JPH0480029B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0480029B2
JPH0480029B2 JP14109981A JP14109981A JPH0480029B2 JP H0480029 B2 JPH0480029 B2 JP H0480029B2 JP 14109981 A JP14109981 A JP 14109981A JP 14109981 A JP14109981 A JP 14109981A JP H0480029 B2 JPH0480029 B2 JP H0480029B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
group
pyrazine
general formula
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP14109981A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5843961A (ja
Inventor
Masaru Matsumoto
Shunichi Yoshinaga
Kazuaki Isomura
Hiroshi Taniguchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP14109981A priority Critical patent/JPS5843961A/ja
Publication of JPS5843961A publication Critical patent/JPS5843961A/ja
Publication of JPH0480029B2 publication Critical patent/JPH0480029B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なピラジン誘導体及びその製造
法に関するものである。さらに詳しくは、本発明
は、ピラジン環の2位及び5位に互いに異なる置
換基を有する新規なピラジン誘導体及びその製造
法に関するものである。 ピラジン環の2位と5位に同一の置換基を有す
るピラジン誘導体及びその製造法、そしてそのよ
うなピラジン誘導体が液晶としての特性を持つこ
とについてはすでに、H.Schubert,R.Hacker&
K.KindermannによりJ.prakt.Chem.(4)37,12
(1968)に報告されている。しかしながら、ピラ
ジン環の2位と5位に互いに異なる置換基を有す
るピラジン誘導体については未だ報告がなされて
いない。 本発明は、ピラジン環の2位と5位に互いに異
なる置換基を有するピラジン誘導体として、一般
式(): 〔式中、R1は、炭素数3−9の脂肪族アルキル
基、
【式】で表わされる置換シクロヘ キシル基、又は
【式】で表わされる置換 フエニル基(Yは、炭素数1−7の脂肪族アルキ
ルもしくはアルコキシ基、ハロゲン原子又はニト
リル基を表わす)、そしてR2は、炭素数1−11の
脂肪族アルキルもしくはアルコキシ基、ベンゾイ
ルオキシ基、ハロゲン原子、又はニトリル基を表
わす、ただしR1
【式】とは同一では ない〕を提供するものである。 本発明が提供する一般式()を有するピラジ
ン環の2位と5位に互いに異なる置換基を有する
ピラジン誘導体は、ピラジン環の2位と5位に同
一の置換基を有するピラジン誘導体に比べてさら
に優れた液晶特性を示すことから、各種の特性を
示す液晶組成物に配合するための主要成分として
有用性が高い。 一般式()においてR1は、n−プロピル、
n−プロチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n
−ヘプチル、n−オクチル及びn−ノニル、そし
てこれらの各種の異性体のような炭素数3−9の
脂肪族アルキル基;4−メチルシクロヘキシル、
4−エチルシクロヘキシル、4−n−プロピルシ
クロヘキシル、4−n−ブチルシクロヘキシル、
4−(2−メチルブチル)シクロヘキシル、4−
ペンチルシクロヘキシル、4−ヘキシルシクロヘ
キシル、4−ヘプチルシクロヘキシル、4−メト
キシシクロヘキシル、4−エトキシシクロヘキシ
ル、4−n−プロポキシシクロヘキシル、4−ブ
トキシシクロヘキシル及び4−ペンチルオキシシ
クロヘキシルなどの
【式】(Yは、炭 素数1−7の脂肪族アルキルもしくはアルコキシ
基を表わし、シクロヘキシル基の4位にトランス
型で結合しているのが好ましい)で表わされる置
換シクロヘキシル基;又は4−メチルフエニル、
4−エチルフエニル、4−n−プロピルフエニ
ル、4−n−ブチルフエニル、4−(2−メチル
ブチル)フエニル、4−ペンチルフエニル、4−
ヘキシルフエニル、4−ヘプチルフエニル、4−
メトキシフエニル、4−エトキシフエニル、4−
n−プロポキシフエニル、2−メトキシフエニ
ル、2−エトキシフエニル4−フロロフエニル、
4−クロロフエニル、4−ブロモフエニル、4−
ヨードフエニル、及び4−シアニノフエニルなど
【式】(Yは上記と同一の意味を表わ す)で表わされる置換フエニル基を表わす。 R2は、メチル、エチル、n−プロピル、n−
ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプ
チル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル及
びn−ウンデシル、そしてこれらの各種の異性体
のような炭素数1−11の脂肪族アルキル基;メト
キシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキ
シ、n−ペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、
n−ヘプチルオキシ及びn−オクチルオキシ、そ
してこれらの各種の異性体のような炭素数1−11
の脂肪族アルコキシ基;ベンゾイルオキシ基、塩
素、臭素、ヨウ素及びフツ素などのハロゲン原
子;又はニトリル基を表わす。R2はフエニル基
の2位もしくは4位に結合しているのが好まし
い。ただし、R1
【式】とが同一とな る組み合わせは、ピラジン環の2位と5位との置
換基が同一となるため、このような組み合わせの
ピラジン誘導体は本発明には含まれない。 一般式()のピラジン誘導体は、一般式
(): R1−COCH2NH3X () 〔式中、R1は一般式()について記載した意
味と同一の意味を表わし、そしてXは塩素及び臭
素などのハロゲン原子を表わす〕を有するα−ア
ミノケトン誘導体と、一般式(): 〔式中、R2は一般式()について記載した意
味と同一の意味を表わし、またR2はフエニル基
の2位もしくは4位に結合しているのが好まし
い〕を有するアジリン誘導体とを反応させること
により得ることができる。 一般式()のα−アミノケトン誘導体と一般
式()のアジリン誘導体との反応は適当な溶媒
中で実施することが好ましい。適当な溶媒の例と
しては、メタノール、エタノール、n−プロパノ
ール及びイソプロパノールなどの低級脂肪族アル
コール;アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトンなどのケトン;ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン及びジオキサンなどのエ
ーテル;ジメチルスルホキシド;アセトニトリ
ル;酢酸エチルなどを挙げることができる。反応
温度は室温から反応溶媒の還流温度の範囲内で選
ぶことが好ましい。 一般式()のα−アミノケトン誘導体の内、
R1が、脂肪族アルキル基、又は置換フエニル基
である化合物は公知であり、一方R1が、置換シ
クロヘキシル基である化合物は次のような方法で
公知の化合物から製造することができる。 R1COClで表わされる置換シクロヘキシルカル
ボン酸の塩化物とα−イソシアノ酢酸メチルエス
テル(CNCH2COOCH3)とをテトラヒドロフラ
ン溶媒中でターシヤリーブトキシカリウムの存在
下で結合させてオキサゾールを得て、次いで塩化
水素を作用させる方法(次の反応式で表わすこと
ができる)。 〔即ち、R1COCH2NH4Cl〕 上記の反応の具体的な反応操作は、Scho¨ll−
Ropf Schro¨der,Angew.Chem.,int.ed.,10
333(1971)に記載された反応操作に準じて決める
ことができる。 一般式()のアジリン誘導体の一部は公知で
あり、未知のものについてはHortmann,et al.,
J.Org.Chem.,37,322(1972)、及びHassner,et
al.,J.Am.Chem.Soc.,89,2077(1967)に記載
されているアジリン誘導体の製造法に準じて製造
することができる。 一般式()を有する本発明のピラジン誘導体
では、その2位及び5位の置換基の各々を変える
ことにより、様々な融点及び透明点を示す化合物
が得られる、そして液晶状態を示す温度範囲(即
ち、透明点(c.p.)と融点(m.p.)の差)も非常
に広い範囲にある化合物が得られるため液晶性化
合物としての価値は高い。特に一般式()にお
いてR2がニトリル基である場合には、液晶状態
を示す温度範囲が特に拾いため液晶性化合物とし
て好ましい。 一般式()を有する本発明のピラジン誘導体
は、その目的、用途に応じて他の液晶性化合物と
混合して液晶性組成物として使用することが可能
である。 そのような液晶性化合物の例としては、次の化
合物を挙げることができる。 4,4′−ジエトキシアゾベンゼン N−(4′−メトキシペンジリデン)−4−ブチル
アニリン N−(p−エトキシベンジリデン)−p′−シアノ
アニリン p−エトキシ安息香酸−p′−シアノフエニル 4−n−ブチル安息香酸−4′−n−ヘキシルオ
キシフエニルコレステリルノナノエート 4′−n−ヘキシル−4−シアノビフエニル 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
ベンゾニトリル 5−n−ヘキシル−2−(4−ヘキシルオキシ
フエニル)ピリミジン 5−シアノ−2−(4−n−ヘキシルフエニル)
ピリミジン 液晶性組成物の調製は従来利用されている技術
に従つて実施することができる。 次に本発明の実施例を示す。 実施例 1 2−(4−メトキシフエニル)−5−(4−メチ
ルフエニル)ピラジンの製造 4−メチルベンゾイルメチルアミン塩酸塩250
mg(1.43ミリモル)と3−(4−メトキシフエニ
ル)−2H−アジリン(4−メトキシスチレンを原
料として、A.G.Hortmann,et al.,J.Org.
Chem.,37,322(1972)に記載の方法に従つて製
造したもの)183mg(1.24ミリモル)を20mlのエ
タノールに溶解させ、大気開放下、室温で2日間
撹拌した。次いでカ性ソーダ水溶液(NaOH 4
g/水100ml)3mlを加え、減圧下に溶媒を留去
し、得られた濃縮液に水を加えた後、反応生成物
をベンゼンで抽出した。ベンゼン抽出液を水及び
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。乾燥したベンゼン抽出液を減圧下
に濃縮した後、析出物を別して36mgの結晶を得
た。液を、シリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(展開液:n−ヘキサン/エチルエーテル)に
よる分離操作にかけ、さらに27mgの結晶を得た。
収量(合計)63mg。 得られた結晶性生成物をn−ヘキサンを用いて
再結晶したところ融点175℃、透明点248℃を示す
結晶が得られた。 元素分析値(%、C18H16N2O) 実測値:C、78.52;H、5.96;N、10.02 計算値:C、78.24;H、5.84;N、10.14 この再結晶物についてNMRスペクイトル及び
IRスペクトルを測定したところ、NMRスペクト
ル(CDCl3)において8.9ppmにピラジン類の特
徴的なスペクトルが観察され、またIRスペクト
ル(KBr)では同じくピラジン類の特徴的なス
ペクトルが1600〜1630cm-1及び1470〜1480cm-1
観察された。従つて、上記の反応によるピラジン
環の生成が確認された。またNMRスペクトル
(CDCl3、ppm)の置換基シグナル〔8.91(s、
2H)、7.96(d、2H)、7.86(d、2H)、7.25(d、
2H)、6.96(d、2H)、3.81(s、3H)、2.40(s、
3H)〕から、ピラジン環の2位と5位に互いに異
なる置換基が結合していることが確認された。従
つて、用いた各原料化合物の構造及びNMR、IR
スペクトルに基き、標記の化合物の生成が確認さ
れた。 実施例 2 2−(4−メトキシフエニル)−5−(4−n−
プロピルフエニル)ピラジンの製造 4−n−プロピルベンゾイルメチルアミン塩酸
塩244mg(1.42ミリモル)と3−(4−メトキシフ
エニル)−2H−アジリン189mg(1.28ミリモル)
を10mlのエタノールに溶解させ、3時間加熱還流
させた後、大気開放下、室温で一夜撹拌した。次
いでピリジン0.1mlを加え、30分間加熱撹拌した
後、減圧下に溶媒を留去し、残査に水を加えた
後、反応生成物をベンゼンで抽出した。ベンゼン
抽出液を水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥したベンゼン
抽出液を減圧下に濃縮した後、この濃縮液をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー(展開液:n−
ヘキサン/エチルエーテル)による分離操作にか
け、87mgの結晶を得た。 得られた結晶性生成物をn−ヘキサンを用いて
再結晶したところ融点138℃、透明点230℃を示す
結晶が得られた。 元素分析値(%、C20H20N2O) 実測値:C、78.76;H、6,70;N、9.30 計算値:C、78.92;H、6.59;N、9.20 この再結晶物のNMRスペクトル及びIRスペク
トルは実施例1で得られた再結晶物と類似のパタ
ーンを示し、標記の化合物の生成が確認された。 実施例 3 2−(4−メトキシフエニル)−5−(4−n−
ペンチルフエニル)ピラジンの製造 4−n−ペンチルベンゾイルメチルアミン塩酸
塩と3−(4−メトキシフエニル)−2H−アジリ
ンを用いて実施例2と同様にして標記の化合物を
得た。融点143℃、透明点209℃。 元素分析値(%、C22H24N2O) 実測値:C、79.30;H、7.46;N、8.43 計算値:C、79.48;H、7.28;N、8.23 実施例 4 2−(4−メトキシフエニル)−5−(5−n−
ノニルフエニル)ピラジンの製造 4−n−ノニルベンゾイルメチルアミン塩酸塩
と3−(4−メトキシフエニル)−2H−アジリン
を用いて実施例2と同様にして標記の化合物を得
た。融点136℃、透明点212℃。 元素分析値(%、C26H32N2O) 実測値:C、80.52;H、8.36;N、7.11 計算値:C、80.37;H、8.30;N、7.21 実施例 5 2−(4−メトキシフエニル)−5−(4−シア
ノフエニル)ピラジンの製造 4−シアノベンゾイルメチルアミン塩酸塩と3
−(4−メトキシフエニル)−2H−アジリンを用
いて実施例2と同様にして標記の化合物を得た。
融点184℃、透明点321℃。 元素分析値(%、C18H13N3O) 実測値:C、75.30;H、4.60;N、14.52 計算値:C、75.25;H、4.56;N、14,63 実施例 6 2−(トランス−4−n−プロピルシクロヘキ
シル)−5−(4−シアノフエニル)ピラジンの
製造 (1) 5−トランス−4−n−プロピルシクロヘキ
シルオキサゾール−4−カルボン酸メチルエス
テルの製造 90%t−ブトキシカリウム12.5g(0.1モル)
を乾燥テトラヒドロフラン100mlに加え、これ
を−5〜−10℃に冷却しながら撹拌下に、α−
イソシアノ酢酸メチルエステル10.0g(0.1モ
ル)を乾燥テトラヒドロフラン70mlに溶解した
溶液を1時間で滴下した。この混合物に、トラ
ンス−4−n−プロピルシクロヘキサンカルボ
ン酸クロリド9.5g(0.05モル)を乾燥テトラ
ヒドロフラン50mlに溶解した溶液を、5−10℃
で30分間かけて滴下した。滴下終了後、混合物
を約10℃で30分間撹拌した後、減圧下で溶媒を
留去し、残査に希酢酸(酢酸3.1g/水70ml)
を加えた後、エーテルで抽出した。抽出液を水
洗した後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、
減圧下に溶媒を留去した。得られた残査を減圧
蒸留して130〜133℃/0.35mmHgの留分として
粗製物10.5gを得た。 この粗製物10.5gをn−ヘキサン30mlを用い
て再結晶して精製5−(トランス−4−n−プ
ロピルシクロヘキシル)オキサゾール−4−カ
ルボン酸メチルエステル8.90gを得た。 融点:91℃ 元素分析値(%、C14H21NO3) 実測値;C、67.07;H、8、38;N、5.55 計算値;C、66.91;H、8.42;N、5.57 IRスペクトル(KBr、cm-1):3120、2950、
2850、1720、1600、1520、1200 (2) トランス−4−n−プロピルシクロシルカル
ボニルメチルアミン塩酸塩の製造 5−(トランス−4−n−プロピルシクロヘ
キシル)オキサゾール−4−カルボン酸メチル
エステル8.70g(0.035モル)と6N塩酸120mlと
を混合し、撹拌下に5時間、加熱還流させた。
この混合物を室温に冷却した後、減圧下に溶媒
を留去し、残査に酢酸エチル30mlを加えて過
し、得られた固形物を酢酸エチル/メタノール
(1:1)の混合用媒を用いて再結晶してトラ
ンス−4−n−プロピルシクロヘキシルカルボ
ニルメチルアミン塩酸塩を得た。収量6.38g。 融点:183〜186℃(分解) 元素分析値(%、C11H22NOCl) 実測値:C、60.16;H、9.89;N、6.31 ;Cl、5.89 計算値:C、60.12;H、10.09;N、6.37 ;Cl、5.89 IRスペクトル(KBr、cm-1):3100〜3000(b)、
1710、1460、1140、950 (3) 2−(トランス−4−n−プロピルシクロヘ
キシル)−5−(4−シアノフエニル)ピラジン
の製造 トランス−4−n−プロピルシクロヘキシル
カルボニルメチルアミン塩酸塩0.835g(3.80
ミリモル)、3−(4−シアノフエニル)−2H−
アジリン(4−シアノスチレンを原料として
A.G、Hortmann、et al.、J.Org.Chem.、37
322(1972)に記載の方法に準じて製造したも
の)0.494g(3.45ミリモル)、及びエタノール
40mlの混合物を撹拌下に3時間化熱還流させ
た。冷却後、この混合物を大気開放下に室温で
10時間撹拌を行なつた。得られた溶液にピリジ
ン0.3mlを加えて、30分間加熱還流させた後、
減圧下に溶媒を留去し、残査に水50mlを加え、
次いでベンゼン100mlで抽出した。抽出液を水
及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥させた。乾燥した抽出液を減圧下に
置き溶媒を留去して、残査1.05gを得た。次い
でこの残査をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(展開液:n−ヘキサン/エチルエーテ
ル)による分離操作にかけ、0.14gの白色結晶
を得た。 得られた結晶性生成物をn−ヘキサンを用い
て再結晶したところ融点113℃、透明点225℃を
示す結晶が得られた。 元素分析値(%、C20H23N3) 実測値:C、79.05;H、7.39;N、13.55 計算値:C、78.65;H、7.59;N、13.76 IRスペクトル(KBr、cm-1):2920、2840、
2220、1610、1480、840 NMRスペクトル(CDCl3、ppm):8.95(s、
1H)、8.55(s、1H)、8.136(d、2H)、7.80
(d、2H)、2.75(m、1H)、0.90(t、3H) 以上の分析結果より標記の化合物の生成が確認
された。 実施例 7 2−(トランス−4−n−プロピルシクロヘキ
シル)−5−(4−メトキシフエニル)ピラジン
の製造 トランス−4−n−プロピルシクロヘキシルカ
ルボニルメチルアミン塩酸塩(実施例6の第(2)項
の方法に従つて製造したもの)1.56g(7.1ミリ
モル)、3−(4−メトキシフエニル)−2H−アジ
リン0.94g(6.4ミリモル)、及びエタノール50ml
の混合物を撹拌下に3.8時間加熱還流させた。冷
却後、この混合物を大気開放下に室温で3昼夜撹
拌を続けた。得られた溶液にピリジン1mlを加え
て、30分間加熱還流させた後、減圧下に溶媒を留
去し、残査に水300mlを加え、次いでベンゼン300
mlで抽出した。抽出液を水及び飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾燥
した抽出液を減圧下に置き溶媒を留去して、残査
1.77gを得た。次いでこの残査をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー(展開液:n−ヘキサン/
エチルエーテル)による分離操作にかけ、0.68g
の結晶を得た。 得られた結晶をガスクロマトグラフイー(担
体:アビエゾングリース、加熱温度:250℃)、で
精製し次いでn−ヘキサンを用いて再結晶したも
のの融点は48.0〜48.5℃であつた。 元素分析値(%、C20H20N2O) 実測値:C、77.01;H、8.52;N、9.50 計算値:C、77.36;H、8.46;N、9.03 IRスペクトル(KBr、cm-1):3030、2920、
2850、1600、1485、1250、830 NMRスペクトル(CDCl3、ppm):8.75(s、
1H)、8.31(s、1H)、8.01(d、2H)、7.02(d、
2H)、3.88(s、3H)、2.74(m、1H)、0.92(t、
3H) 以上の分析結果より標記の化合物の生成が確認
された。 実施例 8 2−(トランス−4−n−プロピルシクロヘキ
シル)−5−(4−プロモフエニル)ピラジンの
製造 トランス−4−n−プロピルシクロヘキシルカ
ルボニルメチルアミン塩酸塩0.01g(4.6ミリモ
ル)、3−(4−ブロモフエニル)−2H−アジリン
(4−ブロモスチレンを原料としてA.G.
Hortmann、et al.、J.Org.Chem.、37、322
(1972)に記載の方法に従つて製造したもの)
0.86g(4.4ミリモル)およびエタノール20mlの
混合物を撹拌下に3時間加熱還流させた。冷却
後、この混合物を大気開放下に室温で39時間撹拌
した。得られた溶液にカ性ソーダ水溶液
(NaOH 4g/水100ml)7mlを加え、減圧下に
溶媒を留去し、濃縮液に水を加えた後、反応生成
物をベンゼンで抽出した。ベンゼン抽出液を水で
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾
燥したベンゼン抽出液を減圧下に濃縮乾固して、
残査1.7gを得た。 次いでこの残査をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー(展開液:n−ヘキサン/ベンゼン)に
よる分離操作にかけ、0.31gの白色結晶を得た。 得られた結晶性生成物を、アセトン次いでn−
ヘキサンを用いて再結晶したところ融点94.5℃、
透明点160℃を示す結晶が得られた。 元素分析値(%、C19H23N6Br) 実測値:C、63.61;H、6.52;N、7.50 計算値:C、63.51;H、6.45;N、7.80 IRスペクトル(KBr、cm-1):2925、2850、
1590、1475、830 NMRスペクトル(CDCl3、ppm):8.88(s、
1H)、8.50(s、1H)、7.85(d、2H)、7.62(d、
2H)、2.75(m、1H)、0.91(t、3H) 実施例 9 2−n−ペンチル−5−(4−シアノフエニル)
ピラジンの製造 n−ヘキサノイルメチルアミン塩酸塩は、
Suzuki,et al.,J.Org.Chem.,38,3571(1973)
に記載されているα−アミノケトン塩酸塩の製造
法に準じて次のようにして製造した。 (1) 5−n−ペンチルオキサゾール−4−カルボ
ン酸メチルエステルの製造 α−イソシアノ酢酸メチルエステル6.0g
(0.06モル)と1、8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕
−7−ウンデセン9.1g(0.06モル)を乾燥テ
トラヒドロフラン80mlに溶解し、この溶液を5
〜10℃に冷却しながら、撹拌下に無水ヘキサン
酸12.9g(0.06モル)を乾燥テトラヒドロフラ
ン20mlに溶解した溶液を30分で滴下した。滴下
終了後室温で10時間撹拌した後、減圧下で溶媒
を留去し、残査に酢酸エチル100mlを加えて溶
解し水洗した後、無水硫酸マグネシウムにより
乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。得られた残
査を減圧蒸留して、90〜100℃/1mmHgの留
分として5−n−ペンチルオキサゾール−4−
カルボン酸メチルエステル8.2gを得た。 IRスペクトル(液膜法、cm-1):3130、2950、
2860、1720、1610、1520、1200 (2) n−ヘキサノイルメチルアミン塩酸塩の製造 5−n−ペンチルオキサゾール−4−カルボ
ン酸メチルエステル6.70g(0.033モル)と6N
塩酸100mlとを混合し、撹拌下に5時間、加熱
還流させた。この混合物を室温に冷却した後、
ベンゼンで洗い、さらに活性炭処理した後、減
圧下に溶媒を留去し、残査に酢酸エチル20mlを
加えて過し、得られた固形物を酢酸エチル/
メタノール(6:1)の混合溶媒を用いて再結
晶してn−ヘキサノイルメチルアミン塩酸塩を
得た。収量3.54g。 融点:160〜162℃(分解) 元素分析値(%、C7H16NOCl) 実測値:C、50.83;H、9.40;N、8.55 ;Cl、21.87 計算値:C、50.75;H、9.74;N、8.46 ;Cl、21.40 IRスペクトル(KBr、cm-1):3100〜3000(b)、
1720、1470 (3) 2−n−ペンチル−5−(4−シアノフエニ
ル)ピラジンの製造 n−ヘキサノイルメチルアミン塩酸塩1.26g
(7.61ミリモル)、3−(4−シアノフエニル)−
2H−アジリン1.00g(7.00ミリモル)及びエタ
ノール60mlの混合物を撹拌下に3時間加熱還流
させた。冷却後、この混合物を大気開放下に室
温で16時間撹拌を行なつた。得られた混合物に
ピリジン1mlを加えて30分間加熱還流させた
後、減圧下に溶媒を留去し、残査に水50mlを加
え、次いでベンゼン100mlで抽出した。抽出液
を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させた。乾燥した抽出液を減圧
下に溶媒を留去して、残査1.80gを得た。次い
でこの残差をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(展開液:n−ヘキサン/エチルエーテ
ル)による分離操作にかけ、0.20gの白色結晶
を得た。 得られた結晶性生成物をn−ヘキサンを用い
て再結晶したところ融点89℃を示す結晶が得ら
れた。 元素分析値(%、C16H17N3) 実測値:C、76.52;H、6.92;N、17.26 計算値:C、76.46;H、6.82;N、16.72 IRスペクトル(KBr、cm-1):2950、2850、
2220、1600、1480、840 NMRスペクトル(CDCl3、ppm):8.95(s、
1H)、8.55(s、1H)、8.13(d、2H)、7.80
(d、2H)、2.88(t、2H)、1.80(m、2H)、
1.39(m、4H)、0.93(t、3H) 以上の分析結果より標記の化合物の生成が確認
された。 実施例 10 2−n−ヘキシル−5−(4−シアノフエニル)
ピラジンの製造 実施例9の(1)及び(2)項に記載した方法に準じた
方法でn−ヘプタノイルメチルアミン塩酸塩を製
造し、このn−ヘプタノイルメチルアミン塩酸塩
と3−(4−シアノフエニル)−2H−アジリンと
を用いて実施例9の(3)項に記載した方法に従つて
反応及び処理を行なつた。 融点:71.5−72℃、透明点:58℃。 元素分析値(%、C17H19N3) 実測値:C、77.01;H、7.24;N、15.60 計算値:C、76.95;H、7.22;N、15.83

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 [式中R1は、炭素数3−9の脂肪族アルキル基、
    【式】で表わされる置換シクロヘキシ ル基、又は【式】で表わされる置換フエ ニル基(Yは、炭素数1−7の脂肪族アルキルも
    しくはアルコキシ基、ハロゲン原子又はニトリル
    基を表わす)、そしてR2は、炭素数1−11の脂肪
    族アルキルもしくはアルコキシ基、ベンゾイルオ
    キシ基、ハロゲン原子、又はニトリル基を表わ
    す;ただしR1と【式】とは同一ではな い〕を有するピラジン誘導体。 2 一般式 R1−COCH2NH3X 〔式中、R1は、炭素数3−9の脂肪族アルキル
    基、【式】で表わされる置換シクロヘ キシル基、又は【式】で表わされる置換 フエニル基(Yは、炭素数1−7の脂肪族アルキ
    ルもしくはアルコキシ基、ハロゲン原子又はニト
    リル基を表わす)を表わし、そしてXはハロゲン
    原子を表わす〕を有するα−アミノケトン誘導体
    と、一般式 〔式中、R2は、炭素数1−11の脂肪族アルキル
    もしくはアルコキシ基、ベンゾイルオキシ基、ハ
    ロゲン原子、又はニトリル基を表わす、ただし
    R1と【式】とは同一ではない〕 を有するアジリン誘導体とを反応させることを特
    徴とする一般式 〔式中、R1とR2は上記と同一の意味を表わす〕
    を有するピラジン誘導体の製造法。
JP14109981A 1981-09-09 1981-09-09 新規なピラジン誘導体及びその製造法 Granted JPS5843961A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14109981A JPS5843961A (ja) 1981-09-09 1981-09-09 新規なピラジン誘導体及びその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14109981A JPS5843961A (ja) 1981-09-09 1981-09-09 新規なピラジン誘導体及びその製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5843961A JPS5843961A (ja) 1983-03-14
JPH0480029B2 true JPH0480029B2 (ja) 1992-12-17

Family

ID=15284161

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14109981A Granted JPS5843961A (ja) 1981-09-09 1981-09-09 新規なピラジン誘導体及びその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5843961A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6092276A (ja) * 1983-10-27 1985-05-23 Chisso Corp ピラジン誘導体
JPS61129171A (ja) * 1984-11-28 1986-06-17 Ube Ind Ltd ピラジン誘導体の製造法
JPH0665668B2 (ja) * 1985-05-10 1994-08-24 サントリー株式会社 フエニルピラジン誘導体および抗血栓剤

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5843961A (ja) 1983-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05255257A (ja) 5−(置換メチル)−2,3−ピリジンジカルボン酸の製造に有用な5,6−ジ置換−3−ピリジルメチルアンモニウムハライド化合物
DE3145727A1 (de) Zwischenprodukte, verfahren zu deren herstellung und verfahren zur herstellung von cephalosporinen
JP6174161B2 (ja) 2−アミノニコチン酸ベンジルエステル誘導体の製造方法
JPH0480029B2 (ja)
JPH01156965A (ja) チオヒダントイン化合物
CN101808971A (zh) 邻位被碘取代的苯酚衍生物的生产方法
KR950005771B1 (ko) 에탄유도체의 제조방법
JPS6025428B2 (ja) 4‐(ヒドロキシメチル)イミダゾール化合物の製法
EP0343487A1 (de) Alpha-Fluorcarbonsäurecyclohexylester
DE2811001A1 (de) Optisch aktive pyrimidinverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und fluessigkristalline gemische enthaltend diese verbindungen
JP4434747B2 (ja) 1,2,3−トリアゾール化合物の製造法
JP3420321B2 (ja) 2,4,5−トリハロゲノ−3−メチル安息香酸の製造方法
CN113677662B (zh) 特定的脱氢方法(i)
JP2632694B2 (ja) 2,5−ジ置換ピラジン誘導体及び該化合物を含有する液晶組成物
JP2937387B2 (ja) 5―置換2―アミノ―3―シアノピラジン類の製法
JPS5916878A (ja) 2,4−ジヒドロキシ−3−アセチルキノリン類の製造方法
JPH0348909B2 (ja)
JP2885537B2 (ja) トラン誘導体の製造法
JP4321908B2 (ja) フルオロビシクロヘキシルベンゼン誘導体
JP4392579B2 (ja) ベンゾニトリル誘導体の製造方法
JP3132025B2 (ja) (−)−ゴニオミチンの製造方法
JPH0588692B2 (ja)
JP4296766B2 (ja) 3−置換アントラニル誘導体の製法
JPH0435455B2 (ja)
JPS6110569A (ja) 2−(2−アミノチアゾ−ル)−酢酸誘導体の製造法