JPH05107730A - マスク材料 - Google Patents
マスク材料Info
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- JPH05107730A JPH05107730A JP3297932A JP29793291A JPH05107730A JP H05107730 A JPH05107730 A JP H05107730A JP 3297932 A JP3297932 A JP 3297932A JP 29793291 A JP29793291 A JP 29793291A JP H05107730 A JPH05107730 A JP H05107730A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は、短時間で、ミスも少なく、人手
もあまりかからずに作成でき、さらに、万一の訂正に対
しても迅速に対応できるマスク材料を提供する。 【構成】 マスク材料は、透明支持体１上に、少なくと
も剥離層２を設けてなる受容シート３の剥離層側に、遮
光性着色層４を溶融型熱転写方式により形成している。
もあまりかからずに作成でき、さらに、万一の訂正に対
しても迅速に対応できるマスク材料を提供する。 【構成】 マスク材料は、透明支持体１上に、少なくと
も剥離層２を設けてなる受容シート３の剥離層側に、遮
光性着色層４を溶融型熱転写方式により形成している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、感光材料に対して感
光作用を有する光線を遮光し得るマスク材料に関し、例
えば、印刷写真製版の遮光性マスク材料として利用され
る。
光作用を有する光線を遮光し得るマスク材料に関し、例
えば、印刷写真製版の遮光性マスク材料として利用され
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より用いられている遮光性マスク材
料としては、例えば特公昭５８−４６０１１号公報や特
公昭６２−２８４６４号公報等に記載されたものがあ
る。すなわち、遮光性マスク材料は、印刷写真製版工程
において、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の透
明フィルム支持体上に、遮光性の塗膜層を形成した遮光
性マスクフィルムである。この遮光性マスクフィルムの
塗膜層を、自動作図機やカッター等によって所定のマス
クパターンにカットし、この後、遮光を必要としない不
要部分を手で剥し取って、印刷写真製版用遮光マスクを
作成している。
料としては、例えば特公昭５８−４６０１１号公報や特
公昭６２−２８４６４号公報等に記載されたものがあ
る。すなわち、遮光性マスク材料は、印刷写真製版工程
において、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の透
明フィルム支持体上に、遮光性の塗膜層を形成した遮光
性マスクフィルムである。この遮光性マスクフィルムの
塗膜層を、自動作図機やカッター等によって所定のマス
クパターンにカットし、この後、遮光を必要としない不
要部分を手で剥し取って、印刷写真製版用遮光マスクを
作成している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た遮光性マスクフィルムを用いて印刷写真製版用遮光マ
スクを作成する方法では、塗膜形成した遮光性塗膜層を
所定のマスクパターンにカットした後、不要部分の遮光
性塗膜層をカッターの刃先などを利用して支持体から浮
かせ、塗膜層を剥離するため、遮光性塗膜層自体にある
程度の腰と強度を必要とし、そのため塗膜層の膜厚が、
２０μｍ以上と厚くなってしまい、カット部での焼きボ
ケが生じやすいといった欠点があった。
た遮光性マスクフィルムを用いて印刷写真製版用遮光マ
スクを作成する方法では、塗膜形成した遮光性塗膜層を
所定のマスクパターンにカットした後、不要部分の遮光
性塗膜層をカッターの刃先などを利用して支持体から浮
かせ、塗膜層を剥離するため、遮光性塗膜層自体にある
程度の腰と強度を必要とし、そのため塗膜層の膜厚が、
２０μｍ以上と厚くなってしまい、カット部での焼きボ
ケが生じやすいといった欠点があった。
【０００４】また、塗膜が厚く、剥離性も有しているた
め、不要部分を剥離する際に必要な部分もひっかけて剥
離されやすいといった欠点があった。
め、不要部分を剥離する際に必要な部分もひっかけて剥
離されやすいといった欠点があった。
【０００５】さらに、塗膜形成した遮光性塗膜層の不要
部分を剥離する作業は、そのほとんどを手作業に頼って
いるのが現状である。このため、剥離ミスが起きたり、
剥離に時間がかかるという欠点があった。さらに、剥離
した皮膜が遮光性マスクフィルムに再付着したり、指先
や他のフィルムなどに付着しやすいという欠点があっ
た。また、昨今の人手不足が深刻化している状況にあっ
て、そのほとんどを手作業に頼る剥離作業は、とりわけ
重要な問題となっている。
部分を剥離する作業は、そのほとんどを手作業に頼って
いるのが現状である。このため、剥離ミスが起きたり、
剥離に時間がかかるという欠点があった。さらに、剥離
した皮膜が遮光性マスクフィルムに再付着したり、指先
や他のフィルムなどに付着しやすいという欠点があっ
た。また、昨今の人手不足が深刻化している状況にあっ
て、そのほとんどを手作業に頼る剥離作業は、とりわけ
重要な問題となっている。
【０００６】このため、前記のような問題を解決する目
的で、熱転写遮光性材料を用いたマスク作成の方法が、
特開平３−１２１４５４号公報や特開平３−１２１４５
５号公報等に開示されている。しかしながら、これら公
報に記載されている方法では、いったん作成されたマス
クに間違いや訂正が生じた場合に、転写された遮光性着
色層のみを剥離することができないため、改めてマスク
を作成し直すか、遮光性着色層をカッター等で削り取る
か、あるいは支持体ごと切り取るかしなくてはならな
い。
的で、熱転写遮光性材料を用いたマスク作成の方法が、
特開平３−１２１４５４号公報や特開平３−１２１４５
５号公報等に開示されている。しかしながら、これら公
報に記載されている方法では、いったん作成されたマス
クに間違いや訂正が生じた場合に、転写された遮光性着
色層のみを剥離することができないため、改めてマスク
を作成し直すか、遮光性着色層をカッター等で削り取る
か、あるいは支持体ごと切り取るかしなくてはならな
い。
【０００７】改めてマスクを作成し直す場合には、材料
コストやマスク作成時間が余計にかかることになる。ま
た、遮光性着色層をカッター等で削り取ると、訂正部の
支持体に傷がつき、印刷製版工程のマスクとしては使用
に耐えないものになってしまう。訂正部を支持体ごと切
り取ると、訂正した部分に焼きボケが生じたり、露光し
た画像に「貼り込み跡」といわれる白抜け部が生じてし
まうという不都合がある。
コストやマスク作成時間が余計にかかることになる。ま
た、遮光性着色層をカッター等で削り取ると、訂正部の
支持体に傷がつき、印刷製版工程のマスクとしては使用
に耐えないものになってしまう。訂正部を支持体ごと切
り取ると、訂正した部分に焼きボケが生じたり、露光し
た画像に「貼り込み跡」といわれる白抜け部が生じてし
まうという不都合がある。
【０００８】この発明は、前記実状に鑑みなされたもの
で、短時間で、ミスも少なく、人手もあまりかからずに
作成でき、さらに、万一の訂正に対しても迅速に対応で
きるマスク材料を提供することを目的としている。
で、短時間で、ミスも少なく、人手もあまりかからずに
作成でき、さらに、万一の訂正に対しても迅速に対応で
きるマスク材料を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明のマスク材料は、透明支持体上
に、少なくとも剥離層を設けてなる受容シートの剥離層
側に、遮光性着色層を溶融型熱転写方式により形成した
ことを特徴としている。
に、請求項１記載の発明のマスク材料は、透明支持体上
に、少なくとも剥離層を設けてなる受容シートの剥離層
側に、遮光性着色層を溶融型熱転写方式により形成した
ことを特徴としている。
【００１０】また、請求項２記載の発明のマスク材料
は、透明支持体上に、少なくとも剥離層を設けてなる受
容シートの剥離層側に、遮光性着色層を昇華型熱転写方
式により形成したことを特徴としている。
は、透明支持体上に、少なくとも剥離層を設けてなる受
容シートの剥離層側に、遮光性着色層を昇華型熱転写方
式により形成したことを特徴としている。
【００１１】また、請求項３記載の発明のマスク材料
は、透明支持体上に、少なくとも剥離層を設けてなる受
容シートの剥離層側に、遮光性着色層をインクジェット
方式により形成したことを特徴としている。
は、透明支持体上に、少なくとも剥離層を設けてなる受
容シートの剥離層側に、遮光性着色層をインクジェット
方式により形成したことを特徴としている。
【００１２】また、請求項４記載の発明のマスク材料
は、透明支持体上に、少なくとも剥離層を設けてなる受
容シートの剥離層側に、遮光性着色層を電子写真方式に
より形成したことを特徴としている。
は、透明支持体上に、少なくとも剥離層を設けてなる受
容シートの剥離層側に、遮光性着色層を電子写真方式に
より形成したことを特徴としている。
【００１３】このように、請求項１記載乃至請求項４記
載の発明のマスク材料は、図１のマスク材料の層構成図
に示すように、透明支持体１上に、剥離層２を少なくと
も設けた受容シート３の剥離層２側に、遮光性着色層４
を形成したものである。
載の発明のマスク材料は、図１のマスク材料の層構成図
に示すように、透明支持体１上に、剥離層２を少なくと
も設けた受容シート３の剥離層２側に、遮光性着色層４
を形成したものである。
【００１４】この受容シートの透明支持体は、少なくと
も３５０ｎｍ〜６００ｎｍでの透過率が５０％以上であ
るプラスチックフィルムが好ましい。ポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリオキシ
ベンゾエート等のポリエステル、ポリカーボネート、塩
化ビニル等のフィルムが使用可能である。特に、伸縮の
少ない透明ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ま
しい。好ましいフィルムの厚みは２５〜７５０μｍであ
るが、特に５０〜２５０μｍのものが適している。ここ
でいう透明とは、対象となる感光材料の感光波長域の波
長の光を８０％以上、より好ましくは９０％以上透過す
ることである。
も３５０ｎｍ〜６００ｎｍでの透過率が５０％以上であ
るプラスチックフィルムが好ましい。ポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリオキシ
ベンゾエート等のポリエステル、ポリカーボネート、塩
化ビニル等のフィルムが使用可能である。特に、伸縮の
少ない透明ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ま
しい。好ましいフィルムの厚みは２５〜７５０μｍであ
るが、特に５０〜２５０μｍのものが適している。ここ
でいう透明とは、対象となる感光材料の感光波長域の波
長の光を８０％以上、より好ましくは９０％以上透過す
ることである。
【００１５】また、受容シートの剥離層は、上記透明支
持体上に積層されるもので、透明支持体との接着性が弱
く、容易に剥離されるもの、あるいは剥離層自体の強度
が弱く、剥離の際に層が凝集破壊できるものである。
持体上に積層されるもので、透明支持体との接着性が弱
く、容易に剥離されるもの、あるいは剥離層自体の強度
が弱く、剥離の際に層が凝集破壊できるものである。
【００１６】このような剥離層を形成する具体例として
は、例えば、酢酸ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニ
ル−エチレン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−エチ
レン共重合体、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエチ
レン、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン−ブタジエン、ポリスチレン、ポリ
クロロプレン、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重
合体、アルコキシアルキル化ナイロン、ポリテトラフロ
ロエチレン（テフロン）、ポリジメチルシロキサン（シ
リコン）、ブチルゴム、天然ゴム、水添ポリブタジエ
ン、ブタジエン−スチレン共重合体、ニトリルゴム、ポ
リサルファイド（チオールゴム）、ポリビニリデンクロ
ライド、ポリメタクリロニトリル、ポリアクリロニトリ
ル等を挙げることができる。
は、例えば、酢酸ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニ
ル−エチレン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−エチ
レン共重合体、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエチ
レン、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン−ブタジエン、ポリスチレン、ポリ
クロロプレン、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重
合体、アルコキシアルキル化ナイロン、ポリテトラフロ
ロエチレン（テフロン）、ポリジメチルシロキサン（シ
リコン）、ブチルゴム、天然ゴム、水添ポリブタジエ
ン、ブタジエン−スチレン共重合体、ニトリルゴム、ポ
リサルファイド（チオールゴム）、ポリビニリデンクロ
ライド、ポリメタクリロニトリル、ポリアクリロニトリ
ル等を挙げることができる。
【００１７】また、前記化合物のラテックスを用いるこ
ともできる。酢酸ビニル−エチレン共重合体ラテック
ス、塩化ビニル−エチレン共重合体ラテックス、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−エチレン共重合体ラテックス、ポリ
アクリル酸エステルラテックス、ポリメタクリル酸エス
テルラテックス、ポリエステル樹脂ラテックス、ポリウ
レタン樹脂ラテックスが好ましく用いられる。
ともできる。酢酸ビニル−エチレン共重合体ラテック
ス、塩化ビニル−エチレン共重合体ラテックス、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−エチレン共重合体ラテックス、ポリ
アクリル酸エステルラテックス、ポリメタクリル酸エス
テルラテックス、ポリエステル樹脂ラテックス、ポリウ
レタン樹脂ラテックスが好ましく用いられる。
【００１８】また、凝集破壊で剥離する層を形成するも
のとしては、カルナバワックス、ポリエチレンワック
ス、パラフィンワックス等のワックス類を単独あるい
は、前記樹脂との混合したものが用いられる。
のとしては、カルナバワックス、ポリエチレンワック
ス、パラフィンワックス等のワックス類を単独あるい
は、前記樹脂との混合したものが用いられる。
【００１９】これらの化合物は、ペンタン、ヘキサン、
オクタン、イソオクタン、シクロヘキサン、四塩化炭
素、キシレン、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケ
トン、メタノール、エタノール、水等の溶媒に分散ある
いは溶解させることで支持体上に塗布される。
オクタン、イソオクタン、シクロヘキサン、四塩化炭
素、キシレン、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケ
トン、メタノール、エタノール、水等の溶媒に分散ある
いは溶解させることで支持体上に塗布される。
【００２０】剥離層は、その目的から、もちろん透明で
ある必要がある。剥離層の厚さは、０．１〜５０μｍ、
より好ましくは２〜３０μｍで、訂正後の訂正部での焼
きボケ防止のためには、２０μｍ以下とすることが特に
好ましい。また、剥離層の上層として、所望により特に
遮光性着色層のための透明受像層を設けてもよい。
ある必要がある。剥離層の厚さは、０．１〜５０μｍ、
より好ましくは２〜３０μｍで、訂正後の訂正部での焼
きボケ防止のためには、２０μｍ以下とすることが特に
好ましい。また、剥離層の上層として、所望により特に
遮光性着色層のための透明受像層を設けてもよい。
【００２１】遮光性着色層は、感光材料を感光する波長
の光線を遮光し得るものである。印刷写真製版のマスク
として用いる場合には、３００〜５００ｎｍの範囲の波
長の光を、１％以下に吸収遮断するものが好ましい。
の光線を遮光し得るものである。印刷写真製版のマスク
として用いる場合には、３００〜５００ｎｍの範囲の波
長の光を、１％以下に吸収遮断するものが好ましい。
【００２２】カラー感光材料への焼き付け時のマスクと
して用いる場合には、３００〜８００ｎｍの範囲の波長
の光を、０．７％以下に吸収遮断することが好ましい。
この場合、カラー感光材料が一般的に分光感度を有して
いない緑部の波長、５５０〜６６０ｎｍの部分に透過性
を持たせることは可能である。また、カラー感光材料用
のマスクとして用いる場合には、各分光感光波長域に合
致させた遮光性を有するマスクを使用することで、フル
カラー画像を作成するためのマスクとすることもでき
る。
して用いる場合には、３００〜８００ｎｍの範囲の波長
の光を、０．７％以下に吸収遮断することが好ましい。
この場合、カラー感光材料が一般的に分光感度を有して
いない緑部の波長、５５０〜６６０ｎｍの部分に透過性
を持たせることは可能である。また、カラー感光材料用
のマスクとして用いる場合には、各分光感光波長域に合
致させた遮光性を有するマスクを使用することで、フル
カラー画像を作成するためのマスクとすることもでき
る。
【００２３】溶融型熱転写方式で、遮光性着色層を形成
する場合には、遮光性着色剤を含有する熱溶融性層を支
持体上に有する熱転写材料を、サーマルヘッド等の加熱
手段で加熱することにより、遮光性着色層を受容シート
上に転写してマスク材料を形成する。
する場合には、遮光性着色剤を含有する熱溶融性層を支
持体上に有する熱転写材料を、サーマルヘッド等の加熱
手段で加熱することにより、遮光性着色層を受容シート
上に転写してマスク材料を形成する。
【００２４】このような遮光性熱転写材料としては、特
開平３−１２１４５４号公報や特開平２−７９８５０号
公報、特開平３−７２３５２号公報、特開平３−２６５
９４号公報等にその例が挙げられているが、これらに限
定されるものではなく、公知の溶融型熱転写材料のイン
ク層に、着色剤として遮光性着色剤を含有させることで
作成したものが使用できる。
開平３−１２１４５４号公報や特開平２−７９８５０号
公報、特開平３−７２３５２号公報、特開平３−２６５
９４号公報等にその例が挙げられているが、これらに限
定されるものではなく、公知の溶融型熱転写材料のイン
ク層に、着色剤として遮光性着色剤を含有させることで
作成したものが使用できる。
【００２５】昇華型熱転写方式の場合には、昇華性遮光
染料を含む着色層を支持体上に有する熱転写材料をサー
マメヘッド等の加熱手段で加熱して染料を昇華させて受
容シートに転写することによりマスク材料を形成する。
染料を含む着色層を支持体上に有する熱転写材料をサー
マメヘッド等の加熱手段で加熱して染料を昇華させて受
容シートに転写することによりマスク材料を形成する。
【００２６】インクジェット方式の場合には、遮光性染
料を含有させたインクをノズルから噴霧することによっ
て、受容シート上に遮光性着色層を形成する。
料を含有させたインクをノズルから噴霧することによっ
て、受容シート上に遮光性着色層を形成する。
【００２７】電子写真方式では、遮光性着色材を含有す
るトナー粒子を用いて画像形成を行なう。トナーは粒体
トナーであっても構わないし、絶縁性溶剤中にトナー粒
子を分散させた液体現像剤の形態をとることができる。
るトナー粒子を用いて画像形成を行なう。トナーは粒体
トナーであっても構わないし、絶縁性溶剤中にトナー粒
子を分散させた液体現像剤の形態をとることができる。
【００２８】また、電子写真方式の場合、剥離層を有す
る受容シート自体を感光体とすることができる。
る受容シート自体を感光体とすることができる。
【００２９】前記のような記録材料と記録方法の一般例
は、「写真工業別冊イメージングＰａｒｔ３」及び「ノ
ンインパクトプリンティング−技術と材料−」等にみる
ことができる。
は、「写真工業別冊イメージングＰａｒｔ３」及び「ノ
ンインパクトプリンティング−技術と材料−」等にみる
ことができる。
【００３０】
【作用】この請求項１乃至請求項４記載の発明のマスク
材は、透明支持体上に、少なくとも剥離層を設けてなる
受容シートにおいて、この受容シートの剥離層側に遮光
性着色層が形成されており、この剥離層によって万一の
訂正に対しても転写された遮光性着色層のみを剥離する
ことができ、迅速に対応できる。
材は、透明支持体上に、少なくとも剥離層を設けてなる
受容シートにおいて、この受容シートの剥離層側に遮光
性着色層が形成されており、この剥離層によって万一の
訂正に対しても転写された遮光性着色層のみを剥離する
ことができ、迅速に対応できる。
【００３１】また、受容シートの剥離層側に、溶融型熱
転写方式、昇華型熱転写方式、インクジェット方式、電
子写真方式により形遮光性着色層を形成することで、形
短時間で、ミスも少なく、人手もあまりかからずにマス
ク材を作成できる。
転写方式、昇華型熱転写方式、インクジェット方式、電
子写真方式により形遮光性着色層を形成することで、形
短時間で、ミスも少なく、人手もあまりかからずにマス
ク材を作成できる。
【００３２】
【実施例】次に、この発明のマスク材料を実施例により
さらに具体的に説明するが、この発明はこの実施例に限
定されるものではない。
さらに具体的に説明するが、この発明はこの実施例に限
定されるものではない。
【００３３】実施例１ ［受容シートの作成］７５μｍ厚みのポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に、下記の処方で作成した剥離層
塗工液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。乾燥後
の剥離層の厚みは８μｍであった。
フタレートフィルム上に、下記の処方で作成した剥離層
塗工液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。乾燥後
の剥離層の厚みは８μｍであった。
【００３４】 スミカフレックス８５０（住友化学工業製） ２０重量部 （塩化ビニル−酢酸ビニル−エチレン共重合体ラテックス） 水 ８０重量部 ［溶融型熱転写遮光性材料の作成］下記の組成物を混合
して、離型剤層塗工液を調整した。
して、離型剤層塗工液を調整した。
【００３５】 ＷＡＸ−Ｖ ９０重量部 （ヘキスト製；オクタデシルアルコール−ポリビニルエーテル） ボンダインＡＸ−８０６０ １０重量部 （エチレン−エチルアクリレート樹脂−無水フタル酸置換物） 下記の組成物をサンドミルで混合して、溶融型遮光性着
色層塗工液を調整した。
色層塗工液を調整した。
【００３６】 バリファストレッド３３０６ ５５重量部 （オリエント製、赤色染料） ハリエスターＤＳ−９０ ２０重量部 （ロジン系粘着付与剤） スプラバールＡＰ−３０ １５重量部 （スチレンマレイン酸樹脂） エバフレックスＥＶ−４０Ｙ ５重量部 （エチレン−酢酸ビニル樹脂） デスモコール４００ ５重量部 （ウレタン樹脂） 裏面に耐熱層を設けた４．５μｍ厚みのポリエチレンテ
レフタレートフィルム（東レ製、５ＡＦ５３１）に離型
剤層塗工液を、乾燥膜厚０．４μｍとなるようにワイヤ
ーバーを用いて塗布した。
レフタレートフィルム（東レ製、５ＡＦ５３１）に離型
剤層塗工液を、乾燥膜厚０．４μｍとなるようにワイヤ
ーバーを用いて塗布した。
【００３７】離型剤層が乾燥した後、溶融型遮光性着色
層塗工液を、乾燥膜厚１．８μｍとなるようにワイヤー
バーを用いて塗布し、溶融型熱転写遮光材料を作成し
た。 ［マスク材料の作成］セイコー電子製熱転写プリンター
ＣＨ５５１４を用いて、マスクパターン出力を行なっ
た。出力されたマスクに、カッターで切り込みを入れ、
剥離を行ったところ容易に剥離できた。
層塗工液を、乾燥膜厚１．８μｍとなるようにワイヤー
バーを用いて塗布し、溶融型熱転写遮光材料を作成し
た。 ［マスク材料の作成］セイコー電子製熱転写プリンター
ＣＨ５５１４を用いて、マスクパターン出力を行なっ
た。出力されたマスクに、カッターで切り込みを入れ、
剥離を行ったところ容易に剥離できた。
【００３８】比較例１ 受容シートとして厚さ７５μｍのポリエチレンテタレフ
タレートフィルムに、下記組成の受像層塗工液を乾燥厚
み０．５μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布、
乾燥した。
タレートフィルムに、下記組成の受像層塗工液を乾燥厚
み０．５μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布、
乾燥した。
【００３９】 ポリ酢酸ビニル ２０重量部 メチルエチルケトン ７０重量部 酢酸エチル １０重量部 この受容シートと実施例１で用いた溶融型熱転写遮光材
料を使用して、実施例１と同様にして、マスク材料を作
成した。
料を使用して、実施例１と同様にして、マスク材料を作
成した。
【００４０】このマスクにカッターで切り込みを入れ、
剥離しようとしたが、容易には剥離せず、カッターで削
り取らざるを得なかった。
剥離しようとしたが、容易には剥離せず、カッターで削
り取らざるを得なかった。
【００４１】実施例２ ［受容シートの作成］７５μｍ厚みのポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に、下記の処方で作成した剥離層
塗工液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。乾燥後
の剥離層の厚みは１０μｍであった。
フタレートフィルム上に、下記の処方で作成した剥離層
塗工液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。乾燥後
の剥離層の厚みは１０μｍであった。
【００４２】 モビニール１９０Ｅ ２０重量部 （ヘキスト合成製、塩化ビニル−酢酸ビニル−エチレン共重合体ラテックス） ニポールＬＸ８５５ ５重量部 （日本ゼオン製、ポリアクリル酸エステルラテックス） 水 ７５重量部 上記により作成した剥離層の上に、下記組成の受像層塗
工液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。受像層の
乾燥厚みは５μｍであった。
工液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。受像層の
乾燥厚みは５μｍであった。
【００４３】 ビニライトＶＹＨＨ ２５重量部 （ユニオンカーバイト製、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体） メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ２５重量部 ［昇華型熱転写材料の作成］ ＭＳレッドＧ １０重量部 フォロンブリリアントイエローＳ−６ＧＬ ５重量部 ポリ塩化ビニル樹脂 ５重量部 エスレックスＢＸ−１ ５重量部 （積水化学工業製、ポリビニルブチラール） メチルエチルケトン ４０重量部 トルエン ３５重量部 ［マスク材料の作成］上記のようにして作成させた受容
シートと昇華性熱転写遮光材料を用いて、遮光材料の裏
側からサーマルヘッドを用いて加熱することにより、マ
スク材料を作成した。出力されたマスクに、カッターで
切り込みを入れ、剥離を行ったところ容易に剥離でき
た。
シートと昇華性熱転写遮光材料を用いて、遮光材料の裏
側からサーマルヘッドを用いて加熱することにより、マ
スク材料を作成した。出力されたマスクに、カッターで
切り込みを入れ、剥離を行ったところ容易に剥離でき
た。
【００４４】比較例２ 受容シートとして、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に直接、実施例２で用いた受像層を
設けたものを使用して、実施例２と同様にマスクパター
ンを作成した。
タレートフィルム上に直接、実施例２で用いた受像層を
設けたものを使用して、実施例２と同様にマスクパター
ンを作成した。
【００４５】このマスクにカッターで切り込みを入れ、
剥離しようとしたが、容易には剥離せず、カッターで受
像層ごと削り取らざるを得なかった。
剥離しようとしたが、容易には剥離せず、カッターで受
像層ごと削り取らざるを得なかった。
【００４６】実施例３ ［受容シートの作成］１００μｍ厚みのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に、下記の処方で作成した剥離
性層塗工液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。乾
燥後の剥離層の厚みは１６μｍであった。
レフタレートフィルム上に、下記の処方で作成した剥離
性層塗工液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。乾
燥後の剥離層の厚みは１６μｍであった。
【００４７】 スミカフレックス８５０ ３０重量部 （住友化学工業製、塩化ビニル−酢酸ビニル−エチレン共重合体ラテックス） ポリアクリル酸エステル粒子（平均粒径０．３μｍ）２５重量部 水 ４２重量部 ［インクジェット用インクの調整］下記の組成の油溶性
インクジェット用インクを調整した。
インクジェット用インクを調整した。
【００４８】 バリファストレッド３３０６ １８重量部 （オリエント製、赤色染料） フタル酸ジエチル ２５重量部 アジピン酸ジエチル ４０重量部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル １７重量部 上記受容シートに、静電力パルス印加型インクジェット
ヘッドを用いて、インクジェット記録によりマスクパタ
ーンを記録した。
ヘッドを用いて、インクジェット記録によりマスクパタ
ーンを記録した。
【００４９】作成されたマスクの遮光部の透過濃度は、
３７０ｎｍで、２．０５であった。このマスクに、カッ
ターで切り込みを入れて剥離したところ、受容に剥離さ
れ傷も残らなかった。
３７０ｎｍで、２．０５であった。このマスクに、カッ
ターで切り込みを入れて剥離したところ、受容に剥離さ
れ傷も残らなかった。
【００５０】比較例３ 下記組成の受像層塗工液をワイヤーバーによって、乾燥
厚み１６μｍになるように塗布、乾燥した受容シートを
用いて、実施例３と同様に、インクジェット記録によっ
てマスクを作成した。
厚み１６μｍになるように塗布、乾燥した受容シートを
用いて、実施例３と同様に、インクジェット記録によっ
てマスクを作成した。
【００５１】 ポリアクリロニトリルブタジエン ３０重量部 ポリアクリル酸エステル粒子（平均粒径０．３μｍ）２５重量部 水 ４５重量部 作成されたマスクは、カッターによる切り込みをいれて
も剥離できなかった。
も剥離できなかった。
【００５２】実施例４ ［受容シートの作成］７５μｍ厚みのポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に、下記の処方で作成した剥離層
塗膜液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。乾燥後
の剥離層の厚みは１５μｍであった。
フタレートフィルム上に、下記の処方で作成した剥離層
塗膜液をワイヤーバーを用いて塗布、乾燥した。乾燥後
の剥離層の厚みは１５μｍであった。
【００５３】 スミカフレックス８５０ ３０重量部 （住友化学工業製、塩化ビニル−酢酸ビニル、エチレン共重合体ラテックス） 水 ７０重量部 ［マスクの作成］コニカ（株）製Ｕ−Ｂｉｘ３０３５乾
式複写機を用いて、マスクパターンを有した原稿を複写
することにより、マスクを作成した。作成されたマスク
は、十分な剥離性を有していた。
式複写機を用いて、マスクパターンを有した原稿を複写
することにより、マスクを作成した。作成されたマスク
は、十分な剥離性を有していた。
【００５４】比較例４ 受容シートとして、市販のＰＰＣ用ＯＨＰシート（コク
ヨＶＦ−１）を用いて、実施例４と同様にしてマスクを
作成した。作成されたマスクは、カッターによる切り込
みをいれても剥離できなかった。
ヨＶＦ−１）を用いて、実施例４と同様にしてマスクを
作成した。作成されたマスクは、カッターによる切り込
みをいれても剥離できなかった。
【００５５】
【発明の効果】前記したように、この請求項１乃至請求
項４記載の発明のマスク材は、透明支持体上に、少なく
とも剥離層を設けてなる受容シートにおいて、この受容
シートの剥離層側に遮光性着色層を形成したから、剥離
層によって万一の訂正に対しても転写された遮光性着色
層のみを剥離することができ、迅速に対応して訂正でき
る。
項４記載の発明のマスク材は、透明支持体上に、少なく
とも剥離層を設けてなる受容シートにおいて、この受容
シートの剥離層側に遮光性着色層を形成したから、剥離
層によって万一の訂正に対しても転写された遮光性着色
層のみを剥離することができ、迅速に対応して訂正でき
る。
【００５６】また、受容シートの剥離層側に、溶融型熱
転写方式、昇華型熱転写方式、インクジェット方式、電
子写真方式により形遮光性着色層を形成することで、形
短時間で、ミスも少なく、人手もあまりかからずにマス
ク材を作成できる。
転写方式、昇華型熱転写方式、インクジェット方式、電
子写真方式により形遮光性着色層を形成することで、形
短時間で、ミスも少なく、人手もあまりかからずにマス
ク材を作成できる。
【図１】マスク材料の層構成図である。
１ 透明支持体 ２ 剥離層 ３ 受容シート ４ 遮光性着色層
Claims (4)
- 【請求項１】 透明支持体上に、少なくとも剥離層を設
けてなる受容シートの剥離層側に、遮光性着色層を溶融
型熱転写方式により形成したことを特徴とするマスク材
料。 - 【請求項２】 透明支持体上に、少なくとも剥離層を設
けてなる受容シートの剥離層側に、遮光性着色層を昇華
型熱転写方式により形成したことを特徴とするマスク材
料。 - 【請求項３】 透明支持体上に、少なくとも剥離層を設
けてなる受容シートの剥離層側に、遮光性着色層をイン
クジェット方式により形成したことを特徴とするマスク
材料。 - 【請求項４】 透明支持体上に、少なくとも剥離層を設
けてなる受容シートの剥離層側に、遮光性着色層を電子
写真方式により形成したことを特徴とするマスク材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3297932A JPH05107730A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | マスク材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3297932A JPH05107730A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | マスク材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05107730A true JPH05107730A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17852961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3297932A Pending JPH05107730A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | マスク材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05107730A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998023449A1 (en) * | 1996-11-29 | 1998-06-04 | Mitsubishi Plastics Inc. | Process film, process ink, and platemaking method and system using the film |
| KR101505996B1 (ko) * | 2014-09-26 | 2015-04-07 | 주식회사 로뎀퍼니처 | 반투명전사필름 및 그 제조방법 및 그것을 이용한 목재 판넬 인쇄코팅방법 |
-
1991
- 1991-10-18 JP JP3297932A patent/JPH05107730A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998023449A1 (en) * | 1996-11-29 | 1998-06-04 | Mitsubishi Plastics Inc. | Process film, process ink, and platemaking method and system using the film |
| US6387594B1 (en) | 1996-11-29 | 2002-05-14 | Mitsubishi Plastics, Inc. | Plate making film, plate making ink, plate making method using the film, and plate making system using the film |
| KR101505996B1 (ko) * | 2014-09-26 | 2015-04-07 | 주식회사 로뎀퍼니처 | 반투명전사필름 및 그 제조방법 및 그것을 이용한 목재 판넬 인쇄코팅방법 |
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