JPH0460547U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0460547U JPH0460547U JP10244990U JP10244990U JPH0460547U JP H0460547 U JPH0460547 U JP H0460547U JP 10244990 U JP10244990 U JP 10244990U JP 10244990 U JP10244990 U JP 10244990U JP H0460547 U JPH0460547 U JP H0460547U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hearth
- monitor
- shutter
- vapor deposition
- board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案に係る蒸着装置の一実施例を示
す構成図、第２図〜第４図は第１図わ構成する要
素の一部を取り出し平面的に見た構成図、第５図
及び第６図は第１図の実施例による測定プロセス
を説明する平面図及び側面図、第７図は従来の蒸
着装置を示す構成図である。 １１……ハース、１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ……
モニター基板、１３……モニター取付け円板、１
４……シヤツター、２１……支持機構、２９Ａ，
２９Ｂ，２９Ｃ……マスク用開口、３０……マス
ク円板、３２……シヤツター、３３……扇状開口
。
す構成図、第２図〜第４図は第１図わ構成する要
素の一部を取り出し平面的に見た構成図、第５図
及び第６図は第１図の実施例による測定プロセス
を説明する平面図及び側面図、第７図は従来の蒸
着装置を示す構成図である。 １１……ハース、１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ……
モニター基板、１３……モニター取付け円板、１
４……シヤツター、２１……支持機構、２９Ａ，
２９Ｂ，２９Ｃ……マスク用開口、３０……マス
ク円板、３２……シヤツター、３３……扇状開口
。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 複数の蒸着用材が用意され、これら蒸着用材が
ビーム化された粒子を飛翔して膜形成用の本基板
に蒸着するハースと、 前記ハースからの飛翔粒子を膜形成順にゲート
する第１のシヤツターと、 前記本基板に対するダミーとして設けられ、前
記ハースからの飛翔粒子を浴するモニター板と、 前記第１のシヤツターに同期して、前記モニタ
ー板への前記飛翔粒子の蒸着位置をシフトし、前
記モニター板に各蒸着用材による膜が平面状に並
んで形成されるようにした第２のシヤツターと、 前記モニター板の各位置でも蒸着範囲を定め、
その範囲に蒸着形成された蒸着膜と他の蒸着され
ない部分とで段差が生じるようにしたマスク手段
と、 を有することを特徴とする蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10244990U JPH0460547U (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10244990U JPH0460547U (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0460547U true JPH0460547U (ja) | 1992-05-25 |
Family
ID=31846712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10244990U Pending JPH0460547U (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0460547U (ja) |
-
1990
- 1990-09-29 JP JP10244990U patent/JPH0460547U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0460547U (ja) | ||
| JPS60100673A (ja) | マスク蒸着による配線パタ−ンの形成方法 | |
| JPH0282767U (ja) | ||
| JPS5854981Y2 (ja) | 熱成形用型 | |
| JPH0242062U (ja) | ||
| JPS53132307A (en) | Recording member | |
| JPS5931770B2 (ja) | 磁気ヘツドのコアの製造方法 | |
| JPH02115562U (ja) | ||
| JPS63118228U (ja) | ||
| JPS53144705A (en) | Production of magnetic recording media | |
| JPS5573913A (en) | Magnetic head | |
| JPH0257957U (ja) | ||
| JPS6059514A (ja) | ダブルアジマスヘツドの製造方法 | |
| JPS59110040A (ja) | 磁気テ−プの蒸着装置 | |
| JPS58158255A (ja) | 多層薄膜形成装置における膜厚監視装置 | |
| JPH0132174Y2 (ja) | ||
| JPH0363569U (ja) | ||
| JPH0239308U (ja) | ||
| JPH0332131B2 (ja) | ||
| JPH024234U (ja) | ||
| JPH021910B2 (ja) | ||
| JPH0282795U (ja) | ||
| JPS6472163A (en) | Formation of thin film pattern | |
| JPH0237007B2 (ja) | Deijitarushingokirokusaiseideisukunoseizosochi | |
| JPH025749U (ja) |