JPH0519454A - サブトラクト型オフセツト印刷版及びその製版方法 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
- G03F7/305—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations characterised by the brushing or rubbing means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】オフセット印刷版の感光層が少なくとも複合ジ
アゾ感光体と、水酸基を有するアクリル共重合体とを含
有することを特徴とするサブトラクト型オフセット印刷
版。 【効果】本発明に従い、複合ジアゾ感光体および水酸基
を有するアクリル共重合体を含有する感光層を有するサ
ブトラクト型オフセット印刷版を使用することにより、
現在普及している特定方式のアディティブ型自動現像機
に於て、環境上問題の少ないサブトラクト型現像液で良
好な刷版を製作することができる。
アゾ感光体と、水酸基を有するアクリル共重合体とを含
有することを特徴とするサブトラクト型オフセット印刷
版。 【効果】本発明に従い、複合ジアゾ感光体および水酸基
を有するアクリル共重合体を含有する感光層を有するサ
ブトラクト型オフセット印刷版を使用することにより、
現在普及している特定方式のアディティブ型自動現像機
に於て、環境上問題の少ないサブトラクト型現像液で良
好な刷版を製作することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はネガ型オフセット印刷版
に関するものである。詳しくは、アディティブ型オフセ
ット印刷版用の自動現像機でも良好に現像することがで
きるサブトラクト型オフセット印刷版に関するものであ
る。
に関するものである。詳しくは、アディティブ型オフセ
ット印刷版用の自動現像機でも良好に現像することがで
きるサブトラクト型オフセット印刷版に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】アディティブ型オフセット印刷版は原版
が安価に製造できるという長所を有し、現在、主に新聞
印刷の分野で使用されている。従来、一般の印刷に広く
利用されてきたアディティブ型オフセット印刷版は、画
像部を補強するために、画像部上のラッカー盛りを必要
とする。そのためアディティブ型オフセット印刷版用現
像液は非画像部を除去する成分と画像部を補強するラッ
カー成分とを含み、有機化合物の含有量は50重量%に
も達する。その物性も水というよりは粘調性が強くペン
キに近いものである。このような現像液が比較的少量印
刷版面に供給され、強いブラシの擦りにより非画像部が
除去され現像が行われる。一方、ラッカー盛り等の画像
部の補強が不要なサブトラクト型オフセット印刷版の現
像液は有機化合物の含有量が10重量%以下のアルカリ
水溶液であり、その物性も水に近いものである。そし
て、このような現像液が比較的多量に印刷版画に供給さ
れ、ブラシの擦りは殆ど要さず、非画像部が現像液に溶
出することにより除去され現像が行われる。
が安価に製造できるという長所を有し、現在、主に新聞
印刷の分野で使用されている。従来、一般の印刷に広く
利用されてきたアディティブ型オフセット印刷版は、画
像部を補強するために、画像部上のラッカー盛りを必要
とする。そのためアディティブ型オフセット印刷版用現
像液は非画像部を除去する成分と画像部を補強するラッ
カー成分とを含み、有機化合物の含有量は50重量%に
も達する。その物性も水というよりは粘調性が強くペン
キに近いものである。このような現像液が比較的少量印
刷版面に供給され、強いブラシの擦りにより非画像部が
除去され現像が行われる。一方、ラッカー盛り等の画像
部の補強が不要なサブトラクト型オフセット印刷版の現
像液は有機化合物の含有量が10重量%以下のアルカリ
水溶液であり、その物性も水に近いものである。そし
て、このような現像液が比較的多量に印刷版画に供給さ
れ、ブラシの擦りは殆ど要さず、非画像部が現像液に溶
出することにより除去され現像が行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このように、アディテ
ィブ型オフセット印刷版用現像液は、サブトラクト型オ
フセット印刷版用現像液に比べて、有機化合物の濃度が
高い。このため、使用済の現像液の廃棄処理が環境上問
題となっている。上記問題を解決する手段の一つとし
て、現像機をアディティブ型のものからサブトラクト型
のものに代替する方法が考えられる。しかしながら、新
聞社等においては、アディティブ型オフセット印刷版の
露光、現像、パンチング、版の折り曲げを自動的、かつ
連続的に行う製版ラインが既に設置されており、短時間
に効率的に刷版が製作されるようになっている。このよ
うな高価な製版ラインをサブトラクト型オフセット印刷
版用の製版ラインに置き換えることは容易ではない。
ィブ型オフセット印刷版用現像液は、サブトラクト型オ
フセット印刷版用現像液に比べて、有機化合物の濃度が
高い。このため、使用済の現像液の廃棄処理が環境上問
題となっている。上記問題を解決する手段の一つとし
て、現像機をアディティブ型のものからサブトラクト型
のものに代替する方法が考えられる。しかしながら、新
聞社等においては、アディティブ型オフセット印刷版の
露光、現像、パンチング、版の折り曲げを自動的、かつ
連続的に行う製版ラインが既に設置されており、短時間
に効率的に刷版が製作されるようになっている。このよ
うな高価な製版ラインをサブトラクト型オフセット印刷
版用の製版ラインに置き換えることは容易ではない。
【0004】さらに、上記問題を解決する別の手段の一
つとして、アディティブ型現像機にサブトラクト型現像
液を供給して、サブトラクト型印刷版を現像する方法も
考えられる。しかし、前述のようにアディティブ型とサ
ブトラクト型の現像液組成及び現像機のブラシ圧は大幅
に異なるため、従来のサブトラクト型現像液をアディテ
ィブ型現像機に供給して、サブトラクト型印刷版を現像
しても満足すべき刷版を製作することはできなかった。
つとして、アディティブ型現像機にサブトラクト型現像
液を供給して、サブトラクト型印刷版を現像する方法も
考えられる。しかし、前述のようにアディティブ型とサ
ブトラクト型の現像液組成及び現像機のブラシ圧は大幅
に異なるため、従来のサブトラクト型現像液をアディテ
ィブ型現像機に供給して、サブトラクト型印刷版を現像
しても満足すべき刷版を製作することはできなかった。
【0005】本発明は上記実情に鑑みなされたものであ
り、本発明者は印刷版をブラシ現像するアディティブ型
現像機にサブトラクト型印刷版および環境上問題の少な
いサブトラクト型現像液を供給し、これによって満足す
べき刷版を製作できるようなサブトラクト型オフセット
印刷版を提供すべく鋭意検討した結果、感光層に特定の
感光体と特定の重合体とを含有したサブトラクト型オフ
セット印刷版を用いることにより所期の目的が達成され
ることを見いだし、本発明に到達した。
り、本発明者は印刷版をブラシ現像するアディティブ型
現像機にサブトラクト型印刷版および環境上問題の少な
いサブトラクト型現像液を供給し、これによって満足す
べき刷版を製作できるようなサブトラクト型オフセット
印刷版を提供すべく鋭意検討した結果、感光層に特定の
感光体と特定の重合体とを含有したサブトラクト型オフ
セット印刷版を用いることにより所期の目的が達成され
ることを見いだし、本発明に到達した。
【0006】本発明の目的は、感光層に少なくとも複合
ジアゾ感光体と水酸基を有するアクリル共重合体を含有
する新規なサブトラクト型オフセット印刷版を提供する
ことにある。本発明の他の目的はアディティブ型オフセ
ット印刷版の現像機にサブトラクト型現像液を供給して
現像可能という特異な性能を有する、サブトラクト型オ
フセット印刷版を提供することにある。
ジアゾ感光体と水酸基を有するアクリル共重合体を含有
する新規なサブトラクト型オフセット印刷版を提供する
ことにある。本発明の他の目的はアディティブ型オフセ
ット印刷版の現像機にサブトラクト型現像液を供給して
現像可能という特異な性能を有する、サブトラクト型オ
フセット印刷版を提供することにある。
【0007】また、本発明の他の目的は、アディティブ
型オフセット印刷版の現像機に、サブトラクト型現像液
を供給して行う、オフセット印刷版の新規な現像方法を
提供することにある。さらに他の本発明の目的は、環境
上問題が少なく、かつ、工業的に有利な新規なオフセッ
ト印刷版を提供することにある。さらにまた本発明の他
の目的は、環境上問題が少なく、かつ、工業的に有利な
オフセット印刷版の新規な製版方法を提供することにあ
る。
型オフセット印刷版の現像機に、サブトラクト型現像液
を供給して行う、オフセット印刷版の新規な現像方法を
提供することにある。さらに他の本発明の目的は、環境
上問題が少なく、かつ、工業的に有利な新規なオフセッ
ト印刷版を提供することにある。さらにまた本発明の他
の目的は、環境上問題が少なく、かつ、工業的に有利な
オフセット印刷版の新規な製版方法を提供することにあ
る。
【0008】しかして、本発明のかかる目的は、オフセ
ット印刷版の感光層が少なくとも複合ジアゾ感光体と水
酸基を有するアクリル共重合体とを含有することを特徴
とするサブトラクト型オフセット印刷版により、又、該
オフセット印刷版を画像露光し、自動搬送させながら、
現像液の存在下に、現像ブラシを該オフセット印刷版に
圧接させることにより、更には又、その際該現像ブラシ
を該オフセット印刷版平面と垂直な軸のまわりに回転さ
せながら、該オフセット印刷版の搬送方向と直角で印刷
版面と平行な軸に沿って往復運動させることによって容
易に達成される。
ット印刷版の感光層が少なくとも複合ジアゾ感光体と水
酸基を有するアクリル共重合体とを含有することを特徴
とするサブトラクト型オフセット印刷版により、又、該
オフセット印刷版を画像露光し、自動搬送させながら、
現像液の存在下に、現像ブラシを該オフセット印刷版に
圧接させることにより、更には又、その際該現像ブラシ
を該オフセット印刷版平面と垂直な軸のまわりに回転さ
せながら、該オフセット印刷版の搬送方向と直角で印刷
版面と平行な軸に沿って往復運動させることによって容
易に達成される。
【0009】以下本発明を詳細に説明する。本発明のサ
ブトラクト型オフセット印刷版は、好適には画像露光さ
れたオフセット印刷版原版の平面と垂直な軸の回りに回
転し、かつ、該原版の搬送方向と直角で該原版の平面と
平行な軸に沿って往復運動する現像ブラシを有する様な
現像方式の現像機にサブトラクト型現像液と共に供給す
ることが出来る。
ブトラクト型オフセット印刷版は、好適には画像露光さ
れたオフセット印刷版原版の平面と垂直な軸の回りに回
転し、かつ、該原版の搬送方向と直角で該原版の平面と
平行な軸に沿って往復運動する現像ブラシを有する様な
現像方式の現像機にサブトラクト型現像液と共に供給す
ることが出来る。
【0010】具体的には、例えば、現像ブラシの回転面
の直径が10〜20cm程度で、オフセット印刷版原版
の平面と垂直な軸の回りに毎分200〜400回程度の
速度で回転しながら、しかも毎分30〜150cm程度
の速度で搬送される原版の搬送方向と直角で該原版の平
面と平行な軸に沿って毎分15〜50サイクル程度で往
復運動するような現像方式の現像機に好適に供給するこ
とができる。
の直径が10〜20cm程度で、オフセット印刷版原版
の平面と垂直な軸の回りに毎分200〜400回程度の
速度で回転しながら、しかも毎分30〜150cm程度
の速度で搬送される原版の搬送方向と直角で該原版の平
面と平行な軸に沿って毎分15〜50サイクル程度で往
復運動するような現像方式の現像機に好適に供給するこ
とができる。
【0011】なお、本発明において前記現像ブラシの回
転や移動の位置と方向を規定する角度等は必ずしも厳密
である必要ははく、印刷版原版の平面と実質的に垂直な
軸の回りに回転し、かつ、該原版の搬送方向と実質的に
直角で該原版の平面と実質的に平行な軸に沿って往復運
動すれば良い。又、更には上記現像ブラシの回転や移動
の態様は、実質的に、通常のサブトラクト型オフセット
印刷版の現像に使用される現像液量よりも少量の現像液
の存在下で、現像ブラシを印刷版に圧接させて、好適に
現像が行われる限り種々の変更を包含し得る。
転や移動の位置と方向を規定する角度等は必ずしも厳密
である必要ははく、印刷版原版の平面と実質的に垂直な
軸の回りに回転し、かつ、該原版の搬送方向と実質的に
直角で該原版の平面と実質的に平行な軸に沿って往復運
動すれば良い。又、更には上記現像ブラシの回転や移動
の態様は、実質的に、通常のサブトラクト型オフセット
印刷版の現像に使用される現像液量よりも少量の現像液
の存在下で、現像ブラシを印刷版に圧接させて、好適に
現像が行われる限り種々の変更を包含し得る。
【0012】現像ブラシの材質は、ナイロンが好まし
く、また画像露光された印刷原版に圧接するブラシ圧は
好ましくはオフセット印刷版原版に対して0.15〜
0.45ポンド/平方インチ程度となるような範囲から
選ばれる。そして、一般には現像ブラシを前後左右にそ
れぞれ複数個取り付けて上記のような条件下で、通常3
〜30秒間程度擦り現像される。搬送速度が上記の範囲
よりも低すぎる場合は、作業性が悪くなることがあり、
逆に上記の範囲よりも高すぎる場合は、現像速度が追い
つかなくなることがある。また、現像ブラシの回転数が
上記の範囲よりも低すぎる場合は、現像が不均一になる
ことがあり、逆に上記の範囲よりも高すぎる場合には、
現像液が飛散してしまうことがある。このような現像機
の具体例として、USP3、682、078に記載され
ているような現像機が挙げられる。
く、また画像露光された印刷原版に圧接するブラシ圧は
好ましくはオフセット印刷版原版に対して0.15〜
0.45ポンド/平方インチ程度となるような範囲から
選ばれる。そして、一般には現像ブラシを前後左右にそ
れぞれ複数個取り付けて上記のような条件下で、通常3
〜30秒間程度擦り現像される。搬送速度が上記の範囲
よりも低すぎる場合は、作業性が悪くなることがあり、
逆に上記の範囲よりも高すぎる場合は、現像速度が追い
つかなくなることがある。また、現像ブラシの回転数が
上記の範囲よりも低すぎる場合は、現像が不均一になる
ことがあり、逆に上記の範囲よりも高すぎる場合には、
現像液が飛散してしまうことがある。このような現像機
の具体例として、USP3、682、078に記載され
ているような現像機が挙げられる。
【0013】本発明で使用する現像液は、従来のアルカ
リ性のサブトラクト型用現像液を使用することができる
が特に好ましくは、pHが9〜13の範囲である。例え
ば、特公昭56−42860号、特公昭60−5330
6号各公報などに記載されているような有機化合物の含
有量が10重量%以下のアルカリ水溶液が挙げられる。
アルカリ化合物としては 珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム等の無機化合物、モノ−、ジ−またはトリメチルアミ
ン、モノ−、ジ−またはトリエチルアミン、モノ−、ジ
−またはトリエタノールアミン、n−ブチルアミン等の
有機化合物等が挙げられ、その濃度は0.3〜3重量%
の範囲が好ましい。また有機化合物としては、酢酸ベン
ジル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト等のエスエル類、メチルイソブチルケトン等のケトン
類、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール等のアルコール類、 等が挙げられそ
の濃度は10重量%以下、好ましくは2−10重量%の
範囲から選ばれる。
リ性のサブトラクト型用現像液を使用することができる
が特に好ましくは、pHが9〜13の範囲である。例え
ば、特公昭56−42860号、特公昭60−5330
6号各公報などに記載されているような有機化合物の含
有量が10重量%以下のアルカリ水溶液が挙げられる。
アルカリ化合物としては 珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム等の無機化合物、モノ−、ジ−またはトリメチルアミ
ン、モノ−、ジ−またはトリエチルアミン、モノ−、ジ
−またはトリエタノールアミン、n−ブチルアミン等の
有機化合物等が挙げられ、その濃度は0.3〜3重量%
の範囲が好ましい。また有機化合物としては、酢酸ベン
ジル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト等のエスエル類、メチルイソブチルケトン等のケトン
類、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール等のアルコール類、 等が挙げられそ
の濃度は10重量%以下、好ましくは2−10重量%の
範囲から選ばれる。
【0014】本発明においては、特に下記組成のサブト
ラクト現像液が好適に使用できる。 ベンジルアルコール 1〜5重量% アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ 1〜5重量% モノエタノールアミン 0.5〜3重量% 水 90〜97重量%
ラクト現像液が好適に使用できる。 ベンジルアルコール 1〜5重量% アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ 1〜5重量% モノエタノールアミン 0.5〜3重量% 水 90〜97重量%
【0015】このような現像液は、オフセット印刷版原
版1平方メートル当り、通常50〜300m1程度とな
るように現像機に供給される。上述のアディティブ型現
像機に上述のサブトラクト型現像液を用いた場合に特に
好適な本発明のサブトラクト型オフセット印刷版は、支
持体上に少なくともジアゾ感光体およびバインダーを含
有する感光層を有する。支持体としては、特に限定され
ず公知の種々のものが使用されるが、アルミニウム板が
好ましく、さらに常法に従い、粗面化、陽極酸化処理等
の表面処理を行ったものが好ましく使用される。
版1平方メートル当り、通常50〜300m1程度とな
るように現像機に供給される。上述のアディティブ型現
像機に上述のサブトラクト型現像液を用いた場合に特に
好適な本発明のサブトラクト型オフセット印刷版は、支
持体上に少なくともジアゾ感光体およびバインダーを含
有する感光層を有する。支持体としては、特に限定され
ず公知の種々のものが使用されるが、アルミニウム板が
好ましく、さらに常法に従い、粗面化、陽極酸化処理等
の表面処理を行ったものが好ましく使用される。
【0016】バインダーとしては特開昭61−1446
42号、特公昭52−7364号、特公昭57−438
90号各公報等に記載されているような公知のアクリル
共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂
等のバインダーが使用される。なかでも、水酸基を有す
るアクリル共重合体が好ましく、更には4−ヒドロキシ
フェニルメタクリルアミドまたは2−ヒドロキシエチル
メタクリレートの共重合体が好ましい。
42号、特公昭52−7364号、特公昭57−438
90号各公報等に記載されているような公知のアクリル
共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂
等のバインダーが使用される。なかでも、水酸基を有す
るアクリル共重合体が好ましく、更には4−ヒドロキシ
フェニルメタクリルアミドまたは2−ヒドロキシエチル
メタクリレートの共重合体が好ましい。
【0017】共重合体における4−ヒドロキシフェニル
メタクリルアミドのモル比は5〜20%、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレートのモル比は20〜50%が好ま
しく、その他の共重合体成分としてはアルキルアクリレ
ート、アルキルメタクリレート、メタクリル酸、N−ビ
ニルピロリドン、アクリロニトリル 等を適宣用い
ることができる。
メタクリルアミドのモル比は5〜20%、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレートのモル比は20〜50%が好ま
しく、その他の共重合体成分としてはアルキルアクリレ
ート、アルキルメタクリレート、メタクリル酸、N−ビ
ニルピロリドン、アクリロニトリル 等を適宣用い
ることができる。
【0018】かかる共重合体の重量平均分子量は30,
000〜200,000が好ましく、感光層中5〜95
重量%、好ましくは20〜90重量%の範囲で添加して
使用される。ジアゾ感光体は 4−ジアゾニウム塩ジ
フェニルアミン、4−ジアゾニウム塩−4’−メトキシ
ジフェニルアミン、4−ジアゾニウム塩−4’−メチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾニウム塩−4’−クロロ
ジフェニルアミン、3−ジアゾニウム塩4,4’−ジメ
チルジフェニルアミン、4−ジアゾニウム塩−2−カル
ボキシジフェニルアミン、1−ジアゾニウム塩−2−フ
ェノキシ−5−クロロベンゼン、1−ジアゾニウム塩−
4−N,N’−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾニ
ウム塩−4−モルフォリノベンゼン等のジアゾニウム基
を有する芳香族化合物とフェノール、4−ヒドロキシ安
息香酸、1,4−ジメチロール−ベンゼン、4−ヒドロ
キシ桂皮酸2−フェノキシ−エタノール等のジアゾニウ
ム基を有せず、水酸基及び/またはカルボキシル基を有
する芳香族化合物とを混合しホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ブチルアルデヒド等の活性カルボニル化合
物と硫酸等の触媒にて縮合させることにより得られる。
000〜200,000が好ましく、感光層中5〜95
重量%、好ましくは20〜90重量%の範囲で添加して
使用される。ジアゾ感光体は 4−ジアゾニウム塩ジ
フェニルアミン、4−ジアゾニウム塩−4’−メトキシ
ジフェニルアミン、4−ジアゾニウム塩−4’−メチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾニウム塩−4’−クロロ
ジフェニルアミン、3−ジアゾニウム塩4,4’−ジメ
チルジフェニルアミン、4−ジアゾニウム塩−2−カル
ボキシジフェニルアミン、1−ジアゾニウム塩−2−フ
ェノキシ−5−クロロベンゼン、1−ジアゾニウム塩−
4−N,N’−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾニ
ウム塩−4−モルフォリノベンゼン等のジアゾニウム基
を有する芳香族化合物とフェノール、4−ヒドロキシ安
息香酸、1,4−ジメチロール−ベンゼン、4−ヒドロ
キシ桂皮酸2−フェノキシ−エタノール等のジアゾニウ
ム基を有せず、水酸基及び/またはカルボキシル基を有
する芳香族化合物とを混合しホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ブチルアルデヒド等の活性カルボニル化合
物と硫酸等の触媒にて縮合させることにより得られる。
【0019】ジアゾ感光体に於けるジアゾニウム基を有
する芳香族ユニットとジアゾニウム基を有しない芳香族
ユニットとの割合は40〜90モル%対60〜10モル
%の範囲のものが好ましく、更には50〜80モル%対
50〜20モル%が好ましい。特に4−ジアゾニウム塩
−ジフェニルアミンと4−ヒドロキシ安息香酸とホルム
アルデヒドとの縮合によって得られる複合ジアゾ感光体
が好ましい。
する芳香族ユニットとジアゾニウム基を有しない芳香族
ユニットとの割合は40〜90モル%対60〜10モル
%の範囲のものが好ましく、更には50〜80モル%対
50〜20モル%が好ましい。特に4−ジアゾニウム塩
−ジフェニルアミンと4−ヒドロキシ安息香酸とホルム
アルデヒドとの縮合によって得られる複合ジアゾ感光体
が好ましい。
【0020】ジアゾニウム塩のアニオン成分としては、
有機溶媒可溶のヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロほ
う酸、P−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸な
どが使用可能であるが、特にヘキサフルオロ燐酸が望ま
しい。ジアゾ感光体の重量平均分子量は1000から5
000の範囲、更に好ましくは2000〜4000の範
囲が望ましい。かかるジアゾ感光体の感光層に於ける濃
度は5重量%以上50重量%以下であることが好まし
い。
有機溶媒可溶のヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロほ
う酸、P−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸な
どが使用可能であるが、特にヘキサフルオロ燐酸が望ま
しい。ジアゾ感光体の重量平均分子量は1000から5
000の範囲、更に好ましくは2000〜4000の範
囲が望ましい。かかるジアゾ感光体の感光層に於ける濃
度は5重量%以上50重量%以下であることが好まし
い。
【0021】本発明の感光層には、更にジアゾ感光体の
保存安定性を維持する為に、特公昭57−8460号公
報等に記載されているようは安定剤を添加することがで
きる。代表的な安定材としてはポリアクリル酸、酒石
酸、クエン酸、蓚酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタリン
スルホン酸等の有機化合物、燐酸、亜燐酸、塩化亜鉛等
の無機化合物が挙げられる。
保存安定性を維持する為に、特公昭57−8460号公
報等に記載されているようは安定剤を添加することがで
きる。代表的な安定材としてはポリアクリル酸、酒石
酸、クエン酸、蓚酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタリン
スルホン酸等の有機化合物、燐酸、亜燐酸、塩化亜鉛等
の無機化合物が挙げられる。
【0022】これらの安定材の添加量は感光層中1重量
%から20重量%の範囲が好ましい。感光層にはさらに
画像部を着色するため特公昭40−2203号公報に記
載されているような色材を添加することができる。代表
的な色材としてはアクリジン染料、シアニン染料、スチ
ル染料、トリフェニルメタン染料などの染料類、フタロ
シアニンなどの顔料類、露光による可視化を目的とする
アジド化合物、スピロピラン化合物などが挙げられる。
%から20重量%の範囲が好ましい。感光層にはさらに
画像部を着色するため特公昭40−2203号公報に記
載されているような色材を添加することができる。代表
的な色材としてはアクリジン染料、シアニン染料、スチ
ル染料、トリフェニルメタン染料などの染料類、フタロ
シアニンなどの顔料類、露光による可視化を目的とする
アジド化合物、スピロピラン化合物などが挙げられる。
【0023】これらの色材は感光層中1重量%から10
重量%のはんいで適宜添加することができる。感光層を
支持体上に形成するには、溶媒に感光成分を溶解させた
感光液を作成しホワラー、ロールコーター、ダイコータ
ー、カーテンコーターなどの方法で塗布すれがよい。溶
媒としては特に限定されないが、エタノール、ブタノー
ルなどのアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテートなどのセロソルブ類、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトンなどのケトン類、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチルなど
のエステル類が挙げられる。
重量%のはんいで適宜添加することができる。感光層を
支持体上に形成するには、溶媒に感光成分を溶解させた
感光液を作成しホワラー、ロールコーター、ダイコータ
ー、カーテンコーターなどの方法で塗布すれがよい。溶
媒としては特に限定されないが、エタノール、ブタノー
ルなどのアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテートなどのセロソルブ類、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトンなどのケトン類、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチルなど
のエステル類が挙げられる。
【0024】感光層を塗布する支持体は特公昭57−2
2036号、特公昭57−16918号、特公昭57−
49638号各公報等に記載されているように、機械的
な粗面化、または0.3〜3重量%塩酸、あるいは、
0.5〜5重量%硝酸電解液中で電気化学的に粗面化さ
れた後、10〜50重量%硫酸、あるいは、10〜50
重量%燐酸電解液中でアルマイト処理され、更に熱水、
珪酸ソーダ、亜硝酸ソーダ等で封孔処理されたものが望
ましい。
2036号、特公昭57−16918号、特公昭57−
49638号各公報等に記載されているように、機械的
な粗面化、または0.3〜3重量%塩酸、あるいは、
0.5〜5重量%硝酸電解液中で電気化学的に粗面化さ
れた後、10〜50重量%硫酸、あるいは、10〜50
重量%燐酸電解液中でアルマイト処理され、更に熱水、
珪酸ソーダ、亜硝酸ソーダ等で封孔処理されたものが望
ましい。
【0025】感光層の厚みは0.5μm以上5μm以下
となるように塗布するのが望ましい。このようにして得
られた感光性平版印刷版は透明ネガ原図を通して超高圧
水銀灯、メタルハライド灯、キセノン灯などで露光され
たのち前述の現像方式の自動現像機により現像処理さ
れ、良好な印刷版が得られる。
となるように塗布するのが望ましい。このようにして得
られた感光性平版印刷版は透明ネガ原図を通して超高圧
水銀灯、メタルハライド灯、キセノン灯などで露光され
たのち前述の現像方式の自動現像機により現像処理さ
れ、良好な印刷版が得られる。
【0026】
【実施例】以下に実施例および合成例を挙げて本発明を
更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り以下の実施例になんら制限されるものではない。 <合成例1> PHX(アクリル共重合体)合成
更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り以下の実施例になんら制限されるものではない。 <合成例1> PHX(アクリル共重合体)合成
【0027】4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド
(HYPMA)、アクリロニトリル(AN)、エチルア
クリレート(EA)、メタクリル酸(MAA)の共重合
体を、特開昭61−144642号公報記載の合成例に
従って合成した。得られたポリマーの重量平均分子量は
ゲルパーミェーションクロマトグラフィ(GPC)測定
により86000であることが確認された。共重合体の
モル組成は核磁気共鳴装置(NMR)によりHYPMA
14%、AN25%、EA50%、MAA11%であっ
た。
(HYPMA)、アクリロニトリル(AN)、エチルア
クリレート(EA)、メタクリル酸(MAA)の共重合
体を、特開昭61−144642号公報記載の合成例に
従って合成した。得られたポリマーの重量平均分子量は
ゲルパーミェーションクロマトグラフィ(GPC)測定
により86000であることが確認された。共重合体の
モル組成は核磁気共鳴装置(NMR)によりHYPMA
14%、AN25%、EA50%、MAA11%であっ
た。
【0028】<合成例2>
PHEMA(アクリル共重合体)合成
2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ア
クリロニトリル(AN)、メチルメタクリレート(MM
A)、メタクリル酸(MAA)の共重合体を特開昭60
−64351号公報記載の実施例2に従って合成した。
クリロニトリル(AN)、メチルメタクリレート(MM
A)、メタクリル酸(MAA)の共重合体を特開昭60
−64351号公報記載の実施例2に従って合成した。
【0029】得られたポリマーの重量平均分子量はGP
C測定により160000であることが確認された。共
重合体のモル組成はHEMA50%、AN20%、MM
A25%、MAA25%であった。
C測定により160000であることが確認された。共
重合体のモル組成はHEMA50%、AN20%、MM
A25%、MAA25%であった。
【0030】<合成例3>
ジアゾ感光体(DR)合成
p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g(50m
モル)を氷冷下で40gの濃硫酸に溶解後、1.05g
(35mモル)のパラホルムアルデヒドをゆっくり添加
し反応温度が10°Cを超えないようにした。2時間氷
冷下で撹拌を続けた後、500mlのエタノールに滴下
し、生じた沈澱濾別した。エタノールで沈澱を洗浄した
後、100mlの水に溶解させ、6.8gの塩化亜鉛を
溶解した水溶液を加えた。生じた沈澱を濾別した後、エ
タノールで洗浄し、25°Cで3時間乾燥してジアゾ樹
脂塩化亜鉛複塩15gを得た。この複塩15gを150
mlの水に溶解させた後、8gのヘキサフルオロ燐酸ア
ンモニウムを溶解した水溶液を加え、生じた沈澱を濾別
し、水、ついでエタノールで洗浄した後、25°Cにて
一晩減圧乾燥して、ジアゾ樹脂ヘキサフルオロ燐酸塩1
2.5gを得た。得られたDR樹脂の重量平均分子量は
2100であった。
モル)を氷冷下で40gの濃硫酸に溶解後、1.05g
(35mモル)のパラホルムアルデヒドをゆっくり添加
し反応温度が10°Cを超えないようにした。2時間氷
冷下で撹拌を続けた後、500mlのエタノールに滴下
し、生じた沈澱濾別した。エタノールで沈澱を洗浄した
後、100mlの水に溶解させ、6.8gの塩化亜鉛を
溶解した水溶液を加えた。生じた沈澱を濾別した後、エ
タノールで洗浄し、25°Cで3時間乾燥してジアゾ樹
脂塩化亜鉛複塩15gを得た。この複塩15gを150
mlの水に溶解させた後、8gのヘキサフルオロ燐酸ア
ンモニウムを溶解した水溶液を加え、生じた沈澱を濾別
し、水、ついでエタノールで洗浄した後、25°Cにて
一晩減圧乾燥して、ジアゾ樹脂ヘキサフルオロ燐酸塩1
2.5gを得た。得られたDR樹脂の重量平均分子量は
2100であった。
【0031】<合成例4>
複合ジアゾ感光体(DHR)合成
p−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩11g(37.5m
モル)、p−ヒドロキシ安息香酸1.73g(12.5
mモル)を氷冷下で44gの濃硫酸に溶解後、1.4g
(45mモル)のパラホルムアルデヒドをゆっくり添加
し、10°C以下に冷却しながら縮合反応を行った。2
時間氷冷下で撹拌を続けた後、340mlのエタノール
に滴下し重合物を折出させ濾別した。エタノールで沈澱
を洗浄後、90mlの水に溶解させ、6.6gの塩化亜
鉛を溶解させた水溶液を加え、生じた沈澱を濾別した
後、エタノールで洗浄した。この沈殿を200mlの水
に溶解させ、燐弗化アンモニウム6.1gを溶解させた
水溶液を加えて塩交換反応を行い、アセトンを滴下させ
ながら沈澱させ濾別後、水、エタノールで洗浄し、25
°C減圧下で一晩乾燥して、ジアゾ単位とヒドロキシ安
息香酸単位とをそれぞれ75モル%、25モル%の割合
で有する複合ジアゾ感光体9.8gを得た。得られたD
HR樹脂の重量平均分子量は3000であった。
モル)、p−ヒドロキシ安息香酸1.73g(12.5
mモル)を氷冷下で44gの濃硫酸に溶解後、1.4g
(45mモル)のパラホルムアルデヒドをゆっくり添加
し、10°C以下に冷却しながら縮合反応を行った。2
時間氷冷下で撹拌を続けた後、340mlのエタノール
に滴下し重合物を折出させ濾別した。エタノールで沈澱
を洗浄後、90mlの水に溶解させ、6.6gの塩化亜
鉛を溶解させた水溶液を加え、生じた沈澱を濾別した
後、エタノールで洗浄した。この沈殿を200mlの水
に溶解させ、燐弗化アンモニウム6.1gを溶解させた
水溶液を加えて塩交換反応を行い、アセトンを滴下させ
ながら沈澱させ濾別後、水、エタノールで洗浄し、25
°C減圧下で一晩乾燥して、ジアゾ単位とヒドロキシ安
息香酸単位とをそれぞれ75モル%、25モル%の割合
で有する複合ジアゾ感光体9.8gを得た。得られたD
HR樹脂の重量平均分子量は3000であった。
【0032】<製造例1>
ブラシ研磨砂目板の作成
アルミニウム板をナイロンブラシと40メッシュのパミ
ストン懸濁液とを用いて砂目だてした。ついで、5%カ
セイソーダ水溶液中で50°C、10秒間エッチング
し、水洗後、10%硝酸で中和、洗浄した。次に30%
硫酸浴中で30°C、2.5A/dm2にて2分間陽極
酸化処理を行ったのち、2%メタ珪酸ソーダ水溶液中で
80°C、20秒間封孔処理し、ブラシ砂目板を得た。
ストン懸濁液とを用いて砂目だてした。ついで、5%カ
セイソーダ水溶液中で50°C、10秒間エッチング
し、水洗後、10%硝酸で中和、洗浄した。次に30%
硫酸浴中で30°C、2.5A/dm2にて2分間陽極
酸化処理を行ったのち、2%メタ珪酸ソーダ水溶液中で
80°C、20秒間封孔処理し、ブラシ砂目板を得た。
【0033】<製造例2>
電解研磨砂目板の作成
アルミニウム板を2%塩酸浴中で、25°C、50A/
dm2の電流密度で1分間電解研磨した後、5%カセイ
ソーダ水溶液中で40°C、10秒間デスマットし、水
洗した。ついで製造例1と同一条件にて陽極酸化、封孔
処理し、電解研磨砂目板を得た。
dm2の電流密度で1分間電解研磨した後、5%カセイ
ソーダ水溶液中で40°C、10秒間デスマットし、水
洗した。ついで製造例1と同一条件にて陽極酸化、封孔
処理し、電解研磨砂目板を得た。
【0034】
【実施例1】下記の組成の感光液を作成し、製造例1の
ブラシ研磨法により得られた砂目板に1g/m2の感光
膜厚になるようホワラー塗布を行った。 アクリル共重合体(PHX合成例) 20g 複合ジアゾ感光体(DHR合成例) 4g ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化学社製) 0.4g ポリアクリル酸AC20L(日本純薬社製) 0.2g メチルセロソルブ 500g
ブラシ研磨法により得られた砂目板に1g/m2の感光
膜厚になるようホワラー塗布を行った。 アクリル共重合体(PHX合成例) 20g 複合ジアゾ感光体(DHR合成例) 4g ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化学社製) 0.4g ポリアクリル酸AC20L(日本純薬社製) 0.2g メチルセロソルブ 500g
【0035】次に下記の組成のサブトラクト型現像液を
アディティブ用現像装置(“LITHOPLATER−
D“、アメリカWestern Lithotech
製)のタンクに入れた。 メタ珪酸ソーダ 40g ベンジルアルコール 20g 水 1000g
アディティブ用現像装置(“LITHOPLATER−
D“、アメリカWestern Lithotech
製)のタンクに入れた。 メタ珪酸ソーダ 40g ベンジルアルコール 20g 水 1000g
【0036】先に塗布した平版印刷原版にネガフィルム
にて350mj/cm2のUV光線を照射後、下記の条
件にて“LITHOPLATER−D“にて現像処理を
行った。 ブラシ形状 14cm径UNFLAGG
EDブラシ(左右、前後に2個ずつ、計4個装着) ブラシ回転速度 307rpm ブラシ往復運動 23往復/分 感光性平版印刷版搬送速度 3.5フィート/分 ブラシ圧 0.23ポンド/平方イン
チ
にて350mj/cm2のUV光線を照射後、下記の条
件にて“LITHOPLATER−D“にて現像処理を
行った。 ブラシ形状 14cm径UNFLAGG
EDブラシ(左右、前後に2個ずつ、計4個装着) ブラシ回転速度 307rpm ブラシ往復運動 23往復/分 感光性平版印刷版搬送速度 3.5フィート/分 ブラシ圧 0.23ポンド/平方イン
チ
【0037】得られた印刷版の網点再現領域を調べたと
ころ、150スクリーンにて1%から99%までが再現
されており、かつ50%での点太りも4.5%と良好な
ものであった。
ころ、150スクリーンにて1%から99%までが再現
されており、かつ50%での点太りも4.5%と良好な
ものであった。
【0038】
【比較例1】下記の組成の感光液を、1.5μmの厚さ
で実施例1と同様にホワラー塗布し感光性平版印刷版を
作成した。 アクリル共重合体(PHX合成例) 20g ジアゾ感光体(DR合成例) 2g ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化学社製) 0.4g ポリアクリル酸AC20L(日本純薬社製) 0.2g メチルセロソルブ 500g
で実施例1と同様にホワラー塗布し感光性平版印刷版を
作成した。 アクリル共重合体(PHX合成例) 20g ジアゾ感光体(DR合成例) 2g ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化学社製) 0.4g ポリアクリル酸AC20L(日本純薬社製) 0.2g メチルセロソルブ 500g
【0039】得られた感光性平版印刷版を実施例1と同
様な現像液、現像装置、現像条件にて処理したところ1
50スクリーンで10%以下の小さな網点は消失してい
た。また線画部分もブラシにより傷がついており、満足
すべき結果は得られなかった。
様な現像液、現像装置、現像条件にて処理したところ1
50スクリーンで10%以下の小さな網点は消失してい
た。また線画部分もブラシにより傷がついており、満足
すべき結果は得られなかった。
【0040】
【実施例2】下記の組成の感光液を、1.5μmの厚さ
で、製造例2の電解研磨法で作成した砂目にホワラー塗
布し感光性平版印刷版を作成した。 ポリビニルフォルマール(PVF合成例) 6g アクリル共重合体(PHEMA合成例) 14g 複合ジアゾ感光体(DHR合成例) 2g ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化学社製) 0.4g 酒石酸 2.0g 乳酸メチル 500g
で、製造例2の電解研磨法で作成した砂目にホワラー塗
布し感光性平版印刷版を作成した。 ポリビニルフォルマール(PVF合成例) 6g アクリル共重合体(PHEMA合成例) 14g 複合ジアゾ感光体(DHR合成例) 2g ビクトリアピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化学社製) 0.4g 酒石酸 2.0g 乳酸メチル 500g
【0041】次に下記の組成の現像液を作成し、アディ
ティブ用自動現像機“LITHOPLATER−G
“(Western Lithohech製)に供給し
た。 ベンジルアルコール 3.5% アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ 3.0% モノエタノールアミン 2.0% 水 91.5%
ティブ用自動現像機“LITHOPLATER−G
“(Western Lithohech製)に供給し
た。 ベンジルアルコール 3.5% アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ 3.0% モノエタノールアミン 2.0% 水 91.5%
【0042】先に塗布した感光性平版印刷版を40°
C、80%相対湿度のオーブンに5日間放置後、ネガフ
ィルムを通して350mj/cm2のUV光線を照射
後、下記の条件にて”LITHOPLATER−G”に
て現像処理を行った。 ブラシ形状 14cm径FLAGGED
ブラシ(左右、前後に2個ずつ、計4個装着) ブラシ回転速度 300rpm ブラシ往復運動 25往復/分 PS版搬送速度 2.5フィート/分 ブラシ圧 0.23ポンド/平方イン
チ
C、80%相対湿度のオーブンに5日間放置後、ネガフ
ィルムを通して350mj/cm2のUV光線を照射
後、下記の条件にて”LITHOPLATER−G”に
て現像処理を行った。 ブラシ形状 14cm径FLAGGED
ブラシ(左右、前後に2個ずつ、計4個装着) ブラシ回転速度 300rpm ブラシ往復運動 25往復/分 PS版搬送速度 2.5フィート/分 ブラシ圧 0.23ポンド/平方イン
チ
【0043】同様な現像液、現像装置、現像条件にて処
理したところ150スクリーンにて1%から98%まで
の網点が再現されていた。
理したところ150スクリーンにて1%から98%まで
の網点が再現されていた。
【0044】
【比較例2】下記の組成の感光液を用意し、製造例2の
電解研磨法で作成された砂目板に1.5μmの膜厚にな
るようホワラー塗布を行い感光性平版印刷版を得た。 アクリル共重合体(PHEMA合成例) 14g ポリビニルフォルマール(PVF合成例) 6g ジアゾ感光体(DR合成例) 4g ビクトリアピュアーブルーBOH 0.4g 酒石酸 0.2g 乳酸メチル 500g
電解研磨法で作成された砂目板に1.5μmの膜厚にな
るようホワラー塗布を行い感光性平版印刷版を得た。 アクリル共重合体(PHEMA合成例) 14g ポリビニルフォルマール(PVF合成例) 6g ジアゾ感光体(DR合成例) 4g ビクトリアピュアーブルーBOH 0.4g 酒石酸 0.2g 乳酸メチル 500g
【0045】得られた感光性平版印刷版を40°C、相
対湿度80%のオーブンに5日間放置後、実施例2と同
じ現像液、現像装置、現像条件にて処理したところ15
0スクリーンにて5%以下の小点が消失していた。また
ベタ画像部にはブラシによる傷が多数発生しており、満
足すべき結果は得られなかった。
対湿度80%のオーブンに5日間放置後、実施例2と同
じ現像液、現像装置、現像条件にて処理したところ15
0スクリーンにて5%以下の小点が消失していた。また
ベタ画像部にはブラシによる傷が多数発生しており、満
足すべき結果は得られなかった。
【0046】
【比較例3】下記の組成の感光液を作成し、1μmの厚
さになるように前述の方法でブラシ研磨された砂目にホ
ワラーにて塗布を行った。 ポリビニルブチラール(PVB合成例) 20g 複合ジアゾ感光体(DHR合成例) 4g ビクトリアピュアーブルーBOH’ 0.4g ポリアクリル酸“AC20L”(日本純薬社製) 1g 乳酸メチル 500g
さになるように前述の方法でブラシ研磨された砂目にホ
ワラーにて塗布を行った。 ポリビニルブチラール(PVB合成例) 20g 複合ジアゾ感光体(DHR合成例) 4g ビクトリアピュアーブルーBOH’ 0.4g ポリアクリル酸“AC20L”(日本純薬社製) 1g 乳酸メチル 500g
【0047】次に下記の組成の現像液を作成し、アディ
ティブ用自動現像機“LITHOPLATER−G”
(Western Lithotech製)に供給し
た。 ベンジルアルコール 3.5% アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ 3.0% モノエタノールアミン 2.0% 水 91.5%
ティブ用自動現像機“LITHOPLATER−G”
(Western Lithotech製)に供給し
た。 ベンジルアルコール 3.5% アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ 3.0% モノエタノールアミン 2.0% 水 91.5%
【0048】先に塗布した平版印刷原版を40°C、8
0%相対湿度のオーブンに5日間放置後、ネガフィルム
を通して350mj/cm2のUV光線を照射後、下記
の条件にて“LITHOPLATER−G”にて現像処
理を行った。 ブラシ形状 14cm径FLAGGED
ブラシ(左右、前後に2個ずつ、計4個装着) ブラシ回転速度 300rpm ブラシ往復運動 25往復/分 感光性平版印刷版搬送速度 2.5フィート/分 ブラシ圧 0.23ポンド/平方イン
チ
0%相対湿度のオーブンに5日間放置後、ネガフィルム
を通して350mj/cm2のUV光線を照射後、下記
の条件にて“LITHOPLATER−G”にて現像処
理を行った。 ブラシ形状 14cm径FLAGGED
ブラシ(左右、前後に2個ずつ、計4個装着) ブラシ回転速度 300rpm ブラシ往復運動 25往復/分 感光性平版印刷版搬送速度 2.5フィート/分 ブラシ圧 0.23ポンド/平方イン
チ
【0049】得られた感光性平版印刷版の網点再現領域
は150スクリーンにて3%以下の小点が消失していた
にもかかわらず、非線画部分が完全に溶出せず感光層の
残存した薄い着色が認められた。
は150スクリーンにて3%以下の小点が消失していた
にもかかわらず、非線画部分が完全に溶出せず感光層の
残存した薄い着色が認められた。
【0050】
【発明の効果】以上説明した本発明に従い、複合ジアゾ
感光体および水酸基を有するアクリル共重合体を含有す
る感光層を有するサブトラクト型オフセット印刷版を使
用すれば、現在普及している特定方式のアディティブ型
自動現像機において、環境上問題の少ないサブトラクト
型現像液で良好な刷版を製作することができる。
感光体および水酸基を有するアクリル共重合体を含有す
る感光層を有するサブトラクト型オフセット印刷版を使
用すれば、現在普及している特定方式のアディティブ型
自動現像機において、環境上問題の少ないサブトラクト
型現像液で良好な刷版を製作することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 オフセット印刷版の感光層が少なくと
も複合ジアゾ感光体と水酸基を有するアクリル共重合体
とを含有することを特徴とするサブトラクト型オフセッ
ト印刷版。 - 【請求項2】 画像露光されたオフセット印刷版を自
動搬送させながら、現像液の存在下に現像ブラシを該オ
フセット印刷版に圧接させることによって、該オフセッ
ト印刷版が現像されることを特徴とする、特許請求の範
囲第1項記載のサブトラクト型オフセット印刷版。 - 【請求項3】 前記現像ブラシのサブトラクト型オフ
セット印刷版に対するブラシ圧が0.15〜0.45ポ
ンド/平方インチであることを特徴とする、特許請求の
範囲第2項記載のサブトラクト型オフセット印刷版。 - 【請求項4】 感光層に少なくとも複合ジアゾ感光体
と水酸基を有するアクリル共重合体を含有するサブトラ
クト型オフセット印刷版を画像露光し、該画像露光され
た印刷版を自動搬送させ、該搬送中の印刷版に現像液の
存在下、該印刷版平面と垂直な軸のまわりに回転しつ
つ、該印刷版の搬送方向と直角で、印刷版面と平行な軸
に沿って往復運動する現像ブラシを圧接させて、現像す
ることを特徴とするサブトラクト型オフセット印刷版の
製版方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3175532A JPH0519454A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | サブトラクト型オフセツト印刷版及びその製版方法 |
| PCT/JP1992/000906 WO1993002396A1 (en) | 1991-07-16 | 1992-07-16 | Process for processing subtractive offset plate |
| CA002091681A CA2091681A1 (en) | 1991-07-16 | 1992-07-16 | Process for processing subtractive offset plate |
| US07/988,940 US5436105A (en) | 1991-07-16 | 1992-07-16 | Method of making subtractive offset printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3175532A JPH0519454A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | サブトラクト型オフセツト印刷版及びその製版方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0519454A true JPH0519454A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15997720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3175532A Pending JPH0519454A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | サブトラクト型オフセツト印刷版及びその製版方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5436105A (ja) |
| JP (1) | JPH0519454A (ja) |
| CA (1) | CA2091681A1 (ja) |
| WO (1) | WO1993002396A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2785997B1 (fr) | 1998-11-17 | 2000-12-22 | Photomeca Egg | Perfectionnement a un procede pour la confection de cliches souples et dispositif pour la mise en oeuvre du perfectionnement |
| WO2017054827A1 (en) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | Glunz & Jensen | System for cleaning flexographic printing plates |
| JPWO2023008368A1 (ja) * | 2021-07-30 | 2023-02-02 | ||
| EP4239411A1 (en) * | 2022-03-04 | 2023-09-06 | Eco3 Bv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate precursor |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3682078A (en) * | 1968-07-18 | 1972-08-08 | Western Litho Plate & Supply | Apparatus for post-exposure treatment of lithographic plates |
| JPS5344202A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer composition and developing method |
| JPS5498614A (en) * | 1978-01-09 | 1979-08-03 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
| DE3220902A1 (de) * | 1982-06-03 | 1983-12-08 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Vorrichtung zum behandeln von nach photochemischen verfahren hergestellten flexiblen druckplatten |
| JPS59137954A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-08 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂版の現像装置 |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP3175532A patent/JPH0519454A/ja active Pending
-
1992
- 1992-07-16 CA CA002091681A patent/CA2091681A1/en not_active Abandoned
- 1992-07-16 US US07/988,940 patent/US5436105A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-16 WO PCT/JP1992/000906 patent/WO1993002396A1/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5436105A (en) | 1995-07-25 |
| WO1993002396A1 (en) | 1993-02-04 |
| CA2091681A1 (en) | 1993-01-17 |
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