JPH05249606A - ポジ型光熱写真材料 - Google Patents

ポジ型光熱写真材料

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JPH05249606A
JPH05249606A JP4275984A JP27598492A JPH05249606A JP H05249606 A JPH05249606 A JP H05249606A JP 4275984 A JP4275984 A JP 4275984A JP 27598492 A JP27598492 A JP 27598492A JP H05249606 A JPH05249606 A JP H05249606A
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JP
Japan
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silver
positive
photothermographic element
reducing
photothermographic
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Application number
JP4275984A
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English (en)
Inventor
Richard J Ellis
リチャード・ジョン・エリス
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3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
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Filing date
Publication date
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    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 還元性銀源、光酸発生剤、バインダー、およ
び銀イオンのための還元剤を含有する銀イオンのための
還元系を含有する感光性媒体を有するポジ型光熱写真エ
レメントであって、上記エレメントを化学線照射に露出
すると露出領域において酸性種が生成し、それが還元系
による銀源の還元を禁止する光熱写真エレメント。 【効果】 明瞭な輪郭のポジ型像を提供可能な光熱写真
エレメントが提供された。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は像形成材料に関し、特
に、白黒ポジ型光熱写真材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】ネガ型乾銀(dry silver)材料を補完する
ことができるポジ型像形成材料に対する需要が高まって
いる。特に、グラフィックアートおよび医療用像形成の
分野において顕著である。このような用途のためには、
像形成材料は以下に示す要件を満足する必要がある。
【０００３】(i)接触速度(105〜103エルグ/cm2)または
それ以上の速度;(ii)乾燥処理、好ましくは標準乾銀処
理条件を用いるもの; および(iii)記録保管用途のため
の熱安定性。
【０００４】従来から、好ましいポジ型光熱写真材料を
提供する試みがなされてきた。このような材料の例は、
例えば、英国特許第1156933号、同第1172425号、同第15
07829号、同第2022277号および同第2195463号; 欧州特
許第223587号、同第301539号、同第320020号および同第
362827号; 米国特許明細書第3589901号、同第4075017
号、同第4124387号、同第4587198号、同第4753862号、
同第4761360号、同第4772541号、同第4800149号、同第4
814252号および同第4865942号; および日本国特許第53-
120520号、同第57-089750号、同第57-101832号、同第58
-040543号、同第58-040544号、同第60-030931号、同第6
1-107243号、同第61-183460号、同第61-188535号、同第
61-022841号、同第62-187837号、同第62-178742号、同
第63-034536号および同第63-330064号に記載されてい
る。
【０００５】同日出願の我々の同時係属英国特許出願第
9121789.3号は、還元性銀源の分散体および銀イオンの
ための還元系および光硬化性組成物を含有する感光性媒
体を有するポジ型光熱写真エレメントを開示している。
この光硬化性組成物は、フリーラジカル硬化性樹脂と34
0〜440nmの範囲の波長の照射に対して吸収を有する光開
始剤とを含有する。エレメントの照射に露出された領域
は、光開始剤がフリーラジカル硬化性樹脂の硬化を促進
し、そのことにより、そのような領域において樹脂のガ
ラス転移温度が増大し、効果的に固定することにより、
またその他の手段により、後の熱処理工程中に還元系が
還元性銀源と反応することが防止される。好ましい光開
始剤の例には、ヨードニウムおよびスルホニウム塩のよ
うなオニウム塩が含まれ、これらは単独で、または、例
えばオキソノール染料、1,4-ジヒドロピリジンおよびト
リアリールピラゾリンのような増感剤と組み合わせて用
いられる。
【０００６】本発明はこれらに代わるポジ型光熱写真材
料を提供することを目的とする。
【０００７】
【発明の要旨】本発明によれば、還元性銀源、光酸発生
剤、バインダー、および銀イオンのための還元剤を含有
する銀イオンのための還元系を含有する感光性媒体を有
するポジ型光熱写真エレメントであって、上記エレメン
トを化学線照射に露出すると露出領域において酸性種が
生成し、それが還元系による銀源の還元を禁止する光熱
写真エレメントが提供される。
【０００８】
【発明の構成】本発明の光熱写真エレメントは、一般
に、還元性銀源の分散体、銀イオンのための還元剤およ
び光酸発生剤、ならびに、必要に応じて、被覆補助剤お
よび他の助剤のような添加剤を１層以上のバインダー層
中に含む。エレメントが照射にさらされた領域では、光
酸発生剤により生成された酸性種は銀源のそれ以上の熱
還元を禁止することにより明瞭な輪郭のポジ型像を提供
する。還元系は銀イオンを金属銀に還元することが可能
な少なくとも１種の化合物を含有する。最も単純な形態
では、それは銀イオンのための還元剤(すなわち、現像
剤)からなる。しかしながら、好ましくは、それは光熱
写真分野でトナーとして知られる１種以上の化合物を用
いることが好ましい。そのことにより、現像剤の効果が
増強される。
【０００９】本発明の光熱写真エレメントでは感光性ハ
ロゲン化銀の存在は必須ではない。実際に、このような
材料が存在しないことは像形成前および後の安定性の観
点からいえば好ましい。好ましくは、銀源の0.75重量％
を下回る量がハロゲン化銀の形態であり、より好ましく
は、0.5％を下回る量がハロゲン化銀の形態である。最
も好ましくは、エレメントは実質的にハロゲン化銀を含
まない。
【００１０】本発明の光熱写真エレメントは広範囲の像
形成分野において好ましい。これらには、接触印刷、
(しかしながら、日光取り扱い性の提供において特に有
用性を見い出す。)、乾燥処理複製フィルムが含まれ、
それらは良好な露出前および後の安定性を有することが
見い出されている。
【００１１】また、本発明はポジティブ像生成法に関す
る。この方法は、(a)本発明の光熱写真エレメントを像
に応じて照射に露出することにより潜像を提供する工
程; および(b)この露出エレメントを加熱することによ
り上記潜像を現像する工程; を包含する。
【００１２】一般に、本発明の光熱写真エレメントは少
なくとも２層のバインダー層を有する。それらの中には
適切な光熱写真ケミストリーが分散されている。通常
は、還元性銀源は一方の層に含有されており、銀イオン
のための還元剤は他方の層に含有されている。さらにト
ナーが存在する場合は、トナーか還元剤のどちらか一
方、より好ましくはトナーと還元剤との両方は銀源を含
有する層と異なる層中に含有される。
【００１３】一実施態様では、光熱写真エレメントは、
表面上に還元性銀源と光硬化性組成物とを有する第１バ
インダー層、および銀イオンのための還元剤と光酸発生
剤とを含有する第２バインダー層を有する支持体を有す
る。第１および第２バインダー層の順序は重要でなく変
換しうる。
【００１４】または光酸発生剤は還元性銀源とともに第
１バインダー層中に含有されるか、または第１および第
２層の両方に含有させうる。後者が好ましい。光酸発生
剤が還元性銀源を含有する層中に存在することによりエ
レメントの感度が増大されることが見い出されているか
らである。
【００１５】この光熱写真エレメントは、必要に応じ
て、層の最上に被覆された不活性なバリア層とともに提
供されうる。好ましい遮断材料には、水溶性ポリマーの
被覆が含まれる。例えば、ゼラチン、ポリ(ビニルアル
コール)、ポリ(ビニルピロリドン)など、またはセルロ
ースエステルのような有機溶媒溶解性ポリマーが挙げら
れ、これらは必要に応じて１種以上の界面活性剤を含み
うる。そして、例えば、ポリエステルのような透明材料
のラミネートシートも用いうる。これらは必要に応じて
界面活性剤処理または他の被覆補助剤で処理される。
【００１６】一般に、光熱写真エレメントのそれぞれの
層は、25〜250μmの湿潤圧に被覆される。典型的には、
約150μmの湿潤圧に被覆され、１〜90％、好ましくは５
〜50重量％の固形分を層中に有する。
【００１７】還元性銀源には、銀イオンの還元可能な源
を含有するすべての材料を包含する。有機およびヘテロ
有機酸の銀塩、特に長鎖脂肪族カルボン酸(10〜30個、
好ましくは15〜25個の炭素原子を有するもの)が好まし
い。配位子が4.0〜10.0の範囲のグロス安定定数(gross
stability constant)を有する有機または無機銀塩の錯
体も好ましい。有用な銀塩の例はリサーチ・ディスクロ
ージャ第17029号および同第29963号に記載されている。
これらには、有機酸、例えば、没食子酸、シュウ酸、ベ
ヘン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸など
の銀塩; カルボキシアルキルチオ尿素、例えば、1-(3-
カルボキシプロピル)チオ尿素、1-(3-カルボキシプロピ
ル)-3,3-ジメチルチオ尿素などの銀塩; アルデヒドとヒ
ドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成
物、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドおよ
びブチルアルデヒドのようなアルデヒド、およびサリチ
ル酸、ベンジル酸、3,5-ジヒドロキシベンジル酸および
5,5-チオジサリチル酸のようなヒドロキシ置換酸の反応
生成物の銀錯体; チオンの銀塩または錯体、例えば、3-
(2-カルボキシエチル)-4-ヒドロキシメチル-4-チアゾリ
ン-2-チオンおよび3-カルボキシメチル-4-メチル-4-チ
アゾリン-2-チオン; イミダゾール、ピラゾール、ウラ
ゾール、1,2,4-トリアゾールおよび1H-テトラゾール、3
-アミノ-5-ベンジルチオ-1,2,4-トリアゾールおよびベ
ンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体ま
たはこれらと銀との塩; およびメルカプチドの銀塩が含
まれる。
【００１８】好ましい銀源は銀ベヘネートである。
【００１９】一般に、還元性銀源はバインダー層の５〜
70、好ましくは７〜45重量％を占める。
【００２０】銀源のための還元剤には、当業者に知られ
ているすべての従来の光熱写真現像剤が包含される。
【００２１】好ましい還元剤の例は米国特許第3770448
号、同第3773512号および同第3893863号およびリサーチ
・ディスクロージャ対17029および同第29963号に開示さ
れており、これらには、アミノヒドロキシシクロアルケ
ノン化合物；現像剤前駆体としてのアミノリダクトンの
エステル; N-ヒドロキシ尿素誘導体; アルデヒドおよび
ケトンのヒドラゾン; ホスホルアミドフェノール; ホス
ホルアミドアニリン;ポリヒドロキシベンゼン、例え
ば、ヒドロキノン、t-ブチル-ヒドロキノン、イソプロ
ピルヒドロキノンおよび(2,5-ジヒドロキシフェニル)メ
チルスルホン; スルフヒドロキサム酸(sulfhydroxamic
acids); スルホンアミドアニリン; 2-テトラゾリルチオ
ヒドロキノン、例えば、2-メチル-5-(1-フェニル-5-テ
トラゾリルチオ)ヒドロキノン; テトラヒドロキノキサ
リン、例えば、1,2,3,4-テトラヒドロキノキサリン; ア
ミドオキシム; アジン; 脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラジドとアスコルビン酸との組み合わせ; ポリヒドロキ
シベンゼンとヒドロキシルアミンとの組み合わせ、リダ
クトンおよび/またはヒドラジン、ヒドロキサム酸;アジ
ンとスルホンアミドフェノールとの組み合わせ; α-シ
アノフェニル酢酸誘導体; ビス-β-ナフトールと1,3-ジ
ヒドロキシベンゼン誘導体との組み合わせ;5-ピラゾロ
ン; スルホンアミドフェノール還元剤; 2-フェニルイン
ダン-1,3-ジオンなど; 1,4-ジヒドロピリジン、例え
ば、2,6-ジメトキシ-3,5-ジカルベトキシ-1,4-ジヒドロ
ピリジン; ビスフェノール、例えば、ビス(2-ヒドロキ
シ-3-t-ブチル-5-メチルフェニル)メタン、ビス(6-ヒドロ
キシ-m-トリ)メシトール)、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3-
メチルフェニル)プロパン、4,4-エチリデン-ビス(2-t-
ブチル-6-メチルフェノール)および2,2-ビス(3,5-ジメ
チル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、UV感応性アスコ
ルビン酸誘導体および3-ピラゾリドン。
【００２２】好ましい現像剤は以下の式(I)に示す立体
障害フェノールである。
【００２３】
【化４】
【００２４】式中、Rは水素またはアルキル基、一般に
は５個までの炭素原子を有するアルキル基、例えば、-C
4H9である。
【００２５】一般に、還元剤はバインダー層の２〜15重
量％の量で存在する。
【００２６】トナー(しばしばトーン調節剤と称される)
の存在は構成において必須ではないけれども、好まし
い。トナーの正確な作用機構は未だによく理解されてい
ない。しかしながら、それらは現像剤と銀イオンとの反
応の触媒と考えられている。また、それらは反応で生成
される金属銀の物理的な形態に影響を与え、その結果、
現像された像の外観(「トーン」)に影響する。好ましいト
ナーの例は、リサーチ・ディスクロージャ第17029号に
記載されていおり、これらにはイミド、例えば、フタル
イミド; 環状イミド、ピラゾリン-5-オンおよびキナゾ
リノン、例えば、スクシンイミド、3-フェニル-2-ピラ
ゾリン-5-オン、1-フェニルウラゾール、キナゾリンお
よび2,4-チアゾリジンジオン; ナフタルイミド、例え
ば、N-ヒドロキシ-1,8-ナフタルイミド; コバルト錯
体、例えば、コバルト(cobaltic)ヘキサミントリフルオ
ロアセテート; メルカプタン、例えば、3-メルカプト-
1,2,4-トリアゾール; N-(アミノメチル)アリールジカル
ボキシイミド、例えば、N-(ジメチルアミノメチル)フタ
ルイミド; ブロック化ピラゾール、イソチウロニウム誘
導体および特定のホトブリーチ剤との組み合わせ、例え
ば、N,N'-ヘキサメチレンビス(1-カルバモイル-3,5-ジ
メチルピラゾール)、1,8-(3,6-ジオキサオクタン)ビス
(イソチウロニウムトリフルオロアセテート)および2-
(トリブロモメチルスルホニル)ベンゾチアゾール)の組
み合わせ; メロシアニン染料、例えば、3-エチル-5-[(3
-エチル-2-ベンゾチアゾリニリデン)-1-メチルエチル-
イデン]-2-チオ-2,4-オキサゾリジンジオン; フタラジ
ノン、フタラジノン誘導体またはこれらの誘導体の金属
塩、例えば、4-(1-ナフチル)フタラジノン、6-クロロフ
タラジノン、5,7-ジメトキシフタラジノンおよび2,3-ジ
ヒドロ-1,4-フタラジンジオン; フタラジノンとスルフ
ィン酸誘導体との組み合わせ、例えば、6-クロロフタラ
ジノン+ナトリウムベンゼンスルフィネート、または8-
メチルフタラジノン+ナトリウムp-トリルスルフィネー
ト; フタラジノン+フタル酸の組み合わせ; フタル酸と
イミダゾールまたはベンズイミダゾールとの組み合わ
せ; フタラジン(フタラジンのアダクトおよび無水マレ
イン酸を含む)とフタル酸、2,3-ナフタレンジカルボン
酸からなる化合物の少なくとも１種との組み合わせ、ま
たはo-フェニレン酸誘導体およびそれらの無水物、例え
ば、フタル酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタル酸お
よびテトラクロロ無水フタル酸; キナゾリンジオン、ベ
ンズオキサジンまたはナフトオキサジン誘導体、ロジウ
ム錯体、例えば、アンモニウムヘキサクロロロデート(I
II)、無機パーオキシドおよびパースルフェート、例え
ば、アンモニウムパーオキシジスルフェート；ベンズオ
キサジン-2,4-ジオン、例えば、1,3-ベンズオキサジン-
2,4-ジオン; ピリミジンおよびasym-トリアジン、例え
ば、2,4-ジヒドロキシピリミジンおよびテトラアザペン
タレン誘導体、例えば、3,6-ジメルカプト-1,4-ジフェ
ニル-1H,4H-2,3a,5,6-テトラアザペンタレン等が挙げら
れる。
【００２７】好ましいトナーは、式
【００２８】
【化５】
【００２９】で示す構造を有するフタラジノンである。
これらは必要に応じて、テトラクロロフタル酸またはそ
の無水物と組み合わせて用いられる。
【００３０】トナーが用いられる場合は、一般に、バイ
ンダー層の0.2〜12重量％の量で用いられる。
【００３１】ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホ
ニウム塩、例えば、トリフェニルスルホニウム塩、ヨー
ドニウム塩またはハロゲン化合物、キノンジアジドスル
ホクロリド、トリクロロメチルピロン、ビス(トリクロ
ロメチル)-s-トリアジン、例えば、2-(p-メトキシスチ
リル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、およ
び有機金属/有機ハロゲンの組み合わせのような公知の
多くの化合物および混合物が照射反応性構成におけるエ
レメントの照射中での酸発生または分離化合物として用
いうる。塩基性置換基を有さない化合物が好ましい。
【００３２】好ましいジアゾニウム塩は300〜500nmの範
囲に吸収を有するものであり、ジアゾ型の用途に好まし
いと知られている。
【００３３】概して、上述のジアゾニウム、ホスホニウ
ム、スルホニウムおよびヨードニウム化合物は有機溶媒
に可溶な塩の形態で用いられ、テトラフルオロホウ酸、
ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸お
よびヘキサフルオロヒ酸のような錯体酸の分離生成物を
与える。
【００３４】または、ポジ型キノンジアジドの誘導体も
用いうる。この化合物の群では、ナフトキノン-1,2-ジ
アジド-4-スルホクロリドが好ましい。露出中に三官能
の酸が生じるので、比較的高い強調が得られるからであ
る。
【００３５】原理的には、例えば、炭素原子または芳香
環に結合した１個以上のハロゲン原子を有するもののよ
うなフリーラジカル形成光開始剤として知られるすべて
の有機ハロゲン化合物はヒドロハロ酸を形成可能なハロ
ゲン含有照射感応性化合物として用いうる。このような
化合物の例は、米国特許第351552、同第3536489号およ
び3779778号およびドイツ公開公報第2243621号に記載さ
れている。
【００３６】さらに、ドイツ公開公報第2610842号に記
載されているようなある種の置換トリクロロメチルピロ
ン、ならびに2-アリール-4,6-ビス-トリクロロメチル-s
-トリアジンを用いうる。
【００３７】好ましい光酸発生剤の例には、4-(ジ-n-プ
ロピル-アミノ)-ベンゼン-ジアゾニウムテトラフルオロ
ボレート、4-p-トリルメルカプト-2,5-ジエトキシベン
ゼン-ジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、4-p-
トリメルカプト-2,5-ジエトキシベンゼン-ジアゾニウム
テトラフルオロボレート、ジフェニルアミン-4-ジアゾ
ニウムスルフェート、4-メチル-6-トリクロロメチル-2-
ピロン、4-(3,4,5-トリメトキシスチリル-6-トリクロロ
メチル-2-ピロン、4-(4-メトキシスチリル)-6-(3,3,3-
トリクロロプロペニル)-2-ピロン、2-トリクロロメチル
ベンズイミダゾール、2-トリブロモメチルキノリン、2,
4-ジメチル-トリブロモアセチルベンゼン、3-ニトロ-1-
トリブロモアセチルベンゼン、4-ジブロモアセチル安息
香酸、1,4-ビス-ジブロモメチルベンゼン、トリス-ジブ
ロモメチル-s-トリアジン、2-(6-メトキシ-ナフス-2-イ
ル)-4,6-ビス-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-(ナ
フス-1-イル)-4,6-ビス-トリクロロメチル-s-トリアジ
ン、2-(4-エトキシエチル-ナフス-1-イル)-4,6-ビス-ト
リクロロメチル-s-トリアジン、2-(ベンゾピラン-3-イ
ル)-4,6-ビス-トリクロロメチル-s-トリアジン、2-(4-
メトキシアントラセン-1-イル)-4,6-ビストリクロロメ
チル-s-トリアジン、および2-(フェナントル-9-イル)-
4,6-ビス-トリクロロメチル-s-トリアジンが挙げられ
る。
【００３８】光酸発生剤の量はその化学特性と感光性媒
体の正確な組成に依存して種々に変化しうる。しかしな
がら、光酸発生剤は、エレメントの露出領域において熱
現像を禁止するのに効果的な領域で存在する必要があ
る。一般に、光酸発生剤は、全固形分量を基準にして0.
5〜30重量％、好ましくは１〜20重量％、より好ましく
は２〜15重量％の量で存在しうる。
【００３９】本発明で用いるのに好ましい光酸発生剤は
ヨードニウムおよびスルホニウム塩である。
【００４０】ヨードニウム塩には当業者に知られている
すべてのヨードニウム塩が含まれる。例えば、米国特許
明細書第3,729,313号、同第3,741,769号、同第3,808,00
6号、同第4,026,705号、同第4,228,232号、同第4,250,0
53号、同第4,701,402号および同第4,769,459号に記載さ
れているようなヨードニウム塩が挙げられる。単一のヨ
ードニウム塩または２種以上のヨードニウム塩の組み合
わせを用いうる。
【００４１】ヨードニウム塩は２個の共有結合した炭素
原子といずれかのアニオンとを有する正荷電したヨウ素
原子を有する化合物である。通常は、脂肪族ヨードニウ
ム塩は０℃を上回る温度において熱安定性ではない。し
かしながら、ケミカル・レターズ(Chemical Letters)、
1982年、第65〜６頁に記載されているような安定化され
たアルキルフェニルヨードニウム塩は周囲温度において
安定であり、本発明に用いうる。好ましい化合物はジア
リール、アリール-ヘテロアリールおよびジヘテロアリ
ールヨードニウム塩であって、炭素-ヨウ素結合がアリ
ールまたはヘテロアリール基由来のものである。
【００４２】スルホニウム塩は３個(またはそれ以上)の
共有結合で結合した炭素原子およびアニオンを有する正
に荷電したイオウを有する化合物である。好ましいスル
ホニウム塩はアリール、アリール-ヘテロアリールおよ
びヘテロアリールスルホニウム塩であって、アリールま
たはヘテロアリール基により炭素-イオウ結合が生じて
いるものである。
【００４３】好ましい感光性ヨードニウム塩およびスル
ホニウム塩は式
【００４４】
【化６】
【００４５】[式中、Aはそれぞれ独立して、環構造中に
ヨウ素またはイオウ原子を含むように互いに結合しうる
芳香族またはヘテロ芳香族基であり、X-は、HXが３以下
のpKaを有する酸となるようなアニオンである。]で示す
構造を有する。
【００４６】Aで示す芳香族基は一般に、４〜20個、好
ましくは４〜14個、さらに好ましくは４〜10個の構造原
子を有し、それらは、芳香族炭素環、例えば、フェニル
またはナフチル、およびチエニル、フラニルおよびピラ
ゾリルを含む芳香族複素環である。これらは、必要に応
じて、５個までの炭素原子を有するアルキル基(例え
ば、メチル)、５個までの炭素原子を有するアルコキシ
基(例えば、メトキシ)、ハロゲン原子(例えば、塩素、
臭素、ヨウ素およびフッ素)、５個までの炭素原子を有
するカルボキシ基、シアノおよびニトロ基、またはこれ
らのいずれかの組み合わせを有しうる。縮合芳香族ヘテ
ロ芳香族基、例えば、3-インドリミルもまた好ましい。
【００４７】好ましいヨードニウム塩には、式
【００４８】
【化７】
【００４９】で示す化合物が包含される。
【００５０】ほとんどのヨードニウム塩は公知であり、
これらは容易に調製可能であり、市販されているものも
ある。好ましいヨードニウム塩の合成は、F.M.ベリンガ
ー(Beringer)ら、米国化学協会誌(Jounal of the Amiri
can Chemical Society)、第80号、第4279頁(1958年)に
開示されている。
【００５１】好ましい光酸発生剤は以下の式に示す核を
有する。
【００５２】
【化８】
【００５３】[式中、X-は上記と同意義である。] 多くのアニオンはオニウム塩における対イオンとして有
用である。このアニオンが誘導される酸は、しかしなが
ら、３を下回る、好ましくは１を下回るpKaを有する。
好ましい無機アニオンには、ハライドアニオン、HS
O4 -、およびハロゲン含有錯アニオン、例えば、テトラ
フルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキ
サフルオロアルセネートおよびヘキサフルオロアンチモ
ネートが挙げられる。好ましい有機アニオンは、式 R1CO2 -およびR1SO3 - [式中、R1はアルキルまたはアリール基であって、いず
れも置換されうる。]で示される。具体的には、式
【００５４】
【化９】
【００５５】で示すものが好ましい。
【００５６】典型的には、このエレメントの光熱写真ケ
ミストリーはバインダー中において支持体に塗布され
る。光熱写真エレメントの種々の層に広範囲のバインダ
ーを用いうる。好ましいバインダーは透明または半透明
である。これらは一般に無色であり、天然ポリマー、合
成樹脂、ポリマーおよびコポリマーおよび他のフィルム
形成媒体を包含する。例えば、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、スター
チ、ポリ(ビニルクロリド)、コポリ(スチレン-無水マレ
イン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン-ブタジエン)、ポリビニルアセタール(例え
ば、ポリ(ビニルホルマルおよびポリ(ビニルブチラー
ル))、ポリエステル、ポリウレタン、フェノキシ樹脂、
ポリ(ビニリデンクロリド)、ポリエポキシド、ポリカー
ボネート、ポリ(ビニルアセテート)、セルロースエステ
ルおよびポリアミドが挙げられる。バインダーは水性ま
たは有機溶媒溶液またはエマルジョンとして被覆され
る。
【００５７】バインダーは必要に応じて、架橋剤を含有
しうる。このことは我々の同日付の同時係属英国出願第
9121789.3号に記載されている。好ましい架橋剤には、
ヒダントインヘキサアクリレート、トリメチロールプロ
パン、トリメタクリレートなどのような多官能アクリレ
ートが包含される。光酸発生剤の光分解においてもフリ
ーラジカルが生成し、光照射領域において光硬化が生じ
うる。そのことにより現像剤またはトナーの銀塩への拡
散が禁止され、像の明瞭性が改良される。しかしなが
ら、これは本発明の必須の特性ではない。光分解におい
てラジカルをも提供する酸発生剤の例にはヨードニウム
塩、スルホニウム塩およびトリクロロメチルトリアジン
が包含される。
【００５８】本発明による光熱写真エレメントは光熱写
真ケミストリーを含有する２層以上のバインダー層と、
必要に応じて、バリア層とを適当な支持体に被覆するこ
とにより調製される。一般に、それぞれの層は当業者に
周知の方法を用いて適当な溶媒から被覆される。
【００５９】非常に好ましい実施態様の一例では、光熱
写真エレメントは片面上に有機またはヘテロ有機酸の銀
塩、例えば、銀ベヘネート、および光酸発生剤、好まし
くはスルホニウム塩を含有する第１バインダー層、およ
び現像剤、好ましくは立体障害フェノールを含有する第
２バインダー層を有する支持体を有する光熱写真エレメ
ントを包含する。好ましくは、トナーは第２バインダー
層中に含有される。他の実施態様では、第１および第２
バインダー層の被覆の順序は逆にできる。そして、光酸
発生剤を第１層に添加するかわりに第２バインダー層に
含有させてもよい。
【００６０】支持体の例には、紙、ポリエチレン被覆
紙、ポリプロピレン被覆紙、パーチメント紙、布など;
アルミニウム、銅、マグネシウムおよび亜鉛のような金
属のシートおよびホイル; ガラスおよびクロム、クロム
合金、スチール、銀、金およびプラチナのような金属で
被覆したガラス; ポリ(アルキルメタクリレート)のよう
な合成ポリマー材料(例えば、ポリ(メチルメタクリレー
ト))、ポリエステル(例えば、ポリ(エチレンテレフタレ
ート)、ポリ(ビニルアセタール))、ポリアミド、例え
ば、ナイロン、セルロースエステル(例えば、セルロー
スニトレート、セルロースアセテート、セルロースアセ
テートプロピオネート、セルロースアセテートブチレー
ト)などが挙げられる。
【００６１】界面活性剤、酸化防止剤、安定剤、可塑
剤、紫外線吸収剤、被覆補助剤などのような種々の従来
の添加剤も本発明の写真材料の調製に用いうる。
【００６２】本発明の光熱写真エレメントにおいて分離
支持体を有することは必須ではない。それぞれのバイン
ダー層は、光熱写真ケミストリーを伴って注型されるこ
とにより自己支持フィルムを形成しうるからである。
【００６３】支持体は公知の下塗り材料で下塗り被覆さ
れうる。これらには、ビニリデンクロリド、アクリルモ
ノマー(例えば、アクリロニトリルおよびメチルアクリ
レート)および不飽和ジカルボン酸(例えば、イタコン酸
またはアクリル酸)のコポリマーおよびターポリマー、
カルボキシメチルセルロース、ポリアクリルアミドおよ
び同様のポリマー材料が挙げられる。
【００６４】また、支持体はフィルターまたはハレーシ
ョン防止層を有しうる。それらは、例えば、着色された
ポリマー層を有しており、これらが照射感応性層を通過
した後の露出照射を吸収し、支持体からの望ましくない
反射を除去する。
【００６５】この感光性媒体は、本質的なU.V./ブルー
感光性の波長よりも長波長の照射に対する感光性を増大
させるために増感剤を含有しうる。増感剤の適切な選択
により、光熱写真エレメントは300〜1000nmの一般的な
波長範囲中における任意の波長に対して感応性とするこ
とができる。特定の波長およびその幅は増感剤の吸収特
性に依存する。
【００６６】広範囲の増感剤が当上記技術分野で知られ
ている。しかしながら、増感剤が、光発生した酸を捕捉
しうる強塩基基を有しない場合に非常に良好な結果が得
られる。意図される用途に応じて、露出/現像サイクル
中にブリーチするために増感剤および/または光酸発生
剤もまた望ましい。例えば、最終像が、後の像形成工程
で(例えば、印刷板における)接触マスクとして用いられ
る場合は、非像領域は近UVおよび可視光、例えば、350
〜450nmの範囲、特に、380nmを上回る波長の範囲におい
て透明であることが必要である。
【００６７】ブリーチ可能増感剤としては次のものが例
示される。キサンテン染料錯体、例えば、米国特許第49
24009号明細書等に開示されている染料錯体(この場合、
キサンテン染料、例えば、ローズベンガル、エオシン、
エリトロシンまたはフルオレスセイン染料もしくはその
エステル等は、光酸発生剤(photo-acid generator)と錯
化する);ブリーチ可能な3-置換クマリン(coumarin)誘導
体、例えば、米国特許第4147552号明細書に開示されて
いる7-ジエチルアミノ-5',7'-ジメトキシ-3,3'-カルボニルビス
クマリン、3,3'-カルボニルビス-5,7-ジメトキシクマリン、7
-ジエチルアミノ-3,3'-カルボニルビスクマリンおよび7
-ジエチルアミノ-7'-メトキシ-3,3'-カルボニルビスク
マリン;ジアルコキシアントラセン類、例えば、9,10-ジ
エトキシアントラセン等; 次式:
【００６８】
【化１０】
【００６９】で表わされる化合物;第13回光化学シンポ
ジウム予稿集に開示されているような1,4-ジヒドロピリ
ジン増感剤、例えば、3,5-ビス(メトキシカルボニル)-
2,6-ジメチル-4-フェニル-1,4-ジヒドロピリジン; 次
式:
【００７０】
【化１１】
【００７１】(式中、Arはアリール基を示す)で表わされ
る1,3,5-トリアリールピラゾリン類。
【００７２】本発明による光熱写真エレメントは、使用
に際しては、適当な波長の放射線に対して像方向に露出
させ、光酸発生剤を光分解させることによって、潜像を
形成させる。露出後、上記エレメントを、90〜150℃で
５〜60秒間、好ましくは、125〜130℃で５〜15秒間加熱
することによる乾燥処理に付すことによって、ポジ像を
現像する。このような処理は、ネガ的に作用する乾燥銀
材料を処理するために当上記分野で既知の技法を利用し
ておこなえばよい。露出および加熱処理によって黒/白
像を形成させた後、さらに露出をおこなって、複製のた
めの像を定着させる。
【００７３】
【実施例】本発明を以下の実施例によってさらに説明す
る。理解を容易にするために、使用した略語を以下にま
とめて示す。
【００７４】樹脂/バインダー「 TMPTA」 アンカマー・ケミカルズ社(Ancomer ChemicalsLtd.)の
市販品「ATM11」(トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート「 HHA」 米国特許第4249011号明細書に開示されている次式で表
わされるヒダントインヘキサアクリレート
【００７５】
【化１２】
【００７６】「セルロースアセテート溶液」 アセトン(29.2wt％)およびメチルエチルケトン(62.5wt
％)にセルロースアセテート(8.3wt％)を溶解させた溶液「 CAB381-20」 コダック社(Kodak Ltd.)の市販品であるセルロースアセ
テートブチレート
【００７７】増感剤「 オキソノール染料A」 次式で表わされる化合物
【００７８】
【化１３】
【００７９】「TPP」 次式で表わされる1,3,5-トリフェニルピラゾリン
【００８０】
【化１４】
【００８１】「DH」 次式で表わされる3,5-ビス(メトキシカルボニル)-2,6-
ジメチル-4-フェニル-1,4-ジヒドロピリジン
【００８２】
【化１５】
【００８３】「DEA」 9,10-ジエトキシアントラセン
【００８４】光の作用で酸を発生する成分「 ヨードニウム塩A」 次式で表わされる化合物
【００８５】
【化１６】
【００８６】「ヨードニウム塩B」 次式で表わされる化合物
【００８７】
【化１７】
【００８８】「スルホニウム塩A」 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリン
グ社(Minnesota Mining and ManufacturingCo.)の市販
品「FX512」であって、次式で表わされる化合物
【００８９】
【化１８】
【００９０】「トリアジンA」 次式で表わされる化合物
【００９１】
【化１９】
【００９２】還元性銀源「 ベヘン酸銀全石鹸」 ベヘン酸銀12.3wt%、メチルエチルケトン65.3wt%、トル
エン21.8wt％およびブトバール(BUTVAR)B-76[ポリ(ビニ
ルブチラール)]0.5wt％「 銀セッケン貯蔵液」 ベヘン酸銀全石鹸40g、CAB-381の4g、TMPTAの1gおよび
メチルエチルケトン17g
【００９３】還元剤「 現像剤A」 次式で表わされる化合物
【００９４】
【化２０】
【００９５】トナー「 トナーA」 次式で表わされる化合物
【００９６】
【化２１】
【００９７】「TCPA」 テトラクロロ無水フタル酸
【００９８】「FX512」(スリーエム社)、「CAB381-20」(コ
ダック社)、「ATM11」(アンカマーケミカルズ社)、「NU-AR
C」および「BUTVAR B-76」はすべて商品名である。
【００９９】
【実施例１】以下の光熱写真エレメントを本発明に従っ
て調製した。一般に各エレメントは、還元性銀源(ベヘ
ン酸銀)を含有する下部被覆層(bottomcoat)および現像
剤を含有する上部被覆層(topcoat)を有する。
【０１００】光熱写真エレメント1 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 20g HHA ２g CAB381-20 ２g ヨードニウム塩A 0.16g TPP 0.007g メチルエチルケトン(MEK) ８g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 15g 現像剤A 0.4g トナーA 0.04g スルホニウム塩A 0.43g
【０１０１】光熱写真エレメント２ 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 30g CAB381-20 1.5g TMPTA 4.5g TPP 0.005g オキソノール染料A 0.0045g MEK ３g ヨードニウム塩A 0.2g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 10g 現像剤A 0.3g トナーＡ
０．０３ｇ スルホニウム塩Ａ
０．４０ｇ
【０１０２】光熱写真エレメント３ 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 20g TMPTA ３g CAB381-20 １g ヨードニウム塩A 0.15g TPP 0.01g MEK ４g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 15g 現像剤 0.45g トナー 0.045g スルホニウム塩A 0.53g
【０１０３】光熱写真エレメント４〜６ 上部被覆層にスルホニウム塩Aを含有させない以外は、
上記の光熱写真エレメント１〜３の場合と同様の配合処
方によって調製した。
【０１０４】光熱写真エレメント７ 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 10g BUTVAR B-76 １g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 10g 現像剤A 0.3g トナーA 0.03g スルホニウム塩A 0.40g
【０１０５】光熱写真エレメント８ 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 10g CAB 381-20 0.5g TMPTA 1.5g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 10g 現像剤A 0.3g トナーA 0.03g スルホニウム塩A 0.40g
【０１０６】光熱写真エレメント９ 下部被覆層: 銀セッケン貯蔵液 ８g スルホニウム塩A 0.16g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 10g 現像液A 0.15g トナーA 0.03g スルホニウム塩A 0.2g
【０１０７】光熱写真エレメント10 下部被覆層: 銀セッケン貯蔵液 20g スルホニウム塩A 0.4g DH 0.016g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 10g 現像液A 0.15g トナーA 0.03g スルホニウム塩A 0.2g
【０１０８】光熱写真エレメント11 下部被覆層: 銀セッケン貯蔵液 20g スルホニウム塩A 0.42g TPP 0.0047g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 10g 現像剤A 0.15g トナーA 0.03g スルホニウム塩A 0.2g
【０１０９】光熱写真エレメント12 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 20g CAB 381-20 ２g TMPTA １g スルホニウム塩A 0.5g TPP 0.006g MEK ８g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 10g 現像剤A 0.15g トナーA 0.02g
【０１１０】光熱写真エレメント13 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 20g CAB 381-20 ２g TMPTA １g スルホニウム塩A 0.5g TPP 0.006g MEK ８g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 10g 現像剤A 0.15g トナーA 0.04g
【０１１１】光熱写真エレメント14 下部被覆層: 銀セッケン貯蔵液 20g スルホニウム塩A 0.42g TPP 0.0047g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 15g 現像剤A 0.45g トナーA 0.045g スルホニウム塩A 0.45g
【０１１２】光熱写真エレメント15 下部被覆層: 銀セッケン貯蔵液 20g スルホニウム塩A 0.42g TPP 0.0047g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 15g 現像剤A 0.225g トナーA 0.045g スルホニウム塩A 0.45g
【０１１３】特に言及しない限り、すべての被覆層は、
非積層状のポリエステル支持体(100μm)上に、湿潤厚さ
が150μmの塗膜を、ナイフエッジコーターを用いて塗布
することによって形成させた。
【０１１４】すべてのUV照射は、６KWのNU-ARC・UVラン
プを用いておこない、また、光学密度は、DT1405透過型
デンシトメーターを用いて測定した。ステップ-ウェッ
ジ(step-wedge)照射から得られた結果を用いてD-LogE曲
線をプロットした。
【０１１５】
【実施例２】光熱写真エレメント１〜６の各試料は、50
ユニットのUV照射処理および、種々の温度での10秒間の
熱処理に付した。照射領域の光学密度(Dmin)と非照射領
域の光学密度(Dmax)を以下の表１〜表３に示す。
【０１１６】
【表１】
【０１１７】
【表２】
【０１１８】
【表３】
【０１１９】エレメント４〜６の場合、酸発生成分でも
ある光開始剤(ヨードニウム塩)が含まれる光硬化性下部
層中にベヘン酸銀が存在し、現像剤は上部層に存在す
る。エレメント１〜３は、上部層に付加的な酸発生成分
であるスルホニウム塩を含有する以外は同様なエレメン
トである。表１〜表３から明らかなように、両方のグル
ープの被覆層は有用な像を与えるが、付加的な酸発生成
分を含有するグループ(エレメント１〜３)は、より低い
Dminおよびより高いDmaxを示した。得られたすべての像
はポジであり、ニュートラル色を示した。120℃および1
25℃でそれぞれ処理したエレメント３および６のUV/vis
スペクトルを測定したところ(図１および図２参照)、36
0〜700nmの領域での吸収はみられなかった。
【０１２０】
【実施例３】光活性成分が酸発生成分であって、光硬化
性成分を含有しないエレメント７および８の各々の試料
を50ユニットのUV照射処理と熱処理に付した。照射領域
の光学密度(Dmin)と非照射領域の光学密度(Dmax)を以下
に表４に示す。
【０１２１】
【表４】
【０１２２】得られたすべての像はポジであり、ニュー
トラル色を示した。両方のエレメントのD-LogE曲線は類
似し(以下の表５参照)、両方のエレメントは、ステップ
レベル６の後は、ほとんどの光学的変化のない高ガンマ
を示した。エレメント７のD-LogE曲線を図３に示す。表
５に示す各エレメントは50ユニットのUV照射処理と127
℃で10秒間の熱処理に付した。
【０１２３】
【表５】
【０１２４】
【実施例４】この実施例は、エレメント７の耐熱特性を
示す。連続トーンウェッジ(continuous-tone wedge)を
用いて、個々のストリップに像を形成させ、熱処理に付
した後、50℃で保存した。各ステップレベルでの密度変
化を測定し、得られた結果を以下の表６に示す。表６に
示すエレメント７は50ユニットのUV照射処理と127℃で1
0秒間の熱処理に付した。
【０１２５】
【表６】
【０１２６】表６の結果が示すように、エレメント７
は、50℃で６日間の熱処理に付した後でもほとんど変化
せず、このことは、記録保管所での長期間の保管に適し
た像を形成できる可能性を示すものである。
【０１２７】
【実施例５】この実施例は、光酸発生剤と増感剤を併用
して系の感度を増大させる効果を示す。増感剤として
は、1,4-ジヒドロピリジン誘導体(DH)および1,3,5-トリ
アリールピラゾリン(TPP)を使用した。光熱写真エレメ
ント９〜11の各試料は、50ユニットのUV照射処理と熱処
理に付した。得られたD-LogEに関するデータを表７およ
び図４に示す。
【０１２８】
【表７】
【０１２９】表７において、エレメント９および10は12
7℃で10秒間の熱処理に付したものであり、エレメント1
1は130℃で10秒間の熱処理に付したものである。表７の
結果が示すように、光増感媒体に増感剤を添加すること
によって、エレメントの感度は増大する。この効果は、
トリアリールピラゾリン増感剤を含有するエレメント11
の場合に著しい。即ち、エレメント11は、わずかに7.5
ユニットのUV照射処理に付した後で、良好なポジ像を形
成する(以下の表８参照)。
【０１３０】
【表８】
【０１３１】
【実施例６】スルホニウム塩の光分解によって、現像剤
の酸化または感熱反応阻止をもたらす酸とラジカルが発
生するので、トナーまたは現像剤の含有量を変化させる
ことによる光増感媒体の影響を調べる２つの実験をおこ
なった。
【０１３２】第１の実験においては、トナーの含有量を
２倍にし、エレメントの感度に対する効果を調べた。得
られた結果を以下の表９に示す。表９において、エレメ
ント12は135℃で10秒間の熱処理と50ユニットのUV照射
処理に付したものであり、エレメント13は125℃で10秒
間の熱処理と50ユニットのUV照射処理に付したものであ
る。
【０１３３】
【表９】
【０１３４】これらの結果から明らかなように、トナー
含有量の増加によって、エレメントの感度は低下する
(図５参照)。このことは、像方向での酸の発生によって
ベヘン酸銀の感熱現像が阻止されることを示す。
【０１３５】第２の実験においては、現像剤の含有量を
２倍にした。現像剤を酸化するラジカルの寿命は短いの
で(上記ラジカルは酸素によって消失される)、光酸発生
剤を上部被覆層と下部被覆層の両方に含有させた。得ら
れた結果を以下の表10に示す。表10において、エレメン
ト14および15は、127℃で10秒間の熱処理と50ユニット
のUV照射処理に付したものである。
【０１３６】
【表１０】
【０１３７】これらの結果から明らかなように、エレメ
ント14および15は、エレメント12および13と類似の感度
を示し(図６参照)、また、ベヘン酸銀の感熱現像は、像
方向での酸の発生によって阻止される。
【０１３８】
【実施例７】この実施例は、本発明による光熱写真エレ
メントの感度が、上部被覆層(障壁層)のセルロースアセ
テートの存在によって改良されることを示す。
【０１３９】次の酸合処方によってエレメント16を調整
した。 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 20g BUTVAR B-76 ２g テトラクロロ無水フタル酸 0.004g 現像剤A 0.3g 中間被覆層: BUTVAR B-76 1.5g メチルエチルケトン ５g トルエン ５g スルホニウム塩A 0.6g DEA 0.008g トナーA 0.015g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 これらの配合物はそれぞれ湿潤厚100μm、150μmおよび
100μmで塗布した。各被覆層は、次の被覆層の塗布前80
℃で３分間乾燥させた。
【０１４０】同様にして、２層エレメント17を次の配合
処方によって調製した。 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 30g BUTVAR B-76 ３g テトラクロロ無水フタル酸 0.006g 現像剤A 0.45g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 30g トナーA 0.045g DEA 0.024g スルホニウム塩A 1.5g 各々の被覆層は、湿潤厚150μmで塗布し、80℃で３分間
乾燥した。
【０１４１】各エレメントの試料は５ユニット(エレメ
ント16の場合)または10ユニット(エレメント17の場合)
のUV照射処理と異なった温度での熱処理に付した。照射
領域の光学密度(Dmin)および非照射領域の光学密度(Dma
x)を以下の表11に示す。
【０１４２】
【表１１】
【０１４３】光学的障壁層を設けたエレメント16は、わ
ずかに５ユニットのUV照射によって非常に低いDminと許
容されるDmaxを示した。両方のエレメントの試料はステ
ップウェッジを通して10ユニットのUV照射処理に付し、
130℃(エレメント17の場合)または144℃(エレメント16
の場合)で10秒間の熱処理に付した。D-LogE曲線をプロ
ットし、これらを図７に示す。図７から明らかなよう
に、エレメント16の方が増感速度が大きく、コントラス
トも明瞭である。
【０１４４】
【実施例８】この実施例は、光酸発生剤としてのヨード
ニウム塩および増感剤としての9,10-ジエトキシアント
ラセン(DEA)の併用の効果を示す。
【０１４５】次の配合処方によって、エレメント18を調
製した。 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 20g BUTVAR B-76 ２g 現像剤A 0.15g TCPA 0.004g 中間被覆層: BUTVAR B-76 1.5g メタノール ５g トナーA 0.015g メチルエチルケトン ５g ヨードニウム塩B 0.15g DEA 0.008g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 これらの被覆層は、発泡ポリエステル支持体上に、湿潤
厚150μmで塗布した。
【０１４６】エレメント18の試料は25ユニットのUV照射
処理と異なる温度での熱処理に付した。得られた結果を
以下の表12に示す。
【０１４７】
【表１２】
【０１４８】ヨードニウム塩と9,10-ジエトキシアント
ラセンの併用によって、わずかに不鮮明な像が得られ
た。熱処理温度をより高くすることによって、より鮮明
な像が得られる。
【０１４９】
【実施例９】この実施例では、光酸発生剤としてトリア
ジンAを使用した。次の配合処方によって、エレメント1
9を調製した。 下部被覆層: ベヘン酸銀(全石鹸) 20g BUTVAR B-76 ２g 現像剤A 0.15g TCPA 0.004g 中間被覆層: BUTVAR B-76 1.5g トルエン ５g トナーA 0.015g メチルエチルケトン ５g トリアジンA 0.2g 上部被覆層: セルロースアセテート溶液 これらの被覆層は、発泡ポリエステル支持体上に、湿潤
厚150μmで塗布した。
【０１５０】エレメント19の個々の試料は、25ユニット
のUV照射処理に付した後、異なる温度での熱処理に付
し、結果を以下の表13に示す。
【０１５１】
【表１３】
【０１５２】より低い温度で試料を処理することによっ
て、(不鮮明な)ポジ像が得られるが、より高い温度で処
理すると、エレメント全体が黒ずむ。この特定のトリア
ジン化合物によって形成される像は不安定であるが、こ
れは、UV照射によって発生する塩素ラジカルでブリーチ
されるからである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 光熱写真エレメント３の露出および未露出試
料のUV-VISスペクトルである。
【図２】 光熱写真エレメント６の露出および未露出試
料のUV-VISスペクトルである。
【図３】 光熱写真エレメント７のD-LogE曲線である。
【図４】 光熱写真エレメント９〜11のD-LogE曲線であ
る。
【図５】 光熱写真エレメント12および13のD-LogE曲線
である。
【図６】 光熱写真エレメント14および15のD-LogE曲線
である。
【図７】 光熱写真エレメント16および17のD-LogE曲線
である。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 還元性銀源、光酸発生剤、バインダー、
    および銀イオンのための還元剤を含有する銀イオンのた
    めの還元系を含有する感光性媒体を有するポジ型光熱写
    真エレメントであって、該エレメントを化学線照射に露
    出すると露出領域において酸性種が生成し、それが還元
    系による銀源の還元を禁止する光熱写真エレメント。
  2. 【請求項２】 還元性銀源とバインダーとを含有する第
    １層、および銀イオンのための還元剤と光酸発生剤とバ
    インダーとを含有する第２層が表面上に被覆された支持
    体を有する、請求項１記載のポジ型光熱写真エレメン
    ト。
  3. 【請求項３】 還元性銀源と光酸発生剤とバインダーと
    を含有する第１層、および銀イオンのための還元剤とバ
    インダーとを含有する第２層が表面上に被覆された支持
    体を有する、請求項１記載のポジ型光熱写真エレメン
    ト。
  4. 【請求項４】 前記還元性銀源が銀塩、有機酸の銀錯体
    およびヘテロ有機酸の銀錯体からなる群から選択される
    成員である、請求項１記載のポジ型光熱写真エレメン
    ト。
  5. 【請求項５】 前記還元性銀源が銀ベヘネートである、
    請求項４記載のポジ型光熱写真エレメント。
  6. 【請求項６】 前記銀イオンのための還元剤が、フェニ
    ドン、ヒドロキノン、カテコールおよび立体障害フェノ
    ールからなる群から選択される成員である、請求項１記
    載のポジ型光熱写真エレメント。
  7. 【請求項７】 前記還元剤が、式 【化１】 [式中、Rは水素および５個までの炭素原子を有するアル
    キル基からなる群から選択される成員である。]で示す
    核を有する立体障害フェノールである、請求項６記載の
    ポジ型光熱写真エレメント。
  8. 【請求項８】 前記還元系が、必要に応じてテトラクロ
    ロフタル酸またはその無水物と組み合わせて用いられる
    フタラジノン、フタラジンおよびフタル酸からなる群か
    ら選択される成員である、請求項１記載のポジ型光熱写
    真エレメント。
  9. 【請求項９】 前記光酸発生剤が、スルホニウム塩、ヨ
    ードニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、キノ
    ンジアジドスルホクロリド、ビス(トリクロロメチル)-s
    -トリアジン、トリクロロメチルピロンおよび有機ハロ
    ゲンと有機金属化合物との混合物からなる群から選択さ
    れる成員である、請求項１記載のポジ型光熱写真エレメ
    ント。
  10. 【請求項１０】 前記光酸発生剤が以下の式(II)で示さ
    れるヨードニウム塩と以下の式(III)で示されるスルホ
    ニウム塩とからなる群から選択される成員である、請求
    項９記載のポジ型光熱写真エレメント： X-I+-(A)2 (II) X-S+-(A)3 (III) [式中、各Aは、独立して、ヨウ素またはイオウ原子を環
    構造中に含有するように相互に結合しうる芳香族基であ
    り、そしてX-は、光分解においてHXが３以下のpKaであ
    るようなアニオンである。]。
  11. 【請求項１１】 前記光酸発生剤が、式 【化２】 で示す群から選択される成員であるカチオンと、式 【化３】 で示す群から選択される成員であるアニオンとを有す
    る、請求項９記載のポジ型光熱写真エレメント。
  12. 【請求項１２】 前記媒体がキサンテン染料、3-置換ク
    マリン、ジアルコキシアントラセン、1,4-ジヒドロピリ
    ジン、1,3,5-トリアリールピラゾリンおよびオキソノー
    ル染料から選択される増感剤をさらに含有する、請求項
    １〜11のいずれか記載のポジ型光熱写真エレメント。
  13. 【請求項１３】 還元性銀源の重量を基準にして0.75重
    量％を下回る量のハロゲン化銀を含有する、請求項１〜
    12のいずれか記載のポジ型光熱写真エレメント。
  14. 【請求項１４】 (a)還元性銀源、光酸発生剤、バイン
    ダー、および銀イオンのための還元剤を含有する銀イオ
    ンのための還元系を含有する感光性媒体を有するポジ型
    光熱写真エレメントであって、化学線照射に露出するこ
    とにより露出領域において酸性種が生成し、それが還元
    系による銀源の還元を禁止する光熱写真エレメントを提
    供する工程; (b)該光熱写真エレメントを像に応じて照射に露出する
    ことにより、潜像を形成する工程; および (c)該露出エレメントを加熱することにより潜像を現像
    する工程；を包含するポジ型像を生成する方法。
JP4275984A 1991-10-14 1992-10-14 ポジ型光熱写真材料 Pending JPH05249606A (ja)

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