JPH0518325B2 - - Google Patents
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- JPH0518325B2 JPH0518325B2 JP62020253A JP2025387A JPH0518325B2 JP H0518325 B2 JPH0518325 B2 JP H0518325B2 JP 62020253 A JP62020253 A JP 62020253A JP 2025387 A JP2025387 A JP 2025387A JP H0518325 B2 JPH0518325 B2 JP H0518325B2
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Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はレーザー光線により信号を記録し、
或いはレーザー光線の反射又は透過により記録さ
れた信号の読み出しを行う光学式情報記録用デイ
スクに用いられるポリカーボネート共重合体に関
する。
或いはレーザー光線の反射又は透過により記録さ
れた信号の読み出しを行う光学式情報記録用デイ
スクに用いられるポリカーボネート共重合体に関
する。
レーザー光線のスポツトビームをデイスクにあ
て、デイスクに微細なピツトで信号を記録し、或
いはこのようなピツトによつて記録された信号を
レーザー光線の反射又は透過光量を検出すること
によつて読み出すDRAW，Erasable−DRAW型
光学式情報記録・再生方式は著しく記録密度を上
げることができ、特にErasable−DRAW型では
記録の消去・書き込みも可能であり、且つそれら
から再生される画像や音質が優れた特性を有する
ことから、画像や音声の記録又は記録再生、多量
の情報記録再生等に広く実用されることが期待さ
れている。この記録再生方式に利用されるデイス
クにはデイスク本体をレーザー光線が透過するた
めに透明であることは勿論のこと、読み取り誤差
を少なくするために光学的均質性が強く求められ
る。デイスク本体成形時の樹脂の冷却及び流動過
程において生じた熱応力、分子配向、ガラス転移
点付近の容積変化等による残留応力が主な原因と
なり、レーザー光線がデイスク本体を通過する際
に複屈折が生ずる。この複屈折に起因する光学的
不均一性が大きいことは光学式デイスクとしては
致命的欠陥である。
て、デイスクに微細なピツトで信号を記録し、或
いはこのようなピツトによつて記録された信号を
レーザー光線の反射又は透過光量を検出すること
によつて読み出すDRAW，Erasable−DRAW型
光学式情報記録・再生方式は著しく記録密度を上
げることができ、特にErasable−DRAW型では
記録の消去・書き込みも可能であり、且つそれら
から再生される画像や音質が優れた特性を有する
ことから、画像や音声の記録又は記録再生、多量
の情報記録再生等に広く実用されることが期待さ
れている。この記録再生方式に利用されるデイス
クにはデイスク本体をレーザー光線が透過するた
めに透明であることは勿論のこと、読み取り誤差
を少なくするために光学的均質性が強く求められ
る。デイスク本体成形時の樹脂の冷却及び流動過
程において生じた熱応力、分子配向、ガラス転移
点付近の容積変化等による残留応力が主な原因と
なり、レーザー光線がデイスク本体を通過する際
に複屈折が生ずる。この複屈折に起因する光学的
不均一性が大きいことは光学式デイスクとしては
致命的欠陥である。
このようにデイスク成形時の樹脂の冷却及び流
動過程において生じた熱応力・分子配向・残留応
力が主原因で生ずる複屈折は成形条件を選ぶこと
によつて、得られるデイスクの複屈折はかなり小
さくすることができるが、成形樹脂自身のもつ固
有の複屈折、即ち光弾性数に大きく依存してい
る。
動過程において生じた熱応力・分子配向・残留応
力が主原因で生ずる複屈折は成形条件を選ぶこと
によつて、得られるデイスクの複屈折はかなり小
さくすることができるが、成形樹脂自身のもつ固
有の複屈折、即ち光弾性数に大きく依存してい
る。
複屈折は光弾性定数と残留応力の積として下記
式(1)で表すことができる。
式(1)で表すことができる。
n1−n2＝Ｃ（σ1−σ2） (1)
n1−n2：複屈折
σ1−σ2：残留応力
Ｃ：光弾性定数
式(1)の光弾性定数を小さくすれば成形条件が同
じでも得られるデイスクの複屈折が小さくなるこ
とは明らかである。そこで発明者らは１，1′−ビ
ス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ−ジイリプロ
ピルベンゼンと２，２−ビス−（４−ヒドロキシ
−３−ターシヤリーブチルフエニル）プロパンを
カーボネート結合によつて共重合させることによ
つて、芳香族ポリカーボネートの機械的特性を損
ねることなく光弾性定数の小さな樹脂が得られる
事実を見出し、本発明に至つたものである。
じでも得られるデイスクの複屈折が小さくなるこ
とは明らかである。そこで発明者らは１，1′−ビ
ス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ−ジイリプロ
ピルベンゼンと２，２−ビス−（４−ヒドロキシ
−３−ターシヤリーブチルフエニル）プロパンを
カーボネート結合によつて共重合させることによ
つて、芳香族ポリカーボネートの機械的特性を損
ねることなく光弾性定数の小さな樹脂が得られる
事実を見出し、本発明に至つたものである。
即ち本発明は、下記の一般式で表わされる繰り
返し単位を有し、粘度平均分子量が、13000〜
50000である芳香族ポリカーボネート共重合体に
関する。
返し単位を有し、粘度平均分子量が、13000〜
50000である芳香族ポリカーボネート共重合体に
関する。
（式中、ｎ及びｍは、夫々ｎ＋ｍに対する割合
がｎ＝95〜５％、ｍ＝５〜95％となる数を表わ
す。） かくしてこの発明に係る上記一般式のポリカー
ボネート共重合体は、下記の式（）、（）で示
されるビスフエノールがカーボネート結合により
共重合して得られる芳香族ポリカーボネート共重
合体である。
がｎ＝95〜５％、ｍ＝５〜95％となる数を表わ
す。） かくしてこの発明に係る上記一般式のポリカー
ボネート共重合体は、下記の式（）、（）で示
されるビスフエノールがカーボネート結合により
共重合して得られる芳香族ポリカーボネート共重
合体である。
式（）の構成単位は５〜95モル％である。式
（）の構成単位が５モル％未満であると得られ
る芳香族ポリカーボネートの光弾性定数は式
（）よりなるホモポリカーボネートとあまり変
わらない。また式（）の構成単位が95モル％を
超えると得られる芳香族ポリカーボネートのガラ
ス転移点が式（）よりなるホモポリカーボネー
トに較べて著しく低下する。
（）の構成単位が５モル％未満であると得られ
る芳香族ポリカーボネートの光弾性定数は式
（）よりなるホモポリカーボネートとあまり変
わらない。また式（）の構成単位が95モル％を
超えると得られる芳香族ポリカーボネートのガラ
ス転移点が式（）よりなるホモポリカーボネー
トに較べて著しく低下する。
本発明の共重合体の粘度平均分子量は1000〜
100000が好ましく、13000〜50000が更に好まし
い。1000未満では成形品が脆くなり、また100000
を越えると流動性が低下し成形性に劣り、何れも
光デイスク用樹脂として不向きである。
100000が好ましく、13000〜50000が更に好まし
い。1000未満では成形品が脆くなり、また100000
を越えると流動性が低下し成形性に劣り、何れも
光デイスク用樹脂として不向きである。
また、本発明のポリカーボネート共重合体は
１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ−
ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（４−
ヒドロキシ−３−ターシヤリーブチルフエニル）
プロパンの他に第３成分を共重合したものでもよ
い。かかる第３成分としては、カーボネート結合
をするものであれば何れでもよい。その重合割合
は物性を損なわない範囲で配合すればよい。
１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ−
ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（４−
ヒドロキシ−３−ターシヤリーブチルフエニル）
プロパンの他に第３成分を共重合したものでもよ
い。かかる第３成分としては、カーボネート結合
をするものであれば何れでもよい。その重合割合
は物性を損なわない範囲で配合すればよい。
本発明のポリカーボネート共重合体の製造法と
しては次の２つの方法がある。
しては次の２つの方法がある。
エステル交換法
１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ
−ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（４
−ヒドロキシ−３−ターシヤリーブチルフエニ
ル）プロパンの混合物、これに対し化学量論的に
当量よりやや過剰のジフエニルカーボネートに、
通常のカーボネート化触媒の存在下、約160〜180
℃の温度で常圧下、不活性ガスを導入した条件で
約30分反応させ、２時間かけて徐々に減圧しなが
ら約180〜220℃の温度下で最終的に10Torr、220
℃で前縮合を終了する。その後、10Torr、270℃
で30分、5Torr、270℃で20分反応し、次いで
0.5Torr以下、好ましくは0.3Torr〜0.1Torrの減
圧下で270℃で1.5時間〜2.0時間後縮合を進める。
−ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（４
−ヒドロキシ−３−ターシヤリーブチルフエニ
ル）プロパンの混合物、これに対し化学量論的に
当量よりやや過剰のジフエニルカーボネートに、
通常のカーボネート化触媒の存在下、約160〜180
℃の温度で常圧下、不活性ガスを導入した条件で
約30分反応させ、２時間かけて徐々に減圧しなが
ら約180〜220℃の温度下で最終的に10Torr、220
℃で前縮合を終了する。その後、10Torr、270℃
で30分、5Torr、270℃で20分反応し、次いで
0.5Torr以下、好ましくは0.3Torr〜0.1Torrの減
圧下で270℃で1.5時間〜2.0時間後縮合を進める。
尚、カーボネート結合のためのカーボネート化
触媒としては、リチウム系触媒、カリウム系触
媒、ナトリウム系触媒、カルシウム系触媒、錫系
触媒等のアルカリ金属、アルカリ土類金属触媒が
適しており、例えば、水酸化リチウム・炭酸リチ
ウム、水素化ホウ素カリウム・リン酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム・水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化カルシウム、ジブチル錫オキシド・酸
化第１錫が挙げられる。これらのうち、カリウム
系触媒を用いることが好ましい。
触媒としては、リチウム系触媒、カリウム系触
媒、ナトリウム系触媒、カルシウム系触媒、錫系
触媒等のアルカリ金属、アルカリ土類金属触媒が
適しており、例えば、水酸化リチウム・炭酸リチ
ウム、水素化ホウ素カリウム・リン酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム・水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化カルシウム、ジブチル錫オキシド・酸
化第１錫が挙げられる。これらのうち、カリウム
系触媒を用いることが好ましい。
ホスゲン法
三つ口フラスコに攪拌機、温度計、ガス導入
管、排気管を付ける。１，1′−ビス−（４−ヒド
ロキシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパンの混合物をピリジ
ン、ジクロルメタン等の溶媒に溶かし、これを激
しく攪拌しながらホスゲンガスを導入するのであ
るが、ホスゲンは猛毒であるから強力なドラフト
中で操作する。また排気末端には水酸化ナトリウ
ム10％水溶液で余剰ホスゲンを分解無毒化するユ
ニツトを付ける。ホスゲンはボンベから空の洗気
びん、パラフインを入れた洗気びん（泡数を数
え）、空の洗気びんを通してフラスコに導入する。
ガス導入管は攪拌機の上に差し込むようにし、析
出するピリジン塩によつて詰まらないようにする
ため先端を漏斗状に広げておく。
管、排気管を付ける。１，1′−ビス−（４−ヒド
ロキシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパンの混合物をピリジ
ン、ジクロルメタン等の溶媒に溶かし、これを激
しく攪拌しながらホスゲンガスを導入するのであ
るが、ホスゲンは猛毒であるから強力なドラフト
中で操作する。また排気末端には水酸化ナトリウ
ム10％水溶液で余剰ホスゲンを分解無毒化するユ
ニツトを付ける。ホスゲンはボンベから空の洗気
びん、パラフインを入れた洗気びん（泡数を数
え）、空の洗気びんを通してフラスコに導入する。
ガス導入管は攪拌機の上に差し込むようにし、析
出するピリジン塩によつて詰まらないようにする
ため先端を漏斗状に広げておく。
ガス導入に伴いピリジンの塩酸塩が析出して内
容は濁つてくる。反応温度は30℃以下になるよう
に水冷する。縮合の進行と共に粘稠になつてく
る。ホスゲン−塩化水素錯体の黄色が消えなくな
るまでホスゲンを通じる。反応終了後、メタノー
ルを加えて重合体を沈殿せしめ、濾別乾燥する。
生成するポリカーボネートは塩化メチレン、ピリ
ジン、クロロホルム、テトラヒドロフランなどに
溶けるから、これらの溶液からメタノールで再沈
殿して精製する。
容は濁つてくる。反応温度は30℃以下になるよう
に水冷する。縮合の進行と共に粘稠になつてく
る。ホスゲン−塩化水素錯体の黄色が消えなくな
るまでホスゲンを通じる。反応終了後、メタノー
ルを加えて重合体を沈殿せしめ、濾別乾燥する。
生成するポリカーボネートは塩化メチレン、ピリ
ジン、クロロホルム、テトラヒドロフランなどに
溶けるから、これらの溶液からメタノールで再沈
殿して精製する。
このようにして得られるポリカーボネート共重
合体は、レーザー光線により信号を記録し、或い
はレーザー光線の反射又は透過により記録された
信号の読み出しを行うDRAW，Ｅ−DRAW型光
学式情報記録用デイスクに有用である。
合体は、レーザー光線により信号を記録し、或い
はレーザー光線の反射又は透過により記録された
信号の読み出しを行うDRAW，Ｅ−DRAW型光
学式情報記録用デイスクに有用である。
以下に本発明を実施例について説明するが、本
発明はこれらの実施例によつて限定されるもので
はない。
発明はこれらの実施例によつて限定されるもので
はない。
尚、部、％は重量基準を示す。
実施例 １
１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ
−ジイソプロピルベンゼン374部（90mol％）と、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパン41部（10mol％）
とジフエニルカーボネート264部を３三つ口フ
ラスコに入れ、脱気、窒素パージを５回繰り返し
た後、シリコンバス160℃で窒素を導入しながら
溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒で
ある水素化ホウ素カリウムを予めフエノールに溶
かした溶液（仕込んだビスフエノール全量に対し
て10-3mol％量）を加え、160℃、N2下30分攪拌
醸成した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分
攪拌したのち、同温度下でさらに50Torrに減圧
し、30分反応させた。次に徐々に温度を220℃ま
で上げ60分反応させ、フエノール留出理論量の80
％を留出させた。しかる後、同温度下で10Torr
に減圧し30分反応させ、温度を徐々に270℃に上
げ30分反応させた。さらに同温度下で5Torrに減
圧し30分反応させ、ここまでの反応でフエノール
留出理論量のほぼ全量を留出させ前縮合を終え
た。次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合
させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し
冷却した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて20℃
にて溶液粘度を測定した。この値から算出した粘
度平均分子量ｖは24000であつた。IRスペクト
ルを測定すると1720〜1820cm-1にカーボネート結
合の特性吸収が見られた（図１）。また1H−
NMRを測定すると1.34，1.38ppmにターシヤリ
ーブチル基のメチル基水素の吸収、1.65，
1.68ppmにプロパンのメチル基水素の吸収、7.04
〜7.34ppmにフエニル基に由来する吸収を観測し
た（図２）。またDSC（デイフアレンシヤル・ス
キヤニング・カロリメーター；Perkin−Elmer
2C型）からガラス転移点はTg＝146℃であるこ
とがわかつた。更に光弾性定数を測定するとＣ＝
56Brewsters（10-12m2／Ｎ）であることがわかつ
た。またNMRの積分値から生成したポリマーは
１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ−
ジイソプロピルベンゼンと２，２−ビス−（４−
ヒドロキシ−３−ターシヤリーフエニル）プロパ
ン９：１のポリカーボネート共重合体であること
が確認できる。
−ジイソプロピルベンゼン374部（90mol％）と、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパン41部（10mol％）
とジフエニルカーボネート264部を３三つ口フ
ラスコに入れ、脱気、窒素パージを５回繰り返し
た後、シリコンバス160℃で窒素を導入しながら
溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒で
ある水素化ホウ素カリウムを予めフエノールに溶
かした溶液（仕込んだビスフエノール全量に対し
て10-3mol％量）を加え、160℃、N2下30分攪拌
醸成した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分
攪拌したのち、同温度下でさらに50Torrに減圧
し、30分反応させた。次に徐々に温度を220℃ま
で上げ60分反応させ、フエノール留出理論量の80
％を留出させた。しかる後、同温度下で10Torr
に減圧し30分反応させ、温度を徐々に270℃に上
げ30分反応させた。さらに同温度下で5Torrに減
圧し30分反応させ、ここまでの反応でフエノール
留出理論量のほぼ全量を留出させ前縮合を終え
た。次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合
させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し
冷却した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて20℃
にて溶液粘度を測定した。この値から算出した粘
度平均分子量ｖは24000であつた。IRスペクト
ルを測定すると1720〜1820cm-1にカーボネート結
合の特性吸収が見られた（図１）。また1H−
NMRを測定すると1.34，1.38ppmにターシヤリ
ーブチル基のメチル基水素の吸収、1.65，
1.68ppmにプロパンのメチル基水素の吸収、7.04
〜7.34ppmにフエニル基に由来する吸収を観測し
た（図２）。またDSC（デイフアレンシヤル・ス
キヤニング・カロリメーター；Perkin−Elmer
2C型）からガラス転移点はTg＝146℃であるこ
とがわかつた。更に光弾性定数を測定するとＣ＝
56Brewsters（10-12m2／Ｎ）であることがわかつ
た。またNMRの積分値から生成したポリマーは
１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ−
ジイソプロピルベンゼンと２，２−ビス−（４−
ヒドロキシ−３−ターシヤリーフエニル）プロパ
ン９：１のポリカーボネート共重合体であること
が確認できる。
測定に使用した機器はIRスペクトルメータ
ー；日本分光製IR−810、1H−NMR；日本電子
製JNM−GX−270、DSC；デイフアレンシヤ
ル・スキヤニング・カロリメーターPerkin−
Elmer 2C型、光弾性定数は自作のものを用いて
測定したが、光弾性定数の算出方法は試験片（50
mm×10mm×１mm）に異なる大きさの引張応力を長
さ方向に印加し、発生する複屈折を測定し、前記
式(1)に各々の値を代入してその傾きから光弾性定
数を求めた。因に２，２−ビス−（４−ヒドロキ
シフエニル）プロパンとポリカーボネートの光弾
性定数はＣ＝82Brewsters（10-12m2／Ｎ）であつ
た。
ー；日本分光製IR−810、1H−NMR；日本電子
製JNM−GX−270、DSC；デイフアレンシヤ
ル・スキヤニング・カロリメーターPerkin−
Elmer 2C型、光弾性定数は自作のものを用いて
測定したが、光弾性定数の算出方法は試験片（50
mm×10mm×１mm）に異なる大きさの引張応力を長
さ方向に印加し、発生する複屈折を測定し、前記
式(1)に各々の値を代入してその傾きから光弾性定
数を求めた。因に２，２−ビス−（４−ヒドロキ
シフエニル）プロパンとポリカーボネートの光弾
性定数はＣ＝82Brewsters（10-12m2／Ｎ）であつ
た。
実施例 ２
三つ口フラスコに攪拌機、温度計、ガス導入
管、排気管を付ける。水酸化ナトリウム10％水溶
液に１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−
ｐ−ジイソプロピルベンゼン374部（90mol％）
と２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシ
ヤリーブチルフエニル）プロパン41部（10mol
％）を溶かし、ジクロルメタンを加え、これを激
しく攪拌しながらホスゲンガスを導入した。ホス
ゲンはボンベから空の洗気びん、水を入れた洗気
びん、空の洗気びんを通してフラスコに導入し
た。ホスゲンガスの導入中の反応温度は25℃以下
になるように水冷した。縮合の進行と共に溶液は
粘稠になつてくる。さらにホスゲン−塩化水素錯
体の黄色が消えなくなる迄ホスゲンを通じた。反
応終了後、メタノールに反応溶液を注ぎ込み、濾
別し、水洗を繰り返した。さらに生成したポリカ
ーボネートはジクロルメタンの溶液からメタノー
ルで再沈殿して精製した。
管、排気管を付ける。水酸化ナトリウム10％水溶
液に１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−
ｐ−ジイソプロピルベンゼン374部（90mol％）
と２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシ
ヤリーブチルフエニル）プロパン41部（10mol
％）を溶かし、ジクロルメタンを加え、これを激
しく攪拌しながらホスゲンガスを導入した。ホス
ゲンはボンベから空の洗気びん、水を入れた洗気
びん、空の洗気びんを通してフラスコに導入し
た。ホスゲンガスの導入中の反応温度は25℃以下
になるように水冷した。縮合の進行と共に溶液は
粘稠になつてくる。さらにホスゲン−塩化水素錯
体の黄色が消えなくなる迄ホスゲンを通じた。反
応終了後、メタノールに反応溶液を注ぎ込み、濾
別し、水洗を繰り返した。さらに生成したポリカ
ーボネートはジクロルメタンの溶液からメタノー
ルで再沈殿して精製した。
精製後よく乾燥したのち、ジクロルメタンを溶
媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定した。この値
から算出した粘度平均分子量ｖは29000であつ
た。また、実施例１と同様に機器分析を行つたと
ころ、実施例１と同じ結果が得られたことから、
生成したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロ
キシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパンの９：１のポリカ
ーボネートの共重合体であると確認することがで
きる。
媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定した。この値
から算出した粘度平均分子量ｖは29000であつ
た。また、実施例１と同様に機器分析を行つたと
ころ、実施例１と同じ結果が得られたことから、
生成したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロ
キシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパンの９：１のポリカ
ーボネートの共重合体であると確認することがで
きる。
実施例 ３
１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ
−ジイソプロピルベンゼン208部（50mol％）と、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパン204部（50mol％）
とジフエニルカーボネート264部を３三つ口フ
ラスコに入れ、脱気、窒素パージを５回繰り返し
た後、シリコンバス160℃で窒素を導入しながら
溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒で
ある水素化ホウ素カリウムを予めフエノールに溶
かした溶液（仕込んだビスフエノール全量に対し
て10-3mol％量）を加え、160℃、N2下30分攪拌
醸成した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分
攪拌したのち、同温度下でさらに50Torrに減圧
し、60分反応させた。次に徐々に温度を220℃ま
で上げ60分反応させ、ここまでの反応でフエノー
ル留出理論量の80％を留出させた。しかる後、同
温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温度を
徐々に270℃に上げ30分反応させた。さらに同温
度下で5Torrまで減圧し30分反応させ、フエノー
ル留出理論量のほぼ全量を留出させ前縮合を終え
た。次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合
させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し
冷却した後、ジクロルメタンを溶媒として用いて
20℃にて溶液粘度を測定した。この値から算出し
た粘度平均分子量ｖは25000であつた。IRスペ
クトルを測定すると1760〜1800cm-1にカーボネー
ト結合の特性吸収が見られた（図３）。また1H−
NMRを測定すると1.34，1.38ppmにターシヤリ
ーブチル基のメチル基水素の吸収、1.65，
1.68ppmにプロパンのメチル基水素の吸収、7.02
〜7.30ppmにフエニル基に由来する吸収を観測し
た（図４）。またDSCからガラス転移点はTg＝
136℃であることがわかつた。更に光弾性定数を
測定するとＣ＝41Brewsters（10-12m2／Ｎ）であ
ることがわかつた。またNMRの積分値から生成
したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロキシ
フエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと２，
２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤリー
ブチルフエニル）プロパンの１：１のポリカーボ
ネート共重合体であることが確認できる。
−ジイソプロピルベンゼン208部（50mol％）と、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパン204部（50mol％）
とジフエニルカーボネート264部を３三つ口フ
ラスコに入れ、脱気、窒素パージを５回繰り返し
た後、シリコンバス160℃で窒素を導入しながら
溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒で
ある水素化ホウ素カリウムを予めフエノールに溶
かした溶液（仕込んだビスフエノール全量に対し
て10-3mol％量）を加え、160℃、N2下30分攪拌
醸成した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分
攪拌したのち、同温度下でさらに50Torrに減圧
し、60分反応させた。次に徐々に温度を220℃ま
で上げ60分反応させ、ここまでの反応でフエノー
ル留出理論量の80％を留出させた。しかる後、同
温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温度を
徐々に270℃に上げ30分反応させた。さらに同温
度下で5Torrまで減圧し30分反応させ、フエノー
ル留出理論量のほぼ全量を留出させ前縮合を終え
た。次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合
させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し
冷却した後、ジクロルメタンを溶媒として用いて
20℃にて溶液粘度を測定した。この値から算出し
た粘度平均分子量ｖは25000であつた。IRスペ
クトルを測定すると1760〜1800cm-1にカーボネー
ト結合の特性吸収が見られた（図３）。また1H−
NMRを測定すると1.34，1.38ppmにターシヤリ
ーブチル基のメチル基水素の吸収、1.65，
1.68ppmにプロパンのメチル基水素の吸収、7.02
〜7.30ppmにフエニル基に由来する吸収を観測し
た（図４）。またDSCからガラス転移点はTg＝
136℃であることがわかつた。更に光弾性定数を
測定するとＣ＝41Brewsters（10-12m2／Ｎ）であ
ることがわかつた。またNMRの積分値から生成
したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロキシ
フエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと２，
２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤリー
ブチルフエニル）プロパンの１：１のポリカーボ
ネート共重合体であることが確認できる。
実施例 ４
三つ口フラスコに攪拌機、温度計、ガス導入
管、排気管を付ける。水酸化ナトリウム10％水溶
液に１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−
ｐ−ジイソプロピルベンゼン208部（50mol％）
と２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシ
ヤリーブチルフエニル）プロパン204部（50mol
％）を溶かし、ジクロルメタンを加え、これを激
しく攪拌しながらホスゲンガスを導入した。ホス
ゲンはボンベから空の洗気びん、水を入れた洗気
びん、空の洗気びんを通してフラスコに導入し
た。ホスゲンガスの導入中の反応温度は25℃以下
になるように水冷した。縮合の進行と共に溶液は
粘稠になつてくる。さらにホスゲン−塩化水素錯
体の黄色が消えなくなるまでホスゲンを通じた。
反応終了後、メタノールに反応溶液を注ぎ込み、
濾別し、水洗を繰り返した。さらに生成したポリ
カーボネートはジクロルメタンの溶液からメタノ
ールで再沈殿して精製した。
管、排気管を付ける。水酸化ナトリウム10％水溶
液に１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−
ｐ−ジイソプロピルベンゼン208部（50mol％）
と２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシ
ヤリーブチルフエニル）プロパン204部（50mol
％）を溶かし、ジクロルメタンを加え、これを激
しく攪拌しながらホスゲンガスを導入した。ホス
ゲンはボンベから空の洗気びん、水を入れた洗気
びん、空の洗気びんを通してフラスコに導入し
た。ホスゲンガスの導入中の反応温度は25℃以下
になるように水冷した。縮合の進行と共に溶液は
粘稠になつてくる。さらにホスゲン−塩化水素錯
体の黄色が消えなくなるまでホスゲンを通じた。
反応終了後、メタノールに反応溶液を注ぎ込み、
濾別し、水洗を繰り返した。さらに生成したポリ
カーボネートはジクロルメタンの溶液からメタノ
ールで再沈殿して精製した。
精製後よく乾燥したのち、ジクロルメタンを溶
媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定した。この値
から算出した粘度平均分子量ｖは28000であつ
た。また、実施例３と同様に機器分析を行つたと
ころ、実施例３と同じ結果が得られたことから、
生成したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロ
キシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパンの１：１のポリカ
ーボネートの共重合体であると確認することがで
きる。
媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定した。この値
から算出した粘度平均分子量ｖは28000であつ
た。また、実施例３と同様に機器分析を行つたと
ころ、実施例３と同じ結果が得られたことから、
生成したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロ
キシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパンの１：１のポリカ
ーボネートの共重合体であると確認することがで
きる。
実施例 ５
１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｐ
−ジイソプロピルベンゼン63部（15mol％）と、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパン347部（85mol％）
とジフエニルカーボネート264部を３三つ口フ
ラスコに入れ、脱気、窒素パージを５回繰り返し
た後、シリコンバス160℃で窒素を導入しながら
溶融させた。溶融したら、ガーボネート化触媒で
ある水素化ホウ素カリウムを予めフエノールに溶
かした溶液（仕込んだビスフエノール全量に対し
て10-3mol％量）を加え、160℃、N2下30分攪拌
醸成した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分
攪拌したのち、同温度下でさらに50Torrに減圧
し、60分反応させた。次に徐々に温度を220℃ま
で上げ60分反応させ、ここまでの反応でフエノー
ル留出理論量の80％を留出させた。しかる後、同
温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温度を
徐々に270℃に上げ30分反応させた。さらに同温
度下で5Torrまで減圧し30分反応させ、フエノー
ル留出理論量のほぼ全量を留出させ前縮合を終え
た。次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合
させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し
冷却した後、ジクロルメタンを溶媒として用いて
20℃にて溶液粘度を測定した。この値から算出し
た粘度平均分子量ｖは18000であつた。IRスペ
クトルを測定すると1710〜1820cm-1にカーボネー
ト結合の特性吸収が見られた（図５）。また1H−
NMRを測定すると1.34，1.38ppmにターシヤリ
ーブチル基のメチル基水素の吸収、1.65，
1.68ppmにプロパンのメチル基水素の吸収、7.05
〜7.30ppmにフエニル基に由来する吸収を観測し
た（図６）。またDSCからガラス転移点はTg＝
126℃であることがわかつた。更に光弾性定数を
測定するとＣ＝25Brewsters（10-12m2／Ｎ）であ
ることがわかつた。またNMRの積分値から生成
したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロキシ
フエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと２，
２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤリー
ブチルフエニル）プロパンの３：17のポリカーボ
ネート共重合体であることが確認できる。
−ジイソプロピルベンゼン63部（15mol％）と、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパン347部（85mol％）
とジフエニルカーボネート264部を３三つ口フ
ラスコに入れ、脱気、窒素パージを５回繰り返し
た後、シリコンバス160℃で窒素を導入しながら
溶融させた。溶融したら、ガーボネート化触媒で
ある水素化ホウ素カリウムを予めフエノールに溶
かした溶液（仕込んだビスフエノール全量に対し
て10-3mol％量）を加え、160℃、N2下30分攪拌
醸成した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分
攪拌したのち、同温度下でさらに50Torrに減圧
し、60分反応させた。次に徐々に温度を220℃ま
で上げ60分反応させ、ここまでの反応でフエノー
ル留出理論量の80％を留出させた。しかる後、同
温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温度を
徐々に270℃に上げ30分反応させた。さらに同温
度下で5Torrまで減圧し30分反応させ、フエノー
ル留出理論量のほぼ全量を留出させ前縮合を終え
た。次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合
させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し
冷却した後、ジクロルメタンを溶媒として用いて
20℃にて溶液粘度を測定した。この値から算出し
た粘度平均分子量ｖは18000であつた。IRスペ
クトルを測定すると1710〜1820cm-1にカーボネー
ト結合の特性吸収が見られた（図５）。また1H−
NMRを測定すると1.34，1.38ppmにターシヤリ
ーブチル基のメチル基水素の吸収、1.65，
1.68ppmにプロパンのメチル基水素の吸収、7.05
〜7.30ppmにフエニル基に由来する吸収を観測し
た（図６）。またDSCからガラス転移点はTg＝
126℃であることがわかつた。更に光弾性定数を
測定するとＣ＝25Brewsters（10-12m2／Ｎ）であ
ることがわかつた。またNMRの積分値から生成
したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロキシ
フエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと２，
２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤリー
ブチルフエニル）プロパンの３：17のポリカーボ
ネート共重合体であることが確認できる。
実施例 ６
三つ口フラスコに攪拌機、温度計、ガス導入
管、排気管を付ける。水酸化ナトリウム10％水溶
液に１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−
ｐ−ジイソプロピルベンゼン63部（15mol％）と
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパン347部（85mol％）
を溶かし、ジクロルメタンを加え、これを激しく
攪拌しながらホスゲンガスを導入した。ホスゲン
はボンベから空の洗気びん、水を入れた洗気び
ん、空の洗気びんを通してフラスコに導入した。
ホスゲンガスの導入中の反応温度は25℃以下にな
るように水冷した。縮合の進行と共に溶液は粘稠
になつてくる。さらにホスゲン−塩化水素錯体の
黄色が消えなくなるまでホスゲンを通じた。反応
終了後、メタノールに反応溶液を注ぎ込み、濾別
し、水洗を繰り返した。さらに生成したポリカー
ボネートはジクロルメタンの溶液からメタノール
で再沈殿して精製した。
管、排気管を付ける。水酸化ナトリウム10％水溶
液に１，1′−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−
ｐ−ジイソプロピルベンゼン63部（15mol％）と
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパン347部（85mol％）
を溶かし、ジクロルメタンを加え、これを激しく
攪拌しながらホスゲンガスを導入した。ホスゲン
はボンベから空の洗気びん、水を入れた洗気び
ん、空の洗気びんを通してフラスコに導入した。
ホスゲンガスの導入中の反応温度は25℃以下にな
るように水冷した。縮合の進行と共に溶液は粘稠
になつてくる。さらにホスゲン−塩化水素錯体の
黄色が消えなくなるまでホスゲンを通じた。反応
終了後、メタノールに反応溶液を注ぎ込み、濾別
し、水洗を繰り返した。さらに生成したポリカー
ボネートはジクロルメタンの溶液からメタノール
で再沈殿して精製した。
精製後よく乾燥したのち、ジクロルメタンを溶
媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定した。この値
から算出した粘度平均分子量ｖは23000であつ
た。また、実施例５と同様に機器分析を行つたと
ころ、実施例５と同じ結果が得られたことから、
生成したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロ
キシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパンの３：17のポリカ
ーボネートの共重合体であると確認することがで
きる。
媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定した。この値
から算出した粘度平均分子量ｖは23000であつ
た。また、実施例５と同様に機器分析を行つたと
ころ、実施例５と同じ結果が得られたことから、
生成したポリマーは１，1′−ビス−（４−ヒドロ
キシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンと
２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシヤ
リーブチルフエニル）プロパンの３：17のポリカ
ーボネートの共重合体であると確認することがで
きる。
本発明のポリカーボネート共重合体は光弾性係
数が小さいためレーザー光線により信号を記録
し、或いはレーザー光線の反射又は透過により記
録された信号の読み出しを行う光学式情報記録用
デイスクに有用である。
数が小さいためレーザー光線により信号を記録
し、或いはレーザー光線の反射又は透過により記
録された信号の読み出しを行う光学式情報記録用
デイスクに有用である。
図１，図３，図５はそれぞれ実施例１，３，５
で得られた本発明の共重合体のIRスペクトル、
図２，図４，図６は、それぞれ実施例１，３，５
で得られた本発明の共重合体のNMRスペクトル
である。
で得られた本発明の共重合体のIRスペクトル、
図２，図４，図６は、それぞれ実施例１，３，５
で得られた本発明の共重合体のNMRスペクトル
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記の一般式で表わされる繰り返し単位を有
し、粘度平均分子量が、13000〜5000である芳香
族ポリカーボネート共重合体。 （式中、ｎ及びｍは、夫々ｎ＋ｍに対する割合
がｎ＝95〜５％、ｍ＝５〜95％となる数を表わ
す。）
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62020253A JPS63189433A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | ポリカ−ボネ−ト共重合体 |
| US07/128,497 US4831110A (en) | 1986-12-19 | 1987-12-03 | Co-polycarbonate copolymer from 2,2-bis(4-hydroxy-3-tertiary butyl phenyl)propane and optical disk |
| DE8787118582T DE3782815T2 (de) | 1986-12-19 | 1987-12-15 | Polycarbonatcopolymer und optische platte. |
| EP19870118582 EP0274092B1 (en) | 1986-12-19 | 1987-12-15 | Polycarbonate copolymer and optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62020253A JPS63189433A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | ポリカ−ボネ−ト共重合体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63189433A JPS63189433A (ja) | 1988-08-05 |
| JPH0518325B2 true JPH0518325B2 (ja) | 1993-03-11 |
Family
ID=12022031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62020253A Granted JPS63189433A (ja) | 1986-12-19 | 1987-01-30 | ポリカ−ボネ−ト共重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63189433A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2691024B2 (ja) * | 1989-06-22 | 1997-12-17 | ダイセル化学工業株式会社 | 光カード |
-
1987
- 1987-01-30 JP JP62020253A patent/JPS63189433A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63189433A (ja) | 1988-08-05 |
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