JPH0480733B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0480733B2
JPH0480733B2 JP28734285A JP28734285A JPH0480733B2 JP H0480733 B2 JPH0480733 B2 JP H0480733B2 JP 28734285 A JP28734285 A JP 28734285A JP 28734285 A JP28734285 A JP 28734285A JP H0480733 B2 JPH0480733 B2 JP H0480733B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching chamber
valve
lid
vacuum
etching
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP28734285A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62144742A (ja
Inventor
Yoshikazu Maegaki
Osamu Watanabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Engineering Works Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Engineering Works Co Ltd filed Critical Shibaura Engineering Works Co Ltd
Priority to JP28734285A priority Critical patent/JPS62144742A/ja
Publication of JPS62144742A publication Critical patent/JPS62144742A/ja
Publication of JPH0480733B2 publication Critical patent/JPH0480733B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/006Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は真空処理装置に係り、特に真空チヤン
バ内に残留する有毒ガスの外部への放出を防ぐよ
うにした真空処理装置に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
第2図は真空処理装置として従来のプラズマエ
ツチング装置を示したもので、エツチングチヤン
バ1には、反応ガスおよびマイクロ波を導入して
プラズマを発生させる放電装置2が接続されると
ともに、本装置においては、真空排気系統として
メカニカルブースタポンプ3およびロータリポン
プ4が途中主バルブ5を介して接続されている。
上記装置においては、エツチングチヤンバ1の
内部に被処理物6を配置し、主バルブ5を開いて
各ポンプ3,4によりエツチングチヤンバ1内を
真空排気する。そして、放電装置2により発生す
る放電プラズマをエツチングチヤンバ1内に送
り、被処理物6のエツチングを行なうものであ
る。
上記のようにエツチングを行なつた後、作業者
がエツチングチヤンバ1内の被処理物6を交換し
たり、エツチングチヤンバ1内部の清掃を行なう
等エツチングチヤンバ1の蓋を開く際に、エツチ
ングチヤンバ1の内壁に付着した有毒ガスが外部
に放出されるおそれがある。この有毒ガスが外部
に広がらないようにするため、従来から種々の手
段が用いられている。
これには、第3図に示すようにエツチングチヤ
ンバ1の周囲をケース7により覆うようにする手
段や、第4図に示すようにエツチング装置8自体
をクリーンベンチ9の中に設置する手段や、第5
図に示すようにエツチングチヤンバ1の蓋10近
傍に排気ダクト11を配置する手段等がある。
しかし、上記いずれの手段でも、ケース7やク
リーンベンチ9等の大がかりな装置が必要であ
り、その設置スペースが多く必要となつてしま
う。
また、上記手段では、有毒ガスがあまり広範囲
に広がらないようにするだけで完全に有毒ガスを
除去することができないので、作業者に悪影響を
及ぼしたり、クリーンルームを汚染してしまうと
いう問題があつた。
〔発明の目的〕
本発明は上記した点に鑑みてなされたもので、
エツチングチヤンバの内壁に付着した有毒ガスを
確実に除去することのできる真空処理装置を提供
することを目的とするものである。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するため本発明に係る真空処理
装置は、真空チヤンバに主バルブを介して真空排
気系統を接続してなる真空処理装置において、上
記真空チヤンバと主バルブとの間に常時減圧状態
に保持された排気系統を途中ドラフトバルブを介
して接続して構成され、エツチングチヤンバの蓋
を開く時にドラフトバルブを開くようになされて
いる。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を第1図を参照して説明
し、第2図乃至第5図と同一部分には同一符号を
付してその説明を省略する。
本実施例においては、エツチングチヤンバ1と
主バルブ5との間には、排気ダクト等常に減圧状
態に保持されている排気系統12が途中ドラフト
バルブ13を介して接続されている。このドラフ
トバルフ13は、例えば、マイコン等の制御装置
により開閉制御され、この開閉のタイミングはエ
ツチングチヤンバ1の蓋の開閉と同時に行なうよ
うになされる。すなわち、エツチングチヤンバ1
の蓋が閉じている時には、ドラフトバルブ13は
閉じられ、エツチングチヤンバ1の蓋が開くと同
時にドラフトバルブ13を開くように制御され
る。また、このエツチングチヤンバ1の蓋の開閉
を検知するには、エツチングチヤンバ1の内部に
大気圧検出器を設け、エツチングチヤンバ1内が
大気圧になつたことにより上記蓋が開いたことを
検知するようにしてもよいし、タイマにより一定
の処理時間が経過した時にドラフトバルブ13を
開くようにしてもよい。
したがつて本実施例においては、エツチングチ
ヤンバ1の蓋を開いた時に、ドラフトバルブ13
が開くことにより、排気系統12への空気の流れ
が生じ、エツチングチヤンバ1の内壁に付着して
いた有毒ガスは、外部に放出されることなく排気
系統12へ排気される。その結果、作業者に悪影
響を与えることがなく、クリーンルームを汚染す
ることを防止することができ、ケースやクリーン
ベンチ等も不要となる。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明に係る真空処理装置
は、エツチングチヤンバと主バルブ5との間にド
ラフトバルブを介して排気系統を接続して構成さ
れ、エツチングチヤンバの蓋を開く時に上記ドラ
フトバルブを開くようにしたので、エツチングチ
ヤンバ内の有毒ガスを外部へ放出させることなく
確実に排気することができる。その結果、作業者
に悪影響を与えることがなく、クリーンルームを
汚染することもなく、さらに、スペース効率も高
まる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す系統図、第2
図は従来のプラズマエツチング装置を示す系統
図、第3図、第4図および第5図はそれぞれ従来
の有毒ガスへの対策手段を示す説明図である。 1…エツチングチヤンバ、2…放電装置、3,
4…ポンプ、5…主バルブ、6…被処理物、12
…排気系統、13…ドラフトバルブ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 被処理物を収容する真空チヤンバに主バルブ
    を介して真空排気系統を接続してなる真空処理装
    置において、上記真空チヤンバと主バルブとの間
    に常時減圧状態に保持された排気系統を途中ドラ
    フトバルブを介して接続したことを特徴とする真
    空処理装置。
JP28734285A 1985-12-20 1985-12-20 真空処理装置 Granted JPS62144742A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28734285A JPS62144742A (ja) 1985-12-20 1985-12-20 真空処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28734285A JPS62144742A (ja) 1985-12-20 1985-12-20 真空処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62144742A JPS62144742A (ja) 1987-06-27
JPH0480733B2 true JPH0480733B2 (ja) 1992-12-21

Family

ID=17716129

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JP28734285A Granted JPS62144742A (ja) 1985-12-20 1985-12-20 真空処理装置

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04313038A (ja) * 1991-04-08 1992-11-05 Mitsubishi Electric Corp ガス漏れ量検出装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62144742A (ja) 1987-06-27

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