止溝を形成し、該第1の
ウエーハ係止溝のすべてが該第2、第3および第
4のウエーハ係止溝の延長線上に位置するように
構成することにより、前記比率を3倍にすること
ができる。
一般に、左および右ホルダに形成された第1お
よび第2の主溝および該左および右ホルダの形状
を自由に変形することにより、本発明は、これら
の具体的な数値に制約されず、1つのキヤリア内
に収めらたX枚のウエーハを、別のn個のキヤリ
ア内へX/n枚ずつ移し換え、また、該別のn個
のキヤリア内へX/n枚ずつ移し換えられたウエ
ーハ間のピツチは、始めの1つのキヤリア内に収
められたX枚のウエーハ間のピツチのn倍にする
ことができる。
よび第2の主溝および該左および右ホルダの形状
を自由に変形することにより、本発明は、これら
の具体的な数値に制約されず、1つのキヤリア内
に収めらたX枚のウエーハを、別のn個のキヤリ
ア内へX/n枚ずつ移し換え、また、該別のn個
のキヤリア内へX/n枚ずつ移し換えられたウエ
ーハ間のピツチは、始めの1つのキヤリア内に収
められたX枚のウエーハ間のピツチのn倍にする
ことができる。
また、逆の操作によりn個のキヤリア内にX枚
ずつ収められたウエーハを、別の1つのキヤリア
内へn・X枚移し換え、また該別の1つのキヤリ
ア内へ移し換えられたn・X枚のウエーハ間のピ
ツチは、始めのn個のキヤリア内にX枚ずつ収め
られたウエーハ間のピツチの1/n倍にすること
ができる。
ずつ収められたウエーハを、別の1つのキヤリア
内へn・X枚移し換え、また該別の1つのキヤリ
ア内へ移し換えられたn・X枚のウエーハ間のピ
ツチは、始めのn個のキヤリア内にX枚ずつ収め
られたウエーハ間のピツチの1/n倍にすること
ができる。
(効果)
以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば、つぎのような効果が達成される。
ば、つぎのような効果が達成される。
(1) キヤリア内へ収納されたウエーハを他のキヤ
リア内へ自動適に移換えることができるので、
該ウエーハを汚したり、傷つけたり、あるいは
破損することがなく、また該移換えが効率よく
行なわれ、経済的である。
リア内へ自動適に移換えることができるので、
該ウエーハを汚したり、傷つけたり、あるいは
破損することがなく、また該移換えが効率よく
行なわれ、経済的である。
(2) キヤリア内へ収納されたウエーハの結晶方位
をそろえることができるので、各種処理が能率
よく行なわれる。
をそろえることができるので、各種処理が能率
よく行なわれる。
(3) 1対の柱状ホルダによつて、ウエーハの選択
および一方のキヤリアから他方のキヤリアへの
移送中の保持機能を果たすことができるので、
移換え装置の構造を簡素化できる。
および一方のキヤリアから他方のキヤリアへの
移送中の保持機能を果たすことができるので、
移換え装置の構造を簡素化できる。
第1図は本発明の一実施例の概略正面図、第2
図は左および右ホルダの詳細図、第3図は左およ
び右ホルダが第2図の状態からその対向する部分
が上向きになるように45度回転した状態図、第4
図は左および右ホルダが第3図の状態からその対
向する部分が下向きになるように90度回転した状
態図、第5図は左および右ガイドの詳細図、第6
図は第1、第2および第3のキヤリアおよびテー
ブルの詳細図、第7図a〜lはウエーハの移し換
えの手順を示す説明図、第7図m〜pはウエーハ
の方向をそろえる手順を示す説明図である。 1a……左ホルダ、1b……右ホルダ、2a…
…左ガイド、2b……右ガイド、4……テーブ
ル、5……プツシヤ、8a……左回転軸、8b…
…右回転軸、30……第1のキヤリア、31……
第1のプツシヤ穴、40……第2のキヤリア、4
1……第2のプツシヤ穴、50……第3のキヤリ
ア、51……第3のプツシヤ穴、100……ウエ
ーハ、101……第1のウエーハ、102……第
2のウエーハ、103……第3のウエーハ、10
4……第4のウエーハ、201……第1の主溝、
202……第2の主溝、203……第3の主溝、
301……第1のウエーハ係止溝、401……第
2のウエーハ係止溝、501……第3のウエーハ
係止溝。
図は左および右ホルダの詳細図、第3図は左およ
び右ホルダが第2図の状態からその対向する部分
が上向きになるように45度回転した状態図、第4
図は左および右ホルダが第3図の状態からその対
向する部分が下向きになるように90度回転した状
態図、第5図は左および右ガイドの詳細図、第6
図は第1、第2および第3のキヤリアおよびテー
ブルの詳細図、第7図a〜lはウエーハの移し換
えの手順を示す説明図、第7図m〜pはウエーハ
の方向をそろえる手順を示す説明図である。 1a……左ホルダ、1b……右ホルダ、2a…
…左ガイド、2b……右ガイド、4……テーブ
ル、5……プツシヤ、8a……左回転軸、8b…
…右回転軸、30……第1のキヤリア、31……
第1のプツシヤ穴、40……第2のキヤリア、4
1……第2のプツシヤ穴、50……第3のキヤリ
ア、51……第3のプツシヤ穴、100……ウエ
ーハ、101……第1のウエーハ、102……第
2のウエーハ、103……第3のウエーハ、10
4……第4のウエーハ、201……第1の主溝、
202……第2の主溝、203……第3の主溝、
301……第1のウエーハ係止溝、401……第
2のウエーハ係止溝、501……第3のウエーハ
係止溝。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一方のキヤリア内に、第1のピツチで収納さ
れたウエーハを、そのn倍(nは整数)または
1/n倍に相当する第2のピツチで他方のキヤリ
ア内へ移換えて収納する自動ウエーハ移換機であ
つて、 前記第1のピツチで形成された複数のウエーハ
係止溝および底面に穿設されたプツシヤ穴を有す
る第1のキヤリア、ならびに前記第2のピツチで
形成された複数のウエーハ係止溝および底面に穿
設されたプツシヤ穴を有する第2のキヤリアと、 前記第1および第2のキヤリアのプツシヤ穴に
対応する位置にプツシヤ穴が穿設されていて、前
記第1のキヤリアおよび第2のキヤリアを、互い
に対応する各キヤリアのウエーハ係止溝が一直線
上に配列されるように、その上面に並置状態で載
置するためのテーブルと、 前記テーブルの上方に、前記第1および第2の
キヤリアと平行に、かつ互いに平行に配置され
て、それぞれの周面には、前記第1および第2の
ピツチの中の小さい方のピツチで収納されたウエ
ーハを通過させる第1の複数の主溝、および前記
第1および第2のピツチの中の大きい方のピツチ
で収納されたウエーハのみを通過させる少なくと
も1組の第2の複数の主溝が、相互にある中心角
だけずらして穿設されている1対の柱状ホルダ
と、 前記1対のホルダを、その軸のまわりに回転さ
せ、各ホルダの第1の主溝を対向させて前記小さ
い方のピツチで収納されたウエーハを通過させる
第1の位置、および各ホルダの第2の主溝を対向
させて前記大きい方のピツチで収納されたウエー
ハのみを通過させる第2の位置、ならびに前記第
1の位置から予定角度だけ回転させて第1および
第2のピツチで収納されたすべてのウエーハの通
過を禁止して該ウエーハをホルダで保持させる第
3の位置で停止させるようにホルダ間のウエーハ
の通過・係止を制御するホルダ回転装置と、 前記1対のホルダの真上に、それぞれ配置さ
れ、それぞれの対向面に、前記第1および第2の
ピツチの中の小さい方のピツチで収納されたウエ
ーハを挿入する第3の複数の主溝を穿設された1
対のガイドと、 前記1対のホルダおよび1対のガイドを、相互
に所定の相対位置に保つて支持する支持架枠と、 前記支持架枠を上昇または下降させるガイド昇
降装置と、 前記テーブルの下方に設けられ、前記テーブル
およびその上のキユリアの各プツシヤ穴を貫通し
て上昇、下降し、キヤリア内および前記ホルダに
支持されたウエーハを上昇または下降させるプツ
シヤと、 前記プツシヤの上昇・下降を制御するプツシヤ
昇降装置と、 前記テーブルおよびプツシヤ、ならびに前記支
持架枠を、ウエーハ係止溝と平行な方向に相対移
動させる駆動装置とを具備したことを特徴とする
自動ウエーハ移換機。 2 前記第1および第2のキヤリアに形成された
ウエーハ係止溝のピツチが等しいことを特徴とす
る前記特許請求範囲の第1項記載の自動ウエーハ
移換機。 3 前記第1、第2および第3の主溝の断面形状
が台形であることを特徴とする前記特許請求の範
囲第1項または第2項記載の自動ウエーハ移換
機。 4 一方のキヤリア内に、第1のピツチで収納さ
れたウエーハを、そのn倍(nは整数)または
1/n倍に相当する第2のピツチで他方のキヤリ
ア内へ移換えて収納する自動ウエーハ移換機であ
つて、 前記第1のピツチで形成された複数のウエーハ
係止溝および底面に穿設されたプツシヤ穴を有す
る第1のキヤリア、ならびに前記第2のピツチで
形成された複数のウエーハ係止溝および底面に穿
設されたプツシヤ穴を有する第2のキヤリアと、 前記第1および第2のキヤリアのプツシヤ穴に
対応する位置にプツシヤ穴が穿設されていて、前
記第1のキヤリアおよび第2のキヤリアを、互い
に対応する各キヤリアのウエーハ係止溝が一直線
上に配列されるように、その上面に並置状態で載
置するためのテーブルと、 前記テーブルの上方に、前記第1および第2の
キヤリアと平行に、かつ互いに平行に配置され
て、それぞれの周面には、前記第1および第2の
ピツチの中の小さい方のピツチで収納されたウエ
ーハを通過させる第1の複数の主溝、および前記
第1および第2のピツチの中の大きい方のピツチ
で収納されたウエーハのみを通過させる少なくと
も1組の第2の複数の主溝が、相互にある中心角
だけずらして穿設されている1対の柱状ホルダ
と、 前記1対のホルダを、その軸のまわりに回転さ
せ、各ホルダの第1の主溝を対向させて前記小さ
い方のピツチで収納されたウエーハを通過させる
第1の位置、および各ホルダの第2の主溝を対向
させて前記大きい方のピツチで収納されたウエー
ハのみを通過させる第2の位置、ならびに前記第
1の位置から予定角度だけ回転させ、第1および
第2のピツチで収納されたすべてのウエーハの通
過を禁止して該ウエーハをホルダで保持させる第
3の位置で停止させて、ホルダ間のウエーハの通
過・係止を制御するホルダ回転装置と、 前記1対のホルダの真上に、それぞれ配置さ
れ、それぞれの対向面に、前記第1および第2の
ピツチの中の小さい方のピツチで収納されたウエ
ーハを挿入する第3の複数の主溝を穿設された1
対のガイドと、 前記1対のホルダおよび1対のガイドを、相互
に所定の相対位置に保つて支持する支持架枠と、 前記支持架枠を上昇または下降させるガイド昇
降装置と、 前記テーブルの下方に設けられ、前記テーブル
およびその上のキユリアの各プツシヤ穴を貫通し
て上昇、下降し、キヤリア内および前記ホルダに
支持されたウエーハを上昇または下降させるプツ
シヤと、 前記プツシヤの上昇・下降を制御するプツシヤ
昇降装置と、 前記テーブルおよびプツシヤ、ならびに前記支
持架枠を、ウエーハ係止溝と平行な方向に相対移
動させる駆動装置と、 前記テーブルを、その面およびウエーハ面の両
方にほぼ垂直な面内で予定角度だけ傾斜させる手
段とを具備したことを特徴とする自動ウエーハ移
換機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58153560A JPS6045031A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | 自動ウェ−ハ移換機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58153560A JPS6045031A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | 自動ウェ−ハ移換機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6045031A JPS6045031A (ja) | 1985-03-11 |
| JPH0455335B2 true JPH0455335B2 (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=15565161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58153560A Granted JPS6045031A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | 自動ウェ−ハ移換機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6045031A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6133443U (ja) * | 1984-07-28 | 1986-02-28 | ソニー株式会社 | ウエハ−移載装置 |
| JPH01319968A (ja) * | 1988-06-21 | 1989-12-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板保持装置 |
| JPH02103949A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-17 | Seiko Epson Corp | 半導体基板移載装置 |
| JPH05291379A (ja) * | 1992-04-10 | 1993-11-05 | Kaijo Corp | 半導体基板用搬送装置及び半導体基板処理器並びに自動処理装置 |
| EP0908927B1 (de) * | 1997-09-10 | 2007-01-31 | Tec-Sem AG | Transfervorrichtung für Halbleiterscheiben |
| WO1999013497A1 (de) * | 1997-09-10 | 1999-03-18 | Tec-Sem Ag | Transfervorrichtung für halbleiterscheiben |
| CN108069229A (zh) * | 2017-11-05 | 2018-05-25 | 安徽康乐机械科技有限公司 | 装瓶室输送机 |
| CN117832158A (zh) * | 2024-03-06 | 2024-04-05 | 无锡琨圣智能装备股份有限公司 | 一种晶圆插片装置及晶圆清洗装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54127960A (en) * | 1978-03-29 | 1979-10-04 | Toray Silicone Co Ltd | Organopolysiloxane composition |
| JPS5527239U (ja) * | 1978-08-07 | 1980-02-21 | ||
| JPS57126128A (en) * | 1981-01-27 | 1982-08-05 | Toshiba Corp | Moving method for wafer |
-
1983
- 1983-08-22 JP JP58153560A patent/JPS6045031A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6045031A (ja) | 1985-03-11 |
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