JPH0522594B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光
記録媒体に関する。 先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出し
ヘツドが非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化
しないという特徴をもち、このため、種々の光記
録媒体の開発研究が行われている。 このような光記録媒体のうち、暗室による現像
処理が不要である等の点で、ヒートモード光記録
媒体の開発が活発になつている。 このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、その１例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除
去等して、ピツトと称される小穴を形成して書き
込みを行い、このピツトにより情報を記録し、こ
のピツトを読み出し光で検出して読み出しを行う
ピツト形成タイプのものがある。 このようなピツト形成タイプの媒体、特にその
うち、装置を小型できる半導体レーザーを光源と
するものにおいては、これまで、Teを主体とす
る材料を記録層とするものが大半をしめている。 しかし、近年、Te系材料が有害であること、
そしてより高感度化する必要があること、より製
造コストを安価にする必要があることから、Te
系にかえ、色素を主とした有機材料系の記録層を
用いる媒体についての提案や報告が増加してい
る。 例えば、He−Neレーザー用としては、スクワ
リリウム色素〔特開昭56−46221号、V.B.Jipson
and C.R.Jones、J.Vac.Sci.Technol.、18(1)105
（1981）〕や、金属フタロシアニン色素（特開昭57
−82094号、同57−82095号）などを用いるものが
ある。 また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザ
ー用として使用した例（特開昭56−86795号）も
ある。 これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄
膜としたものであり、媒体製造上、Te系と大差
はない。 しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率
は一般に小さく、反射光量のピツトによる変化
（減少）によつて読み出し信号をうる、現在行わ
れている通常の方式では、大きなＳ／Ｎ比をうる
ことができない。 また、記録層を担持した透明基体を、記録層が
対向するようにして一体化した、いわゆるエアー
サンドイツチ構造の媒体とし、基体をとおして書
き込みおよび読み出しを行うと、書き込み感度を
下げずに記録層の保護ができ、かつ記録密度も大
きくなる点で有利であるが、このような記録再生
方式も、色素蒸着膜では不可能である。 これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率が
ある程度の値をもち（ポリメチルメタクリレート
で1.5）、また、表面反射率がある程度大きく（同
４％）、記録層の基体をとおしての反射率が、例
えばポリメチルメタクリレートでは60％程度以下
になるため、低い反射率しか示さない記録層では
検出できないからである。 色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのＳ／
Ｎ比を向上させるためには、通常、基体と記録層
との間に、Al等の蒸着反射膜を介在させている。 この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてＳ／
Ｎ比を向上させるためものであり、ピツト形成に
より反射膜が露出して反射率が増大したり、ある
いは場合によつては、反射膜を除去して反射率を
減少させるものであるが、当然のことながら、基
体をとおしての記録再生はできない。 同様に、特開昭55−161690号には、IR−132色
素（コダツク社製）とポリ酢酸ビニルとからなる
記録層、また、特開昭57−74845号には、１，
1′−ジエチル−２，2′−トリカルボシアニンイオ
ダイドとニトロセルロースとからなる記録層、さ
らには、K.Y.Law、et al.、Appl.Phys.Lett.39(9)
718（1981）には、３，3′−ジエチル−12−アセチ
ルチアテトラカルボシアニンとポリ酢酸ビニルと
からなる記録層など、色素と樹脂とからなる記録
層を塗布法によつて設層した媒体が開示されてい
る。 しかし、これらの場合にも、基体と記録層との
間に反射膜を必要としており、基体裏面側からの
記録再生ができない点で、色素蒸着膜の場合と同
様の欠点をもつ。 このように、基体をとおしての記録再生が可能
であり、Te系材料からなる記録層をもつ媒体と
の互換性を有する、有機材料系の記録層をもつ媒
体を実現するには、有機材料自身が大きな反射率
を示す必要がある。 しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料
の単層にて高い反射率を示す例はきわめて少な
い。 わずかに、バナジルフタロシアニンの蒸着膜が
高反射率を示す旨が報告〔P.Kivits、et al.、
Appl.Phys.Part Ａ26(2)101（1981）特開昭55−
97033号〕されているが、おそらく昇華温度が高
いためであろうと思われるが、書き込み感度が低
い。 また、チアゾール系やキノリン系等のシアニン
色素やメロシアニン色素が報告（山本他、第27回
応用物理学会予稿集1p−Ｐ−９（1980）〕されて
おり、これにもとづく提案が特開昭58−112790号
になされているが、これら色素は、特に塗膜とし
て設層したときに、溶剤に対する溶解度が小さ
く、また結晶化しやすく、さらには読み出し光に
対してきわめて不安定でただちに脱色してしま
い、実用に供しえない。 このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、
溶剤に対する溶解度が高く、結晶化も少なく、か
つ熱的に安定であつて、塗膜の反射率が高いイン
ドレニン系のシアニン色素を単層膜として用いる
旨を提案している（特願昭57−134397号、同57−
134170号）。 また、インドレニン系のシアニン色素におい
て、長鎖アルキル基を分子中に導入して、溶解性
の改善と結晶化の防止がはかられることを提案し
ている（特願昭57−182589号、同57−177776号
等）。 さらに、光安定性をまし、特に読み出し光によ
る脱色（再生劣化）を防止するために、インドレ
ニン系のシアニン色素ニツケルビスフエニルジチ
オール系等の遷移金属錯体クエンチヤーを添加す
る旨の提案を行つている（特願昭57−168048号
等）。 しかし、インドレニン系シアニン色素とビスフ
エニルジチオール遷移金属錯体クエンチヤーとの
通常の組合せの混合物では、一般に溶解性が悪
く、結晶が析出し、成膜性が悪い場合が多く、そ
のため、Ｓ／Ｎ比等も十分大きな値が得られない
問題がある。 そこで、インドレニン系シアニン色素とニツケ
ルビスフエニルジチオール等のビスフエニルジチ
オール遷移金属錯体クエンチヤーとを含有する記
録層を有する場合において、記録層の組成成分の
溶剤に対する溶解度が大きく、しかも、塗膜とし
て基体上に設層したときに、この組成成分の結晶
が析出しない記録層を有する光記録媒体が要望さ
れている。 発明の目的 本発明の目的は、インドレニン系色素とビスフ
エニルジチオール遷移金属錯体クエンチヤーとを
含有する記録層を用いる場合において、溶解性が
良好であつて、しかも塗膜中に結晶が析出しない
ような記録層を有する光記録媒体を提供すること
にある。 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によつて達成
される。すなわち本発明は、インドレニン系シア
ニン色素と、ビスフエニルジチオール遷移金属錯
体の異性体２種以上とを含有する記録層を基体上
に有することを特徴とする光記録媒体である。 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。 本発明の光記録媒体の記録層は、インドレニン
系シアニン色素を含む。 インドレニン系シアニン色素には特に制限はな
く、種々のものを用いることができる。 ただ、このような各種インドレニン系シアニン
色素として、記録層中に含有させたとき、書き込
み感度が高く、読み出しのＳ／Ｎ比が高いもの
は、下記一般式〔〕で示されるシアニン色素で
ある。 一般式〔〕 上記一般式〔〕において、 ＺおよびZ′は、それぞれインドレニン環、ベン
ゾインドレニン環またはジベンゾインドレニン環
を完成させるために必要な原子群を表わし、 R₁およびR₁′は、それぞれ、置換または非置換
のアルキル基、アリール基またはアルケニル基を
表わし、 Ｌは、シアニン色素を形成するためのポリメチ
ン連結基を表わし、 X^-は、酸アニオンを表わし、 ｍは０または１である。 上記一般式〔〕において、ＺおよびZ′は、芳
香族環、例えばベンゼン環、ナフタリン環等が縮
合してもよいインドレニン環、特に、インドレニ
ン環、ベンゾインドレニン環またはジベンゾイン
ドレニン環を完成させるために必要な原子群を表
わす。 これらＺで完成される環（以下Φ⁺）および
Z′で完成される環（以下Ψ）は、同一でも異なつ
ていてもよいが、通常は同一のものであり、これ
らの環には種々の置換基が結合していてもよい。 これらのΦ⁺およびΨの骨格環としては、下記
式〔Φ〕〜〔Φ〕および〔Ψ〕〜〔Ψ〕
で示されるものであることが好ましい。 このような各種環において、環中の窒素原子に
結合する基R₁、R′₁は、置換または非置換のアル
キル基、アリール基、アルケニル基である。 このような環中の、窒素原子に結合する基R₁、
R′₁の炭素原子数には、特に制限はない。 また、この基がさらに置換基を有するものであ
る場合、置換基としては、スルホン酸基、アルキ
ルカルボニルオキシ基、アルキルアミド基、アル
キルスルホンアミド基、アルコキシカルボニル
基、アルキルアミノ基、アルキルカルバモイル
基、アルキルスルフアモイル基、水酸基、カルボ
キシ基、ハロゲン原子等いずれであつてもよい。 これらのうちでは、特に非置換のアルキル基ま
たはアルキルカルボニルオキシ基、水酸基等で置
換されたアルキル基が好適である。 さらに、インドレニン環の３位には、２つの置
換基R₂、R₃、R₂′、R₃′が結合することが好まし
い。 この場合、３位に結合する２つの置換基R₂、
R₃、R₂′、R₃′としては、アルキル基またはアリー
ル基であることが好ましい。 そして、これらのうちでは、炭素原子数１また
は２、特に１の非置換アルキル基であることが好
ましい。 一方、Φ⁺およびΨで表わされる環中の所定の
位置には、さらに他の置換基R₄、R₄′が結合して
いてもよい。こような置換基として、アルキル
基、アリール基、複素環残基、ハロゲン原子、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルカルボニル基、アリー
ルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、
アリーロキシカルボニル基、アルキルカルボニル
オキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキ
ルアミド基、アリールアミド基、アルキルカルバ
モイル基、アリールカルバモイル基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、カルボン酸基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、アル
キルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド
基、アルキルスルフアモイル基、アリールスルフ
アモイル基、シアノ基、ニトロ基等、種々の置換
基であつてよい。 そして、これらの置換基の数（ｐ、ｑ、ｒ、
ｓ、ｔ）は、通常、０または１〜４程度とされ
る。なお、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔが２以上であると
き、複数のR₄、R₄′は互いに異なるものであつて
よい。 なお、シアニン色素カチオンは、縮合ないし非
縮合のインドレニン環を有するもので、溶解性、
塗膜性、安定性にすぐれ、きわめて高い反射率を
示す。 他方、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカル
ボシアニン色素等のシアニン色素を形成するため
のポリメチン連結基を表わすが、特に式〔Ｌ〕
〜〔Ｌ〕のいずれかであることが好ましい。 ここに、Ｙは、水素原子または１価の基を表わ
す。この場合、１価の基としては、メチル基等の
低級アルキル基、メトキシ基等の低級アルコキシ
基、ジメチルアミノ基、ジフエニルアミノ基、メ
チルフエニルアミノ基、モルホリノ基、イミダゾ
リジン基、エトキシカルボニルピペラジン基など
のジ置換アミノ基、アセトキシ基等のアルキルカ
ルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキルチ
オ基、シアノ基、ニトロ基、Br、Cl等のハロゲ
ン原子などであることが好ましい。 また、R₈およびR₉は、それぞれ水素原子また
はメチル基等の低級アルキル基を表わす。 そして、ｌは、０または１である。 さらに、X^-は陰イオンであり、その好ましい
例としては、 I^-、Br^-、ClO₄ ^-、BF₄ ^-、

【式】

【式】等を挙げることができ る。 なお、ｍは０または１であるが、ｍが０である
ときには、通常、ΦのR₁が一電荷をもち、分子
内塩となる。 次に、本発明のインドレニン系シアニン色素の
具体例を挙げるが、本発明はこれらのみに限定さ
れるものではない。

【表】

【表】 また、これらシアニン色素は、大有機化学（朝
倉書店）含窒素複素環化合物432ページ等の成
書に記載された方法に準じて容易に合成すること
ができる。 すなわち、まず対応するΦ″−CH₃（Φ″は前記Φ
に対応する環を表わす。）を、過剰のR₁（R₁は
アルキル基またはアリール基）とともに加熱し
て、R₁をΦ″中の窒素原子に導入してΦ−CH₃I^-
を得る。 次いで、これを不飽和ジアルデヒド、不飽和ヒ
ドロキシアルデヒド、ペンンタジエンアリルまた
はイソホロンなどと、アルカリ触媒または無水酢
酸などを用いて脱水縮合すればよい。 これらインドレニン系シアニン色素は、通常、
単量体の形で記録層中に含有させられるが、必要
に応じ、重合体の形であつてもよい。 この場合、重合体は、シアニン色素の２分子以
上を有するものであつて、これらシアニン色素の
縮合物であつてもよい。 例えば、−OH、−COOH、−SO₃H等の官能基の
１種以上を、１個または２以上有する上記色素の
単独ないし共縮合物、 あるいはこれらと、ジアルコール、ジカルボン
酸ないしその塩化物、ジアミン、ジないしトリイ
ソシアナート、ジエポキシ化合物、酸無水物、ジ
ヒドラジド、ジイミノカルボナート等の共縮合成
分や他の色素との共縮合物がある。 あるいは、上記の官能基を有するシアニン色素
を、単独で、あるいはスペーサー成分や他の色素
とともに、金属系架橋剤で架橋したものであつて
もよい。 この場合、金属系架橋剤としては、 チタン、ジルコン、アルミニウム等のアルコキ
シド、 チタン、ジルコン、アルミニウム等のキレート
（例えば、β−ジケトン、ケトエステル、ヒドロ
キシカルボン酸ないしそのエステル、ケトアルコ
ール、アミノアルコール、エノール性活性水素化
合物等を配位子とするもの）、 チタン、ジルコン、アルミニウム等のシアレー
トなどがある。 さらには、−OH基、−OCOR基、および−
COOR基（ここに、Ｒは、置換ないし非置換のア
ルキル基ないしアリール基である）のうちの少な
くとも１つを有するシアニン色素の１種または２
種以上、あるいはこれと他のスペーサー成分ない
し他の色素とをエステル交換反応によつて、−
COO−基によつて結合したものも使用可能であ
る。 この場合、エステル交換反応は、チタン、ジル
コン、アルミニウム等のアルコキシドを触媒とす
ることが好ましい。 加えて、上記のシアニン色素は、樹脂と結合し
たものであつてもよい。 このような場合には、所定の基を有する樹脂を
用い、上記の重合体の場合に準じ、樹脂の側鎖
に、縮合反応やエステル交換反応によつたり、架
橋によつたりして、必要に応じスペーサー成分等
を介し、シアニン色素を連結する。 本発明の光記録媒体の記録層は、このようなイ
ンドレニン系のシアニン色素に加え、さらにビス
フエニルジチオール遷移金属錯体の異性体同士が
２種以上含有される。 ビスフエニルジチオール遷移金属錯体は下記式
〔〕で示される。 式〔〕 ここに、R¹は、１価の置換基、好ましくはメ
チル基、エチル基などのアルキル基、Clなどのハ
ロゲン原子、あるいはジメチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基などのアミノ基を表わす。ｋは１〜４
の整数であり、ｋが２以上であるとき複数のR¹
は同一でも異なつていてもよい。ただし、ｋが４
であるときには４つのR¹は同一ではなく、必ず
２以上の異性体が存在するものである。 Ｍは、Ni、Co、Cu、Pd、Pt等の遷移金属原
子、より好ましくはNiを表わす。 また、Catはカチオンであり、ｎは０または１
である。ｎ＝１のとき、上記構造のＭは−電荷を
もつて、４級アンモニウムイオン等のカチオン
（Cat⁺）と塩を形成する。 さらにはＭの上下には、さらに他の配位子が結
合してもよい。 この場合、１価のカチオンとしてはLi⁺、Na⁺、
K⁺のアルカリ金属イオン、 NH₄ ⁺、 オニウムイオンがある。 オニウムイオンとしては、 それぞれ、例えばシアノ基、アルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、
アシル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、ア
ルキルスルホニルアミノ基、スルフアモイル基、
スルホニル基などで置換されることのある メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−アミ
ル基、ｎ−ドデシル、ｎ−オクタデシル基等の各
種アルキル基、 または、フエニル基、トリル基、ナフチル基等
のアリール基を有する １級〜４級のアンモニウムイオン、１級〜４級
のホスホニウムイオンまたは１級〜３級のスルホ
ニウムイオンがある。 また、ピリジン、イミダゾール、ピロール、２
−ピロリン、ピロリジン、ピペリジン、ピラゾー
ル、ピラゾリン、イミダゾリン等の５または６員
環を有する Ｎ−水素、Ｎ−アルキルまたはＮ，Ｎ−ジアル
キルの環状の２級〜４級アンモニウムイオンであ
つてもよい。 本発明においては、これらの中で特に N⁺（ｎ−C₄H₉）₄、N⁺（CH₃）₄、 N⁺（ｎ−C₃H₇）₄、 N⁺（CH₃）₃（C₈H₇）等のテトラアルキルアンモ
ニウムが好適である。 これらのうちでは、R¹＝Cl、ｎ＝３が最も好
ましい。 また、上記式〔〕で示されるビスフエニルジ
チオール遷移金属錯体の異性体同士の少なくとも
２種以上を記録層中に含有させることが必要であ
る。これらのビスフエニルジチオール遷移金属錯
体の異性体の１つのみを単独で含有させた場合に
は、塗膜時に発生する結晶の析出を十分に防止す
ることができないからである。 ビスフエニルジチオール遷移金属錯体の例を下
記に示す。

【表】 これら一般式〔〕で示されるビスフエニルジ
チオール遷移金属錯体の異性体は、任意の組合せ
で２種併用されるか、あるいは３種以上併用され
る。 ２種併用されるときには、重量比で１：0.1〜
１：10程度とする。また、３種以上併用されると
きには、３種目以降の総計はこれらに対し重量比
で１：0.1〜１：10程度含有される。 なお、２種以上併用される化合物のCatは、通
常同一であるが、異なつていてもよい。 また、これらのビスフエニルジチオール遷移金
属錯体の含有量の総和は、記録層の５〜50wt％
程度とすることが好ましい。 上記の範囲をはずれると、光安定化効果が小さ
くなり光吸収効果が小さくなつたりするという不
都合が生じる。 上記式〔〕で示されるビスフエニルジチオー
ル遷移金属錯体は、M.J.Baker Hawkes、E.
Billing and Harry B.Grey Journal of the
American Chemical Society 88、4870（1966）
Raymond Williams、E.Billing Journal of the
American Chemical Society、88、43（1966）等
に準じて合成される。記録層中には、必要に応
じ、樹脂が含まれていてもよい。 用いる樹脂としては、自己酸化性、解重合性な
いし熱可塑性樹脂が好適である。 これらのうち、特に好適に用いることができる
熱可塑性樹脂には、以下のようなものがある。 (i) ポリオレフイン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メ
チルペンテン−１など。 (ii) ポリオレフイン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エ
チレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸共重合体、エチレン−プロピレ
共重合体、エチレン−ブテン−１共重合体、エ
チレン−無水マレイン酸共重合体、エチレンプ
ロピレンターポリマー（EPT）など。 この場合、コモノマーの重合比は任意のもの
とすることができる。 (iii) 塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、
塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、アクリル酸エ
ステルないしメタアクリル酸エステルと塩化ビ
ニルとの共重合体、アクリロニトリル−塩化ビ
ニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニ
ルをグラフト重合したものなど。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 (iv) 塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化
ビニリデン−塩化ビニル−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニリデン−ブタジエン−ハロゲ
ン化ビニル共重合体など。 この場合、共重合比は、任意のものとするこ
とができる。 (v) ポリスチレン (vi) スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合
体（AS樹脂）、スチレン−アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体（ABS樹脂）、スチレン−
無水マレイン酸共重合体（SMA樹脂）、スチレ
ン−アクリル酸エステル−アクリルアミド共重
合体、スチレン−ブタジエン共重合体
（SBR）、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、
スチレン−メチルメタアクリレート共重合体な
ど。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 (vii) スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、ｐ−メチルス
チレン、２，５−ジクロルスチレン、α，β−
ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセ
ナフテン、ビニルアントラセンなど、あるいは
これらの共重合体、例えば、α−メチルスチレ
ンとメタクリル酸エステルとの共重合体。 (viii) クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共重合体。 (ix) テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの
重合体であるテルペン樹脂や、β−ピネンから
得られるピコライト。 (x) アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好
ましい。 式 上記式において、R₁₀、水素原子またはアル
キル基を表わし、R₂₀は、置換または非置換の
アルキル基を表わす。この場合、上記式におい
て、R₁₀は、水素原子または炭素原子数１〜４
の低級アルキル基、特に水素原子またはメチル
基であることが好ましい。 また、R₂₀は、置換、非置換いずれのアルキ
ル基であつてもよいが、アルキル基の炭素原子
数は１〜８であることが好ましく、また、R₂₀
が置換アルキル基であるときには、アルキル基
を置換する置換基は、水酸基、ハロゲン原子ま
たはアミノ基（特に、ジアルキルアミノ基）で
あることが好ましい。 このような上記式で示される原子団は、他の
くりかえし原子団とともに、共重合体を形成し
て各種アクリル樹脂を構成してもよいが、通常
は、上記式で示される原子団の１種または２種
以上をくりかえし単位とする単独重合体または
共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。 (xi) ポリアクリロニトリル (xii) アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重
合体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合
体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ア
クリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリロニトリル−ビニルピリジン共重合体、ア
クリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
アクリロニトリル−アクリル酸ブチル共重合体
など。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 () ダイアセトンアクリルアミドポリマーア
クリロニトリルにアセトンを作用させたダイア
セントアクリルアミドポリマー。 () ポリ酢酸ビニル () 酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテ
ル、エチレン、塩化ビニル等との共重合体な
ど。 共重合比は任意のものであつてよい。 () ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビ
ニルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテ
ルなど。 () ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン
６、ナイロン６−６、ナイロン６−10、ナイロ
ン６−12、ナイロン９、ナイロン11、ナイロン
12、ナイロン13等の通常のホモナイロンの他、
ナイロン６／６−６／６−10、ナイロン６／６
−６／12、ナイロン６／６−６／11等の重合体
や、場合によつては変性ナイロンであつてもよ
い。 () ポリエステル 例えば、シユウ酸、コハク酸、マレイン酸、
アジピン酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基
酸、あるいはイソフタル酸、テレフタル酸など
の芳香族二塩基酸などの各種二塩基酸と、エチ
レングリコール、テトラメチレングリコール、
ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。 そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩
基酸とグリコール類との縮合物や、グリコール
類と脂肪族二塩基酸との共縮合物は、特に好適
である。 さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリン
との縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、
天然樹脂等でエステル化変性した変性グリプタ
ル樹脂等も好適に使用される。 () ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコールを、アセタール化して
得られるポリビニルホルマール、ポリビニルア
セタール系樹脂はいずれも好適に使用される。 この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のア
セタール化度は任意のものとすることができ
る。 () ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹
脂。 特に、グリコール類とジイソシアナート類と
の縮合によつて得られるポリウレタン樹脂、と
りわけ、アルキレングリコールとアルキレンジ
イソシアナートとの縮合によつて得られるポリ
ウレタン樹脂が好適である。 (xi) ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの
開環重合物、ポリエチレンオキサイドおよびグ
リコール、ポリプロピレンオキサイドおよびグ
リコール、プロピレンオキサイド−エチレンオ
キサイド共重合体、ポリフエニレンオキサイド
など。 (xii) セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロ
ース、エチルセルロース、アセチルブチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、メチルセルロース、
エチルヒドロキシエチルセルロースなど、セル
ロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。 () ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフエニルメタンカー
ボネート、ジオキシジフエニルプロパンカーボ
ネート等の各種ポリカーボネート。 () アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などのNa、Li、
Zn、Mg塩など。 () ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフエノン
等の環状ケトンとホルムアルデヒドとの縮合
物。 () キシレン樹脂 例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホ
ルマリンとの縮合物、あるいはその変性体。 () 石油樹脂 C₅系、C₉系、C₅−C₉共重合系、ジシクロペ
ンタジエン系、あるいは、これらの共重合体な
いし変性体など。 () 上記(i)〜（）の２種以上のブレ
ンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレ
ンド体。 なお、樹脂の分子量等は、種々のものであつ
てよい。 このような樹脂と、前記の結合体とは、通常、
重量比で１対0.1〜100の広範な量比にて設層され
る。 なお、このような記録層中には、別途他のクエ
ンチヤー、例えば、特願昭58−181368号等に記載
したものが含有されてもよい。 このような記録層中を設層するには、一般に、
常法に従い塗設すればよい。 そして、記録層の厚さは、通常、0.3〜10μｍ程
度とされる。 なお、このような記録層には、この他、他の色
素や、他のポリマーないしオロゴマー、各種可塑
剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安
定剤、分散剤、酸化防止剤、そして架橋剤等が含
有されていてもよい。 このような記録層を設層するには、基体上に、
所定の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。 なお、塗布に用いる溶媒としては、例えば、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸
エチル、カルビトールアセテート、ブチルカルビ
トールアセテート等のエステル系、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系、ないし
トルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロロエタ
ン等のハロゲン化アルキル系、アルコール系など
を用いればよい。 このような記録層を設層する基体の材質として
は、書き込み光および読み出し光に対し実質的に
透明なものであれば、特に制限はなく、各種樹
脂、ガラス等のいずれであつてもよい。 また、その形状は使用用途に応じ、テープ、ド
ラム、ベルト等いずれであつてもよい。 なお、基体は、通常、トラツキング用の溝を有
する。 また、基体用の樹脂材質としては、ポリメチル
メタクリレート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリサルフオン樹脂、ポ
リエーテルサルフオン、メチルペンテンポリマー
等の、みぞ付きないしみぞなし基体が好適であ
る。 これらの基体には、耐溶剤性、、ぬれ性、表面
張力、熱伝導度等を改善するために、基体上に下
地層を形成することが好ましい。下地層の材質と
しては、Si、Ti、Al、Zr、In、Ni、Ta等の有機
錯化合物や有機多官能性化合物を塗布、加熱乾燥
して形成された酸化物であることが好ましい。 この他、各種感光性樹脂等下地層としてを用い
ることもできる。 また、記録層上には、必要に応じ、各種最上層
保護層、ハーフミラー層などを設けることもでき
る。 ただし、記録層は単層膜とし、反射層を記録層
の上または下に積層しないことが好ましい。 本発明の媒体は、このような基体の一面上に上
記の記録層を有するものであつてもよく、その両
面に記録層を有するものであつてもよい。 また、基体の一面上に記録層を塗設したものを
２つ用い、それらを記録層が向かいあうようにし
て、所定の間隙をもつて対向させ、それを密閉し
たりして、ホコリやキズがつかないようにするこ
ともできる。 発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行しない回転下において記
録光をパルス状に照射する。このとき記録層中の
色素の発熱により、色素が融解し、ピツトが形成
される。 このように形成されたピツトは、やはり媒体の
走行ないし回転下、読み出し光の反射光ないし透
過光、特に反射光を検出することにより読み出さ
れる。 この場合、記録および読み出しは、基体側から
基体をとおして行う。 そして、一旦記録層に形成したピツトを光ない
し熱で消去し、再書き込みを行うこともできる。 なお、記録ないし読み出し光としては、半導体
レーザー、He−Neレーザー、Arレーザー、He
−Cdレーザー等を用いることができる。 発明の具体的効果 本発明によれば、本発明で用いる記録層の組成
成分は溶解性が良好で、しかも基板上に塗設する
際に、組成成分の結晶が析出しない。 従つて、成膜性が良好で、Ｓ／Ｎ比等の感度の
よい光記録媒体が得られる。 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、さらに詳
細に説明する。 実施例 １ 下記表１に示されるインドレニン系シアニン色
素ならびに下記に示されるビスフエニルジチオー
ル遷移金属錯体１〜３を用い これらを所定の溶媒中に溶解し、下地層
（0.01μｍ）を設けた５cm角アクリル製の基板上
に、10μｍの厚さに塗布設層して、各種試験片を
得た。そして、塗膜後に、塗膜中の組成成分の結
晶の析出の有無を反射型顕微鏡を用いて確認し
た。 結果を表１に示した。

【表】

【表】 表１の結果より本発明の効果が明らかである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ インドレニン系シアニン色素と、ビスフエニ
   ルジチオール遷移金属錯体の異性体２種以上とを
   含有する記録層を基体上に有することを特徴とす
   る光記録媒体。