JPH0240659A - 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法 - Google Patents
感光性平版印刷版の現像液及び現像方法Info
- Publication number
- JPH0240659A JPH0240659A JP19242488A JP19242488A JPH0240659A JP H0240659 A JPH0240659 A JP H0240659A JP 19242488 A JP19242488 A JP 19242488A JP 19242488 A JP19242488 A JP 19242488A JP H0240659 A JPH0240659 A JP H0240659A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developer
- printing plate
- photosensitive
- photosensitive layer
- developing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- -1 quinonediazide compound Chemical class 0.000 description 34
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 12
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 6
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101100348017 Drosophila melanogaster Nazo gene Proteins 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 description 2
- FBOUIAKEJMZPQG-AWNIVKPZSA-N (1E)-1-(2,4-dichlorophenyl)-4,4-dimethyl-2-(1,2,4-triazol-1-yl)pent-1-en-3-ol Chemical compound C1=NC=NN1/C(C(O)C(C)(C)C)=C/C1=CC=C(Cl)C=C1Cl FBOUIAKEJMZPQG-AWNIVKPZSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical class OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQUXFUBNSYCQAL-UHFFFAOYSA-N 1-(2,3-difluorophenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC(F)=C1F PQUXFUBNSYCQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrooxadiazole Chemical compound N1NC=CO1 VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxyethanol Chemical compound OCCOCC1=CC=CC=C1 CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N Butyl levulinate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(C)=O ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N L-Cysteine Chemical compound SC[C@H](N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- 239000004166 Lanolin Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 1
- 108091006629 SLC13A2 Proteins 0.000 description 1
- 239000004288 Sodium dehydroacetate Substances 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzylalcohol Natural products CC1=CC=CC=C1CO XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- XFOZBWSTIQRFQW-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-prop-2-enylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=CC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 XFOZBWSTIQRFQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CCCCOC(C)=O HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005460 butyl levulinate Drugs 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N cysteine Natural products SCC(N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000018417 cysteine Nutrition 0.000 description 1
- 229960002433 cysteine Drugs 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- FZFYOUJTOSBFPQ-UHFFFAOYSA-M dipotassium;hydroxide Chemical compound [OH-].[K+].[K+] FZFYOUJTOSBFPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMGZBMRVDHKMKB-UHFFFAOYSA-L disodium;2-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].OS(=O)(=O)C(C([O-])=O)CC([O-])=O JMGZBMRVDHKMKB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVVZQXQBYZPMLJ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C.C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 NVVZQXQBYZPMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229940039717 lanolin Drugs 0.000 description 1
- 235000019388 lanolin Nutrition 0.000 description 1
- 229940031993 lithium benzoate Drugs 0.000 description 1
- LDJNSLOKTFFLSL-UHFFFAOYSA-M lithium;benzoate Chemical compound [Li+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 LDJNSLOKTFFLSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- IWVKTOUOPHGZRX-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.COC(=O)C(C)=C IWVKTOUOPHGZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000010413 mother solution Substances 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical group 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 1
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000244 polyoxyethylene sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000010482 polyoxyethylene sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000249 polyoxyethylene sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 235000010483 polyoxyethylene sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001818 polyoxyethylene sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000010989 polyoxyethylene sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 229920000053 polysorbate 80 Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940047670 sodium acrylate Drugs 0.000 description 1
- 229940079839 sodium dehydroacetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019259 sodium dehydroacetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- DSOWAKKSGYUMTF-GZOLSCHFSA-M sodium;(1e)-1-(6-methyl-2,4-dioxopyran-3-ylidene)ethanolate Chemical compound [Na+].C\C([O-])=C1/C(=O)OC(C)=CC1=O DSOWAKKSGYUMTF-GZOLSCHFSA-M 0.000 description 1
- LGORLCOUTMVEAC-UHFFFAOYSA-M sodium;2-nonylphenolate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1[O-] LGORLCOUTMVEAC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950006389 thiodiglycol Drugs 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は0−キノンジアジド化合物を感光性成分とする
感光性平版印刷版の現像液及びこれを用いた現像方法に
関するものである。
感光性平版印刷版の現像液及びこれを用いた現像方法に
関するものである。
0−キノンジアジド化合物は活性光線の照射によりジア
ゾ基が分解し、カルボキシ基を有する化合物となること
が知られている。従って0−キノンジアジド化合物を含
む感光層は、画像露光後にアルカリ性現像液により処理
されると露光部分が除去され未露光部が画像となるので
、所謂ポジーポジ型感光性成分として特に近年感光性平
版印刷版の感光層あるいはエツチング用フォトレジスト
組成物として極めて重用されている。特に。−キノンジ
アジド化合物にアルカリ可溶性樹脂を混合した組成物が
経済性、実用性の点がら有利に使用され、中でもノボラ
ック型のフェノールホルムアルデヒド縮合樹脂、又はク
レゾールホルムアルデヒド縮合樹脂と混合されたものが
一般に用いられている。これら0−キノンジアジド感光
層の自動現像機用現像液としては第三燐酸ソーダ、苛性
ソーダ、珪酸ソーダ、珪酸カリウム、珪酸アンモニウム
等の単独あるいは混合された水溶液が用いられている。
ゾ基が分解し、カルボキシ基を有する化合物となること
が知られている。従って0−キノンジアジド化合物を含
む感光層は、画像露光後にアルカリ性現像液により処理
されると露光部分が除去され未露光部が画像となるので
、所謂ポジーポジ型感光性成分として特に近年感光性平
版印刷版の感光層あるいはエツチング用フォトレジスト
組成物として極めて重用されている。特に。−キノンジ
アジド化合物にアルカリ可溶性樹脂を混合した組成物が
経済性、実用性の点がら有利に使用され、中でもノボラ
ック型のフェノールホルムアルデヒド縮合樹脂、又はク
レゾールホルムアルデヒド縮合樹脂と混合されたものが
一般に用いられている。これら0−キノンジアジド感光
層の自動現像機用現像液としては第三燐酸ソーダ、苛性
ソーダ、珪酸ソーダ、珪酸カリウム、珪酸アンモニウム
等の単独あるいは混合された水溶液が用いられている。
しかし苛性ソーダ、第三燐酸ソーダ水溶液などはアルミ
ニウムなどの金属へのエツチング作用が強く現像時間が
長くなるような場合には金属支持体を使用した感光性平
版印刷版の現像液としては不都合である。また現像結果
が極めて変動し易(甚だしい場合は、現像時間のわずか
の超過で画像が欠落してしまうことがあった。また反復
使用による現像能力の低下が激しく一定容量における感
光性平版印刷版の処理可能な量(処理能力)は非常に少
ない。そこで近年珪酸ソーダ水溶液又は珪酸カリウム水
溶液が比較的有利に使用されている。それは金属に対す
るエンチング作用が乏しいことと同時に珪酸ソーダ又は
珪酸カリウムの成分である酸化珪素(SiO□)と酸化
ナトリウム(NazO)又は酸化カリウム(K2O)の
含有比率(一般にStow/NazO又はStow/K
zOのモル比で表わす)と濃度によっである程度現像性
の調整が可能とされるためである。すなわちSiO□が
多くなるに従い現像力が抑制され現像安定性が高まり、
Na、O又はに20が多くなると現像力が高まり現像安
定性が低下する。ここで云う現像安定性とは、現像時間
に対する画像の安定性のことでNa2O又はに20のみ
が多くなると短時間で画像の欠落が起り易くなる。
ニウムなどの金属へのエツチング作用が強く現像時間が
長くなるような場合には金属支持体を使用した感光性平
版印刷版の現像液としては不都合である。また現像結果
が極めて変動し易(甚だしい場合は、現像時間のわずか
の超過で画像が欠落してしまうことがあった。また反復
使用による現像能力の低下が激しく一定容量における感
光性平版印刷版の処理可能な量(処理能力)は非常に少
ない。そこで近年珪酸ソーダ水溶液又は珪酸カリウム水
溶液が比較的有利に使用されている。それは金属に対す
るエンチング作用が乏しいことと同時に珪酸ソーダ又は
珪酸カリウムの成分である酸化珪素(SiO□)と酸化
ナトリウム(NazO)又は酸化カリウム(K2O)の
含有比率(一般にStow/NazO又はStow/K
zOのモル比で表わす)と濃度によっである程度現像性
の調整が可能とされるためである。すなわちSiO□が
多くなるに従い現像力が抑制され現像安定性が高まり、
Na、O又はに20が多くなると現像力が高まり現像安
定性が低下する。ここで云う現像安定性とは、現像時間
に対する画像の安定性のことでNa2O又はに20のみ
が多くなると短時間で画像の欠落が起り易くなる。
一定容量での処理能力はNa2O又はK z O含有量
の高い方が良い。従って5iOz/NazO比又はSi
O□/に、O比を現像力、現像安定性の面で調整しなが
ら全濃度を高めていくことによっである程度の現像力、
安定性と共に処理能力を得ることができる。又、現像処
理方法としては自動現像機を用いて現像するのが一般的
であり、この自動現像機はスプレ一方式で版上に現像液
を供給して現像するため、空気中に含まれている炭酸ガ
スによってアルカリ分が中和され現像処理能力が劣化し
やすく又スプレーにより発泡しやすいという問題もあっ
た。更に比較的高濃度の現像液を用いた場合には沈殿物
が生成し易く、長期間連続して現像処理することが難し
かった。
の高い方が良い。従って5iOz/NazO比又はSi
O□/に、O比を現像力、現像安定性の面で調整しなが
ら全濃度を高めていくことによっである程度の現像力、
安定性と共に処理能力を得ることができる。又、現像処
理方法としては自動現像機を用いて現像するのが一般的
であり、この自動現像機はスプレ一方式で版上に現像液
を供給して現像するため、空気中に含まれている炭酸ガ
スによってアルカリ分が中和され現像処理能力が劣化し
やすく又スプレーにより発泡しやすいという問題もあっ
た。更に比較的高濃度の現像液を用いた場合には沈殿物
が生成し易く、長期間連続して現像処理することが難し
かった。
又使用後の廃液処理に際し中和用の酸の使用量が多くな
るなど欠点があった。
るなど欠点があった。
従って本発明の目的は、長期間にわたり現像安定性、現
像処理能力にすぐれ、かつ発泡性が低い、特に自動現像
機に使用するのに適した現像液を提供することである。
像処理能力にすぐれ、かつ発泡性が低い、特に自動現像
機に使用するのに適した現像液を提供することである。
本発明の他の目的は、上記現像液を用い、インキ着肉性
、耐剛性等の印刷適性にすぐれ、かつ印刷汚れのない印
刷物が得られる平版印刷版を与えることができる現像方
法を提供することである。
、耐剛性等の印刷適性にすぐれ、かつ印刷汚れのない印
刷物が得られる平版印刷版を与えることができる現像方
法を提供することである。
本発明の目的は、0−キノンジアジド化合物含有感光層
を有する感光性平版印刷版の現像液において、珪酸アル
カリ金属塩と、1重量%水溶液が前記感光性平版印刷版
の感光層に対して30〜65°の接触角を示す界面活性
剤とを含有することを特徴とする、0−キノンジアジド
化合物含有感光層を有する感光性平版印刷版の現像液及
び、これを用いた現像方法により達成された。
を有する感光性平版印刷版の現像液において、珪酸アル
カリ金属塩と、1重量%水溶液が前記感光性平版印刷版
の感光層に対して30〜65°の接触角を示す界面活性
剤とを含有することを特徴とする、0−キノンジアジド
化合物含有感光層を有する感光性平版印刷版の現像液及
び、これを用いた現像方法により達成された。
本発明に用いられる珪酸アルカリ金属塩の例としては珪
酸ナトリウム、珪酸カリウムが挙げられ、これらは単独
又は組み合せて用いることができる。
酸ナトリウム、珪酸カリウムが挙げられ、これらは単独
又は組み合せて用いることができる。
珪酸アルカリのSing /Mhoモル比(Mはアルカ
リ金属を表わす)は0.5〜3が好ましく、0、6〜2
.0が特に好ましい。上記のモル比が3.0を越えるに
つれて現像性が低下する傾向がある。
リ金属を表わす)は0.5〜3が好ましく、0、6〜2
.0が特に好ましい。上記のモル比が3.0を越えるに
つれて現像性が低下する傾向がある。
また上記モル比が0.5より小さくなるにつれてアルカ
リ強度が高くなっていくので感光性平版印刷版の支持体
として汎用されているアルミニウム板等の金属をエツチ
ングする弊害が出てくるようになる。現像液中の珪酸ア
ルカリの濃度は1〜10重量%が好ましく、1.5〜7
重量%が特に好ましい。10重量%より高くなると沈澱
や結晶が生成しやすくなり、また廃液時の中和に際して
ゲル化しやすくなるので廃液処理がめんどうとなる。ま
た、1重量%より低くなると現像力、処理能力が低くな
る。
リ強度が高くなっていくので感光性平版印刷版の支持体
として汎用されているアルミニウム板等の金属をエツチ
ングする弊害が出てくるようになる。現像液中の珪酸ア
ルカリの濃度は1〜10重量%が好ましく、1.5〜7
重量%が特に好ましい。10重量%より高くなると沈澱
や結晶が生成しやすくなり、また廃液時の中和に際して
ゲル化しやすくなるので廃液処理がめんどうとなる。ま
た、1重量%より低くなると現像力、処理能力が低くな
る。
本発明の現像液の成分である界面活性剤としては、アニ
オン型、ノニオン型又は両性型のいずれも用いることが
できる。これらの界面活性剤は、1重量%の水溶液が平
版印刷版の感光層に対して30〜65°の範囲の接触角
を示す、接触角が30’より低いものでは多量に使用す
る必要があり、その結果発泡性等の問題が起き易く成る
。また得られた平版印刷版のインキの着肉性が悪くなる
場合もある。又一方656より高いものを用いた場合は
インキの着肉性向上の効果がな(、正常印刷物を得るの
に紙を多く消費する。
オン型、ノニオン型又は両性型のいずれも用いることが
できる。これらの界面活性剤は、1重量%の水溶液が平
版印刷版の感光層に対して30〜65°の範囲の接触角
を示す、接触角が30’より低いものでは多量に使用す
る必要があり、その結果発泡性等の問題が起き易く成る
。また得られた平版印刷版のインキの着肉性が悪くなる
場合もある。又一方656より高いものを用いた場合は
インキの着肉性向上の効果がな(、正常印刷物を得るの
に紙を多く消費する。
本発明に使用される好ましい界面活性剤としては次のよ
うなものが挙げられる。
うなものが挙げられる。
アニオン型界面活性剤としては脂肪酸塩、アルキル硫酸
エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、
アルキルリン酸塩、ポリオキシアルキル硫酸エステル塩
、ポリオキシアルキルフェノールエーテル硫酸塩、ナフ
タレンスルホン酸ホルマリン縮合物、フッ素系界面活性
剤等が挙げられるが、例えばジ(2−エチルヘキシル)
スルホコハク酸ナトリウム等のアルキルスルホコハク酸
、例えばポリオキシエチレン(エチレンオキサイドモル
数が20)オレイルエーテル硫酸ナトリウム等のポリオ
キシエチレンアルキルエーテル塩、例えばポリオキシエ
チレン(エチレンオキサイドモル数が19)ノニルフェ
ノールエーテル硫酸ナトリウム等のポリオキシエチレン
アルキルフェノールエーテル硫酸塩、ナフタレンスルホ
ン酸塩ホルマリン縮合物、アルキルナフタレンスルホン
酸塩、等が好ましい化合物である。
エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、
アルキルリン酸塩、ポリオキシアルキル硫酸エステル塩
、ポリオキシアルキルフェノールエーテル硫酸塩、ナフ
タレンスルホン酸ホルマリン縮合物、フッ素系界面活性
剤等が挙げられるが、例えばジ(2−エチルヘキシル)
スルホコハク酸ナトリウム等のアルキルスルホコハク酸
、例えばポリオキシエチレン(エチレンオキサイドモル
数が20)オレイルエーテル硫酸ナトリウム等のポリオ
キシエチレンアルキルエーテル塩、例えばポリオキシエ
チレン(エチレンオキサイドモル数が19)ノニルフェ
ノールエーテル硫酸ナトリウム等のポリオキシエチレン
アルキルフェノールエーテル硫酸塩、ナフタレンスルホ
ン酸塩ホルマリン縮合物、アルキルナフタレンスルホン
酸塩、等が好ましい化合物である。
ノニオン界面活性剤としては、エトキシ化脂肪族フッ化
炭素及びエトキシ化植物油、例えばポリオキシエチレン
植物油が含まれる。特にエトキシ化脂肪族アルコールが
適当であって、例として、トリデシルオキシポリオキシ
エチレンエタノール、ポリオキシエチレントリデシルエ
ーテル(エチレンオキシド12モル)、ポリオキシエチ
レントリデシルエーテル(エチレンオキシド15モル)
、ポリオキシエチレントリデシルエーテル(エチレンオ
キシド6モル)、ポリオキシエチレンデシルエーテル(
エチレンオキシド4モル)及びポリオキシエチレン脂肪
族アルコール等が好ましい。
炭素及びエトキシ化植物油、例えばポリオキシエチレン
植物油が含まれる。特にエトキシ化脂肪族アルコールが
適当であって、例として、トリデシルオキシポリオキシ
エチレンエタノール、ポリオキシエチレントリデシルエ
ーテル(エチレンオキシド12モル)、ポリオキシエチ
レントリデシルエーテル(エチレンオキシド15モル)
、ポリオキシエチレントリデシルエーテル(エチレンオ
キシド6モル)、ポリオキシエチレンデシルエーテル(
エチレンオキシド4モル)及びポリオキシエチレン脂肪
族アルコール等が好ましい。
またエトキシ化アルキルフェノール類も適当であって、
その例には、オクチルフェノキシポリオキシエチレンエ
タノール(エチレンオキシド40モル)、ノニルフェノ
キシポリオキシエチレンエタノール(エチレンオキシド
15モル)、ノニルフェノキシポリオキシエチレンエタ
ノール(エチレンオキシド14モル)、ノニルフェノキ
シポリオキシエチレンエタノール(エチレンオキシド1
5モル)、ノニルフェノキシポリオキシエチレンエタノ
ール(エチレンオキシド5モル)、オクチルフェノキシ
ポリオキシエチレンエタノール(エチレンオキシド10
モル)、オクチルフェノキシポリオキシエチレンエタノ
ール(エチレンオキシド15モル)、オクチルフェノキ
シポリオキシエチレンエタノール(エチレンオキシド7
モル)、アルキルフェノキシポリオキシエチレンエタノ
ール及びイソオクチルフェノキシポリオキシエチレンエ
タノール(エチレンオキシド125モル)が含まれる。
その例には、オクチルフェノキシポリオキシエチレンエ
タノール(エチレンオキシド40モル)、ノニルフェノ
キシポリオキシエチレンエタノール(エチレンオキシド
15モル)、ノニルフェノキシポリオキシエチレンエタ
ノール(エチレンオキシド14モル)、ノニルフェノキ
シポリオキシエチレンエタノール(エチレンオキシド1
5モル)、ノニルフェノキシポリオキシエチレンエタノ
ール(エチレンオキシド5モル)、オクチルフェノキシ
ポリオキシエチレンエタノール(エチレンオキシド10
モル)、オクチルフェノキシポリオキシエチレンエタノ
ール(エチレンオキシド15モル)、オクチルフェノキ
シポリオキシエチレンエタノール(エチレンオキシド7
モル)、アルキルフェノキシポリオキシエチレンエタノ
ール及びイソオクチルフェノキシポリオキシエチレンエ
タノール(エチレンオキシド125モル)が含まれる。
またテトラメチルデシンジオール、ソルビトール及びソ
ルビタン誘導体も適当であって、後の三者には、ポリオ
キシエチレンソルビトールラノリン誘導体、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレ
ンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビ
タンモノオレエート、が好ましく、その他グリセリン脂
肪酸エステル、オキシエチレンオキシプロピレンブロッ
クポリマー、有機金属系、弗素系、等も使用することが
できる。
ルビタン誘導体も適当であって、後の三者には、ポリオ
キシエチレンソルビトールラノリン誘導体、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレ
ンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビ
タンモノオレエート、が好ましく、その他グリセリン脂
肪酸エステル、オキシエチレンオキシプロピレンブロッ
クポリマー、有機金属系、弗素系、等も使用することが
できる。
両性界面活性剤としてはアルキルベタイン、アルキルイ
ミダシリン、グリシン型、アラニン型、スルフオペタイ
ン等も好ましく使用できる。
ミダシリン、グリシン型、アラニン型、スルフオペタイ
ン等も好ましく使用できる。
これらの界面活性剤は単独または混合使用することがで
きる。これらの水溶性界面活性剤の添加量は、その化合
物の種類によっても異なるが、通常感光層に対する接触
角が30°〜65°の範囲に入るように添加することが
自動現像機において均−に現像する効果があるので好ま
しい。さらにこれらの界面活性剤は、現像後、版面保護
剤を塗布機で塗布した際に、塗布面質を向上させ、ある
いは印刷時のインキの着肉性、非画像部の汚れ防止等の
効果も発揮する。
きる。これらの水溶性界面活性剤の添加量は、その化合
物の種類によっても異なるが、通常感光層に対する接触
角が30°〜65°の範囲に入るように添加することが
自動現像機において均−に現像する効果があるので好ま
しい。さらにこれらの界面活性剤は、現像後、版面保護
剤を塗布機で塗布した際に、塗布面質を向上させ、ある
いは印刷時のインキの着肉性、非画像部の汚れ防止等の
効果も発揮する。
又、界面活性剤の欠陥であった自動現像機のスプレーに
よる発泡性の問題や、炭酸ガスの影響等の問題は、自動
現像機の現像ゾーンを浸漬方式に変更することで解決で
きる。
よる発泡性の問題や、炭酸ガスの影響等の問題は、自動
現像機の現像ゾーンを浸漬方式に変更することで解決で
きる。
本発明に用いられる現像液及び現像補充液には現像安定
性向上のため、以下のような化合物を併用することがで
きる。
性向上のため、以下のような化合物を併用することがで
きる。
例えば、特開昭58−75152号記載のNaC1,K
Cj!、KBr等の中性塩、特開昭58190952号
記載のEDTA、NTA等のキレート剤、特開昭59−
121336号記載の(Co (N H3)6) C1
:1等の錯体、特開昭5525100号公報記載の周期
律表第■a族、第■a族又はmb族の元素のイオン化可
能な化合物、特開昭55−95946号記載のp−ジメ
チルアミノメチルポリスチレンのメチルクロライド4級
化物等のカチオニックボリマー、特開昭56−1425
28号記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムク
ロライドとアクリル酸ソーダの共重合体等の両性高分子
電解質、特開昭57−192952号記載の亜硫酸ソー
ダ等の還元性無機塩、チオサリチル酸、システィン、チ
オジグリコール酸等のアルカリ可溶メルカプト化合物又
はチオエーテル化合物、特開昭58−59444号記載
の塩化リチウム等の無機リチウム化合物、特公昭50−
34442号記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム
化合物、特開昭59−75255号記載のSi、 Ti
等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241
号記載の有機硼素化合物、ヨーロッパ特許101010
号記載のテトラアルキルアンモニウムオキサイド等の4
級アンモニウム塩、特願昭61−298534号記載の
デヒドロ酢酸ナトリウム等の殺菌剤等があげられる。
Cj!、KBr等の中性塩、特開昭58190952号
記載のEDTA、NTA等のキレート剤、特開昭59−
121336号記載の(Co (N H3)6) C1
:1等の錯体、特開昭5525100号公報記載の周期
律表第■a族、第■a族又はmb族の元素のイオン化可
能な化合物、特開昭55−95946号記載のp−ジメ
チルアミノメチルポリスチレンのメチルクロライド4級
化物等のカチオニックボリマー、特開昭56−1425
28号記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムク
ロライドとアクリル酸ソーダの共重合体等の両性高分子
電解質、特開昭57−192952号記載の亜硫酸ソー
ダ等の還元性無機塩、チオサリチル酸、システィン、チ
オジグリコール酸等のアルカリ可溶メルカプト化合物又
はチオエーテル化合物、特開昭58−59444号記載
の塩化リチウム等の無機リチウム化合物、特公昭50−
34442号記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム
化合物、特開昭59−75255号記載のSi、 Ti
等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241
号記載の有機硼素化合物、ヨーロッパ特許101010
号記載のテトラアルキルアンモニウムオキサイド等の4
級アンモニウム塩、特願昭61−298534号記載の
デヒドロ酢酸ナトリウム等の殺菌剤等があげられる。
本発明に用いられる現像液及び現像補充液には、必要に
より、20℃における水に対する溶解度が10重量%以
下の有機溶剤を併用することができる。
より、20℃における水に対する溶解度が10重量%以
下の有機溶剤を併用することができる。
例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル3、酢酸
アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブチル
アセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカ
ルボン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン類;エチ
レングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコー
ルベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニル
エーテル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカルビ
ノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコー
ルのようなアルコール類;キシレンのようなアルキル置
換芳香族炭化水素;メチレンジクロライド、エチレンジ
クロライド、モノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素などがある。
アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブチル
アセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカ
ルボン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン類;エチ
レングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコー
ルベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニル
エーテル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカルビ
ノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコー
ルのようなアルコール類;キシレンのようなアルキル置
換芳香族炭化水素;メチレンジクロライド、エチレンジ
クロライド、モノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素などがある。
これら有機溶媒は一種以上用いてもよい。これら有機溶
媒の中では、ベンジルアルコールが特に好ましい。
媒の中では、ベンジルアルコールが特に好ましい。
現像液中の含有量は5重量%以下、好ましくは4重量%
以下が適当である。
以下が適当である。
本発明の現像液が適用されるO−キノンジアジド感光層
とは活性光照射によりアルカリ可溶性を増す、0−キノ
ンジアジド化合物を感光性成分として含存する感光性複
写層である。
とは活性光照射によりアルカリ可溶性を増す、0−キノ
ンジアジド化合物を感光性成分として含存する感光性複
写層である。
かかる感光材料についてはJ、コーサー著[ライトーセ
ンシティブシステムズJ (John圓11ey &
5ons+ Inc、)あるいは「感光性樹脂データ集
」(綜合化学研究屑線)などに詳細に記されている。
ンシティブシステムズJ (John圓11ey &
5ons+ Inc、)あるいは「感光性樹脂データ集
」(綜合化学研究屑線)などに詳細に記されている。
特に芳香族ポリヒドロキシ化合物のO−キノンジアジド
スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂、例えばフェ
ノール樹脂、クレゾール樹脂、スチレン/無水マレイン
酸共重合体など、とを混合したものが一般に良く使われ
、平版印刷用感光板(プレセンシタイズド版)、フォト
エツチング用レジストなどに用いられている。これらの
内でも本発明の現像液は0−キノンジアジド感光層を有
するポジ型感光性印刷版(以下、ポジ型ps版と称す。
スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂、例えばフェ
ノール樹脂、クレゾール樹脂、スチレン/無水マレイン
酸共重合体など、とを混合したものが一般に良く使われ
、平版印刷用感光板(プレセンシタイズド版)、フォト
エツチング用レジストなどに用いられている。これらの
内でも本発明の現像液は0−キノンジアジド感光層を有
するポジ型感光性印刷版(以下、ポジ型ps版と称す。
)の現像液として特にすぐれている。かかるポジ型28
版は、基本的には支持体としてのアルミニウム板上に、
0−キノンジアジド化合物からなる感光層を有するもの
である。好適なアルミニウム板には、純アルミニウム板
およびアルミニウム合金板が含まれ、更にアルミニウム
がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルム
も含まれる。
版は、基本的には支持体としてのアルミニウム板上に、
0−キノンジアジド化合物からなる感光層を有するもの
である。好適なアルミニウム板には、純アルミニウム板
およびアルミニウム合金板が含まれ、更にアルミニウム
がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルム
も含まれる。
アルミニウム板の表面は砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされて
いることが好ましい。また、砂目立てしたのちに米国特
許第2.714.066号明細書に記載されている如く
、珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム
板、特公昭47−5125号公報に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、
硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン
酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の
単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極とじて電流を流すことにより実施される。
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされて
いることが好ましい。また、砂目立てしたのちに米国特
許第2.714.066号明細書に記載されている如く
、珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム
板、特公昭47−5125号公報に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、
硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン
酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の
単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極とじて電流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3,658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
れているようなシリケート電着も有効である。
更には米国特許第4.087,341号明細書、特公昭
46−27481号公報、特開昭5230503号公報
に開示されているような電解ダレインを施した支持体を
上記のように陽極酸化処理したものも有用である。更に
、米国特許第3゜834.998号明細書に記されてい
るような砂目立てしたのちに化学的にエツチングし、し
かるのちに陽極酸化処理したアルミニウム板も好ましい
。
46−27481号公報、特開昭5230503号公報
に開示されているような電解ダレインを施した支持体を
上記のように陽極酸化処理したものも有用である。更に
、米国特許第3゜834.998号明細書に記されてい
るような砂目立てしたのちに化学的にエツチングし、し
かるのちに陽極酸化処理したアルミニウム板も好ましい
。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
との有害な反応を防ぐため、更には感光層との密着性を
向上させる為などの種々の目的をもって施されるもので
ある。
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
との有害な反応を防ぐため、更には感光層との密着性を
向上させる為などの種々の目的をもって施されるもので
ある。
更に米国特許第3511661号、特公昭57−163
49号、特公昭46−35685号、特開昭60−14
9491号、特開昭60−232998号等に記載され
ているような下塗剤を塗布する方法も好ましい。
49号、特公昭46−35685号、特開昭60−14
9491号、特開昭60−232998号等に記載され
ているような下塗剤を塗布する方法も好ましい。
支持体の親水性表面の上に設けられる感光層はO−キノ
ンジアジド化合物からなる。特に好ましい0−キノンジ
アジド化合物は0−ナフトキノンジアジド゛化合物であ
り、例えば米国特許第3,046,110号、同第3.
046,111号、同第3,046,112号、同第3
.046,115号、同第3.046.118号、同第
3,046,119号、同第3,046,120号、同
第3,046,121号、同第3,046,122号、
同第3.046,123号、同第3,061,430号
、同第3.102,809号、同第3,106.465
号、同第3.635,709号、同第3.647,44
3号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されており
、これらは好適に使用することができる。これらの内で
も、特に芳香族ヒドロキシ化合物の0−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステルまたは0−ナフトキノンジア
ジドカルボン酸エステル、および芳香族アミノ化合物の
0−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドまたは0−
ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ましく、特
に米国特許第3,635,709号明細書に記されてい
るピロガロールとアセトンとの縮合物に0−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸をエステル反応させたもの、米国
特許第4,028,111号明細書に記されている末端
にヒドロキシ基を有するポリエステルに0−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸、または0−ナフトキノンジアジ
ドカルボン酸をエステル反応させたもの、英国特許筒1
.494,043号明細書に記されているようなp−ヒ
ドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと他の共重
合し得るモノマーとの共重合体に0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸または0−ナフトキノンジアジドカルボ
ン酸をエステル反応させたもの、米国特許第3.759
.711号明細書に記されているようなp−アミノスチ
レンと他の共重合しうるモノマーとの共重合体に0−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸または0−ナフトキノン
ジアジドカルボン酸をアミド反応させたものは非常にす
ぐれている。
ンジアジド化合物からなる。特に好ましい0−キノンジ
アジド化合物は0−ナフトキノンジアジド゛化合物であ
り、例えば米国特許第3,046,110号、同第3.
046,111号、同第3,046,112号、同第3
.046,115号、同第3.046.118号、同第
3,046,119号、同第3,046,120号、同
第3,046,121号、同第3,046,122号、
同第3.046,123号、同第3,061,430号
、同第3.102,809号、同第3,106.465
号、同第3.635,709号、同第3.647,44
3号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されており
、これらは好適に使用することができる。これらの内で
も、特に芳香族ヒドロキシ化合物の0−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステルまたは0−ナフトキノンジア
ジドカルボン酸エステル、および芳香族アミノ化合物の
0−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドまたは0−
ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ましく、特
に米国特許第3,635,709号明細書に記されてい
るピロガロールとアセトンとの縮合物に0−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸をエステル反応させたもの、米国
特許第4,028,111号明細書に記されている末端
にヒドロキシ基を有するポリエステルに0−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸、または0−ナフトキノンジアジ
ドカルボン酸をエステル反応させたもの、英国特許筒1
.494,043号明細書に記されているようなp−ヒ
ドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと他の共重
合し得るモノマーとの共重合体に0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸または0−ナフトキノンジアジドカルボ
ン酸をエステル反応させたもの、米国特許第3.759
.711号明細書に記されているようなp−アミノスチ
レンと他の共重合しうるモノマーとの共重合体に0−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸または0−ナフトキノン
ジアジドカルボン酸をアミド反応させたものは非常にす
ぐれている。
これらの0−キノンジアジド化合物は、単独で使用する
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し、この混
合物を感光層として設けた方が好ましい。好適なアルカ
リ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂が含ま
れ、具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、O
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に特開昭50−
125806号公報に記されている様に上記のようなフ
ェノール樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置換さ
れたフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドと
の縮合物とを併用すると、より一層好ましい。アルカリ
可溶性樹脂は、感光層中に約50〜約85重量、より好
ましくは60〜80重量%、含有させられる。
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し、この混
合物を感光層として設けた方が好ましい。好適なアルカ
リ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂が含ま
れ、具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、O
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に特開昭50−
125806号公報に記されている様に上記のようなフ
ェノール樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置換さ
れたフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドと
の縮合物とを併用すると、より一層好ましい。アルカリ
可溶性樹脂は、感光層中に約50〜約85重量、より好
ましくは60〜80重量%、含有させられる。
更に本発明の組成物には、上記のアルカリ可溶性ノボラ
ック樹脂以外の、アルカリ可溶性樹脂を必要に応じて配
合することができる。例えば、スチレン−アクリル酸共
重合体、メチルメタアクリレート−メタクリル酸共重合
体、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、特公昭52−2
8401号公報記載のアルカリ可溶性ビニル系樹脂、ア
ルカリ可溶性ポリブチラール樹脂等も含有させることが
できる。
ック樹脂以外の、アルカリ可溶性樹脂を必要に応じて配
合することができる。例えば、スチレン−アクリル酸共
重合体、メチルメタアクリレート−メタクリル酸共重合
体、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、特公昭52−2
8401号公報記載のアルカリ可溶性ビニル系樹脂、ア
ルカリ可溶性ポリブチラール樹脂等も含有させることが
できる。
0−キノンジアジド化合物からなる感光層には、必要に
応じて更に特開昭58−203433号に記載されてい
るような染料、可塑剤、プリントアウト性能を与える成
分などの添加剤を加えることができる。
応じて更に特開昭58−203433号に記載されてい
るような染料、可塑剤、プリントアウト性能を与える成
分などの添加剤を加えることができる。
支持体上に設けられる0−キノンジアジド化合物からな
る感光層の塗布量は約0,5〜約7 glrdであり、
より好ましくは1.5〜3g/mである。
る感光層の塗布量は約0,5〜約7 glrdであり、
より好ましくは1.5〜3g/mである。
かくして得られるポジ型28版は透明原図を通してカー
ボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノ
ンランプ、タングステンランプなどの活性光線の豊富な
光線により露光されると、その部分はアルカリ可溶性に
変る。従って、本発明の現像液で処理すると、感光層の
露光部分は溶出され、支持体の親水性表面が露出される
。
ボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノ
ンランプ、タングステンランプなどの活性光線の豊富な
光線により露光されると、その部分はアルカリ可溶性に
変る。従って、本発明の現像液で処理すると、感光層の
露光部分は溶出され、支持体の親水性表面が露出される
。
本発明の現像液は、良好な現像性を長期間維持すること
ができ、これを用いて非画像部の汚れがなく、インキ着
肉性、耐剛性等の印刷適性にすぐれた平版印刷版を与え
ることができる。
ができ、これを用いて非画像部の汚れがなく、インキ着
肉性、耐剛性等の印刷適性にすぐれた平版印刷版を与え
ることができる。
以下実施例をもって本発明の詳細な説明する。
実施例1〜5
特公昭43−28403号公報実施例1に記載されてい
るアセトンとピロガロールの縮合により得られるポリヒ
ドロキシフェニルのナフトキノン−1,2−’、;アジ
ドー5−スルホン酸エステル0.8重量部とノボラック
型メタパラ混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂2.2
重量部、ノボラック型オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂0.02重量部、無水フタル酸0.08重量部
、2−トリクロルメチル−5−(p−メトキシスチリル
)−1゜3.4−オキサジアゾール0.04重量部およ
びクリスタルバイオレットのパラトルエンスルホン酸塩
0.03重量部を20重量部のメチルセロソルブアセテ
ートと8重量部のメチルエチルケトンに溶解して感光液
を調製した。厚さ0.3mmのナイロンブラシで砂目型
されたアルミニウム版をアルカリでエツチングした後、
硝酸水溶液中で更に電解エツチングし、続いて硫酸水溶
液中で陽極酸化しく陽極酸化皮膜量2.7g/m)、そ
の後70℃の酢酸亜鉛水溶液で処理し良く洗滌した後に
乾燥し、その上に上記感光液を回転塗布機によって塗布
乾燥して約2. Og / mの感光層を有する感光性
平版印刷版Aを得た。この感光性平版印刷版Aに濃度差
0.15のステップウェッジと網点ウェッジを通して富
士写真フィルム側型PSライト(2KWメタルハライド
ランプ)を用いて露光した。一方現像液としてSiO□
/Na2Oモル比約1.1の珪酸ソーダ2重量%水溶液
11に表1の化合物を添加した現像液を作製した。
るアセトンとピロガロールの縮合により得られるポリヒ
ドロキシフェニルのナフトキノン−1,2−’、;アジ
ドー5−スルホン酸エステル0.8重量部とノボラック
型メタパラ混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂2.2
重量部、ノボラック型オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂0.02重量部、無水フタル酸0.08重量部
、2−トリクロルメチル−5−(p−メトキシスチリル
)−1゜3.4−オキサジアゾール0.04重量部およ
びクリスタルバイオレットのパラトルエンスルホン酸塩
0.03重量部を20重量部のメチルセロソルブアセテ
ートと8重量部のメチルエチルケトンに溶解して感光液
を調製した。厚さ0.3mmのナイロンブラシで砂目型
されたアルミニウム版をアルカリでエツチングした後、
硝酸水溶液中で更に電解エツチングし、続いて硫酸水溶
液中で陽極酸化しく陽極酸化皮膜量2.7g/m)、そ
の後70℃の酢酸亜鉛水溶液で処理し良く洗滌した後に
乾燥し、その上に上記感光液を回転塗布機によって塗布
乾燥して約2. Og / mの感光層を有する感光性
平版印刷版Aを得た。この感光性平版印刷版Aに濃度差
0.15のステップウェッジと網点ウェッジを通して富
士写真フィルム側型PSライト(2KWメタルハライド
ランプ)を用いて露光した。一方現像液としてSiO□
/Na2Oモル比約1.1の珪酸ソーダ2重量%水溶液
11に表1の化合物を添加した現像液を作製した。
感光性平版印刷版を2cmX5cmに切断し、未露光の
ままその感光層の表面に各現像液をマイクロシリンジを
用いて一滴落し、25℃/空気中で協和科学側型の接触
角測定器を用いて接触角を測定した。その結果を表1に
示した。
ままその感光層の表面に各現像液をマイクロシリンジを
用いて一滴落し、25℃/空気中で協和科学側型の接触
角測定器を用いて接触角を測定した。その結果を表1に
示した。
浸漬現像方式の自動現像機に各現像液を入れ30℃に保
って、露光された感光性平版印刷版を現像した。
って、露光された感光性平版印刷版を現像した。
表2には溶出したステップウェッジの段数(クリヤー段
数)と網点ウェッジのハイライト部の網点の再現性と、
得られた印刷版を用いて行った印刷の結果を示す。
数)と網点ウェッジのハイライト部の網点の再現性と、
得られた印刷版を用いて行った印刷の結果を示す。
表
■ 2%網点再現性150線/インチ2%の網点の再現
性 ■ ガム塗布面質 ガムコーター富士フィルム■製 タイプG−800H 使用ガム富士フィルム■製 GU−7 水で2倍に希釈 ■ インキの着肉性 F−室温 15時間装版 W−35℃/85%RH15時間装版 D−60℃ 3時装置版 ■ 耐刷性 5万枚印別後の印刷物の状態 ■ 使用印刷機 ハリスオーシリア125型 湿し水:IPA 15% 富士フィルム■製EU−3(水 で100倍に希釈) インキ:ブロアス墨(大日本インキ■製)表−2より比
較例の珪酸ナトリウム水溶液単独に比べて実施例1〜6
の現像液は良好な現像性、印刷適性を示すことが判不。
性 ■ ガム塗布面質 ガムコーター富士フィルム■製 タイプG−800H 使用ガム富士フィルム■製 GU−7 水で2倍に希釈 ■ インキの着肉性 F−室温 15時間装版 W−35℃/85%RH15時間装版 D−60℃ 3時装置版 ■ 耐刷性 5万枚印別後の印刷物の状態 ■ 使用印刷機 ハリスオーシリア125型 湿し水:IPA 15% 富士フィルム■製EU−3(水 で100倍に希釈) インキ:ブロアス墨(大日本インキ■製)表−2より比
較例の珪酸ナトリウム水溶液単独に比べて実施例1〜6
の現像液は良好な現像性、印刷適性を示すことが判不。
更に実施例1,4の現像液について現像能力を調べたが
いずれも11当り3M以上の感光性平版印刷版を現像し
た後も充分に現像能力を維持していた。
いずれも11当り3M以上の感光性平版印刷版を現像し
た後も充分に現像能力を維持していた。
又実施例5については感光性平版印刷版を現像しながら
3倍に濃縮した補充液を感光性平版印刷版ld当り60
m1を補充しながら現像すると、現像液の母液11当り
80n?以上の現像能力を維持し長期間安定に現像する
ことができた。
3倍に濃縮した補充液を感光性平版印刷版ld当り60
m1を補充しながら現像すると、現像液の母液11当り
80n?以上の現像能力を維持し長期間安定に現像する
ことができた。
又、1〜6の現像液において、珪酸ナトリウムの代りに
珪酸カリウムを用いて同様のテストを実施したが珪酸ナ
トリウムの結果と同様の結果が得られた。
珪酸カリウムを用いて同様のテストを実施したが珪酸ナ
トリウムの結果と同様の結果が得られた。
実施例7〜12
特公昭43−28403号公報実施例1に記載されてい
るアセトンとピロガロールの縮合により得られたポリヒ
ドロキシフェニルのナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸エステル0.45重量部、特開昭63−
97944号に記載されているような下記に示される合
成法より得られたp−ヒドロキシメタアクリルアニリド
(11yPMA)、アクリロニトリル(AN)、メタア
クリル酸メチル(MMA)の共重合体(tlyPMA
: AN :MMA=5.32 : 15.9 : 4
0重量比)を1.10重量部、2−(p−メトキシフェ
ニル)−4,6−ヒス(トリクロロメチル)−S−トリ
アジン0.02重量部、オイルブルー#603 (オ
リエント化学工業■製)0.01重量部、メチルエチル
ケトン10重量部、メチルセロソルブ10重量部、に溶
解して感光液を調製した。
るアセトンとピロガロールの縮合により得られたポリヒ
ドロキシフェニルのナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸エステル0.45重量部、特開昭63−
97944号に記載されているような下記に示される合
成法より得られたp−ヒドロキシメタアクリルアニリド
(11yPMA)、アクリロニトリル(AN)、メタア
クリル酸メチル(MMA)の共重合体(tlyPMA
: AN :MMA=5.32 : 15.9 : 4
0重量比)を1.10重量部、2−(p−メトキシフェ
ニル)−4,6−ヒス(トリクロロメチル)−S−トリ
アジン0.02重量部、オイルブルー#603 (オ
リエント化学工業■製)0.01重量部、メチルエチル
ケトン10重量部、メチルセロソルブ10重量部、に溶
解して感光液を調製した。
厚さ0.30 **のアルミニウム板をナイロンブラシ
と400メツシユのパミストンの水懸濁液を用いその表
面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
と400メツシユのパミストンの水懸濁液を用いその表
面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
10%水酸化す1−リウムに70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%NHO3で中和
洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正
弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160
クーロン/dn(の陽極特電気量で電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra
表示)であった。ひきつづいて30%の(1□S04水
溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20
%H2SO4水溶液中、電流密度2A/dm″において
厚さが2.7g/m′になるように陽極酸化した。
エツチングした後、流水で水洗後20%NHO3で中和
洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件下で正
弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160
クーロン/dn(の陽極特電気量で電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra
表示)であった。ひきつづいて30%の(1□S04水
溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20
%H2SO4水溶液中、電流密度2A/dm″において
厚さが2.7g/m′になるように陽極酸化した。
良く洗浄した後乾燥し、その上に上記感光液を回転塗布
機によって塗布乾燥して約2.0g/m’の感光層を有
する感光性平版印刷版Bを得た。この感光性平版印刷版
已に濃度差0.15のステップウェッジと網点ウェッジ
を通して富士写真フィルム■製PSライト (2KWメ
タルハライドランプ)を用いて露光した。一方現像液と
して5lO9/Na2Oモル比約1.1の珪酸ナトリウ
ム2.51景%水溶液11に実施例1〜6と同様の化合
物を添加して現像液を作成した。
機によって塗布乾燥して約2.0g/m’の感光層を有
する感光性平版印刷版Bを得た。この感光性平版印刷版
已に濃度差0.15のステップウェッジと網点ウェッジ
を通して富士写真フィルム■製PSライト (2KWメ
タルハライドランプ)を用いて露光した。一方現像液と
して5lO9/Na2Oモル比約1.1の珪酸ナトリウ
ム2.51景%水溶液11に実施例1〜6と同様の化合
物を添加して現像液を作成した。
接触角の測定も実施例1〜6と同様に実施した。
その結果を表3に示した。
浸漬現像方式の自動現像液に各現像液を入れ30°Cに
保って露光された感光性平版印刷版Bを現像した。表4
には溶出したステップウェッジの段数(クリヤー段数)
と網点ウェッジのハイライト部の網点の再現性と、得ら
れた印刷版を用いて行った印刷の結果を示す。
保って露光された感光性平版印刷版Bを現像した。表4
には溶出したステップウェッジの段数(クリヤー段数)
と網点ウェッジのハイライト部の網点の再現性と、得ら
れた印刷版を用いて行った印刷の結果を示す。
表
■
■
2%網点再現性
150線/イン千2%の網点ウェッジの再現性
ガム塗布面質
ガムコーター富士フィルムa聯製
タイプG−800H
使用ガム富士フィルム■製 GU−7
(水で2倍に希釈)
インキ着肉性
F−室温 15時間装版
W−35℃/85%RH15時間装版
D−60℃ 3時装置版
耐剛性
5万枚印刷後の印刷物の状態
使用印刷機
スプリント25 (小森印刷機)
湿し装置:コモリマッソク
湿し水:IPA 10%
EU−3富士フィルム0@製(水
で100倍に希釈)
インキ:プロアス墨(大日本インキ■製)液は現像性、
印刷適性についても極めて安定であることが判る。
印刷適性についても極めて安定であることが判る。
更に実施例7.12について現像能力を調べたが若干ノ
ボラックタイプの感光層の感光層と比べて劣る傾向にあ
るが11で2.5〜3耐の範囲の感光層を現像する能力
を示した。
ボラックタイプの感光層の感光層と比べて劣る傾向にあ
るが11で2.5〜3耐の範囲の感光層を現像する能力
を示した。
Claims (2)
- (1)o−キノンジアジド化合物含有感光層を有する感
光性平版印刷版の現像液において、珪酸アルカリ金属塩
と、1重量%水溶液が前記感光性平版印刷版の感光層に
対して30〜65°の接触角を示す界面活性剤とを含有
することを特徴とする、o−キノンジアジド化合物含有
感光層を有する感光性平版印刷版の現像液。 - (2)o−キノンジアジド化合物含有感光層を有する感
光性平版印刷版を画像露光後、自動現像機を用いて、請
求項(1)記載の現像液により現像することを特徴とす
る現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19242488A JPH0240659A (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19242488A JPH0240659A (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0240659A true JPH0240659A (ja) | 1990-02-09 |
Family
ID=16291088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19242488A Pending JPH0240659A (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0240659A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0950513A1 (en) * | 1998-04-15 | 1999-10-20 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| EP1025992A1 (en) * | 1999-02-02 | 2000-08-09 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making positive printing plates |
| US6447977B2 (en) | 1998-04-15 | 2002-09-10 | Agfa-Gevaert | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
-
1988
- 1988-08-01 JP JP19242488A patent/JPH0240659A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0950513A1 (en) * | 1998-04-15 | 1999-10-20 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| US6447977B2 (en) | 1998-04-15 | 2002-09-10 | Agfa-Gevaert | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| EP1025992A1 (en) * | 1999-02-02 | 2000-08-09 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making positive printing plates |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4786581A (en) | Gumming solution for use in the burning-in of offset-printing plates comprising water, a hydrophilic polymer and an organic acid derivative | |
| US4983478A (en) | Burn-in gumming composition for offset printing plates | |
| JPH05246171A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH04282637A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0572723A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH01282549A (ja) | 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法 | |
| JPS5986046A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH0240659A (ja) | 感光性平版印刷版の現像液及び現像方法 | |
| JPH0526678B2 (ja) | ||
| JP2538793B2 (ja) | 感光性平版印刷版の現像液 | |
| JPH01287561A (ja) | 感光性平版印刷版の現像液組成物 | |
| JP2000081704A (ja) | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法及び平版印刷版用支持体 | |
| JPH11301135A (ja) | 感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH0624166A (ja) | 平版印刷版用支持体、その製造方法及び支持体を用いた感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH01316290A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法 | |
| JPH10207056A (ja) | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 | |
| JPS6358449A (ja) | 現像性が改良される感光性平版印刷版の現像処理方法 | |
| JPS63304246A (ja) | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 | |
| JPH0411859B2 (ja) | ||
| JPS62125357A (ja) | 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法 | |
| JPH0798500A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0627646A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPS6217746A (ja) | 感光性平版印刷版の現像液 | |
| JPH05281720A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH03239260A (ja) | 感光性平版印刷版 |