JPH0525367B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0525367B2 JPH0525367B2 JP61162090A JP16209086A JPH0525367B2 JP H0525367 B2 JPH0525367 B2 JP H0525367B2 JP 61162090 A JP61162090 A JP 61162090A JP 16209086 A JP16209086 A JP 16209086A JP H0525367 B2 JPH0525367 B2 JP H0525367B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- magnetic
- support
- recording medium
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、一般には磁気記録媒体に関するもの
であり、特に真空蒸着法、イオンプレーテイング
法等の蒸着法により、蒸着源用材料を蒸発させ支
持体上に磁性蒸着膜を形成せしめた磁気記録媒体
及びその製造法に関するものである。 従来の技術及び問題点 近年、例えばビデオテープ及び他の種々の分野
では記録情報量の増大が望まれ、これに応えるべ
く高密度の磁気記録媒体が種々提案されている。 斯る高密度磁気記録媒体としては、現在真空蒸
着法、イオンプレーテイング法等の蒸着法によ
り、蒸着源用材料を蒸発させ支持体上に磁性蒸着
膜を形成せしめた磁気記録媒体が特に有効である
と認識されており、例えば特開昭57−198614号に
はテープ基材上にCo−Ni−Ｂ系金属に酸素を含
めた組成を有する磁性蒸着膜を形成した磁気記録
用テープが、又特開昭59−74606号にはCo−Cr系
金属或いはCo−Ni−Cr系金属に酸素及びMo，
Ta，Ｗの内の少なくとも１種の元素を含めた組
成を有する磁性蒸着膜を形成した磁気記録テープ
が提案されている。 このような磁気記録用テープは、特にCo−Ni
−Ｂ系金属組成を有する磁性蒸着膜を形成した磁
気記録用テープは磁性膜の磁気特性、耐蝕性及び
耐摩耗性の点において優れており極めて好ましい
ものである。しかしながら、最近のビデオテープ
レコーダの進歩と共にテープの使用頻度が著しく
増大し、更にはその使用態様も複雑化し、特にス
チル（静止画像）モードでの使用が多用され、テ
ープは同一箇所を磁気ヘツドにて多数回摺擦され
ることがあり、より耐摩耗性の向上が望まれてい
る。 本発明者等は、磁性蒸着膜を形成せしめた磁気
記録媒体を改善するべく、多くの研究実験を行な
つた結果、基本的にはCo−Ni−Ｂ系金属から成
る組成を有し、更にTi，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，
Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元素を更に好まし
くは酸素（Ｏ）及び／又は窒素（Ｎ）を含有せし
めることにより磁性蒸着膜の耐摩耗性が飛躍的に
向上することを見出した。 本発明は斯る新規な知見に基ずくものである。 発明の目的 従つて、本発明の目的は、基本的にCo−Ni−
Ｂ系金属から成る組成を有した磁性蒸着膜の耐蝕
性及び耐摩耗性を改良し、より耐蝕性及び耐摩耗
性の良好な磁性蒸着膜を有した磁気記録媒体を提
供することである。 問題点を解決するための手段 上記目的は本発明に係る磁気記録媒体によつて
達成される。要約すれば本発明は、支持体上に
Ni（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5重量％）、Ti，
Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種
以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）から
成る組成を有する磁性蒸着膜を形成したことを特
徴とする磁気記録媒体である。本発明の好ましい
実施態様によると、Niは15〜20重量％、Ｂは0.4
〜1.5重量％、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗの中の１種以上の元素は1.0〜4.0重量％、
残部がCoとされ、支持体は耐熱性プラスチツク
フイルムとされる。 更に好ましくは、上記磁性蒸着膜にはＯ及び／
又はＮが添加される。更に詳しく説明すると、支
持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5重量
％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元素
（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）から成る組成を有
する磁性蒸着膜を形成することができ、この場
合、より好ましくはNiは15〜20重量％、Ｂは0.4
〜1.5重量％、Ｏは2.0〜2.5重量％、Ti，Zr，Hf，
Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元
素は1.0〜4.0重量％、残部がCoとされる。又、本
発明の他の態様によれば、支持体上にNi（10〜30
重量％）、Ｂ（0.02〜1.5重量％）、Ｎ（0.02〜2.0重
量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，
Ｗの中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co
（残部）から成る組成を有する磁性蒸着膜を形成
することができ、この場合、より好ましくはNi
は15〜20重量％、Ｂは0.4〜1.5重量％、Ｎは0.2〜
1.7重量％、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗの中の１種以上の元素は1.0〜4.0重量％、
残部がCoとされる。又、更に本発明の他の態様
によれば、支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ
（0.02〜1.5重量％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）、Ｎ（0.0
2
〜2.0重量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗの中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量
％）、Co（残部）から成る組成を有する磁性蒸着
膜を形成した磁気記録媒体が得られる。この時、
より好ましくはNiは15〜20重量％、Ｂは0.4〜1.5
重量％、Ｏは2.0〜2.5重量％、Ｎは0.2〜1.7重量
％、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの
中の１種以上の元素は1.0〜4.0重量％、残部がCo
とされる。 以下に、本発明を図面及び実施例により更に詳
しく説明する。 第１図を参照すると、本発明に係る磁気記録媒
体を製造する真空蒸着装置の一実施例が例示され
る。本装置において、真空（減圧）槽１内には円
筒状の冷却キヤン２が矢印方向に回転自在に担持
される。真空槽１は排気孔１１に接続された真空
排気装置（図示せず）にて所定の真空となるま
で、通常10-4〜10-6Torrにまで真空引きされる。
又、磁気記録媒体の基材、即ち、支持体Ｓは、本
実施例ではテープ状のプラスチツクフイルムとさ
れ、供給ロール４から前記冷却キヤン２の概略下
方部分の外周囲を巻回され、巻取りロール６に巻
取られる。支持体Ｓの移動速度は通常約100cm／
secとされるであろう。プラスチツクフイルムと
しては適度の可撓性と抗張力、更には蒸着時の高
温度に耐えるだけの耐熱性を有した任意のフイル
ムを使用し得るが、通常磁気テープの基材として
使用されているポリエステル樹脂、アセテート樹
脂、ポリカーボネイト樹脂等のフイルムが好適で
ある。 冷却キヤン２の、好ましくは斜め下方位置に蒸
発源８が配置され、斜方蒸着が行なわれるように
構成される。従つて、斜方蒸着を効果ならしめる
ために冷却キヤン２の真下外周部分に巻回された
支持体Ｓは所定範囲にわたつてマスク１０にて遮
蔽される。蒸発源８には、蒸発材料である本発明
に係る上記Co−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系合金が準備され、抵
抗加熱手段、高周波誘導加熱手段又は電子線加熱
手段等の任意の加熱装置にて加熱され、例えば
50nm／secの蒸着速度となるように蒸発せしめら
れる。蒸発したCo−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系合金は上方に配置さ
れた冷却キヤン２の方向へと上昇し、冷却キヤン
２の外周囲に巻回されて移動する支持体Ｓ上へと
付着する。 本装置には、Co−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系合金蒸気が支持体Ｓ
に付着する部分に酸素若しくは窒素、又は酸素及
び窒素の混合ガスを選択的に供給するためにノズ
ル１２が配設される。該酸素及び窒素はそれぞれ
酸素及び窒素供給源（図示せず）から供給するこ
ともできるが、酸素及び窒素を同時に供給する場
合には水分を除去した乾燥空気を供給することも
可能である。酸素及び窒素は、圧力１Kg／cm2、流
量0.1／secにて供給され、又混合ガスの場合の
酸素と窒素の割合は標準状態にて１対４とされ、
圧力１Kg／cm2、流量0.1／secにて供給される。
又、乾燥空気を供給する場合には圧力１Kg／cm2、
流量0.1／secにて支持体Ｓの蒸着部分に供給さ
れる。 上記構成により、支持体Ｓは冷却キヤン２によ
り移送される過程にてCo−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，
Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系合金蒸気並
びに選択的に酸素若しくは窒素又は酸素及び窒素
が供給付着される。 つまり、本発明に従えば、上記製造方法にて支
持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5重量
％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ
の中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co
（残部）から成る組成を有する磁性蒸着膜を形成
した磁気記録媒体；支持体上にNi（10〜30重量
％）、Ｂ（0.02〜1.5重量％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）
、
Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の
１種以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）
から成る組成を有する磁性蒸着膜を形成した磁気
記録媒体；支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ
（0.02〜1.5重量％）、Ｎ（0.02〜2.0重量％）、Ti，
Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種
以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）から
成る組成を有する磁性蒸着膜を形成した磁気記録
媒体；又は支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ
（0.02〜1.5重量％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）、Ｎ（0.0
2
〜2.0重量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗの中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量
％）、Co（残部）から成る組成を有する磁性蒸着
膜を形成した磁気記録媒体が得られる。 更に説明すれば、本発明において、Niは10〜
30重量％までの割合にて含有され、Co主体の磁
性蒸着膜の耐摩耗性を向上せしめる作用をなす。
10％より少ないか30重量％を超えた場合には磁気
特性が悪化することが分かつた。従つて、好まし
くは、Niは15〜20重量％とされるであろう。 本発明に従えば、特に、Ｂ及びTi，Zr，Hf，
Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元
素が互いに反応してTi，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，
Cr，Mo，Ｗのホウ化物を形成し、該ホウ化物が
磁性蒸着膜内に分散されることによりCo−Ni系
金属の磁性蒸着膜の耐蝕性、耐摩耗性を向上せし
める働きがあることが分かつた。又、Ｂが0.02重
量％より少ない場合はその効果が顕著ではなく、
1.5重量％を超えた場合には磁気特性が悪化する
ことが分かつた。特に好ましくは、Ｂは0.4〜1.5
重量％とされる。このとき、Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗは0.02〜5.0重量％である
ことが重要であり、斯る範囲外では磁性蒸着膜の
耐蝕性、耐摩耗性の向上は顕著ではなく、又磁気
特性が悪くなる傾向がある。 本発明に従い選択的に添加される酸素（Ｏ）及
び窒素（Ｎ）は、上記４元合金、Co−Ni−Ｂ−
（Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系
金属が支持体上に蒸着される際に金属と化合して
酸化物及び窒化物を生成して含有されるものと考
えられる。酸素（Ｏ）は酸化コバルト（CoO）と
して存在し、窒素（Ｎ）は窒化ホウ素（BN）と
して膜内に入つていると考えられる。本発明者等
の研究によれば、磁性膜中に酸素及び／又は窒素
が含有された場合には磁性蒸着膜の耐摩耗性が更
に向上されることが分かつた。 このとき、酸素（Ｏ）の含有量が0.2重量パー
セントよりも少ない場合は、磁性薄膜の耐摩耗性
向上効果が見られず、3.0重量パーセントを超え
た場合には前記効果は飽和し、耐食性及び磁気特
性が悪くなる。窒素（Ｎ）の含有量が0.02〜2.0
重量パーセントを外れた場合もＯと全く同じ影響
が表れ、Ｎが0.02重量パーセント未満では、磁性
薄膜の耐摩耗性向上効果が見られず、2.0重量パ
ーセントを超えた場合には、前記効果は飽和し、
耐食性及び磁気特性が悪くなることが分つた。 本発明にて該磁性蒸着膜の膜厚は用途に応じて
任意に設計し得るが、好ましくは0.1〜0.2μmとさ
れる。本発明者等の研究によると、0.1μm未満で
は十分な記録が得られないと同時に十分な耐摩耗
性が得られず、又0.2μmを超えると耐摩耗性は得
られるが支持体Ｓの可撓性が低下し、記録密度も
低下する傾向にあることが分かつた。従つて、磁
性蒸着膜の膜厚は、特に好ましくは0.15μmとさ
れるであろう。 上記磁性蒸着膜の組成及び膜厚は、蒸発源の４
元合金の組成、及び供給される酸素、窒素ガスの
流量、供給圧力、支持体Ｓの移動速度、真空槽１
の減圧状態等によつて種々に調整されるであろ
う。 次に、実施例について本発明を説明する。 実施例 １〜14 電子ビーム照射加熱式真空溶解炉にて、表１に
示される組成を有した４元合金を調製し、蒸発源
材料とした。 真空蒸着装置は第１図に図示するような製造装
置を使用し、真空槽１は2.3×10-6Torrに真空引
きされた。支持体Ｓとしては、28μm厚のポリエ
ステルフイルムを使用し、直径50cmの冷却キヤン
の回りに巻回し、100cm／secの速度にて移動せし
めた。 蒸発源材料は、電子線を照射し溶融して蒸発せ
しめ、支持体Ｓ上に50nm／secの速度にて蒸着
し、該支持体Ｓ上に厚さ0.1μmの磁性蒸着膜を形
成した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表１、表６に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 実施例 15〜28 電子ビーム照射加熱式真空溶解炉にて、表２に
示される組成を有した４元合金を調製し、蒸発源
材料とした。 真空蒸着装置は第１図に図示するような製造装
置を使用し、真空槽１は2.3×10-6Torrに真空引
きされた。支持体Ｓとしては、28μm厚のポリエ
ステルフイルムを使用し、直径50cmの冷却キヤン
の回りに巻回し、100cm／secの速度にて移動せし
めた。 蒸発源材料は、電子線を照射し溶融して蒸発せ
しめ、支持体Ｓ上に50nm／secの速度にて蒸着
し、該支持体Ｓ上に厚さ0.1μmの磁性蒸着膜を形
成した。尚、支持体Ｓの蒸着面にはノズル１２か
ら酸素を0.1／sec、圧力１Kg／cm2にて吹付け
た。これにより、真空槽１内の真空は1.4×10-2
Torrとなり、該真空状態が維持された。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表２、表６に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 実施例 29〜42 ノズル１２から支持体Ｓの蒸着面に酸素の代り
に窒素を吹付けた以外は実施例15〜28と同様の蒸
着条件にて支持体Ｓに磁性蒸着膜を作製した。蒸
発源の４元合金の組成は表３に示される通りであ
る。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表３、表６に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 実施例 43〜56 ノズル１２から支持体Ｓの蒸着面に酸素の代り
に乾燥空気（酸素：窒素＝１：４）を吹付けた以
外は実施例15〜28と同様の蒸着条件にて支持体Ｓ
に磁性蒸着膜を作製した。蒸発源の４元合金の組
成は表４に示される通りである。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表４、表６に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 比較例 １〜４ 表５に示される組成の蒸発源材料を作製し、実
施例１〜14と同様にして支持体Ｓに磁性蒸着膜を
作製した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表５、表７に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 比較例 ５〜８ 表５に示される組成の蒸発源材料を作製し、実
施例15〜28と同様にして支持体Ｓに磁性蒸着膜を
作製した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表５、表７に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 比較例 ９〜12 表５に示される組成の蒸発源材料を作製し、実
施例29〜42と同様にして支持体Ｓに磁性蒸着膜を
作製した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表５、表７に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 比較例 13〜16 表５に示される組成の蒸発源材料を作製し、実
施例43〜56と同様にして支持体Ｓに磁性蒸着膜を
作製した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表５、表７に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。
であり、特に真空蒸着法、イオンプレーテイング
法等の蒸着法により、蒸着源用材料を蒸発させ支
持体上に磁性蒸着膜を形成せしめた磁気記録媒体
及びその製造法に関するものである。 従来の技術及び問題点 近年、例えばビデオテープ及び他の種々の分野
では記録情報量の増大が望まれ、これに応えるべ
く高密度の磁気記録媒体が種々提案されている。 斯る高密度磁気記録媒体としては、現在真空蒸
着法、イオンプレーテイング法等の蒸着法によ
り、蒸着源用材料を蒸発させ支持体上に磁性蒸着
膜を形成せしめた磁気記録媒体が特に有効である
と認識されており、例えば特開昭57−198614号に
はテープ基材上にCo−Ni−Ｂ系金属に酸素を含
めた組成を有する磁性蒸着膜を形成した磁気記録
用テープが、又特開昭59−74606号にはCo−Cr系
金属或いはCo−Ni−Cr系金属に酸素及びMo，
Ta，Ｗの内の少なくとも１種の元素を含めた組
成を有する磁性蒸着膜を形成した磁気記録テープ
が提案されている。 このような磁気記録用テープは、特にCo−Ni
−Ｂ系金属組成を有する磁性蒸着膜を形成した磁
気記録用テープは磁性膜の磁気特性、耐蝕性及び
耐摩耗性の点において優れており極めて好ましい
ものである。しかしながら、最近のビデオテープ
レコーダの進歩と共にテープの使用頻度が著しく
増大し、更にはその使用態様も複雑化し、特にス
チル（静止画像）モードでの使用が多用され、テ
ープは同一箇所を磁気ヘツドにて多数回摺擦され
ることがあり、より耐摩耗性の向上が望まれてい
る。 本発明者等は、磁性蒸着膜を形成せしめた磁気
記録媒体を改善するべく、多くの研究実験を行な
つた結果、基本的にはCo−Ni−Ｂ系金属から成
る組成を有し、更にTi，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，
Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元素を更に好まし
くは酸素（Ｏ）及び／又は窒素（Ｎ）を含有せし
めることにより磁性蒸着膜の耐摩耗性が飛躍的に
向上することを見出した。 本発明は斯る新規な知見に基ずくものである。 発明の目的 従つて、本発明の目的は、基本的にCo−Ni−
Ｂ系金属から成る組成を有した磁性蒸着膜の耐蝕
性及び耐摩耗性を改良し、より耐蝕性及び耐摩耗
性の良好な磁性蒸着膜を有した磁気記録媒体を提
供することである。 問題点を解決するための手段 上記目的は本発明に係る磁気記録媒体によつて
達成される。要約すれば本発明は、支持体上に
Ni（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5重量％）、Ti，
Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種
以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）から
成る組成を有する磁性蒸着膜を形成したことを特
徴とする磁気記録媒体である。本発明の好ましい
実施態様によると、Niは15〜20重量％、Ｂは0.4
〜1.5重量％、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗの中の１種以上の元素は1.0〜4.0重量％、
残部がCoとされ、支持体は耐熱性プラスチツク
フイルムとされる。 更に好ましくは、上記磁性蒸着膜にはＯ及び／
又はＮが添加される。更に詳しく説明すると、支
持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5重量
％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元素
（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）から成る組成を有
する磁性蒸着膜を形成することができ、この場
合、より好ましくはNiは15〜20重量％、Ｂは0.4
〜1.5重量％、Ｏは2.0〜2.5重量％、Ti，Zr，Hf，
Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元
素は1.0〜4.0重量％、残部がCoとされる。又、本
発明の他の態様によれば、支持体上にNi（10〜30
重量％）、Ｂ（0.02〜1.5重量％）、Ｎ（0.02〜2.0重
量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，
Ｗの中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co
（残部）から成る組成を有する磁性蒸着膜を形成
することができ、この場合、より好ましくはNi
は15〜20重量％、Ｂは0.4〜1.5重量％、Ｎは0.2〜
1.7重量％、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗの中の１種以上の元素は1.0〜4.0重量％、
残部がCoとされる。又、更に本発明の他の態様
によれば、支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ
（0.02〜1.5重量％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）、Ｎ（0.0
2
〜2.0重量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗの中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量
％）、Co（残部）から成る組成を有する磁性蒸着
膜を形成した磁気記録媒体が得られる。この時、
より好ましくはNiは15〜20重量％、Ｂは0.4〜1.5
重量％、Ｏは2.0〜2.5重量％、Ｎは0.2〜1.7重量
％、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの
中の１種以上の元素は1.0〜4.0重量％、残部がCo
とされる。 以下に、本発明を図面及び実施例により更に詳
しく説明する。 第１図を参照すると、本発明に係る磁気記録媒
体を製造する真空蒸着装置の一実施例が例示され
る。本装置において、真空（減圧）槽１内には円
筒状の冷却キヤン２が矢印方向に回転自在に担持
される。真空槽１は排気孔１１に接続された真空
排気装置（図示せず）にて所定の真空となるま
で、通常10-4〜10-6Torrにまで真空引きされる。
又、磁気記録媒体の基材、即ち、支持体Ｓは、本
実施例ではテープ状のプラスチツクフイルムとさ
れ、供給ロール４から前記冷却キヤン２の概略下
方部分の外周囲を巻回され、巻取りロール６に巻
取られる。支持体Ｓの移動速度は通常約100cm／
secとされるであろう。プラスチツクフイルムと
しては適度の可撓性と抗張力、更には蒸着時の高
温度に耐えるだけの耐熱性を有した任意のフイル
ムを使用し得るが、通常磁気テープの基材として
使用されているポリエステル樹脂、アセテート樹
脂、ポリカーボネイト樹脂等のフイルムが好適で
ある。 冷却キヤン２の、好ましくは斜め下方位置に蒸
発源８が配置され、斜方蒸着が行なわれるように
構成される。従つて、斜方蒸着を効果ならしめる
ために冷却キヤン２の真下外周部分に巻回された
支持体Ｓは所定範囲にわたつてマスク１０にて遮
蔽される。蒸発源８には、蒸発材料である本発明
に係る上記Co−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系合金が準備され、抵
抗加熱手段、高周波誘導加熱手段又は電子線加熱
手段等の任意の加熱装置にて加熱され、例えば
50nm／secの蒸着速度となるように蒸発せしめら
れる。蒸発したCo−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系合金は上方に配置さ
れた冷却キヤン２の方向へと上昇し、冷却キヤン
２の外周囲に巻回されて移動する支持体Ｓ上へと
付着する。 本装置には、Co−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系合金蒸気が支持体Ｓ
に付着する部分に酸素若しくは窒素、又は酸素及
び窒素の混合ガスを選択的に供給するためにノズ
ル１２が配設される。該酸素及び窒素はそれぞれ
酸素及び窒素供給源（図示せず）から供給するこ
ともできるが、酸素及び窒素を同時に供給する場
合には水分を除去した乾燥空気を供給することも
可能である。酸素及び窒素は、圧力１Kg／cm2、流
量0.1／secにて供給され、又混合ガスの場合の
酸素と窒素の割合は標準状態にて１対４とされ、
圧力１Kg／cm2、流量0.1／secにて供給される。
又、乾燥空気を供給する場合には圧力１Kg／cm2、
流量0.1／secにて支持体Ｓの蒸着部分に供給さ
れる。 上記構成により、支持体Ｓは冷却キヤン２によ
り移送される過程にてCo−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，
Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系合金蒸気並
びに選択的に酸素若しくは窒素又は酸素及び窒素
が供給付着される。 つまり、本発明に従えば、上記製造方法にて支
持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5重量
％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ
の中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co
（残部）から成る組成を有する磁性蒸着膜を形成
した磁気記録媒体；支持体上にNi（10〜30重量
％）、Ｂ（0.02〜1.5重量％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）
、
Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の
１種以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）
から成る組成を有する磁性蒸着膜を形成した磁気
記録媒体；支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ
（0.02〜1.5重量％）、Ｎ（0.02〜2.0重量％）、Ti，
Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種
以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）から
成る組成を有する磁性蒸着膜を形成した磁気記録
媒体；又は支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ
（0.02〜1.5重量％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）、Ｎ（0.0
2
〜2.0重量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗの中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量
％）、Co（残部）から成る組成を有する磁性蒸着
膜を形成した磁気記録媒体が得られる。 更に説明すれば、本発明において、Niは10〜
30重量％までの割合にて含有され、Co主体の磁
性蒸着膜の耐摩耗性を向上せしめる作用をなす。
10％より少ないか30重量％を超えた場合には磁気
特性が悪化することが分かつた。従つて、好まし
くは、Niは15〜20重量％とされるであろう。 本発明に従えば、特に、Ｂ及びTi，Zr，Hf，
Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元
素が互いに反応してTi，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，
Cr，Mo，Ｗのホウ化物を形成し、該ホウ化物が
磁性蒸着膜内に分散されることによりCo−Ni系
金属の磁性蒸着膜の耐蝕性、耐摩耗性を向上せし
める働きがあることが分かつた。又、Ｂが0.02重
量％より少ない場合はその効果が顕著ではなく、
1.5重量％を超えた場合には磁気特性が悪化する
ことが分かつた。特に好ましくは、Ｂは0.4〜1.5
重量％とされる。このとき、Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗは0.02〜5.0重量％である
ことが重要であり、斯る範囲外では磁性蒸着膜の
耐蝕性、耐摩耗性の向上は顕著ではなく、又磁気
特性が悪くなる傾向がある。 本発明に従い選択的に添加される酸素（Ｏ）及
び窒素（Ｎ）は、上記４元合金、Co−Ni−Ｂ−
（Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ）系
金属が支持体上に蒸着される際に金属と化合して
酸化物及び窒化物を生成して含有されるものと考
えられる。酸素（Ｏ）は酸化コバルト（CoO）と
して存在し、窒素（Ｎ）は窒化ホウ素（BN）と
して膜内に入つていると考えられる。本発明者等
の研究によれば、磁性膜中に酸素及び／又は窒素
が含有された場合には磁性蒸着膜の耐摩耗性が更
に向上されることが分かつた。 このとき、酸素（Ｏ）の含有量が0.2重量パー
セントよりも少ない場合は、磁性薄膜の耐摩耗性
向上効果が見られず、3.0重量パーセントを超え
た場合には前記効果は飽和し、耐食性及び磁気特
性が悪くなる。窒素（Ｎ）の含有量が0.02〜2.0
重量パーセントを外れた場合もＯと全く同じ影響
が表れ、Ｎが0.02重量パーセント未満では、磁性
薄膜の耐摩耗性向上効果が見られず、2.0重量パ
ーセントを超えた場合には、前記効果は飽和し、
耐食性及び磁気特性が悪くなることが分つた。 本発明にて該磁性蒸着膜の膜厚は用途に応じて
任意に設計し得るが、好ましくは0.1〜0.2μmとさ
れる。本発明者等の研究によると、0.1μm未満で
は十分な記録が得られないと同時に十分な耐摩耗
性が得られず、又0.2μmを超えると耐摩耗性は得
られるが支持体Ｓの可撓性が低下し、記録密度も
低下する傾向にあることが分かつた。従つて、磁
性蒸着膜の膜厚は、特に好ましくは0.15μmとさ
れるであろう。 上記磁性蒸着膜の組成及び膜厚は、蒸発源の４
元合金の組成、及び供給される酸素、窒素ガスの
流量、供給圧力、支持体Ｓの移動速度、真空槽１
の減圧状態等によつて種々に調整されるであろ
う。 次に、実施例について本発明を説明する。 実施例 １〜14 電子ビーム照射加熱式真空溶解炉にて、表１に
示される組成を有した４元合金を調製し、蒸発源
材料とした。 真空蒸着装置は第１図に図示するような製造装
置を使用し、真空槽１は2.3×10-6Torrに真空引
きされた。支持体Ｓとしては、28μm厚のポリエ
ステルフイルムを使用し、直径50cmの冷却キヤン
の回りに巻回し、100cm／secの速度にて移動せし
めた。 蒸発源材料は、電子線を照射し溶融して蒸発せ
しめ、支持体Ｓ上に50nm／secの速度にて蒸着
し、該支持体Ｓ上に厚さ0.1μmの磁性蒸着膜を形
成した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表１、表６に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 実施例 15〜28 電子ビーム照射加熱式真空溶解炉にて、表２に
示される組成を有した４元合金を調製し、蒸発源
材料とした。 真空蒸着装置は第１図に図示するような製造装
置を使用し、真空槽１は2.3×10-6Torrに真空引
きされた。支持体Ｓとしては、28μm厚のポリエ
ステルフイルムを使用し、直径50cmの冷却キヤン
の回りに巻回し、100cm／secの速度にて移動せし
めた。 蒸発源材料は、電子線を照射し溶融して蒸発せ
しめ、支持体Ｓ上に50nm／secの速度にて蒸着
し、該支持体Ｓ上に厚さ0.1μmの磁性蒸着膜を形
成した。尚、支持体Ｓの蒸着面にはノズル１２か
ら酸素を0.1／sec、圧力１Kg／cm2にて吹付け
た。これにより、真空槽１内の真空は1.4×10-2
Torrとなり、該真空状態が維持された。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表２、表６に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 実施例 29〜42 ノズル１２から支持体Ｓの蒸着面に酸素の代り
に窒素を吹付けた以外は実施例15〜28と同様の蒸
着条件にて支持体Ｓに磁性蒸着膜を作製した。蒸
発源の４元合金の組成は表３に示される通りであ
る。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表３、表６に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 実施例 43〜56 ノズル１２から支持体Ｓの蒸着面に酸素の代り
に乾燥空気（酸素：窒素＝１：４）を吹付けた以
外は実施例15〜28と同様の蒸着条件にて支持体Ｓ
に磁性蒸着膜を作製した。蒸発源の４元合金の組
成は表４に示される通りである。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表４、表６に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 比較例 １〜４ 表５に示される組成の蒸発源材料を作製し、実
施例１〜14と同様にして支持体Ｓに磁性蒸着膜を
作製した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表５、表７に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 比較例 ５〜８ 表５に示される組成の蒸発源材料を作製し、実
施例15〜28と同様にして支持体Ｓに磁性蒸着膜を
作製した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表５、表７に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 比較例 ９〜12 表５に示される組成の蒸発源材料を作製し、実
施例29〜42と同様にして支持体Ｓに磁性蒸着膜を
作製した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表５、表７に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。 比較例 13〜16 表５に示される組成の蒸発源材料を作製し、実
施例43〜56と同様にして支持体Ｓに磁性蒸着膜を
作製した。 このようにして作製された磁性蒸着膜の組成、
磁気特性及び表面硬度は表５、表７に示す通りで
あつた。表面硬度は、微小硬度計（10g荷重）を
用いて測定したビツカース硬度（Hv）である。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
発明の効果
表６、表７から理解されるように、本発明に係
る磁気記録媒体は、磁性蒸着膜が基本的にはCo
−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗ）系金属から成り、更に酸素及び／又は
窒素を含有することができ、それによつて磁気特
性を損なうことなく磁性蒸着膜の耐蝕性及び耐摩
耗性が著しく改善されるという特長を有する。
る磁気記録媒体は、磁性蒸着膜が基本的にはCo
−Ni−Ｂ−（Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗ）系金属から成り、更に酸素及び／又は
窒素を含有することができ、それによつて磁気特
性を損なうことなく磁性蒸着膜の耐蝕性及び耐摩
耗性が著しく改善されるという特長を有する。
第１図は、本発明に係る磁気記録媒体を好適に
製造し得る製造装置の一実施例である。 １……真空槽、２……冷却キヤン、４……支持
体供給ロール、６……支持体巻取りロール、８…
…蒸発源、１２……ノズル。
製造し得る製造装置の一実施例である。 １……真空槽、２……冷却キヤン、４……支持
体供給ロール、６……支持体巻取りロール、８…
…蒸発源、１２……ノズル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5
重量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，
Ｗの中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co
（残部から成る組成を有する磁性蒸着膜を形成し
たことを特徴とする磁気記録媒体。 ２ Niは15〜20重量％、Ｂは0.4〜1.5重量％、
Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の
１種以上の元素は1.0〜4.0重量％、残部がCoであ
る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 ３ 支持体は耐熱性プラスチツクフイルムである
特許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁気記録
媒体。 ４ 支持体はテープ状とされる特許請求の範囲第
３項記載の磁気記録媒体。 ５ 支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5
重量％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，
Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元素
（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）から成る組成を有
する磁性蒸着膜を形成したことを特徴とする磁気
記録媒体。 ６ Niは15〜20重量％、Ｂは0.4〜1.5重量％、Ｏ
は2.0〜2.5重量％、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，
Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元素は1.0〜4.0重
量％、残部がCoである特許請求の範囲第５項記
載の磁気記録媒体。 ７ 支持体は耐熱性プラスチツクフイルムである
特許請求の範囲第５項又は第６項記載の磁気記録
媒体。 ８ 支持体はテープ状とされる特許請求の範囲第
７項記載の磁気記録媒体。 ９ 支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜1.5
重量％）、Ｎ（0.02〜2.0重量％）、Ti，Zr，Hf，
Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元
素（0.02〜5.0重量％）、Co（残部）から成る組成
を有する磁性蒸着膜を形成したことを特徴とする
磁気記録媒体。 １０ Niは15〜20重量％、Ｂは0.4〜1.5重量％、
Ｎは0.2〜1.7重量％、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，
Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種以上の元素は1.0〜
4.0重量％、残部がCoである特許請求の範囲第９
項記載の磁気記録媒体。 １１ 支持体は耐熱性プラスチツクフイルムであ
る特許請求の範囲第９項又は第１０項記載の磁気
記録媒体。 １２ 支持体はテープ状とされる特許請求の範囲
第１１項記載の磁気記録媒体。 １３ 支持体上にNi（10〜30重量％）、Ｂ（0.02〜
1.5重量％）、Ｏ（0.2〜3.0重量％）、Ｎ（0.02〜2.0重
量％）、Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，
Ｗの中の１種以上の元素（0.02〜5.0重量％）、Co
（残部）から成る組成を有する磁性蒸着膜を形成
したことを特徴とする磁気記録媒体。 １４ Niは15〜20重量％、Ｂは0.4〜1.5重量％、
Ｏは2.0〜2.5重量％、Ｎは0.2〜1.7重量％、Ti，
Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗの中の１種
以上の元素は1.0〜4.0重量％、残部がCoである特
許請求の範囲第１３項記載の磁気記録媒体。 １５ 支持体は耐熱性プラスチツクフイルムであ
る特許請求の範囲第１３項又は第１４項記載の磁
気記録媒体。 １６ 支持体はテープ状とされる特許請求の範囲
第１５項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16209086A JPS6318607A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16209086A JPS6318607A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6318607A JPS6318607A (ja) | 1988-01-26 |
| JPH0525367B2 true JPH0525367B2 (ja) | 1993-04-12 |
Family
ID=15747889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16209086A Granted JPS6318607A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6318607A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0500931A4 (en) * | 1990-08-13 | 1994-06-01 | Kohjin Co | Food packaging bag |
| JPH05274644A (ja) * | 1992-01-29 | 1993-10-22 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57198614A (en) * | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape |
| JPS60143425A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62150518A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-07-11 JP JP16209086A patent/JPS6318607A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6318607A (ja) | 1988-01-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3342633A (en) | Magnetic coating | |
| JPH05101365A (ja) | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0525367B2 (ja) | ||
| US4639815A (en) | Magnetic recording medium with chromiumiron protective layer | |
| JPS62209715A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造法 | |
| JPS62298017A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造法 | |
| JPH053048B2 (ja) | ||
| US6251496B1 (en) | Magnetic recording medium method and apparatus for producing the same | |
| JP3103458B2 (ja) | 蒸着用材料 | |
| JPS61229230A (ja) | 磁気記録テ−プ | |
| JPH0656650B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6154020A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04155618A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH01319119A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08129748A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3787086B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH04328324A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS598143A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JPS6076015A (ja) | 磁気記録媒体とその製造法 | |
| JPH0522293B2 (ja) | ||
| JPH10105943A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS5938929A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製法 | |
| JPH0559571B2 (ja) | ||
| JPS62150518A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01118218A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |