JPH0487581U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例の構成を示す図、第２
図は従来装置（インテグレーシヨン・ミラー・タ
イプ）を示す図、第３図は従来装置（ビームオツ
シレータ・タイプ）を示す図、第４図は第３図の
従来装置を用いてビーム強度分布の整形を行つた
ときに、整形ビームの両端に強度の強い部分が残
つてしまうことを示す図、第５図は第３図の従来
装置を用いた場合、強度分布不均一によりレーザ
加工に不具合が超る例を焼入れの場合につき示し
た図である。 １……回転光学系、２……ビームダンパー、３
……レーザビーム、４……反射鏡Ａ、５……反射
鏡Ｂ、６……冷却水、７……ビームダンパー支持
柱、８……冷却水通路、９……光学系移動方向、
１０……レーザ光の照射される軌跡、１１……イ
ンテグレーシヨンミラー、１２……反射鏡（オシ
レートミラー）、１３……レーザビーム強度分布
、１４……表面溶融部、１５……焼入れ部。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 リング板状のビームダンパーとレーザビームを
   加工物表面に照射する回転光学系を具備し、 前記ビーム・ダンパーは、レーザビーム幅に合
   致する開口部を備えるとともに内部に冷却水通路
   を備え、加工物表面に沿つて所定の速度で走行し
   、 前記光学系は、前記ビームダンパーの上に配置
   され、 前記ビームダンパーの中心軸まわりに回転する
   とともに、 前記ビームダンパーの開口部を通して加工物表
   面を照射することを特徴とする、レーザビーム加
   工装置。