JPH0478263U - - Google Patents

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JPH0478263U
JPH0478263U JP12057490U JP12057490U JPH0478263U JP H0478263 U JPH0478263 U JP H0478263U JP 12057490 U JP12057490 U JP 12057490U JP 12057490 U JP12057490 U JP 12057490U JP H0478263 U JPH0478263 U JP H0478263U
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crucible
vapor deposition
vapor
thin film
substrate
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【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例による薄膜形成装
置の概念を示す模式図、第2図は従来の薄膜形成
装置の概念を示す模式図である。 図において、1は真空槽、6は蒸着物質、13
は基板、14は薄膜、21は坩堝、22は胴体部
、24はノズル、25はコーテイング層である。
なお各図中、同一符号は同一または相当部分を示
す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空槽の内部に基板と坩堝を配置し、上記坩堝
    の内部に蒸着物質を装填して上記坩堝の胴体部を
    加熱し、上記蒸着物質の蒸気を上記坩堝から噴出
    させて上記基板の表面に蒸着させ薄膜を形成する
    薄膜形成装置において、上記坩堝を良熱伝導材料
    で構成するとともに、上記坩堝の内面を、蒸着物
    質との反応性の低い材料で被つたことを特徴とす
    る薄膜形成装置。
JP12057490U 1990-11-15 1990-11-15 Pending JPH0478263U (ja)

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JP12057490U JPH0478263U (ja) 1990-11-15 1990-11-15

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JP12057490U Pending JPH0478263U (ja) 1990-11-15 1990-11-15

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016160481A (ja) * 2015-02-28 2016-09-05 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 蒸着セル、薄膜作製装置および薄膜作製方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016160481A (ja) * 2015-02-28 2016-09-05 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 蒸着セル、薄膜作製装置および薄膜作製方法

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