JPH05243729A - スルーホール配線基板の製造方法 - Google Patents
スルーホール配線基板の製造方法Info
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- JPH05243729A JPH05243729A JP4546492A JP4546492A JPH05243729A JP H05243729 A JPH05243729 A JP H05243729A JP 4546492 A JP4546492 A JP 4546492A JP 4546492 A JP4546492 A JP 4546492A JP H05243729 A JPH05243729 A JP H05243729A
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Landscapes
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スルーホール配線基板を製造するにあたり、
金属薄膜のパターニングのために付与されるレジスト
が、スルーホールのエッジ部においても十分な膜厚をも
って形成されるようにし、エッチング時において、金属
薄膜が不所望にもスルーホールのエッジ部分において溶
けないようにする。 【構成】 基板15の第1の主面12に第1のシート1
6を貼り、第2の主面13を上方に向けて、第2の主面
13およびスルーホール14の内周面にレジスト17を
付与する。
金属薄膜のパターニングのために付与されるレジスト
が、スルーホールのエッジ部においても十分な膜厚をも
って形成されるようにし、エッチング時において、金属
薄膜が不所望にもスルーホールのエッジ部分において溶
けないようにする。 【構成】 基板15の第1の主面12に第1のシート1
6を貼り、第2の主面13を上方に向けて、第2の主面
13およびスルーホール14の内周面にレジスト17を
付与する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、パターニングされた
金属薄膜による配線導体を備えるスルーホール配線基板
の製造方法に関するものである。
金属薄膜による配線導体を備えるスルーホール配線基板
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種のスルーホール配線基板は、たと
えば、マイクロ波用ストリップライン素子に使用され
る。このマイクロ波用ストリップライン素子では、基板
の一方主面にパターニングされた金属薄膜が形成され、
他方主面には、アース導体とするため、全面にわたって
金属薄膜が形成されている。基板の一方主面にある金属
薄膜をパターニングするには、一般に、フォトリソグラ
フィが用いられる。
えば、マイクロ波用ストリップライン素子に使用され
る。このマイクロ波用ストリップライン素子では、基板
の一方主面にパターニングされた金属薄膜が形成され、
他方主面には、アース導体とするため、全面にわたって
金属薄膜が形成されている。基板の一方主面にある金属
薄膜をパターニングするには、一般に、フォトリソグラ
フィが用いられる。
【0003】図2を参照して、従来のスルーホール配線
基板の製造方法について説明する。まず、図2(a)に
示すように、スルーホール1が設けられかつ両主面2お
よび3ならびにスルーホール1の内周面に金属薄膜4が
形成された基板5が用意される。
基板の製造方法について説明する。まず、図2(a)に
示すように、スルーホール1が設けられかつ両主面2お
よび3ならびにスルーホール1の内周面に金属薄膜4が
形成された基板5が用意される。
【0004】次いで、図2(b)に示すように、金属薄
膜4を覆うように、基板5の両主面2および3ならびに
スルーホール1の内周面にレジスト6が付与される。こ
のレジスト6の付与は、基板5をレジスト浴に浸漬した
り、ロールコータを用いたりして行なわれる。
膜4を覆うように、基板5の両主面2および3ならびに
スルーホール1の内周面にレジスト6が付与される。こ
のレジスト6の付与は、基板5をレジスト浴に浸漬した
り、ロールコータを用いたりして行なわれる。
【0005】次に、図2(c)に示すように、基板5の
第1の主面2上にあるレジスト6に対して、露光および
現像が実施され、レジスト6の一部が得ようとするパタ
ーンに応じて除去される。
第1の主面2上にあるレジスト6に対して、露光および
現像が実施され、レジスト6の一部が得ようとするパタ
ーンに応じて除去される。
【0006】次いで、図2(d)に示すように、基板5
の第1の主面2上にある金属薄膜4に対してエッチング
が実施され、レジスト6のパターンに応じて金属薄膜4
がパターニングされる。
の第1の主面2上にある金属薄膜4に対してエッチング
が実施され、レジスト6のパターンに応じて金属薄膜4
がパターニングされる。
【0007】その後、図示しないが、残ったレジスト6
が除去される。このようにして、基板5の第1の主面2
上には、パターニングされた金属薄膜4が形成され、基
板5の第2の主面3上では、すべての金属薄膜4が残さ
れ、これら第1および第2の主面2および3にそれぞれ
形成された金属薄膜4がスルーホール1内の金属薄膜4
によって電気的に接続された、スルーホール配線基板が
得られる。
が除去される。このようにして、基板5の第1の主面2
上には、パターニングされた金属薄膜4が形成され、基
板5の第2の主面3上では、すべての金属薄膜4が残さ
れ、これら第1および第2の主面2および3にそれぞれ
形成された金属薄膜4がスルーホール1内の金属薄膜4
によって電気的に接続された、スルーホール配線基板が
得られる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た図2(b)のステップにおいて、レジスト6は、スル
ーホール1のない部分では、均一な膜厚で形成されるこ
とが可能であるが、特に、スルーホール1のエッジ部分
では、その厚みが薄くなったり、さらに極端な場合に
は、金属薄膜4がむき出しになったりすることがある。
図2(b)ならびに以後の(c)および(d)では、こ
のような不都合が生じた場合の様子が示されている。
た図2(b)のステップにおいて、レジスト6は、スル
ーホール1のない部分では、均一な膜厚で形成されるこ
とが可能であるが、特に、スルーホール1のエッジ部分
では、その厚みが薄くなったり、さらに極端な場合に
は、金属薄膜4がむき出しになったりすることがある。
図2(b)ならびに以後の(c)および(d)では、こ
のような不都合が生じた場合の様子が示されている。
【0009】上述のように、レジスト6がスルーホール
1のエッジ部分において十分な膜厚を有していない場合
には、図2(d)のステップにおいて、金属薄膜4が、
不所望にも、スルーホール1のエッジ部分においてエッ
チングされることがあり、これによって、金属薄膜4の
剥がれや欠損が生じ、スルーホール1を介しての電気的
導通の抵抗が増大するなどの電気的特性の劣化、または
スルーホール1を介しての電気的導通が絶たれるなどの
問題を招いていた。
1のエッジ部分において十分な膜厚を有していない場合
には、図2(d)のステップにおいて、金属薄膜4が、
不所望にも、スルーホール1のエッジ部分においてエッ
チングされることがあり、これによって、金属薄膜4の
剥がれや欠損が生じ、スルーホール1を介しての電気的
導通の抵抗が増大するなどの電気的特性の劣化、または
スルーホール1を介しての電気的導通が絶たれるなどの
問題を招いていた。
【0010】それゆえに、この発明の目的は、上述した
ような問題を解決し得る、スルーホール配線基板の製造
方法を提供しようとすることである。
ような問題を解決し得る、スルーホール配線基板の製造
方法を提供しようとすることである。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、上述した技
術的課題を解決するため、次のようなステップを備える
ことを特徴としている。
術的課題を解決するため、次のようなステップを備える
ことを特徴としている。
【0012】まず、スルーホールが設けられかつ両主面
およびスルーホールの内周面に金属薄膜が形成された基
板が用意される。次いで、この基板の第1の主面に第1
のシートが貼られる。次に、基板の第2の主面を上方に
向けて、この第2の主面およびスルーホールの内周面に
レジストが付与される。次いで、第1のシートを第1の
主面から剥がすとともに、基板の第2の主面にレジスト
を介して第2のシートが貼られる。次に、基板の第1の
主面およびスルーホールの内周面にレジストが付与され
る。このようにして、レジストが付与された後、基板の
第1の主面上のレジストが得ようとするパターンに応じ
て除去され、基板の第1の主面上の金属薄膜がエッチン
グによりパターニングされる。
およびスルーホールの内周面に金属薄膜が形成された基
板が用意される。次いで、この基板の第1の主面に第1
のシートが貼られる。次に、基板の第2の主面を上方に
向けて、この第2の主面およびスルーホールの内周面に
レジストが付与される。次いで、第1のシートを第1の
主面から剥がすとともに、基板の第2の主面にレジスト
を介して第2のシートが貼られる。次に、基板の第1の
主面およびスルーホールの内周面にレジストが付与され
る。このようにして、レジストが付与された後、基板の
第1の主面上のレジストが得ようとするパターンに応じ
て除去され、基板の第1の主面上の金属薄膜がエッチン
グによりパターニングされる。
【0013】
【作用】この発明において、第2の主面にレジストを付
与する場合、第1のシートが第1の主面に貼られ、スル
ーホールの一方端面が閉じられ、この閉じられた端面が
下方に位置するようにされるので、レジストは、第1の
シートによって閉じられたスルーホールの端面に溜まる
状態となる。したがって、スルーホールの第1の主面側
のエッジ部分には、十分な厚みをもってレジストが形成
されるようになる。また、第2の主面側にあっては、エ
ッチング時において、第2のシートによって覆われる。
与する場合、第1のシートが第1の主面に貼られ、スル
ーホールの一方端面が閉じられ、この閉じられた端面が
下方に位置するようにされるので、レジストは、第1の
シートによって閉じられたスルーホールの端面に溜まる
状態となる。したがって、スルーホールの第1の主面側
のエッジ部分には、十分な厚みをもってレジストが形成
されるようになる。また、第2の主面側にあっては、エ
ッチング時において、第2のシートによって覆われる。
【0014】
【発明の効果】したがって、この発明によれば、金属薄
膜がスルーホールのエッジ部分においてレジストおよび
第2のシートにより十分に保護されるので、エッチング
工程において、金属薄膜がスルーホールのエッジ部分に
おいて溶けることがない。その結果、金属薄膜が、不所
望にも、剥がれたり、欠損を生じたりすることがなく、
スルーホールを介しての電気的導通において、断線や抵
抗値の増大等が生じることが防止され、得られたスルー
ホール配線基板の性能が向上かつ安定するとともに、ス
ルーホール配線基板の製造の歩留を向上させることがで
きる。
膜がスルーホールのエッジ部分においてレジストおよび
第2のシートにより十分に保護されるので、エッチング
工程において、金属薄膜がスルーホールのエッジ部分に
おいて溶けることがない。その結果、金属薄膜が、不所
望にも、剥がれたり、欠損を生じたりすることがなく、
スルーホールを介しての電気的導通において、断線や抵
抗値の増大等が生じることが防止され、得られたスルー
ホール配線基板の性能が向上かつ安定するとともに、ス
ルーホール配線基板の製造の歩留を向上させることがで
きる。
【0015】
【実施例】図1には、この発明の一実施例が示されてい
る。
る。
【0016】まず、図1(a)に示すように、スルーホ
ール11が設けられかつ両主面12および13ならびに
スルーホール11の内周面に金属薄膜14が形成された
基板15が用意される。この基板15は、前述の図2
(a)に示した従来の基板5と同様の構成を有してい
る。基板15は、たとえばアルミナから構成され、金属
薄膜14は、たとえば金によって構成される。
ール11が設けられかつ両主面12および13ならびに
スルーホール11の内周面に金属薄膜14が形成された
基板15が用意される。この基板15は、前述の図2
(a)に示した従来の基板5と同様の構成を有してい
る。基板15は、たとえばアルミナから構成され、金属
薄膜14は、たとえば金によって構成される。
【0017】次に、図1(b)に示すように、基板15
の第1の主面12に第1のシート16が貼られる。この
第1のシート16には、好ましくは、粘着シートが用い
られる。なお、粘着シートに代えて、別に用意された接
着剤により第1のシート16を基板15に貼るようにし
てもよい。第1のシート16は、スルーホール11の一
方端面を閉じている。
の第1の主面12に第1のシート16が貼られる。この
第1のシート16には、好ましくは、粘着シートが用い
られる。なお、粘着シートに代えて、別に用意された接
着剤により第1のシート16を基板15に貼るようにし
てもよい。第1のシート16は、スルーホール11の一
方端面を閉じている。
【0018】次に、図1(c)に示すように、基板15
の第2の主面13を上方に向けて、この第2の主面13
およびスルーホール11の内周面にレジスト17が付与
される。このレジスト17の付与には、スピンコータが
有利に用いられる。レジスト17が付与された後、レジ
スト17は、自然乾燥または50〜70℃といった低温
でオーブン乾燥される。これによって、基板15とレジ
スト17との密着力が上げられ、後で実施される第1の
シート16の剥離に際して、レジスト17が第1のシー
ト16に伴われて剥離されないようにされる。なお、第
1のシート16として、耐熱性のあるものを用いれば、
レジスト16は、80〜100℃の温度でプリベイクさ
れることができる。
の第2の主面13を上方に向けて、この第2の主面13
およびスルーホール11の内周面にレジスト17が付与
される。このレジスト17の付与には、スピンコータが
有利に用いられる。レジスト17が付与された後、レジ
スト17は、自然乾燥または50〜70℃といった低温
でオーブン乾燥される。これによって、基板15とレジ
スト17との密着力が上げられ、後で実施される第1の
シート16の剥離に際して、レジスト17が第1のシー
ト16に伴われて剥離されないようにされる。なお、第
1のシート16として、耐熱性のあるものを用いれば、
レジスト16は、80〜100℃の温度でプリベイクさ
れることができる。
【0019】次に、図1(d)に示すように、第1のシ
ート16が、基板15の第1の主面12から剥がされ
る。
ート16が、基板15の第1の主面12から剥がされ
る。
【0020】次いで、図1(e)に示すように、基板1
5の第2の主面13にレジスト17を介して第2のシー
ト18が貼られる。なお、図1(d)に示した第1のシ
ート16を剥がすステップと図1(e)に示した第2の
シート18を貼るステップとは、いずれが先に実施され
てもよい。第2のシート18も、好ましくは、粘着シー
トから構成される。
5の第2の主面13にレジスト17を介して第2のシー
ト18が貼られる。なお、図1(d)に示した第1のシ
ート16を剥がすステップと図1(e)に示した第2の
シート18を貼るステップとは、いずれが先に実施され
てもよい。第2のシート18も、好ましくは、粘着シー
トから構成される。
【0021】次に、同じく図1(e)に示すように、好
ましくは基板15の第1の主面12を上方に向けて、こ
の第1の主面12およびスルーホール11の内周面にレ
ジスト19が付与される。レジスト19の付与には、前
述したレジスト17の場合と同様、スピンコータが有利
に用いられる。また、付与されたレジスト19は、レジ
スト17と同様、乾燥される。
ましくは基板15の第1の主面12を上方に向けて、こ
の第1の主面12およびスルーホール11の内周面にレ
ジスト19が付与される。レジスト19の付与には、前
述したレジスト17の場合と同様、スピンコータが有利
に用いられる。また、付与されたレジスト19は、レジ
スト17と同様、乾燥される。
【0022】次に、図1(f)に示すように、基板15
の第1の主面12上のレジスト19に対して、露光およ
び現像が実施され、レジスト19が、得ようとするパタ
ーンに応じて除去される。その後、レジスト17および
19は、ポストベイキングされる。なお、第2のシート
18としては、このようなポストベイキングに耐える耐
熱性を有するものを用いるのが好ましい。
の第1の主面12上のレジスト19に対して、露光およ
び現像が実施され、レジスト19が、得ようとするパタ
ーンに応じて除去される。その後、レジスト17および
19は、ポストベイキングされる。なお、第2のシート
18としては、このようなポストベイキングに耐える耐
熱性を有するものを用いるのが好ましい。
【0023】次に、図1(g)に示すように、基板15
の第1の主面12上の金属薄膜14に対してエッチング
が適用され、レジスト19のパターンに応じてパターニ
ングされる。このとき、第2のシート18が基板15の
第2の主面13側に貼られているので、この第2の主面
13側においては、エッチャントに対して完璧に保護さ
れることになる。
の第1の主面12上の金属薄膜14に対してエッチング
が適用され、レジスト19のパターンに応じてパターニ
ングされる。このとき、第2のシート18が基板15の
第2の主面13側に貼られているので、この第2の主面
13側においては、エッチャントに対して完璧に保護さ
れることになる。
【0024】次いで、図示しないが、第2のシート18
が剥離され、レジスト17および18が除去される。
が剥離され、レジスト17および18が除去される。
【0025】このようにして、金属薄膜14が、基板1
5の第1の主面12側ではパターニングされ、第2の主
面13側では全面にわたって残り、これらの金属薄膜1
4がスルーホール11内の金属薄膜14によって電気的
に導通された、スルーホール配線基板が得られる。
5の第1の主面12側ではパターニングされ、第2の主
面13側では全面にわたって残り、これらの金属薄膜1
4がスルーホール11内の金属薄膜14によって電気的
に導通された、スルーホール配線基板が得られる。
【0026】なお、図1(e)のステップにおいて貼ら
れた第2のシート18が、耐熱性を有していない場合に
は、図1(f)のステップ後のポストベイキングにおい
て、この第2のシート18を剥がし、図1(g)のステ
ップにおいて、再び第2のシート18を貼るようにすれ
ばよい。
れた第2のシート18が、耐熱性を有していない場合に
は、図1(f)のステップ後のポストベイキングにおい
て、この第2のシート18を剥がし、図1(g)のステ
ップにおいて、再び第2のシート18を貼るようにすれ
ばよい。
【0027】また、上述した実施例では、金属薄膜14
の第2の主面13側に形成される部分が、全面的に残
り、アース導体として働くようにされたが、このような
第2の主面13側においても、金属薄膜14がパターニ
ングされてもよい。
の第2の主面13側に形成される部分が、全面的に残
り、アース導体として働くようにされたが、このような
第2の主面13側においても、金属薄膜14がパターニ
ングされてもよい。
【図1】この発明の一実施例に含まれるステップを順次
示す断面図である。
示す断面図である。
【図2】従来のスルーホール配線基板の製造方法に含ま
れるステップを順次示す断面図である。
れるステップを順次示す断面図である。
11 スルーホール 12 第1の主面 13 第2の主面 14 金属薄膜 15 基板 16 第1のシート 17,19 レジスト 18 第2のシート
Claims (1)
- 【請求項1】 スルーホールが設けられかつ両主面およ
びスルーホールの内周面に金属薄膜が形成された基板を
用意し、 前記基板の第1の主面に第1のシートを貼り、 前記基板の第2の主面を上方に向けて、この第2の主面
およびスルーホールの内周面にレジストを付与し、 前記第1のシートを前記第1の主面から剥がすととも
に、前記基板の第2の主面に前記レジストを介して第2
のシートを貼り、 前記基板の第1の主面およびスルーホールの内周面にレ
ジストを付与し、 前記基板の第1の主面上のレジストを得ようとするパタ
ーンに応じて除去し、 前記基板の第1の主面上の金属薄膜をエッチングにより
パターニングする、 各工程を備える、スルーホール配線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4546492A JPH05243729A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | スルーホール配線基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4546492A JPH05243729A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | スルーホール配線基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05243729A true JPH05243729A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=12720097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4546492A Withdrawn JPH05243729A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | スルーホール配線基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05243729A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008218750A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | レジスト膜形成装置及びレジスト膜形成方法 |
| EP3112935A1 (de) * | 2008-08-29 | 2017-01-04 | Suss MicroTec Lithography GmbH | Verfahren zur resist-beschichtung einer vertiefung in der oberfläche eines substrats, insbesondere eines wafers |
-
1992
- 1992-03-03 JP JP4546492A patent/JPH05243729A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008218750A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | レジスト膜形成装置及びレジスト膜形成方法 |
| EP3112935A1 (de) * | 2008-08-29 | 2017-01-04 | Suss MicroTec Lithography GmbH | Verfahren zur resist-beschichtung einer vertiefung in der oberfläche eines substrats, insbesondere eines wafers |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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