JPH0473396B2 - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、照射および現像されたオフセツト印
刷版の焼付けに使用するガム化液および、本発明
のガム化液が印刷版の現像および焼付けの工程間
で施こされるオフセツト印刷板の製造法に関す
る。

従来の技術 一般に、オフセツト印刷版は、(a)金属およびプ
ラスチツク材料又はそのいずれか一方より成り、
その面が、粗面化（エツチング）および陽極酸化
処理の少なくとも１方法により変成されているこ
とのできるフラツトなベース材料、および(b)最低
１種の感放射性（感光性）コーチング（複写層）
より成る。基本的操作工程が、照射、現像および
ガム化（gumming）（減感）を包含する印刷板の
製造において、付加的に焼付け工程が、最後の２
つの工程間で、殊にポジチブ性の複写層で実施さ
れるが、但し原則として焼付けがネガチブ性の複
写層でも可能である。ボジチブ性の複写層につい
て、方法が以下のように説明されることができ
る：像により照射（露光）された場合、複写層
の、電磁エネルギー（光）により衝撃された部分
が可溶化し、かつ非照射部分が不溶性のままであ
る（それぞれの場合、使用されるべき現像剤に関
わる）。層の前記第１の部分を現像工程で除去す
ることにより、この印刷版で引続き印刷する際に
親水性である非像部分が、照射された複写層を現
像した後に生じるとともに、この層の前記後者の
部分が、ベースに残存しかつ、引続く印刷工程で
インキ受溶性である像部分を形成する。実際に、
ベース材料および複写層又はそのいずれか１方と
の関連において、複写層の側または反対側に施こ
される熱を使用する、80℃を上廻り、殊に約150
℃以上にまでの、照射および現像された印刷版の
加熱は、このように処理された印刷版から大きい
耐刷数が得られることができると判明した；この
工程が“焼付け”（burning−in）と呼称される。
焼付けにより、像部分の硬化が達成され、この像
部分が、例えば、常用の有機溶剤に対し不溶化
し、かつ例えば、印刷インキまたは、引続く印刷
工程で使用される加湿液中に存在することのある
薬品の作用に対し耐性となる。

焼付け工程において、像部分の（すなわち複写
層の）成分、例えば結合剤の成分が、非像部分に
付着しかつこうしてこの部分の親水性に不利に作
用し、これが例えばスカミング（scumming）
（非像部分による印刷インキのピツクアツプ）を
生じることがある。従つて、焼付け工程を使用す
るはじめの段階において、非像部分の汚染を、相
対的に侵食性の溶液を使用することにより除去す
る必要がある。研究の過程において、いわゆる
“焼付け助剤”が開発され、これらは少くともこ
の後浄化操作を可能にしたが、但し原則として、
実際の印刷前にこの非像部分を水で付加的に浄化
することをさらに必要とした。例えば、刊行物に
開示された公知の焼付け助剤は以下の通りであ
る。

西ドイツ国特許明細書第2318286号（米国特許
明細書第3745011号）には、ネガチブレジスト像
を製造するため、ホトレジストを露光および現像
しかつその後に、焼付け工程を実施する前に脂環
式、ヘテロ環式、または芳香族のポリカルボン酸
もしくは芳香族スルホン酸よりなる溶液で処理す
る方法が記載されている。使用されたホトレジス
トより成る感光層は、天然の蛋白質、例えばフイ
ツシユグルー、および重クロム酸アンモニウムを
含有する。焼付け前のこの処理は、(a)焼付け温度
の低減、(b)レジスト像のエツチング剤に対する抵
抗性の増大、および(c)レジスト像または施こされ
たホトレジストの可剥性改善をそれぞれ目的とす
る。例えば、使用される酸は、ｐ−トルエンスル
ホン酸、２−ナフタリンスルホン酸、ナフタリン
−１，８−ジスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、
および１，３−ベンゼン−ジスルホン酸を包含
し、有利にこれらは１％〜25％濃度溶液で使用さ
れる。ホトレジストをコーチングするためのベー
ス材料として、もつぱらスチールが使用される。
印刷版および、この応用分野で生じる特殊な焼付
け上の難点が、この刊行物中に記載されていな
い。

西ドイツ国特許明細書第2530422号（英国特許
明細書第1513368号）には、印刷版、印刷回路板、
集積回路等の製造法が開示されている。この方法
において、露光および現像されたベースに、焼付
け前に少くとも非像部分に施こされた保護層が備
えられている。この保護層は、焼付け中はベース
上に残存しかつ、焼付け後に、焼付け工程で保護
層上に固着した付着物と一緒に水で除去されるこ
とができる。保護層は、１種の下記化合物の約
2.5％〜4.5％濃度の水溶液として施こされる：ナ
トリウム・ドデシルフエノキシベンゼンジスルホ
ネート、アルキル化ナフタリンスルホン酸のナト
リウム塩、メチレン−ジ−（ナフタリンスルホン
酸）のジナトリウム塩、ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホネート、スルホン化アルキルジフエ
ニルオキシドのナトリウム塩、アンモニウム・ペ
ルフルオルアルキルスルホネート、ナトリウム・
ペルフルオルアルキルスルホネート、ナトリウ
ム・ジオクチルスルホサクシネート、ナトリウム
−ジ（メチルアミル）−スルホサクシネート、お
よびLiNO₃。この刊行物をベースとする英国特
許明細書第1575200号において、保護層を形成す
るために使用される水溶液に、焼付け前に、アラ
ビアゴム、ナトリウム・カルボキシメチルセルロ
ース、およびアルギン酸塩より成る群から選択さ
れた水溶性のヒドロコロイド、さらに１種の前記
化合物が混合される。使用される組成物は、英国
特許明細書第1513368号に開示された１種の化合
物85〜95容量％および１種のヒドロコロイド２〜
15溶量％より成り、かつ10〜50容量％濃度水溶液
の形で使用される。焼付け後に、印刷版が水で洗
浄され、かつその後に印刷機に取付けられること
ができる。

使用される組成物は、これが“焼付け助剤”お
よびまた“ガム化液”として作用するので、“焼
付け用ガム化液”または“焼付け用減感剤”と表
わされることができる。

西ドイツ特許明細書第2625336号（米国特許明
細書第4063507号）による焼付け助剤は、硼酸ま
たは硼酸塩より成り、かつ固形で、または有利に
３〜10％濃度の水溶液として使用される。また西
ドイツ国特許公開明細書第2626473号（英国特許
明細書第1555233号）によれば、とりわけ、例え
ばアラビアゴム、デキスリン、ポリビニルアルコ
ール、セルロースエーテル、アクリル酸またはメ
タクリル酸をベースとするホモポリマーおよびコ
ポリマー、またはアルキルアクリレートおよびビ
ニルメチルアセタミドのコポリマーのような種々
の親水性ポリマー、またはさらに有機酸の塩、例
えばアンスラキノン−２，７−ジスルホン酸のナ
トリウム塩、ナフタリン−１，３，５−トリスル
ホン酸のナトリウム塩、１−ナフチルアミン−
４，６，８−トリスルホン酸のナトリウム塩、ま
たは１−ナフトール−３，６，８−トリスルホン
酸のナトリウム塩を、印刷版の焼付けに使用する
のに適当である前記化合物（焼付け助剤）の代り
に使用することが可能である。これら化合物は、
水溶液で、１％〜飽和濃度範囲で使用される。

他の焼付け助剤として、カルボキシル基を含有
するアミン、例えば、エチレンジアミンテトラ酢
酸、ニトリロトリ酢酸またはそれらの塩が欧州特
許公開明細書第0043991号（米国特許明細書第
4355096号）に特定され、かつナフタリン、ホル
ムアルデヒドおよび硫酸の塩または塩状反応生成
物が米国特許明細書第4191570号に記載されてい
る。

さらに、当業者に公知である全ての焼付け助剤
は、程度の差こそあれ大きい欠点を有する。例え
ばこれらは、像部分の親油性の低減を惹起し、印
刷板面に汚染を生じ、かつ、殊に水または現像剤
水溶液を使用する後洗浄が不十分である場合は、
引続く印刷工程における水／インキバランスの不
均斉を生じることがある。公知の焼付け助剤の多
くの使用説明書において殊に注意が引かれるの
は、これらの欠点が、印刷版面を焼付け前に払拭
乾燥させ、完全に再洗浄するかまたはさらに、例
えばポリビニルホスホン酸（例えば欧州特許明細
書第0012956号（米国特許明細書第4265999号）参
照）のような親水性ポリマーの水溶液を使用する
親水化後処理／洗浄を実施することにより解決可
能であると記載されていることである。この種の
特殊な親水化後処理またはさらに１種の常用のガ
ム化（減感化）後処理は原理的に可能であるが、
但しこれらは印刷版の製造および使用時の付加的
加工工程を必要とする。２つの工程を単独に焼付
けおよびガム化処理に合することが英国特許明細
書第1575200号に記載されているが、但しさらに
この処理は印刷機中の大きい紙消費量を生じる、
それというのも付加的な中間的浄化がなければ、
印刷版が清潔な運転のため過大な時間を要するか
らである（また以下の比較例を参照）。

発明が解決しようとする問題点 従つて本発明の目的は、それにより処理された
印刷版が焼付け後にもはや洗浄される必要がな
く、印刷に際し極めて迅速に印刷版の自由運転を
生じ、かつ良好な貯蔵性を有するかないしはその
ガム化作用が長い貯蔵時間後でも再生または賦活
される必要のない、オフセツト印刷版の焼付けガ
ム化液を得ることである。

問題点を解決するための手段 本発明は、照射および現像されたオフセツト印
刷版に使用するための、(a)水、(b)最低１種の親水
性ポリマーおよび(c)最低１種の、有機酸から誘導
された成分を含有するガム化液をベースとする。
本発明のガム化液において、成分(c)は、最低２つ
の酸官能基を有しかつ、ベンゼンカルボン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ベンゼンホスホン酸およびア
ルカンホスホン酸より成る群から選択された最低
１種の水溶性有機カルボン酸、スルホン酸または
ホスホン酸、または１種の、これら酸の水溶性塩
より成る。

また本発明の目的は、オフセツト印刷版を製造
するための、オフセツト印刷版を照射、現像およ
び焼付ける基本的な加工工程より成る方法におい
て、付加的処理工程が、現像後および焼付け前
に、前記の成分(a)〜(c)より成る水溶液を使用し実
施されることにより達成される。効果の観点か
ら、この種の方法は、焼付けおよび減感（ガム
化）の２つの工程を唯一の工程に合せられる。

水溶液中に溶解される成分(b)および(c)は、常用
の焼付け温度で蒸発せざるような種類のものであ
る。形成された保護層は、焼付け後でさえ水溶性
のままであり、かつ印刷版を損傷することなく容
易に除去されることができる。本発明のガム化液
を塗布する場合、照射および現像されたオフセツ
ト印刷版の面、または複写層で両面被覆された場
合はその両面が、ガム化液を含浸したパツドで塗
擦される；例えば、浸漬、噴霧、回転塗布または
注入のような他の塗布法が、手作業によるかまた
は自動加工機械で行なわれることができる。有利
に、本発明のガム化液が備えられた印刷版の面が
焼付け前に乾燥される。しかしながら、この溶液
を引続く焼付け工程中に乾燥させることも可能で
ある。乾燥後に、一般にガム化液は、0.05〜20
ｇ／m²の範囲内の層重量が得られる。その後に、
この方法で処理された印刷版が、焼付け炉中で80
℃〜300℃、殊に150〜270℃の温度で一般に0.5〜
10分にわたる加熱時間で加熱される。最近は、実
際に使用されるエアーオーブンに付加的に、例え
ば、石英−ハロゲン灯による照射が西ドイツ国特
許明細書第1955378号に、赤外線照射が西ドイツ
国特許明細書第2201936号に、または紫外線灯が
西ドイツ国特許明細書第3110632号に記載されて
いる。

成分(b)は、殊に以下の親水性ポリマーより成
る：Ｎ−ポリビニル−ピロリドン−(2)、ポリビニ
ルメチルエーテル、エチレン単位および無水マレ
イン酸単位を含有するコポリマー、ビニルホスホ
ン酸単位、ビニルメチルホスホン酸単位およびア
クリル酸単位の少なくとも１個を有するホモポリ
マーまたはコポリマー、およびポリエチレングリ
コールのようなポリアルキレングリコールより選
択された少なくとも１種。成分(c)は、殊に、ベン
ゼンジスルホン酸、カルボキシル基数３〜６を有
するベンゼン多価カルボン酸、アルカン基中の炭
素原子数１〜３を有するアルカンジホスホン酸、
アルカン基中の炭素原子数５〜９を有する、カル
ボキシル基を含有するアルカンジホスホン酸、お
よび１種の、これら酸の水溶性塩（有利にアルカ
リ金属塩またはアンモニウム塩）から選択された
少なくとも１種より成る。最後に挙げた化合物の
例は、ベンゼン−１，３−ジスルホン酸、ベンゼ
ン−１，２，４−トリカルボン酸（トリメリツト
酸）、ベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボ
ン酸（ピロメリツト酸）、ベンゼンヘキサカルボ
ン酸（メリツト酸）、メタンジホスホン酸（ジホ
スホノメタン）、４，４−ジホスホノ−ヘプタン
−１，７−ジオイツク酸（３，３−ジホスホノ−
ピメリン酸）およびこれらの酸のナトリウム塩か
ら選択された少なくとも１種をを包含する。一般
に、本発明によるガム化液は、成分(b)および(c)の
合計量１〜50％、有利に３〜30％を含有する。と
くにこれら成分は、(b)：(c)の重量比１：１〜１：
20で存在する。

種々の変法において、焼付け工程で使用するた
めのガム化液は、付加的に、ヒドロキシポリカル
ボン酸、例えばクエン酸およびその塩から選択さ
れた少なくとも１種を0.1〜５％の割合で、炭素
原子数４以上を有する水溶性アルカンジオール、
例えばヘキサンジオール（１，６）を0.1〜５％
の割合で、および表面活性剤（有利にアニオンま
たはノニオン系表面活性剤）、例えば、アルキル
アリールスルホネート（例えばジナトリウム−ジ
イソブチル−ナフタリン−ジスルホネート）、ア
ルキルフエノールエーテルスルホネート（例えば
ジナトリウム−ドデシル−ジフエニルエーテル−
ジスルホネート）または天然の表面活性剤（例え
ばサポニン）を0.005〜５％の割合で含有するこ
とができる。

本発明によるガム化液は、実際に常用されか
つ、ベース材料としての金属および耐熱性プラス
チツクまたはそれらのいずれか１方より成るオフ
セツト印刷版を処理するために使用されることが
できる。しかしながらこの溶液は、機械的、化学
的および電気化学的な少なくとも１方法で粗面化
されかつ場合により陽極酸化された、アルミニウ
ムまたはアルミニウム合金より成るベース材料を
有するオフセツト印刷版に使用するのに殊に適当
である。これらベース材料は、当業者に公知の１
種の感放射性化合物、例えば、ジアゾ、ジアゾニ
ウムまたはアジド化合物もしくは光重合性化合物
（例えば、Jaromjr Kosar “Light−Sensitive
Systems”、published by John Wiley＆Sons、
New York、1965参照）より成るネガチブ作用
またはポジチブ作用の複写層で被覆されることが
できる。本発明によるガム化液は、実際の感放射
性化合物に付加的に、樹脂、とくにノボラツクま
たはレゾール、しかしまた種々の他の成分、例え
ば染料、接着促進剤または安定剤を含有するポジ
チブ作用の複写層の焼付けに使用するのに殊に適
当である。殊に、これら複写層中に含有される感
放射性化合物は、例えば西ドイツ国特許明細書第
854890号；同第865109号；同第879203号；同第
894959号；同第938233号；同第1109521号；同第
1144705号；同第1118606号；同第1120273号；同
第1124817号；および同第2331377号；および欧州
特許公開明細書第0021428号および同第0055814号
に記載されたような、ｏ−キノンジアシド、有利
にｏ−ナフトキノンジアシド、例えばナフトキノ
ン−（１，２）−ジアジド−(2)−スルホン酸エステ
ルまたはアミドを含有し、これらは低いかまたは
相対的に高い分子量を有してもよい。

効 果 本発明によるガム化溶液および本発明の焼付け
およびガム化法は、焼付け助剤から公知である効
果を生じ、すなわちオフセツト印刷版の非像部分
の汚染が容易に除去可能である。さらに、施こさ
れた保護層の洗除またはガム化（減感化）被覆の
塗布または再生が、本発明の溶液および方法によ
り不必要となる。焼付け工程で使用するための本
発明によるガム化液で処理された印刷版は、驚異
的な短時間後に印刷機中で清潔に作動し、かつ像
部分によりインキの迅速な受容を保証するととも
に、非像部分がスカム（scuming）不含のままで
ある。

実施例 以下に、本発明を実施例につき詳説する。実施
例中、パーセンテージは他に別記しない限り不断
に重量パーセントを表わし、重量部および容量部
はそれぞれｇおよびcm³の比である。

例 １ 以下の組成を有するポジチブ作用の感放射性混
合物を製造する： ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフエノンおよ
びナトトキノン−（１，２）−ジアジド−(2)−５−
スルホン酸クロリドの縮合生成物 1.00重量部 ２，2′−ヒドロキシ−１，1′−ジナフチルメタン
１モルおよびナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−(2)−５−スルホン酸クロリドの縮合生成物
0.60重量部 工業用グレードクレゾール混合物をホルムアルデ
ヒドで縮合することにより製造された、軟化点範
囲108〜118℃を有するノボラツク 6.60重量部 クリスタルバイオレツト 0.08重量部 スーダンイエローGGN 0.06重量部 の、エチレングリコールモノメチルエーテル
100.00容量部 中溶液。

この混合物を、機械的に粗面化したアルミニウ
ム箔に回転ベースを使用し塗布し、過剰量の塗布
混合物を遠心除去する。コーチング後に、この箔
を、はじめに熱気流中でかつその後に100℃の温
度で、約５分間乾燥する。こうして製造した、複
写層が2.30ｇ／m²の重量を有するオフセツト印刷
版を、像により透明ポジチブ原稿下に露光しかつ
その後に以下の溶液で現像する： Na₂SiO₃・9H₂O 5.3重量部 Na₃PO₄・12H₂O 3.4重量部 無水NaH₂PO₄ 0.3重量部 のH₂O 91.0重量部 中溶液。

現像することにより、複写層の、光束により衝
撃された部分が除去され、かつ未露光部分がベー
ス材料上に存在して像部分を形成し、その結果原
稿に相応する印刷ステンシルが得られる。

この方法で製造された印刷版を印刷機中で使用
した場合、約50000部の完全なプリントが得られ
ることができる。この数の多数倍の印刷コピーを
得るため、付加的に、自体公知のように焼付ける
必要がある。この目的で、露光および現像した印
刷版を、以下の溶液を含浸したパツドで、連続的
なフイルムが印刷版の全面にわたり形成されるよ
うに注意しつつ塗擦しかつ清拭乾燥する。

Ｎ−ポリビニルピロリドン 2.00重量部 Na−ベンゼン−１，３−ジスルホネート
10.00重量部 クエン酸三ナトリウム・H₂O 4.00重量部 クエン酸・H₂O 1.10重量部 ヘキサンジオール−（１，６） 1.50重量部 蒸溜H₂O 81.40重量部 その後に、保護層で被覆された印刷版を、５分
240℃で工業用エアーオーブン中で焼付ける。得
られた印刷版は、直接に印刷機中に取付けかつ常
用の印刷操作を施こすことができる；保護層を、
印刷前に水で除去しまたは、場合により、印刷版
を例えばアラビアゴムのような減感剤で再び処理
する必要はない。印刷機の加湿およびインキ付け
ローラのわずか６〜７回転後、印刷ステンシルが
完全にインキを受容するとともに、同時に背景が
スカム（scumming）不含であり、その結果完全
な印刷が、最高10枚の紙（“discartds”）を印刷
した後に得られる。

例１に相応に製造された前増感せるオフセツト
印刷版を、同じ試験条件下に、英国特許明細書第
1575200号の例１によりアラビアゴム７％および
ジナトリウムデシルフエノキシベンゼンジスルホ
ネート22％を含有する水溶液で焼付け前に処理
し、かつこのように前処理した印刷版を焼付け、
かつ印刷機中に保護層を洗除せずに取付けた場
合、100枚の紙を印刷した後でさえ完全な試し刷
りは得られなかつた。もしアラビアゴムの代りに
ナトリウムカルボキシメチルセルロースを使用し
たとしても、同じく不十分な結果が得られる。

類似に、西ドイツ国特許公開明細書第2626473
号または同第2625336号により、例えばNa₂B₄O₇
またはNa₂HPO₄を焼付け助剤として使用し製造
した印刷版は、もし相応する保護層が実際の印刷
操作前に水で洗除されなかつたとしても完全な試
し刷りを得ることができない。

さらに、本発明のガム化液で処理した焼付け印
刷版は、欠点を生ぜずに、例えば連続的に開始さ
れる印刷操作において非像部分のスカム発生なし
に、数ケ月の期間にわたり室温で貯蔵されること
ができる。

例 ２〜５ 以下の実施例において、焼付け工程で使用され
る付加的なガム化液が示されているが、これらは
例１により製造した印刷版を焼付け前に処理する
ために使用される。例１と類似に、完全なプリン
トが、相対的に短時間後に印刷機中で得られる。
とくに別記しない限り、これら溶液を使用し得ら
れた印刷版の製造および加工は、例１に記載せる
条件に相応する。

例 ２ 以下の焼付け用ガム化液を施こす： ポリビニルメチルエーテル 1.50重量部 ３，３−ジホスホノピメリン酸 3.00重量部 ジナトリウム−ベンゼン−１，３−ジスルホネー
ト 7.00重量部 クエン酸三ナトリウム・H₂O 4.00重量部 クエン酸・H₂O 1.10重量部 ヘキサンジオール−（１，６） 1.50重量部 アニオン系表面活性剤（１，２−イソプロピルナ
フタリンスルホン酸のナトリウム塩）0.05重量部 蒸溜H₂O 81.00重量部 例 ３ 以下の焼付け用ガム化液を施こす： 分子量150000以下およびPH価２±0.5を有するポ
リアクリル酸の40％濃度水溶液 1.50重量部 クエン酸三カリウム・H₂O 4.00重量部 クエン酸・H₂O 1.10重量部 ヘキサンジオール−（１，６） １，50重量部 ジナトリウム−ベンゼン−１，３−ジスルホネー
ト 10.00重量部 アニオン系表面活性剤（ナトリウム−オレフイ
ンスルホネート） 1.00重量部 アニオン系表面活性剤（アルキル−ベンゼンス
ルホネート） 0.30重量部 蒸溜H₂O 80.50重量部 例 ４ 以下の焼付け用ガム化液を施こす： ポリビニルホスホン酸 2.00重量部 ピロメリツト酸 10.00重量部 クエン酸三カリウム・H₂O 4.00重量部 クエン酸・H₂O 1.10重量部 ヘキサンジオール−（１，６） 1.50重量部 アニオン系表面活性剤（例２参照） 0.05重量部 蒸溜H₂O 81.30重量部 例 ５ 以下の焼付け用ガム化液を施こす： ポリビニルメチルホスフイン酸 1.5重量部 ジナトリウム−ベンゼン−１，３−ジスルホネー
ト 12.0重量部 蒸溜H₂O 85.5重量部。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ (a)水、(b)最低１種の親水性ポリマーおよび(c)
   最低１種の、有機酸から誘導された成分を含有す
   るガム化液において、成分(c)が、酸官能基数最低
   ２を有しかつ、ベンゼンカルボン酸、ベンゼンス
   ルホン酸、ベンゼンホスホン酸およびアルカンホ
   スホン酸より成る群から選択された最低１種の水
   溶性の有機カルボン酸、スルホン酸またはホスホ
   ン酸、またはこれらの酸の１種の水溶性塩より成
   ることを特徴とする、照射および現像せるオフセ
   ツト印刷版の焼付けに使用するガム化液。 ２ 成分(c)として、ベンゼンジスルホン酸、カル
   ボキシル基数３〜６を有するベンゼンポリカルボ
   ン酸、アルカン基中の炭素原子数１〜３を有する
   アルカンジホスホン酸、カルボキシル基を有する
   アルカン基中の炭素原子数５〜９のアルカンジホ
   スホン酸およびこれらの酸の水溶性塩から選択さ
   れた少なくとも１種を含有することを特徴とす
   る、特許請求の範囲第１項記載の照射および現像
   せるオフセツト印刷版の焼付けに使用するガム化
   液。 ３ 成分(c)として、ベンゼン−１，３−ジスルホ
   ン酸、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、
   ベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボン酸、
   ベンゼンヘキサカルボン酸、メタンジスルホン
   酸、４，４−ジホスホノヘプタン−１，７−ジオ
   イツク酸およびこれらの酸の水溶性塩から選択さ
   れた少なくとも１種を含有することを特徴とす
   る、特許請求の範囲第１項または第２項のいずれ
   かに記載のガム化液。 ４ 成分(b)として、Ｎ−ポリビニルピロリドン−
   (2)、ポリビニルメチルエーテル、エチレン単位お
   よび無水マレイン酸単位を有するコポリマー、ビ
   ニルホスホン酸単位、ビニルメチルホスホン酸単
   位およびアクリル酸単位の少なくとも１個を有す
   るホモー又はコポリマーおよびポリアルキレング
   リコールより選択された少なくとも１種を含有す
   ることを特徴とする、特許請求の範囲第１項から
   第３項までのいずれか１項に記載のガム化液。 ５ 成分(b)および(c)の合計量１〜50重量％を含有
   することを特徴とする、特許請求の範囲第１項か
   ら第４項までのいずれか１項に記載のガム化液。 ６ 成分(b)および(c)を、重量比範囲１：１〜１：
   20で含有することを特徴とする、特許請求の範囲
   第５項記載のガム化液。 ７ 付加的に、ヒドロキシポリカルボン酸および
   その水溶性塩の少なくとも１種を含有することを
   特徴とする、特許請求の範囲第１項から第６項ま
   でのいずれか１項に記載のガム化液。 ８ 付加的に、炭素原子数４以上を有する水溶性
   のアルカンジオールを含有することを特徴とす
   る、特許請求の範囲第１項から第７項までのいず
   れか１項に記載のガム化液。 ９ オフセツト印刷版が、機械的、化学的および
   電気化学的な少なくとも１方法により粗面化され
   たアルミニウムまたはアルミニウム合金より成る
   ベース材料を有することを特徴とする、特許請求
   の範囲第１項から第８項までのいずれか１項に記
   載のガム化液。 １０ オフセツト印刷版が、機械的、化学的およ
   び電気化学的な少なくとも１方法により粗面化さ
   れ、陽極酸化されたアルミニウムまたはアルミニ
   ウム合金より成るベース材料を有することを特徴
   とする、特許請求の範囲第１項から第８項までの
   いずれか１項に記載のガム化液。 １１ 照射および現像する前に、オフセツト印刷
   版のベース材料の少なくとも片面が、１，２−ナ
   フトキノンジアジドを含有するポジチブ作用の複
   写層で完全に被覆されていることを特徴とする、
   特許請求の範囲第１項から第１０項までのいずれ
   か１項に記載のガム化液。