JPH0457827A - フツ素含有プロピレンオキシビシクロヘキシレンポリカーボネート樹脂 - Google Patents
フツ素含有プロピレンオキシビシクロヘキシレンポリカーボネート樹脂Info
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- JPH0457827A JPH0457827A JP17107290A JP17107290A JPH0457827A JP H0457827 A JPH0457827 A JP H0457827A JP 17107290 A JP17107290 A JP 17107290A JP 17107290 A JP17107290 A JP 17107290A JP H0457827 A JPH0457827 A JP H0457827A
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Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規なポリカーボネート樹脂に係り、特に透明
性と熱成形性に優れたフッ素含有プロピレンオキシビシ
クロヘキシレンポリカーボネート樹脂に関する。
性と熱成形性に優れたフッ素含有プロピレンオキシビシ
クロヘキシレンポリカーボネート樹脂に関する。
ポリカーボネート樹脂は工業的に広く使用されている合
成樹脂であって、通常2.2−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)プロパン(以下ビスフェノールAと略記する
)のよりな二価のフェノールとホスゲンのような炭酸誘
導体との反応により製造されている。ところでビスフェ
ノールAから製造されるポリカーボネート樹脂は、耐衝
撃性に優れ、しかも吸湿性が小さく熱に安定である等の
優れた特性を有しているが、これを光学記録基板として
使用する場合、ビスフェノールAから製造されるポリカ
ーボネート樹脂に代表される芳香族ポリカーボネート樹
脂は、異方性の大きい芳香族環をその主鎖に含むことか
ら、光学記録基板の性質として極めて重要である複屈折
を低減することが困難であった。
成樹脂であって、通常2.2−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)プロパン(以下ビスフェノールAと略記する
)のよりな二価のフェノールとホスゲンのような炭酸誘
導体との反応により製造されている。ところでビスフェ
ノールAから製造されるポリカーボネート樹脂は、耐衝
撃性に優れ、しかも吸湿性が小さく熱に安定である等の
優れた特性を有しているが、これを光学記録基板として
使用する場合、ビスフェノールAから製造されるポリカ
ーボネート樹脂に代表される芳香族ポリカーボネート樹
脂は、異方性の大きい芳香族環をその主鎖に含むことか
ら、光学記録基板の性質として極めて重要である複屈折
を低減することが困難であった。
この問題を解決するために分子量の低減化の他成形条件
の検討という成形時の分子配向を低減しようとする試み
がなされている。しかしながら、複屈折が素材そのもの
に起因することから、−様に複屈折が低く透明な基板を
安定して製造することが困難な状況にちゃ、光学記録基
板として十分に満足できるポリカーボネート樹脂は未だ
見出されていない。加えて従来のポリカーボネート樹脂
は融点が比較的高いため、用途によっては熱成形性に劣
るという問題もあった。
の検討という成形時の分子配向を低減しようとする試み
がなされている。しかしながら、複屈折が素材そのもの
に起因することから、−様に複屈折が低く透明な基板を
安定して製造することが困難な状況にちゃ、光学記録基
板として十分に満足できるポリカーボネート樹脂は未だ
見出されていない。加えて従来のポリカーボネート樹脂
は融点が比較的高いため、用途によっては熱成形性に劣
るという問題もあった。
本発明の目的は、耐衝撃性、吸湿性、耐熱性に優れたポ
リカーボネート樹脂の長所を損うことなく、複屈折が低
く透明性に優れかつ熱成形性の改良されたポリカーボネ
ート樹脂を提供することにある。
リカーボネート樹脂の長所を損うことなく、複屈折が低
く透明性に優れかつ熱成形性の改良されたポリカーボネ
ート樹脂を提供することにある。
本発明は、式(■ン
CF。
CF。
・・・・・・ (I)
示し、x+y+z=1で0.1≦X≦0.9.0.1≦
y≦0.9.0.1≦2≦0.9である)で表わされる
繰返し構造単位を有するフッ素含有プロピレンオキシビ
シクロヘキシレンポリカーボネート樹脂である。
y≦0.9.0.1≦2≦0.9である)で表わされる
繰返し構造単位を有するフッ素含有プロピレンオキシビ
シクロヘキシレンポリカーボネート樹脂である。
本発明の式(I)で示されるポリカーボネート樹脂を製
造する方法としては、二価のビスフェノール類に代えて
後記式(I[)、(m)及び(■)で示される二価のア
ルコールを(a)ピリジン、トリエチルアミンなどに溶
解させホスゲンと反応させる方法、(b)ジクロロエタ
ン、塩化メチレン、クロロベンゼン、トルエンなどの不
活性溶媒とピリジンなどの酸受容体との存在下にホスゲ
ンやトリクロロメチルクロロホルマートと反応させる方
法又ufc)エステル交換触媒の存在下に炭酸ジアリー
ルエステルと反応させる方法など従来公知の方法を示す
ことができる。
造する方法としては、二価のビスフェノール類に代えて
後記式(I[)、(m)及び(■)で示される二価のア
ルコールを(a)ピリジン、トリエチルアミンなどに溶
解させホスゲンと反応させる方法、(b)ジクロロエタ
ン、塩化メチレン、クロロベンゼン、トルエンなどの不
活性溶媒とピリジンなどの酸受容体との存在下にホスゲ
ンやトリクロロメチルクロロホルマートと反応させる方
法又ufc)エステル交換触媒の存在下に炭酸ジアリー
ルエステルと反応させる方法など従来公知の方法を示す
ことができる。
なお、式(II)で示される二価アルコール、即ち2.
2−ビス(4−■−ヒドロキシプロポキシフェニル)
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンは
、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1゜1、
1.3.3.3−ヘキサフルオロプロパン(III)と
3−ブロモプロパツールをN、N−ジメチルホルムアミ
ド(DMFと略記する)中無水炭酸カリウムの存在下で
反応させることによシ製造される。
2−ビス(4−■−ヒドロキシプロポキシフェニル)
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンは
、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1゜1、
1.3.3.3−ヘキサフルオロプロパン(III)と
3−ブロモプロパツールをN、N−ジメチルホルムアミ
ド(DMFと略記する)中無水炭酸カリウムの存在下で
反応させることによシ製造される。
CF。
(III)
CF。
CF。
(II)
上記(a)〜(c)のいずれの方法においても、分子量
調整剤として二価のアルコールに対し1〜10モル係の
一価のフェノール、たとえばフェノール、p−ターシャ
リ−ブチルフェノール、p−クミルフェノールなどを添
加することは必要によシ任意に行ない得る。
調整剤として二価のアルコールに対し1〜10モル係の
一価のフェノール、たとえばフェノール、p−ターシャ
リ−ブチルフェノール、p−クミルフェノールなどを添
加することは必要によシ任意に行ない得る。
本発明のポリカーボネート樹脂はそれ自体で有用な本の
であるが、他の公知の樹脂、たとえばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリ
レート類、ポリカーボネート類、ポリエチレンテレフタ
レート類などと混合し、これら樹脂の光学特性や熱成形
性の改善を図ることもできる。
であるが、他の公知の樹脂、たとえばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリ
レート類、ポリカーボネート類、ポリエチレンテレフタ
レート類などと混合し、これら樹脂の光学特性や熱成形
性の改善を図ることもできる。
本発明の式(I)で表わされるポリカーボネート樹脂は
ポリカーボネート樹脂固有の耐衝撃性、吸湿性、熱安定
性を保持するとともに、原料二価アルコールの使用割合
に応じて熱成形性に優れた低融点(約120〜250℃
)のものとなる。
ポリカーボネート樹脂固有の耐衝撃性、吸湿性、熱安定
性を保持するとともに、原料二価アルコールの使用割合
に応じて熱成形性に優れた低融点(約120〜250℃
)のものとなる。
また、フッ素含有樹脂特有の複屈折率の低下と透明性の
改善に加え、分解温度が290℃以上となシ耐熱性が向
上する。
改善に加え、分解温度が290℃以上となシ耐熱性が向
上する。
以下、実施例によシ本発明をさらに詳しく説明するが、
本発明はこれら実施例によって何等限定されるものでは
ない。なお、実施例で得られたポリカーボネートの物性
は以下に従って測定した。
本発明はこれら実施例によって何等限定されるものでは
ない。なお、実施例で得られたポリカーボネートの物性
は以下に従って測定した。
ガラス転移温度:セイコー電子工業社製DSC−200
型を用い毎分5℃の昇温速度で測定。
型を用い毎分5℃の昇温速度で測定。
分解温度:セイコー電子工業社製TG/DTA−220
型を用い毎分10℃の昇温速度で測定し、重量減少5%
の温度とした。
型を用い毎分10℃の昇温速度で測定し、重量減少5%
の温度とした。
融点:偏光顕微鏡にホットステージ(メトラー社製FP
−82)を装着して毎分3℃の昇温速度で測定。
−82)を装着して毎分3℃の昇温速度で測定。
還元粘度:クロロホルムを溶媒として25℃、0.51
7diの濃度で測定。
7diの濃度で測定。
実施例1
、t!1.II:2.2−ビス(4−0御プロピレンオ
キシフェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルオロプロパン−2,2−ビス(4−フェニレン) −
1,1,1,3゜3.3−へキサフルオロプロパン−ト
ランス、トランス−4,4′−ビシクロヘキシレンカル
ボナート〕を下記1)、U)及び111)に従って製造
した。
キシフェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルオロプロパン−2,2−ビス(4−フェニレン) −
1,1,1,3゜3.3−へキサフルオロプロパン−ト
ランス、トランス−4,4′−ビシクロヘキシレンカル
ボナート〕を下記1)、U)及び111)に従って製造
した。
1)2.2−ビス(4−0御ヒドロキシプロポキシフェ
ニル) −1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプ
ロパンの製造 冷却器、撹拌機を備えた内容500IIL103つロフ
ラスコに2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1
,1,1,3,3,3−へキサフルオロプロパン51.
8g(0,151Ll)、3−ブロモプロパツール86
0g(0,62m)、無水炭酸カリウム200yを入れ
、DMF300mを溶媒として80℃で30時間反応を
行なった。反応終了後、この反応液を水5ノ中に注ぐと
油状物が分離してきた。この油状物を酢酸エチル900
m1で抽出した後、抽出酢酸エチル層を2 N −Na
OH水で3回、水で中性になるまで洗浄、ついで無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後減圧下で酢酸エチルを留去し
た。
ニル) −1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプ
ロパンの製造 冷却器、撹拌機を備えた内容500IIL103つロフ
ラスコに2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1
,1,1,3,3,3−へキサフルオロプロパン51.
8g(0,151Ll)、3−ブロモプロパツール86
0g(0,62m)、無水炭酸カリウム200yを入れ
、DMF300mを溶媒として80℃で30時間反応を
行なった。反応終了後、この反応液を水5ノ中に注ぐと
油状物が分離してきた。この油状物を酢酸エチル900
m1で抽出した後、抽出酢酸エチル層を2 N −Na
OH水で3回、水で中性になるまで洗浄、ついで無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後減圧下で酢酸エチルを留去し
た。
残った油状物を減圧蒸留(沸点246〜257”C/
6.5關Hg)して2,2−ビス(4−ω−ヒドロキシ
プロポキシフェニル) −1,1,1,3,3,3−へ
キサフルオロプロパン33.ON (収率47.3%)
ヲ得た。
6.5關Hg)して2,2−ビス(4−ω−ヒドロキシ
プロポキシフェニル) −1,1,1,3,3,3−へ
キサフルオロプロパン33.ON (収率47.3%)
ヲ得た。
l)トランス、トランス−4,4′−ビシクロヘキサン
ジオールの製造 トランス、シス混合4.4′−ビシクロヘキサンジオー
ルをジオキサン中ピリジン存在下、塩化ベンゾイルと反
応を行い、ジベンゾアート混合物とした。この混合物か
ら再結晶によシ、トランス、トランス−4,4′−ビシ
クロヘキサンジベンゾアートを得た。このトランス、ト
ランス体を水酸化カリウム水溶液で加水分解した後再結
晶を行ない、目的のトランス、トランス−4,4′−ビ
シクロヘキサンジオール(融点215.5〜216.3
℃)を製造した( A、 L、 Wilds、 eta
l、、 J、 Am、 Chem、 Soc、、 76
1735 (1954) )。
ジオールの製造 トランス、シス混合4.4′−ビシクロヘキサンジオー
ルをジオキサン中ピリジン存在下、塩化ベンゾイルと反
応を行い、ジベンゾアート混合物とした。この混合物か
ら再結晶によシ、トランス、トランス−4,4′−ビシ
クロヘキサンジベンゾアートを得た。このトランス、ト
ランス体を水酸化カリウム水溶液で加水分解した後再結
晶を行ない、目的のトランス、トランス−4,4′−ビ
シクロヘキサンジオール(融点215.5〜216.3
℃)を製造した( A、 L、 Wilds、 eta
l、、 J、 Am、 Chem、 Soc、、 76
1735 (1954) )。
1it)重縮合反応
内容1001ilの3つロフラスコに1)で得た2゜2
−ビス(4−■−ヒドロキシプロポキシフェニル) −
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン0.
95 g (2,1mmol )、2.2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル) −1,1,1,3,3,3−へ
キサフルオロプロパン0.201 (0,6mmol
)及びII)で得たトランス、トランス−4,4′−ビ
シクロヘキサンジオール0.061 (0−3mmol
)とピリジン0.61Ll及び1.2−ジクロロエタ
ン(EDCと略記する)51Llを入れて撹拌した。か
くして得られた反応液に室温でトリクロロメチルクロロ
ホルマート0.33に保ち90分間反応を行なった。
−ビス(4−■−ヒドロキシプロポキシフェニル) −
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン0.
95 g (2,1mmol )、2.2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル) −1,1,1,3,3,3−へ
キサフルオロプロパン0.201 (0,6mmol
)及びII)で得たトランス、トランス−4,4′−ビ
シクロヘキサンジオール0.061 (0−3mmol
)とピリジン0.61Ll及び1.2−ジクロロエタ
ン(EDCと略記する)51Llを入れて撹拌した。か
くして得られた反応液に室温でトリクロロメチルクロロ
ホルマート0.33に保ち90分間反応を行なった。
この反応液を放冷して50℃にした後、メタノール30
01に注いで析出した沈澱物を濾過した。
01に注いで析出した沈澱物を濾過した。
この濾過物を熱メタノール中で洗浄、ついで乾燥し、ポ
リマー1.20.!i’(収率93.0%)を得た。
リマー1.20.!i’(収率93.0%)を得た。
このポリマーの物性は、還元粘度041、ガラス転移温
度77℃、融点128〜169℃で、分解温度は321
℃であった。
度77℃、融点128〜169℃で、分解温度は321
℃であった。
実施例2〜5
ジオール成分として2.2−ビス(4−■−ヒドロキシ
プロポキシフェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロプロパン% 2.2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン及びトランス、トランス−4,4′−ビシ
クロヘキサンジオールを種々の割合で用いる以外は実施
例1と同様にして重縮合反応を行ない、種々のポリカル
ボナートを製造した。
プロポキシフェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロプロパン% 2.2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル) −1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン及びトランス、トランス−4,4′−ビシ
クロヘキサンジオールを種々の割合で用いる以外は実施
例1と同様にして重縮合反応を行ない、種々のポリカル
ボナートを製造した。
これらの結果を実施例1の結果と併せて第1表に示した
。
。
以上説明した通シ、本発明のポリカーボネート樹脂は、
シクロヘキシレン環とフッ素含有効果により優れた透明
性と低い複屈折率を有するものとなる上、原料二価アル
コールの使用割合を調整することによシ熟成形性に優れ
た低融点でかつ耐熱性の向上したものとなり、特に光学
記録基板等の光学樹脂材料として有用である。
シクロヘキシレン環とフッ素含有効果により優れた透明
性と低い複屈折率を有するものとなる上、原料二価アル
コールの使用割合を調整することによシ熟成形性に優れ
た低融点でかつ耐熱性の向上したものとなり、特に光学
記録基板等の光学樹脂材料として有用である。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
) (式中、▲数式、化学式、表等があります▼はトランス
シクロヘキシレンを示し、x+y+z=1で0.1≦x
≦0.9、0.1≦y≦0.9、0.1≦z≦0.9で
ある)で表わされる繰返し構造単位を有するフッ素含有
プロピレンオキシビシクロヘキシレンポリカーボネート
樹脂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17107290A JPH0457827A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | フツ素含有プロピレンオキシビシクロヘキシレンポリカーボネート樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17107290A JPH0457827A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | フツ素含有プロピレンオキシビシクロヘキシレンポリカーボネート樹脂 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0457827A true JPH0457827A (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=15916508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17107290A Pending JPH0457827A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | フツ素含有プロピレンオキシビシクロヘキシレンポリカーボネート樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0457827A (ja) |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP17107290A patent/JPH0457827A/ja active Pending
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