JPH0461014A - 複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

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Publication number
JPH0461014A
JPH0461014A JP2173432A JP17343290A JPH0461014A JP H0461014 A JPH0461014 A JP H0461014A JP 2173432 A JP2173432 A JP 2173432A JP 17343290 A JP17343290 A JP 17343290A JP H0461014 A JPH0461014 A JP H0461014A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic head
film magnetic
layer
insulating layer
thin film
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Pending
Application number
JP2173432A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Nagata
裕二 永田
Toshio Fukazawa
深沢 利雄
Kumiko Wada
久美子 和田
Yoshihiro Tozaki
善博 戸崎
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録再生装置に用いられる薄膜磁気ヘッ
ド、特に記録用の薄膜磁気ヘッドと再生用の薄III磁
気ヘッドが積層された複合型薄膜磁気ヘッドおよびその
製造方法に関する。
従来の技術 近年、磁気記録再生装置の高記録密度化、データの高転
送速度化、多チャンネル化に対応して薄膜磁気ヘッドが
注目されている。特に記録媒体が低速で走行する磁気記
録装置においては再生出力が速度に依存しない磁気抵抗
型薄膜磁気ヘッドが使用されている。
この磁気抵抗型薄膜磁気ヘッドは再生専用ヘッドである
ため、磁気回路をコイルで巻装した構造の誘導型薄膜磁
気ヘッドと積層し、一体化した記録および再生機能を有
する複合型薄膜磁気ヘッドとして使用される。従来の複
合型薄膜磁気ヘッドの外観を第3図に、そのA−A’線
に沿った断面を第4図に示す。第3図、第4図において
、まず、以下の工程で磁気抵抗型薄膜磁気ヘッド1が形
成される。磁性基板21上に第1絶縁層22、後記の磁
気抵抗素子へバイアス磁界を印加するバイアス導体23
、第2絶縁層24、磁気抵抗素子25、その磁気抵抗素
子25に駆動電流を流すための電極26aおよび26b
、第3絶縁層27、フロントヨーク28とバックヨーク
29からなる一対の透磁性ヨーク、分離絶縁層としての
第4絶縁層30が順次形成されている。
特にフロントヨーク28とバックヨーク29は前記の磁
気抵抗素子25とその端部が互いにオーバーラツプする
ように形成される。またフロトヨーク28と基板21間
には記録媒体から発生する記録磁界を磁気ヘッド内に導
く磁気ギャップlOが形成されている。
分離絶縁層30の上に以下のように誘導型薄膜磁気ヘノ
ド2が形成される。まず前記の分離絶縁層300表面の
凹凸が研磨などの方法で除去、平坦化加工される。次い
で、下部磁性層31.第5絶縁層32.コイルN33.
第6絶縁@34.上部磁性層35、保護膜としての第7
絶縁層36が順次形成され、所定の形状にバターニング
される。
その後、保護基板37が接着され磁気テープとの摺動面
が研磨されて複合型薄膜磁気ヘッドが完成される。38
は記録磁界を外部へ発生するための磁気ギャップである
前記した分離絶縁層30の平坦化加工の目的は磁気抵抗
型薄膜磁気ヘッド1の磁気ギャップ10と誘導型薄膜磁
気ヘノド2の磁気ギャップ38を正確に平行にすること
、および下部磁性層を平坦面上に形成してその磁気特性
を劣化させないことである。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来の複合型薄膜磁気ヘッドにおい
ては、コイル層33が下部磁性層によって発生する段差
部40を横切るように形成されるため、コイル層33が
断線しやすい欠点があった。
本発明の目的は従来の欠点に鑑み、二つの磁気ギャップ
の平行性を保ちながら、コイル層の断線を防止できる複
合型薄膜磁気ヘノドおよびその製造方法の提供を目的と
する。
課題を解決するための手段 上記の目的を達成するために本発明の複合型薄膜磁気ヘ
ツドは、分離絶縁層の上に形成された誘導型¥ms磁気
ヘッドの下部磁性層と、その下部磁性層の上に形成され
た絶縁層の表面とを同一高さの平坦面としたものである
その同一高さの平坦面を製造するためには、分離絶縁層
を平坦化し、その上に誘導型薄膜磁気ヘッドの下部磁性
層を形成し、所定の形状に加工し、下部磁性層の上に絶
縁層を形成し、その下部磁性層と絶縁層を同一高さの平
坦面に加工するか、分離絶縁層の上に下部磁性層を形成
し、その下部磁性層の上に絶縁層を形成し、下部磁性層
と絶縁層を同一高さの平坦面に加工するものである。
作用 本発明は上記した構成と製造方法により、コイル層を形
成する面は同一高さの平坦面となる。
実施例 以下、本発明の実施例について述べる。
第1図は本発明の第1の実施例における複合型薄膜磁気
ヘッドの断面図である。
まず、磁性基板21上に従来例と開襟な手順で磁気抵抗
型薄膜磁気ヘッド1が作製される。ついで、平坦化加工
された分離絶縁層である第4絶縁層50上に誘導型蒲I
II磁気ヘッド2が形成されている。その時まず、下部
磁性層51が形成され、所定の形状にパターニングされ
る0次に下部磁性層51上に第5絶縁層52を形成し、
下部磁性層51と第5絶縁層52を同一高さで、磁性基
板21の表面と平行となるように研磨などの方法により
平坦化加工する。ついで第6絶縁1i153を形成し、
その絶縁Ji53の上にコイル層54を形成する。すな
わち、コイル層54は磁性基板21と平行で平坦な表面
ををする絶縁層53上に形成される。このことにより磁
気抵抗型薄膜磁気ヘッドIの磁気ギャップ10と誘導型
薄膜磁気ヘッド2の磁気ギヤノブ59は正確に平行とな
り、良好な記録再生を達成できる。また、コイル層54
は断差のない第6絶縁層53上に形成されるため断線す
ることがない。その後、第7絶縁層55.上部磁性層5
6.第8絶縁層57が順次形成され、所定の形状にパタ
ーニングされる。その後、保護基板58が接着され、磁
気テープとの摺動面が研磨されて複合型薄膜磁気ヘッド
が完成される。59は記録磁界を外部へ発生するための
磁気ギヤツブである。
第2図は本発明の第2の実施例における複合型薄膜磁気
ヘッドの断面図である。本実施例のように下部磁性層5
1の膜厚が段差60よりも十分に厚い場合、必ずしも第
4絶縁層50を平坦化する必要はない。本実施例の場合
、下部磁性層51の膜厚は5μm、最大段差約2μmで
あり、この場合、段差により下部磁性層の磁気特性が劣
化することはない。
なお、上記二つの実施例においては、基板として磁性材
料を用いているが、非磁性材料基板上に磁性yi膜を形
成したものを基板として使用してもよい。
また上記実施例において、誘導型薄ll磁気ヘッド2の
コイルはlターン構成であるが、2タ一ン以上のマルチ
ターン構成にしてもよい。この場合、記録媒体を記録す
るのに要する電流はターン数に比例して減少できる。
発明の効果 上記したように本発明の複合型薄膜磁気ヘッドおよびそ
の製造方法によれば、コイル層は基板と平行で平坦の表
面を有する絶縁層上に形成されるため、コイル層は断線
を発生することがない。
また下部磁性層は直接研磨加工されるため、磁気ギャッ
プ面は極めて平滑な平面となる。さらに、磁気抵抗型薄
膜磁気ヘッドの磁気ギャップと誘導型薄膜磁気ヘッドの
磁気ギャップは正確に平行となり、良好な記録再生を達
成できるなど、本発明は多大の効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例による複合型薄膜磁気ヘ
ッドの断面図、第2図は第2の実施例による複台型薄膜
磁気ヘッドの断面図、第3図は従来の複合型薄膜磁気ヘ
ッドの斜視図、第4図は第3図のA−A’線に沿った断
面図である。 1・・・・・・磁気抵抗型薄膜磁気ヘッド、2・・・・
・・誘導型薄膜磁気ヘッド、21・・・・・・基板、5
0・・・・・・分離絶縁層、51・・・・・・下部磁性
層、52・・・・・・絶縁層。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名2f−基板 9− 父#紀曝1 第 図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に磁気抵抗型薄膜磁気ヘツドと分離絶縁層
    と誘導型薄膜磁気ヘッドとを積層した複合型薄膜磁気ヘ
    ッドにおいて、前記誘導型薄膜磁気ヘッドの下部磁性層
    とその下部磁性層の上に形成された絶縁層の表面とが同
    一高さの平坦面であることを特徴とする複合型薄膜磁気
    ヘッド。
  2. (2)基板上に磁気抵抗型薄膜磁気ヘッドと分離絶縁層
    と誘導型薄膜磁気ヘッドとを積層する複合型薄膜磁気ヘ
    ッドの製造方法において、前記分離絶縁層を平坦化する
    工程と、前記誘導型薄膜磁気ヘッドの下部磁性層を形成
    し所定の形状に加工する工程と、前記下部磁性層の上に
    絶縁層を形成する工程と、前記下部磁性層と前記絶縁層
    を同一高さの平坦面に加工する工程とからなることを特
    徴とする複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法。
  3. (3)基板上に磁気抵抗型薄膜磁気ヘッドと分離絶縁層
    と誘導型薄膜磁気ヘッドとを積層する複合型薄膜磁気ヘ
    ッドの製造方法において、前記誘導型薄膜磁気ヘッドの
    下部磁性層を形成し所定の形状に加工する工程と、前記
    下部磁性層の上に絶縁層を形成する工程と、前記下部磁
    性層と前記絶縁層を層同一高さの平坦面に加工する固定
    とからなることを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
JP2173432A 1990-06-29 1990-06-29 複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 Pending JPH0461014A (ja)

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