JPH0487634U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0487634U JPH0487634U JP13020790U JP13020790U JPH0487634U JP H0487634 U JPH0487634 U JP H0487634U JP 13020790 U JP13020790 U JP 13020790U JP 13020790 U JP13020790 U JP 13020790U JP H0487634 U JPH0487634 U JP H0487634U
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- JP
- Japan
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- semiconductor manufacturing
- exhaust
- semiconductor
- exhaust port
- outside
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- Pending
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
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- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
Description
第１図はこの考案の半導体製造装置の一実施例
である炉体とクリーンルームと排気口の関係を示
す断面図、第２図は従来半導体製造装置の炉体と
クリーンルームと排気口の関係を示す断面図であ
る。 １……クリーンルーム、２……炉体、３……プ
ロセスチユーブ、４……スカンベンジヤー、５…
…排気口。なお、図中、同一符号は同一、または
相当部分を示す。
である炉体とクリーンルームと排気口の関係を示
す断面図、第２図は従来半導体製造装置の炉体と
クリーンルームと排気口の関係を示す断面図であ
る。 １……クリーンルーム、２……炉体、３……プ
ロセスチユーブ、４……スカンベンジヤー、５…
…排気口。なお、図中、同一符号は同一、または
相当部分を示す。
Claims (1)
- 半導体製造工程に際し、外周囲に加熱手段を設
けた熱酸化拡散炉内で、半導体基板を半導体用材
料ガスにより熱酸化、拡散させる半導体製造装置
において、熱により温められた半導体用材料ガス
や炉内で生成した熱粒子が、プロセスチユーブの
入口から外に出てクリーンルーム内まで熱によつ
て飛散しないように、排出専用の排気口の位置を
調節できるようにし、排気口から排気させるよう
にしたことを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13020790U JPH0487634U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13020790U JPH0487634U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0487634U true JPH0487634U (ja) | 1992-07-30 |
Family
ID=31877567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13020790U Pending JPH0487634U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0487634U (ja) |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP13020790U patent/JPH0487634U/ja active Pending