JPH0521101B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0521101B2
JPH0521101B2 JP2497585A JP2497585A JPH0521101B2 JP H0521101 B2 JPH0521101 B2 JP H0521101B2 JP 2497585 A JP2497585 A JP 2497585A JP 2497585 A JP2497585 A JP 2497585A JP H0521101 B2 JPH0521101 B2 JP H0521101B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
poly
mono
oxyethyl
ethanol
hydroxyethyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2497585A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61186351A (ja
Inventor
Kimio Watabe
Masahiro Shiosaki
Kunio Ito
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nisso Petrochemical Ind Co Ltd
Original Assignee
Nisso Petrochemical Ind Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nisso Petrochemical Ind Co Ltd filed Critical Nisso Petrochemical Ind Co Ltd
Priority to JP60024975A priority Critical patent/JPS61186351A/ja
Priority to DE8585112572T priority patent/DE3580827D1/de
Priority to AT85112572T priority patent/ATE58972T1/de
Priority to EP85112572A priority patent/EP0177905B1/de
Priority to KR1019850007406A priority patent/KR930010775B1/ko
Priority to US06/785,518 priority patent/US4729941A/en
Priority to CA000492431A priority patent/CA1257610A/en
Publication of JPS61186351A publication Critical patent/JPS61186351A/ja
Publication of JPH0521101B2 publication Critical patent/JPH0521101B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光硬化性あるいは光分解性樹脂からな
るフイルム・シート等の食刻剤、剥離剤等のある
いは特に清純度が要求されるガラス製品等の洗滌
等に有用な新規化合物の製造方法に関する。
（従来技術） 一般にフオトレジストとして利用されている、
光等によつて硬化あるいは分離される樹脂膜の食
刻剤あるいは剥離剤としてテトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイドやコリン等の有機性の強
アルカリ性の物質が使用されている。（例えば、
特開昭56−35424号公報参照）又、特に清潔度が
要求されるガラス器具等の洗浄剤として、上記の
如き強アルカリ性化合物が使用されている。
しかしながら、かような強アルカリ性の化合物
のうち、公知のものは、種々の要求性能をすべて
満たすものが殆どみられない現状に鑑み、本発明
者らは公知文献未記載の化合物である２−ヒドロ
キシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシエチ
ル）トリアルキルアンモニウムハイドロオキサイ
ドを提案した。（特願昭59−211742号（特開昭61
−91156号公報）参照）。
（発明が解決しようとする問題点） 上述の化合物は前述の如く公知文献未記載の化
合物であるため、その有利な製造方法はなきに等
しく、本発明以前わずかにドイツ特許398010号に
本発明の目的とする化合物の中間体である２−ヒ
ドロキシエトキシエチルトリメチルアンモニウム
ハライドを２−ヒドロキシエトキシエチルジメチ
ルアミンと取り扱いの難しいメチルハライドから
製造された例がみられるだけである。
（問題を解決するための手段） 以上の点を考慮して該新規化合物の有利な製法
について鋭意検討の結果、本発明に到達した。す
なわち本発明はトリアルキルアミンと２−ハロ−
モノ及び／又はポリ（エトキシ）エタノールを溶
媒の存在下、50℃以上200℃以下の温度で反応さ
せた２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ
（オキシエチル）トリアルキルアンモニウムハラ
イドを分離し、溶剤を用いて精製後、該アンモニ
ウムハライドのハロゲンイオンを水酸イオンと交
換することを特徴とする下記一般式〔〕にて示
される２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポ
リ（オキシエチル）トリアルキルアンモニウムハ
イドロオキサイドの製造法である。
〔ここに、Ｒ、R′、R″は夫々同じか異なる炭素
数１〜５のアルキル基を、ｎは１以上４以下の正
数を示す。〕 本発明方法を実施するに当り、使用する原料の
１つは前述の如く、トリアルキルアミンであり、
該アルキル基は同一か夫々異なる炭素数１〜５の
ものが好ましい。該アルキル基の炭素数が６をこ
えると、アルキル基自体の重量が増加し、前記一
般式〔〕にて示される化合物中に占める重量が
増え、例えば一定の含有率をもつ溶液を想定した
場合アルカリ当量が減少するため好ましくない。
同様の理由から３個のアルキル基がすべてメチル
基であるアミンが更に好ましい。他の原料である
２−ハロ−モノ及び／又はポリ（エトキシ）エタ
ノールは下記一般式〔〕にて示される化合物で
ある。
Ｘ（―CH2CH2O）―oCH2CH2OH ……〔〕 〔ここにＸはハロゲン原子を、ｎは１〜４の正数
を示す。〕 ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子が
好ましいが、該元素が本発明の目的とする一般式
〔〕にて示される化合物に関与しないことを考
慮すれば、重量の少ない塩素原子が更に好まし
い。一般式〔〕中に示されるｎが５以上になる
と前述と同様目的とする化合物のアルカリ当量に
関与し好ましくない。これらの化合物としては、
２−クロロエトキシエタノール、２−プロモエト
キシエタノール、２−クロロエトキシエタノー
ル、２−プロモエトキシエトキシエタノール、２
−クロロエトキシージ（エトキシ）エタノール、
２−プロモエトキシエトキシエタノール、２−ク
ロロエトキシージ（エトキシ）エタノール、２−
ブロモエトキシージ（エトキシ）エタノール、２
−クロロエトキシートリ（エトキシ）エタノー
ル、および２−プロモエトキシートリ（エトキ
シ）エタノール等を例示出来る。これらは単体あ
るいは混合物として使用出来る。
本発明の方法は以下の反応式に従つて実施され
る。
まず(i)式の実施にあたつては所定量のトリアル
キルアミンを所定量の溶媒に溶解させ、50℃以上
200℃以下の所定温度で、一般式〔〕で示され
る化合物を少量ずつ連続的にあるいは間歇的に加
え、更に所定温度で反応を継続させる。
一般式〔〕にて示される化合物のトリアルキ
ルアミンに対するモル数は0.8〜1.0の範囲が好ま
しい。0.8未満であると、未反応のトリアルキル
アミンが大量に該アンモニウムクロライドに混入
し、好ましくなく、又、1.0をこえての使用は必
要がない。この化合物の反応系への添加方法は少
量ずつ添加することが好ましい。余りに速く添加
しすぎると、系内に過剰に存在し該化合物が分解
し酸性物質が生成したりして好ましくない。
(i)式で示される反応を円滑に進めるには該反応
に関与しない溶媒の存在が必要であるが、その溶
媒としては炭素数１〜３のアルコールが好まし
い。溶媒の使用量は特に限定はないが、反応速
度、後述の濃縮工程等を考慮すれば用いるトリア
ルキルアミンの10倍重量以下が好ましい。
(i)式で示される反応は50℃以上200℃以下の温
度で行われることが好ましく、50℃未満では反応
速度が極端に小さくなり実用に適さず、又200℃
をこえると原料あるいは生成物の分解が生じる傾
向がみられ好ましくない。
上述の反応は用いる２種類の原料、温度によつ
て常圧下、加圧下にて進められるがいずれの場合
もチツ素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行うべき
である。
前述した如き条件下で(i)式にて示される反応を
完了させた後、使用した溶媒を例えば蒸溜等によ
つて除去すると、該アンモニウムハライドは非晶
状態ないしは粘稠な液体で得られ、しかも未反応
の原料等を含有している。かような低純度のアン
モニウムハライドを用い、式(ii)に示される反応を
行うと、対応するアンモニウムハイドロオキサイ
ドの収率が低下するだけでなく、該ハイドロオキ
サイドの性状に起因し、精製が極めて難しく、前
述の如き用途に使用しうるものは得られない。従
つて、この低純度のアンモニウムハライドを精製
して前述の(ii)式に示される反応に供するべきであ
る。この精製は低純度アンモニウムハライドを結
晶化させることによつて行うことが好ましく、結
晶化剤としては炭素数３〜８のケトン類、たとえ
ばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等；炭素数３〜８のエーテル類、たと
えばジオキサン、テトラヒドロフラン等が好まし
い。この結晶化剤の使用量は前述の非晶低純度ア
ンモニウムハライドに対して等重量〜２倍重量が
好ましい。
かくして得られる２−ヒドロキシエチル−モノ
及び／又はポリ（オキシエチル）トリアルキルア
ンモニウムハライドの高純度結晶を前述の(ii)式に
従い水又は脂肪族低級アルコール等に溶解し、陰
イオン交換を行い対応するアンモニウムハイドロ
オキサイドを製造する。陰イオン交換方法につい
ては特に限定はないが、陰イオン交換樹脂を用い
る方法、電気分解法、金属水酸化物を用いる方法
等を例示出来る。例えば陰イオン交換樹脂を用い
る方法について、略記すれば、前記の如く製造さ
れた２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ
（オキシエチル）トリアルキルアンモニウムハラ
イドを適当な濃度の水溶液となし、あらがじめ再
生、水洗しておいた陰イオン交換樹脂を充填した
交換塔に任意の空間速度にて通液すると２−ヒド
ロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシエチ
ル）トリアルキルアンモニウムハイドロオキサイ
ド水溶液が得られ、目的に応じて濃縮あるいは希
釈して使用する。
本発明方法に従い製造される一般式〔〕にて
示される２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又は
ポリ（オキシエチル）トリアルキルアンモニウム
ハイドロオキサイドは前述の如く、公知文献未記
載の新規化合物であり、その確認は公知文献「有
機微量定量分析」（有機微量分析懇談会編集、南
江堂発行）に述べられる方法を用いて行つたがそ
の詳細は後述する実施例の項に記載される。
（実施例） 以下に実施例を挙げ本発明を更に詳しく説明す
る。なお、以下に部と記すのは特に明記のない限
り重量部を示す。
実施例 １ （２−ヒドロキシエトキシエチルトリメチルア
ンモニウムハイドロオキサイドの製造例） 内容量1000mlの耐圧容器にメタノール400部、
トリメチルアミン145.6部を仕込み、100℃に加熱
後２−（2′−クロロエトキシ）エタノール250部を
１時間かけて添加し、更に同温度にて４時間撹拌
を続けて反応を終了した。
そのあと、反応混合物からメタノールを減圧蒸
溜除去した所、粘稠な液体が得られた。この液体
にアセトン600部を加えることにより２−ヒドロ
キシエトキシエチルトリメチルアンモニウムクロ
ライドを結晶化・精製し、公知の方法でこの結晶
を単離乾燥した所、その重量は352部であつた。
（収率96％） 次にこの結晶160部を純水に溶解し全量を2000
部とし、これを前もつて再生しておいた陰イオン
交換樹脂〔ダイヤイオンSA−10A（三菱化成工業
株式会社製）のOHタイプ〕1400mlを充填した交
換塔にSV＝２の速さで通液し２−ヒドロキシエ
トキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオ
キサイドを6.0重量％含む水溶液を2340部得た。
（２−ヒドロキシエトキシエチルトリメチルア
ンモニウムハイドロオキサイドの確認） 前述のイオン交換塔から流出してきた水溶液に
テトラフエニルホウ素ナトリウム水溶液を加えた
所、沈澱が生じた。この沈澱は前述の文献から下
記(iii)式に従つて生じたと推定されることから該水
溶液中にはアンモニウムハイドロオキサイドの存
在が考えられた。
〔（CH3）3NCH2CH2OCH2CH2OH〕 OH ＋〔（C6H5）4B〕Na→〔（CH3）3NCH2CH2OCH2CH2OH〕
〔（C6H5）4B〕 ＋NaOH −(iii) 次に、前述のイオン交換塔からの流出液にリン
タングステン酸を加え生じた沈澱を乾燥、定量後
約800℃で熱分解した所、リンタングステン酸無
水物が得られた。すなわち、下記(iv)式及び(v)式に
従い ３〔（CH3）3NCH2CH2OCH2CH2OH〕 OH ＋H3PO4・12WO3 →〔（CH3）3NCH2CH2OCH2CH2OH〕3PO4・12WO3
＋3H2O−(iv) 〔（CH3）3NCH2CH2OCH2CH2OH〕3PO4・12WO3△ ―――→ 800℃HPO3・12WO3 −(v) 反応が進行し、この方法で分析した２−ヒドロ
キシエトキシエチルトリメチルアンモニウムハイ
ドロオキサイドの分子量は167.2た算出された。
以上の定性定量分析結果から、２−ヒドロキシ
エトキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロ
オキサイドの生成・存在が確認された。
実施例 ２ 内容500mlの耐圧容器にメタノール200部トリメ
チルアミン94.5部を仕込み130℃に加熱後、２−
〔2′−（2″−クロロエトキシ）エトキシ〕エタノー
ル135部を１時間かけて添加し更に同温度で４時
間撹拌を続けて反応を終了した。そのあと実施例
１と同様の方法で結晶化させた所、２−〔2′−
（2″−ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕エチルト
リメチルアンモニウムクロライド205.0部が得ら
れた。（収率95％）。
上記のアンモニウムクロライド94.5部を純水に
溶解し全量を1000部としこれを実施例１に記載さ
れた方法と同様の方法でイオン交換したところ、
２−〔2′−（2″−ヒドロキシエトキシ）エトキシ〕
エチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ドを6.1重量％含む溶液1440部が得られた。
この溶液を用い、実施例１記載の方法で分析
し、上記化合物の生成・存在が確認された。
実施例 ３ 実施例１で製造された２−ヒドロキシエトキシ
エチルトリメチルアンモニウムクロライド80部の
エタノール150部に溶解した溶液に５重量％カセ
イカリエタノール溶液を該クロライドと等量加
え、30℃で１時間撹拌後生じた沈澱を別した。
この沈澱は塩化カリであり、その重量は31.9部で
あり、従つて該クロライドの98％がハイドロオキ
サイドに変換したと推定された。
この溶液に約2000部の水を加え、30mmHg程度
の減圧下でエタノールを出来る限り蒸溜除去しそ
のあと実施例１記載の方法で分析した所、２−ヒ
ドロキシエトキシエチルトリメチルアンモニウム
ハイドロオキサイドの生成・存在が確認された。
（発明の効果） 本発明は光硬化性あるいは光分解性樹脂の溶解
剤、食刻剤、剥離剤あるいはガラス製品等の前滌
剤等に有用な新規化合物の有利な製法である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ トリアルキルアミンと２−ハロ−モノ及び／
    又はポリ（エトキシ）エタノールを溶媒の存在
    下、50℃以上200℃以下の温度で反応させた２−
    ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシ
    エチル）トリアルキルアンモニウムハライドを分
    離し、溶剤を用いて精製後、該アンモニウムハラ
    イドのハロゲンイオンを水酸イオンと交換するこ
    とを特徴とする下記一般式〔〕にて示される２
    −ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキ
    シエチル）トリアルキルアンモニウムハイドロオ
    キサイドの製造方法。 〔ここに、Ｒ、R′、R″は夫々同じか異なる炭素
    数１〜５のアルキル基を、ｎは１以上４以下の正
    数を示す。〕 ２ トリアルキルアミンと２−ハローモノ及び／
    又はポリ（エトキシ）エタノールの反応に用いる
    溶媒が炭素数１〜３のアルコールである特許請求
    の範囲第１項記載の製造方法。 ３ ２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ
    （オキシエチル）トリアルキルアンモニウムハラ
    イドを精製するに際して炭素数３〜８のケトン
    類、又はエーテル類からなる溶剤を用いることを
    特許とする特許請求の範囲第１項又は第２項記載
    の製造方法。 ４ トリメチルアミンと２−クロロ−モノ及び／
    又はポリ（エトキシ）エタノールを炭素数１〜３
    からなるアルコール溶媒の存在下、50℃以上200
    ℃以下の温度で反応させた２−ヒドロキシエチル
    −モノ及び／又はポリ（オキシエチル）トリアル
    キルアンモニウムクロライドを分離し、炭素数３
    〜８のケトン類を用いて精製した後、該アンモニ
    ウムクロライドのクロルイオンを水酸イオンと交
    換することを特徴とする特許請求の範囲第１項、
    第２項又は第３項記載の製造方法。
JP60024975A 1984-10-09 1985-02-12 ２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシエチル）　トリアルキル　アンモニウムハイドロオキサイドの製造方法 Granted JPS61186351A (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60024975A JPS61186351A (ja) 1985-02-12 1985-02-12 ２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシエチル）　トリアルキル　アンモニウムハイドロオキサイドの製造方法
DE8585112572T DE3580827D1 (de) 1984-10-09 1985-10-04 Verfahren zum entwickeln und zum entschichten von photoresistschichten mit quaternaeren ammomiumverbindungen.
AT85112572T ATE58972T1 (de) 1984-10-09 1985-10-04 Verfahren zum entwickeln und zum entschichten von photoresistschichten mit quaternaeren ammomiumverbindungen.
EP85112572A EP0177905B1 (de) 1984-10-09 1985-10-04 Verfahren zum Entwickeln und zum Entschichten von Photoresistschichten mit quaternären Ammomiumverbindungen
KR1019850007406A KR930010775B1 (ko) 1984-10-09 1985-10-08 감광성내식막 처리액
US06/785,518 US4729941A (en) 1984-10-09 1985-10-08 Photoresist processing solution with quaternary ammonium hydroxide
CA000492431A CA1257610A (en) 1984-10-09 1985-10-08 Photoresist processing solution

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60024975A JPS61186351A (ja) 1985-02-12 1985-02-12 ２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシエチル）　トリアルキル　アンモニウムハイドロオキサイドの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61186351A JPS61186351A (ja) 1986-08-20
JPH0521101B2 true JPH0521101B2 (ja) 1993-03-23

Family

ID=12152974

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60024975A Granted JPS61186351A (ja) 1984-10-09 1985-02-12 ２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシエチル）　トリアルキル　アンモニウムハイドロオキサイドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61186351A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016131901A1 (en) 2015-02-18 2016-08-25 Jt International S.A. Filters for smoking articles having high additive(s) loadings

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016131901A1 (en) 2015-02-18 2016-08-25 Jt International S.A. Filters for smoking articles having high additive(s) loadings

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61186351A (ja) 1986-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4772754A (en) Process for the isolation of p-hydroxybenzaldehyde
JPH0521101B2 (ja)
JPS6160634A (ja) ２、４―ジクロロ―３―アルキル―６―ニトロフェノールの製造方法
US6140527A (en) Process for producing butyric ester derivatives
JP2000204094A (ja) アミンボランの製造方法
US20250214937A1 (en) A method for synthesis of halide salts
JPH0360826B2 (ja)
JPS6127980A (ja) オキシフラバン化合物の製造法
JP3011493B2 (ja) ４−アルキル−３−チオセミカルバジドの製造方法
JPH0550494B2 (ja)
JPS62288102A (ja) ジシアナミド金属塩の製造方法
JP3008552B2 (ja) 高品質テトラブロモビスフェノ−ルａの製造方法
JPH03169833A (ja) ２―ヒドロキシ―４―（２′―ヒドロキシエトキシ）―フエニルアリールケトンの製法
JP4212821B2 (ja) 高純度４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の製造方法
SU1014829A1 (ru) Способ получени тиогликолевой кислоты
JPS635050A (ja) α−ヒドロキシケトン類の製法
JPS6318941B2 (ja)
JPH023676A (ja) アミノアルキルチオール硫酸の製造法
JPH0637441B2 (ja) ３―ハロ―２―ヒドロキシプロピルトリアルキルアンモニウムハライド水溶液の製造法
JP4032825B2 (ja) ３，４−ジヒドロキシベンゾニトリルを製造する方法
JPH054923B2 (ja)
JPS6337104B2 (ja)
JPS60169493A (ja) ５−デオキシ−ｌ−アラビノ−スの製造法
JPS6087258A (ja) メルカプトアミンｐ−トルエンスルホン酸塩類の製法
JPS6051165A (ja) シスタミン硫酸塩類の製造法