JPH05251505A - Icチップのエリアテープへの接続方法 - Google Patents
Icチップのエリアテープへの接続方法Info
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- JPH05251505A JPH05251505A JP3347086A JP34708691A JPH05251505A JP H05251505 A JPH05251505 A JP H05251505A JP 3347086 A JP3347086 A JP 3347086A JP 34708691 A JP34708691 A JP 34708691A JP H05251505 A JPH05251505 A JP H05251505A
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- tape
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/072—Connecting or disconnecting of bump connectors
- H10W72/07251—Connecting or disconnecting of bump connectors characterised by changes in properties of the bump connectors during connecting
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明はICチップのエリアテープへの接続
方法に関し、バンプのないICチップでもエリアテープ
に接続することができる接続方法を実現することを目的
とする。 【構成】 誘電体フィルムよりなる基材の上に複数の金
属配線を有し、且つ該基材に金属配線に通ずるビアホー
ルが形成されてなるエリアテープと、パッド電極を有す
るICチップとの接続方法であって、前記エリアテープ
16のビアホール15内に少なくとも1個の金属ボール
18を挿入する工程と、該金属ボール18にICチップ
19のパッド電極20が接触するように位置合わせして
載置する工程と、ICチップ19とエリアテープ16を
加圧、加熱してエリアテープ16の金属配線14とIC
チップ19のパッド電極20間を金属ボールを介して接
続する工程、とよりなるように構成する。
方法に関し、バンプのないICチップでもエリアテープ
に接続することができる接続方法を実現することを目的
とする。 【構成】 誘電体フィルムよりなる基材の上に複数の金
属配線を有し、且つ該基材に金属配線に通ずるビアホー
ルが形成されてなるエリアテープと、パッド電極を有す
るICチップとの接続方法であって、前記エリアテープ
16のビアホール15内に少なくとも1個の金属ボール
18を挿入する工程と、該金属ボール18にICチップ
19のパッド電極20が接触するように位置合わせして
載置する工程と、ICチップ19とエリアテープ16を
加圧、加熱してエリアテープ16の金属配線14とIC
チップ19のパッド電極20間を金属ボールを介して接
続する工程、とよりなるように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はICチップ特にバンプの
ないICチップのエリアテープへの接続方法に関する。
近年ICチップの高集積化により高密度接続が可能なT
AB(Tape Automaited Bondin
g)方式による半導体装置の組立が注目されている。こ
のTAB方式はポリイミド又はポリエステル等のフィル
ムに銅箔をはりつけ、それをホトリソグラフィ技術によ
りエッチングして金属配線を形成し、その金属配線にI
Cチップの電極をボンディングするものである。この
後、このフィルムにボンディングされたICはプリント
配線板あるいはパッケージに搭載されて用いられる。
ないICチップのエリアテープへの接続方法に関する。
近年ICチップの高集積化により高密度接続が可能なT
AB(Tape Automaited Bondin
g)方式による半導体装置の組立が注目されている。こ
のTAB方式はポリイミド又はポリエステル等のフィル
ムに銅箔をはりつけ、それをホトリソグラフィ技術によ
りエッチングして金属配線を形成し、その金属配線にI
Cチップの電極をボンディングするものである。この
後、このフィルムにボンディングされたICはプリント
配線板あるいはパッケージに搭載されて用いられる。
【0002】上記のTAB方式の応用製品の一つとし
て、高密度接続を行うためチップの周辺のみならず中央
部にも電極を有するICに用いることができるエリアテ
ープが開発されている。
て、高密度接続を行うためチップの周辺のみならず中央
部にも電極を有するICに用いることができるエリアテ
ープが開発されている。
【0003】図4は従来のエリアテープを示す図で、同
図(a)は平面図、(b)は(a)図のb−b線におけ
る断面図である。同図において、1はエリアテープであ
る。2はパーフォレーション3を有するポリイミド又は
ポリエステル等の誘電体からなるフィルムであり、IC
搭載部4の周囲には窓5が設けられている。またIC搭
載部4には複数のビアホール6が穿設されており、該ビ
アホール6から窓5をまたいで金属配線7が設けられて
いる。なお窓5はICチップをプリント配線板又はパッ
ケージに搭載する場合に金属配線7を切断し易くするた
めのものである。
図(a)は平面図、(b)は(a)図のb−b線におけ
る断面図である。同図において、1はエリアテープであ
る。2はパーフォレーション3を有するポリイミド又は
ポリエステル等の誘電体からなるフィルムであり、IC
搭載部4の周囲には窓5が設けられている。またIC搭
載部4には複数のビアホール6が穿設されており、該ビ
アホール6から窓5をまたいで金属配線7が設けられて
いる。なお窓5はICチップをプリント配線板又はパッ
ケージに搭載する場合に金属配線7を切断し易くするた
めのものである。
【0004】
【従来の技術】図5に従来技術である半田バンプ付きI
Cとエリアテープとの接続例を示す。この半田バンプ付
きICとエリアテープとの接続工程は、予め電極部に半
田バンプ8が形成されたICチップ9をエリアテープ1
の上にフェースダウンで位置合わせし、バンプ8がビア
ホール6に挿入されるようにして載置する。次いでエリ
アテープ1もしくはICチップ9を加熱することにより
ビアホール6内に半田バンプ8を溶融し、金属配線7に
接合させるのである。このようにしてICチップ9の電
極とエリアテープ1の金属配線7との接続を行うことが
できる。
Cとエリアテープとの接続例を示す。この半田バンプ付
きICとエリアテープとの接続工程は、予め電極部に半
田バンプ8が形成されたICチップ9をエリアテープ1
の上にフェースダウンで位置合わせし、バンプ8がビア
ホール6に挿入されるようにして載置する。次いでエリ
アテープ1もしくはICチップ9を加熱することにより
ビアホール6内に半田バンプ8を溶融し、金属配線7に
接合させるのである。このようにしてICチップ9の電
極とエリアテープ1の金属配線7との接続を行うことが
できる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のICチップ
とエリアテープとの接続方法では、ICチップ上に必ず
半田バンプを形成する事が必要である。このため、ユー
ザーにおいて、半田バンプを形成する能力が無い場合、
あるいはバンプ付きのチップの供給を受けられない場合
にはエリアテープの使用は不可能となるという問題があ
った。又通常、ICチップ上へのバンプ形成はメッキ法
により行うため、メッキ液によるICチップの汚染とい
う問題があり、ICチップの腐食や誤動作を引き越こし
やすいという問題があった。
とエリアテープとの接続方法では、ICチップ上に必ず
半田バンプを形成する事が必要である。このため、ユー
ザーにおいて、半田バンプを形成する能力が無い場合、
あるいはバンプ付きのチップの供給を受けられない場合
にはエリアテープの使用は不可能となるという問題があ
った。又通常、ICチップ上へのバンプ形成はメッキ法
により行うため、メッキ液によるICチップの汚染とい
う問題があり、ICチップの腐食や誤動作を引き越こし
やすいという問題があった。
【0006】本発明は、上記問題点に鑑み、バンプのあ
るICはもちろんのことバンプのないICチップでもエ
リアテープに接続することができる接続方法を実現しよ
うとする。
るICはもちろんのことバンプのないICチップでもエ
リアテープに接続することができる接続方法を実現しよ
うとする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のICチップのエ
リアテープへの接続方法に於いては、誘電体フィルムよ
りなる基材の上に複数の金属配線を有し、且つ該基材に
金属配線に通ずるビアホールが形成されてなるエリアテ
ープと、パッド電極を有するICチップとの接続方法で
あって、前記エリアテープのビアホール内に少なくとも
1個の金属ボールを挿入する工程と、該金属ボールにI
Cチップのパッド電極が接触するように顕微鏡等により
位置合わせして載置する工程と、ICチップとエリアテ
ープの少くとも一方の側から加圧、加熱してエリアテー
プの金属配線とICチップのパッド電極間を金属ボール
を介して接続する工程、とよりなることを特徴とする。
この構成を採ることにより、バンプのないICチップで
もエリアテープに接続することができる接続方法が得ら
れる。なお、本発明において、金属ボールのビアホール
への挿入方法としては、特に限定されるものではない
が、エリアテープの上からふりかけて、余計な金属ボー
ルを払いおとす方法、金属ボールをふりかけた後、エリ
アテープの反体面より吸引する方法、金属ボールと有機
バインダーあるいは溶剤を混ぜ合わせ、ペースト状態に
して、スクリーン印刷する方法等が好ましい。
リアテープへの接続方法に於いては、誘電体フィルムよ
りなる基材の上に複数の金属配線を有し、且つ該基材に
金属配線に通ずるビアホールが形成されてなるエリアテ
ープと、パッド電極を有するICチップとの接続方法で
あって、前記エリアテープのビアホール内に少なくとも
1個の金属ボールを挿入する工程と、該金属ボールにI
Cチップのパッド電極が接触するように顕微鏡等により
位置合わせして載置する工程と、ICチップとエリアテ
ープの少くとも一方の側から加圧、加熱してエリアテー
プの金属配線とICチップのパッド電極間を金属ボール
を介して接続する工程、とよりなることを特徴とする。
この構成を採ることにより、バンプのないICチップで
もエリアテープに接続することができる接続方法が得ら
れる。なお、本発明において、金属ボールのビアホール
への挿入方法としては、特に限定されるものではない
が、エリアテープの上からふりかけて、余計な金属ボー
ルを払いおとす方法、金属ボールをふりかけた後、エリ
アテープの反体面より吸引する方法、金属ボールと有機
バインダーあるいは溶剤を混ぜ合わせ、ペースト状態に
して、スクリーン印刷する方法等が好ましい。
【0008】
【作用】エリアテープのビアホール内に金属ボールを挿
入し、該金属ボールにICチップのパッド電極が接触す
るようにICチップをエリアテープ上に載置し、加熱、
加圧することにより、金属ボールは溶融して、エリアテ
ープの金属配線とICチップのパッド電極間を接続す
る。また金属ボールが溶融しない場合は拡散により接続
する。
入し、該金属ボールにICチップのパッド電極が接触す
るようにICチップをエリアテープ上に載置し、加熱、
加圧することにより、金属ボールは溶融して、エリアテ
ープの金属配線とICチップのパッド電極間を接続す
る。また金属ボールが溶融しない場合は拡散により接続
する。
【0009】
【実施例】本実施例の接続方法に用いられるエリアテー
プは図1に示す工程で作成される。この工程は、先ず図
1(a)の如ポリイミド等の誘電体フィルムよりなる基
材10の一方の面にフラッシュメッキ11を施す。次い
で図1(b)の如く両面にフォトレジストのドライフィ
ルム12,12′をラミネートする。次いで図1(c)
の如くガラスマスク13,13′を用いて露光し、現像
して図1(d)の如くレジストパターンを形成する。
プは図1に示す工程で作成される。この工程は、先ず図
1(a)の如ポリイミド等の誘電体フィルムよりなる基
材10の一方の面にフラッシュメッキ11を施す。次い
で図1(b)の如く両面にフォトレジストのドライフィ
ルム12,12′をラミネートする。次いで図1(c)
の如くガラスマスク13,13′を用いて露光し、現像
して図1(d)の如くレジストパターンを形成する。
【0010】次いで図1(e)の如くフラッシュメッキ
11が露出している部分に銅メッキして金属配線14を
形成し、他方の面は基体10をエッチングしてビアホー
ル15を形成する。次いでレジストフィルム12,1
2′及び余分なフラッシュメッキを除去して図1(f)
の如くエリアテープ16を完成する。なおビアホール1
5の形状は図2の如く漏斗状をなしその最小径部分は2
0μm以上で、角θは20〜80°であることが好まし
い。
11が露出している部分に銅メッキして金属配線14を
形成し、他方の面は基体10をエッチングしてビアホー
ル15を形成する。次いでレジストフィルム12,1
2′及び余分なフラッシュメッキを除去して図1(f)
の如くエリアテープ16を完成する。なおビアホール1
5の形状は図2の如く漏斗状をなしその最小径部分は2
0μm以上で、角θは20〜80°であることが好まし
い。
【0011】次に、このように形成されたエリアテープ
にバンプの無いICチップを接続する方法を図3により
説明する。先ず、図3(a)に示すように、ステージヒ
ータ17の上にエリアテープ16をその金属配線14が
下になるようにして載置する。そして該エリアテープ1
6の各ビアホール15に金属ボール18を挿入する。こ
こで、金属ボールは、エリアテープの反対面より吸引し
ながら、エリアテープ上にふりかけて行った。そして、
その後余分な金属ボールをスキージーでそぎとった。な
お、金属ボールがビアホールに確実に挿入されたか否
か、あるいはビアホール以外の部分に金属ボールが存在
しないかどうかの確認は、顕微鏡により行った。
にバンプの無いICチップを接続する方法を図3により
説明する。先ず、図3(a)に示すように、ステージヒ
ータ17の上にエリアテープ16をその金属配線14が
下になるようにして載置する。そして該エリアテープ1
6の各ビアホール15に金属ボール18を挿入する。こ
こで、金属ボールは、エリアテープの反対面より吸引し
ながら、エリアテープ上にふりかけて行った。そして、
その後余分な金属ボールをスキージーでそぎとった。な
お、金属ボールがビアホールに確実に挿入されたか否
か、あるいはビアホール以外の部分に金属ボールが存在
しないかどうかの確認は、顕微鏡により行った。
【0012】この金属ボール18としては、ハンダ等の
低融点金属の単体およびその合金や金、銅等の高融点金
属及びその合金を用いることができる。また金属ボール
18の大きさについては、1つのビアホール15に対し
て金属ボール1個の場合はビアホールの大きさに合わせ
た大きさのボールを用い、金属ボール18が小さい場合
(パウダーを含む)は複数個用い、全ボールの体積がビ
アホールの容積の50〜200%となる様にすることが
適当である。
低融点金属の単体およびその合金や金、銅等の高融点金
属及びその合金を用いることができる。また金属ボール
18の大きさについては、1つのビアホール15に対し
て金属ボール1個の場合はビアホールの大きさに合わせ
た大きさのボールを用い、金属ボール18が小さい場合
(パウダーを含む)は複数個用い、全ボールの体積がビ
アホールの容積の50〜200%となる様にすることが
適当である。
【0013】次に、図3(b)の如く、エリアテープ1
6の上にバンプのないICチップ19をフェースダウン
で載置する。この場合、ICチップ19は、そのパッド
電極20がエリアテープ16のビアホール15に対向し
て金属ボール18に接触するように位置決めする。
6の上にバンプのないICチップ19をフェースダウン
で載置する。この場合、ICチップ19は、そのパッド
電極20がエリアテープ16のビアホール15に対向し
て金属ボール18に接触するように位置決めする。
【0014】次いで、ステージヒータ17を昇温させて
エリアテープ16を加熱する。同時にICチップ19の
背後から該ICチップ19をエリアテープ16に向って
加熱、加圧する。これにより図3(c)の如く金属ボー
ル18はビアホール15内に押し潰され、エリアテープ
16の金属配線14とICチップ19のパッド電極20
にそれぞれ接合し、該金属配線14とパッド電極20間
を電気的に接続する。
エリアテープ16を加熱する。同時にICチップ19の
背後から該ICチップ19をエリアテープ16に向って
加熱、加圧する。これにより図3(c)の如く金属ボー
ル18はビアホール15内に押し潰され、エリアテープ
16の金属配線14とICチップ19のパッド電極20
にそれぞれ接合し、該金属配線14とパッド電極20間
を電気的に接続する。
【0015】この場合、金属ボール18が半田等の低融
点金属の単体およびその合金である場合、例えば6:4
ハンダであれば190〜250℃程度に加熱して溶融さ
せ金属配線14とパッド電極20間を接続する。加熱手
段はヒーターヘッド、ステージヒータのほかリフロープ
ロセスでも良い。
点金属の単体およびその合金である場合、例えば6:4
ハンダであれば190〜250℃程度に加熱して溶融さ
せ金属配線14とパッド電極20間を接続する。加熱手
段はヒーターヘッド、ステージヒータのほかリフロープ
ロセスでも良い。
【0016】また金属ボール18が金、銅等の高融点金
属の単体およびその合金の場合は500℃程度に加熱し
て加圧するか、或いは室温〜300℃に加熱したツール
で圧力と超音波を加えることにより金属配線14とパッ
ド電極20との間を接続することができる。
属の単体およびその合金の場合は500℃程度に加熱し
て加圧するか、或いは室温〜300℃に加熱したツール
で圧力と超音波を加えることにより金属配線14とパッ
ド電極20との間を接続することができる。
【0017】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明に依れば、バ
ンプのあるICチップはもちろんのこと従来不可能であ
ったエリアテープへのバンプ無しICチップの接続が、
極めて簡単な方法により可能となり、エリアテープの応
用範囲の拡大に寄与することができる。
ンプのあるICチップはもちろんのこと従来不可能であ
ったエリアテープへのバンプ無しICチップの接続が、
極めて簡単な方法により可能となり、エリアテープの応
用範囲の拡大に寄与することができる。
【図1】本発明の実施例におけるエリアテープの製造工
程を説明するための図である。
程を説明するための図である。
【図2】本発明の実施例におけるエリアテープのビアホ
ールの形状を示す図である。
ールの形状を示す図である。
【図3】本発明の実施例を説明するための図である。
【図4】従来のエリアテープを示す図で、(a)は平面
図、(b)は(a)図のb−b線における断面図であ
る。
図、(b)は(a)図のb−b線における断面図であ
る。
【図5】従来技術である半田バンプ付ICとエリアテー
プの接続例を示す図である。
プの接続例を示す図である。
10…基材 11…フラッシュメッキ 12,12′…ドライフィルム 13,13′…ガラスマスク 14…金属配線 15…ビアホール 16…エリアテープ 17…ステージヒータ 18…金属ボール 19…ICチップ 20…パッド電極
Claims (2)
- 【請求項1】 誘電体フィルムよりなる基材の上に複数
の金属配線を有し、 且つ該基材に金属配線に通ずるビアホールが形成されて
なるエリアテープと、パッド電極を有するICチップと
の接続方法であって、 前記エリアテープのビアホール内に少なくとも1個の金
属ボールを挿入する工程と、 該金属ボールにICチップのパッド電極が接触するよう
に位置合わせして載置する工程と、 ICチップとエリアテープの少くとも一方の側から加熱
すると共に加圧してエリアテープの金属配線とICチッ
プのパッド電極間を金属ボールを介して接続する工程、 とよりなることを特徴とするICチップのエリアテープ
への接続方法。 - 【請求項2】 前記ICチップがバンプを有しないこと
を特徴とする請求項1のICチップのエリアテープへの
接続方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3347086A JPH05251505A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | Icチップのエリアテープへの接続方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3347086A JPH05251505A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | Icチップのエリアテープへの接続方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05251505A true JPH05251505A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=18387820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3347086A Pending JPH05251505A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | Icチップのエリアテープへの接続方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05251505A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040015953A (ko) * | 2002-08-14 | 2004-02-21 | 삼성테크윈 주식회사 | 반도체 팩키지용 필름 기판 및 이의 제조 방법 |
| JP2007019430A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Sharp Corp | 半導体装置 |
| US7247508B2 (en) | 2001-04-25 | 2007-07-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device with intermediate connector |
| JP2009110991A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5718347A (en) * | 1980-07-08 | 1982-01-30 | Citizen Watch Co Ltd | Mounting structure of ic |
| JPH0385741A (ja) * | 1989-08-30 | 1991-04-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| JPH03129745A (ja) * | 1989-10-16 | 1991-06-03 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体装置の実装方法 |
-
1991
- 1991-12-27 JP JP3347086A patent/JPH05251505A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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