JPH05255378A - ２−クロル−２′−デオキシアデノシンの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 式 【化１】 の化合物を出発原料とする、下式 【化２】 を有する２−クロル−２′−デオキシアデノシン（２−
ＣｄＡ）の製造法。 【効果】 本発明の製法に新規であり、本発明は更に２
−ＣｄＡの製造法に有用な中間体に関する。化合物２−
ＣｄＡは抗白血病剤として、即ち白血病例えば毛髪細胞
白血病の処置に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は下式

【０００２】

【化１９】

【０００３】の化合物から下式

【０００４】

【化２０】

【０００５】の２−クロル−２′−デオキシアデノシン
（２−ＣｄＡ）を製造する新規な方法に関する。

【０００６】更に本発明は２−ＣｄＡの製造に有用な新
規な中間体にも関する。

【０００７】２−ＣｄＡは抗白血病剤、即ち白血病例え
ば毛髪細胞白血病及びＬ１２１０白血病に有用である。

【０００８】２−ＣｄＡの製造法は公知である。ヨーロ
ッパ特許願第１７３，０５９Ａ２号及びＲ．ロビンス
（Ｒｏｂｉｎｓ）ら、Ｊ．アム・ケム・ソク（Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、１０６、６３７９（１９８
４）は２−ＣｄＡの製造法を開示している。この製造法
は２，６−ジクロルプリンの、１−クロル−２′−デオ
キシ−３′，５′−ジ−Ｏ−ｐ−トルイル−ｂ−Ｄ−エ
リスロ−ペントフラノースでのグリコシル化によるＮ−
９グリコシル化プリン、２，６−ジクロル−９−（２−
デオキシ−３，５−Ｏ−ｐ−トルイル−ｂ−Ｄ−エリス
ロ−ペントフラノシル）プリンの生成、続くアンモニア
との反応による２−ＣｄＡの製造からなる。しかしなが
らこの方法による２−ＣｄＡの合成はいくつかの欠点が
ある。第２に２，６−ジクロルプリンのグリコシル化は
所望のＮ−９グリコシル化生成物から分離しなければな
らないＮ−７グリコシル化副生物、２，６−ジクロル−
７−（２−デオキシ−３，５−ジ−Ｏ−ｐ−トルイル−
β−Ｄ−エリスロ−ペントフラノシル）プリンを生成す
る。

【０００９】下式

【００１０】

【化２１】

【００１１】［式中、Ｗ¹はＣｌ又はＮＨ₂であり、そし
てＷ²はＣｌ又はＮＨ₂である］を有する化合物の、天然
ヌクレオシドのグアノシンからの製造法も開示されてい
る［参照、Ｍ．ロビンス（Ｒｏｂｉｎｓ）ら、キャン・
Ｊ・ケム（Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．）、５９、２６０１
（１９８１）；Ｍ．ロビンスら、ヌク・アシッズ・シモ
・セル（Ｎｕｃ．Ａｃｉｄｓ．Ｓｙｍｏ．Ｓｅｒ．）、
９、６１（１９８１）］。Ｍ．ロビンスら、キャン・Ｊ
・ケム、５９、２６０１（１９８１）は、Ｗ¹及びＷ²が
Ｃｌである上述した化合物を水又はアルコールのような
極性溶媒中でアンモニアと反応させることによる式

【００１２】

【化２２】

【００１３】の化合物の製造法も開示している。しかし
ながらこれらの刊行物はこれらの化合物の２−脱酸素化
を行う方法を開示していないし又は示唆していない。

【００１４】更に下式

【００１５】

【化２３】

【００１６】の化合物の２′−脱酸素を行う方法は開示
されている［参照、Ｍ．ロビンスら、Ｊ．アム・ケム・
ソク、１０３、９３２（１９８１）；Ｍ．ロビンスら、
Ｊ．アム・ケム・ソク、１０５、４０５９（１９８
３）］。しかしながらこれらの刊行物は、ヌクレオチド
残基中にハロ置換基を有するヌクレオシドをその対応す
る２′−脱酸素化ヌクレオシドへ転化する方法を開示し
ていないし又は示唆していない。更に脱酸素化を行うた
めに用いる工程は出発ヌクレオシドがハロゲン化ヌクレ
オシド残基を有する場合に適用できない。即ちそのよう
なヌクレオシドはハロ置換基の存在のために対応する２
−脱酸素化ヌクレオシドに転化できないということが開
示されている：Ｒ．ロビンスら、Ｊ．アム・ケム・ソ
ク、１０６、６３７９（１９８４）；Ｊ．モンゴメリー
（Ｍｏｎｔｇｏｍｅｒｙ）、「ヌクレオシド、ヌクレオ
チド、及びこれらの生物学的応用」、Ｊ．ライドアウト
（Ｒｉｄｅｏｕｔ）、Ｄ．ヘンリー（Ｈｅｎｒｙ）、
Ｍ．ビーチャム（Ｂｅｅｃｈａｍ）編、アカデミック出
版（Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒ
ｋ）、１９〜４６頁（１９８３）。

【００１７】結果として上述した刊行物のいずれもが
２，６−ジクロルプリン以外の出発物質からの２−Ｃｄ
Ａの製造法を開示していない。更に刊行物はグリコシル
化反応工程又は異性体Ｎ−グリコシル化生成物の分離を
必要としない２−ＣｄＡの製造法を開示していない。更
に２′−脱酸素化ヌクレオチドを出発物質とする２−Ｃ
ｄＡの製造法も開示されていない。

【００１８】本発明は、下式

【００１９】

【化２４】

【００２０】の化合物のヒドロキシル基を３′及び５′
位でシラン化し、２′位のヒドロキシル基をアシル化
し、このアシル化した２′位を脱酸素化し、そして３′
及び５′位のヒドロキシル基から脱シラン化することを
含んでなる上式の化合物からの２−ＣｄＡの新規な製造
法に関する。

【００２１】本発明はその最も広い観点において、下式

【００２２】

【化２５】

【００２３】の化合物２−ＣｄＡの新規な製造法に関す
る。

【００２４】スキーム１は本発明の２−ＣｄＡの製造法
を開示する。本方法は２′−酸素化ヌクレオチド、化合
物Ａを出発物質として用いる。ここに２位における

【００２５】

【化２６】

【００２６】結合はその位置に結合したヒドロキシルが
下方

【００２７】

【化２７】

【００２８】上方

【００２９】

【化２８】

【００３０】又はこれらの方向の混在であってよいこと
を示す。

【００３１】

【化２９】

【００３２】本発明の第一工程において、化合物Ｂは化
合物Ｂをピリジンのような塩基の存在下にシラン化剤と
反応させることによって製造される。このシラン化剤は
式（ｉ−Ｐｒ)₄Ｓｉ₂Ｏ(Ｘ)₂、但しＸはハロ、を有し、
例えば１，３−ジクロル−１，１，３，３−テトライソ
プロピルジシロキサンである。この反応は凡を室温又は
還流下に約１〜６時間かかり、そしてシラン化剤の加水
分解を防止するために無水の雰囲気条件例えばＮ₂又は
アルゴン下に行われる。

【００３３】本方法の第２工程では、化合物Ａを水中有
機塩基例えば４−ジメチルアミノピリジン或いは無機塩
基例えばアルカリ水酸化物又は炭酸塩例えばＮａ₂ＣＯ₃
又はＫＯＨの存在下にアシル化剤でアシル化することに
よって化合物Ｃを製造する。アシル化剤は式ＸＣ(Ｓ)Ｚ
を有し、好ましくはフェニルクロルチオノホーメートで
ある。但しここにＸは上述の通りであり、ＺはＹＲ²又
はＲ²であり、ＹはＳ又はＯであり、またＲ²はＣ₁〜₅直
鎖又は分岐鎖アルキル、フェニル或いは置換基がクロル
又はメチルである置換フェニルである。強塩基はＺがＹ
Ｒ²のものを用いるべきである。しかしながら反応は上
述の如く塩基性条件下に行うことができる。反応は好ま
しくは有機溶媒例えば塩化メチレン又はアセトニトリル
中、アシル化剤の加水分解を防ぐための上述した如き無
水雰囲気条件下に行われる。また反応は凡そ室温〜８０
℃で約１〜１６時間行われる。

【００３４】次の工程において、化合物Ｃを水素化有機
スズ例えば水素化トリｎ−ブチルスズ又は水素化トリフ
ェニルスズ、及びラジカル開始剤例えばアゾビスイソブ
チロニトリル、４，４−アゾビス（４−シアノ吉草
酸）、又はアゾビス（１−シアノシクロヘキサン）と反
応させて化合物Ｄを製造する。この反応は、ベンゼン又
はトルエンのような溶媒中、約６０℃〜還流温度におい
て約１〜１０時間行われ、更に好ましくは上述の如く無
水の雰囲気条件下に行われる。

【００３５】本方法の最後の工程は化合物Ｄを脱シラン
化して２−ＣｄＡ（Ｅ）を得ることを含む。脱シラン化
は例えば溶媒例えばジオキサン、水、又は直鎖もしくは
分岐鎖Ｃ₁〜₄アルコール（メタノール、イソプロパノー
ル又はブタノール）中において酸又は塩基例えば希〜６
ＮのＨＣｌ又は希〜６ＮのＮａＯＨを用いることによ
り、加水分解条件下に行われる。他に脱シラン化は好ま
しくは溶媒例えばテトラヒドロフラン又はエーテル中弗
化物源例えばテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリ
ド、弗化ナトリウム又は弗化カリウムの存在下に及び上
述の如く無水の雰囲気条件下に行われる。この脱シラン
化は凡そ室温〜６０℃で約１〜２時間行われる。

【００３６】本発明は更にスキーム１に示す如き新規な
中間体化合物Ｂ、Ｃ及びＤに関する。この中間体は２−
ＣｄＡの製造に有用である。

【００３７】出発物質の化合物Ａの、グアノシン、天然
２′−酸素化ヌクレオシド、又はその同族体もしくは誘
導体からの製造をスキームＩＩに示す。

【００３８】

【化３０】

【００３９】グアノシン、即ち２′−ヒドロキシが下方
へ延びている化合物Ｆの製造は、Ｐ．レビン（Ｌｅｖｉ
ｎｅ）ら、ヌクレイック・アシッズ（Ｎｕｃｌｅｉｃ
Ａｃｉｄｓ）、１６３頁（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９３
１）及びＪ．ダボール（Ｄａｖｏｌｌ）、ケム・ソク
（Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、１５９３（１９５８）に開示
されている。グアノシン同族体、即ち２′−ヒドロキシ
が上方へ延びている化合物Ｆの製造は、Ｊ．メド・ケム
（Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．）、２５（６）、１８９９（１９
８８）に開示されている。

【００４０】化合物Ｆの誘導体である化合物Ｇ及びＨは
本質的にＭ．ロビンスら、キャン・Ｊ・ケム、９９、２
６０１（１９８１）に開示される方法で製造される。Ｒ
がＣ₁〜₅直鎖もしくは分岐鎖又はフェニルである化合物
Ｇの製造は、化合物Ｆの適当なアシル化剤によるアシル
化を含む。化合物Ｈの製造は化合物Ｇの無機酸クロリド
との反応を含む。

【００４１】次いで本質的にＭ．ロビンスら、ヌク・ア
シッズ・シンプ・セル（Ｎｕｃ．Ａｃｉｄｓ Ｓｙｍ
ｐ．Ｓｅｒ．）、９、６１（１９８１）に開示されてい
る方法に従って化合物Ｉを製造する。この方法におい
て、化合物Ｈはニトロシル化剤例えば亜硝酸アルキル、
及び塩化物源例えばアルキルクロリド又はアリールアル
キルクロリドと反応せしめられる。

【００４２】次いで化合物Ａを、本質的にＭ．ロビンス
ら、キャン・Ｊ・ケム、５９、２６０１（１９８１）に
記述されている如く、即ち化合物Ｉをアンモニア又は水
酸化アンモニウムと反応させることによって製造する。

【００４３】化合物２−ＣｄＡは抗白血病剤として、即
ち白血病例えば毛髪細胞白血病及びＬ１２１０白血病の
処置に有用である。２−ＣｄＡは免疫抑制活性を有する
ことも知られている。参照、Ｄ．カーソン（Ｃａｒｓｏ
ｎ）ら、プロク・ナツル・アカド・サイ（Ｐｒｏｃ．Ｎ
ａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．）ＵＳＡ、８１、２２３２
（１９８４）。

【００４４】次の実施例は本発明を特別な例で記述する
が、これは例示であって、本発明を限定することを意図
しない。

【００４５】

【実施例】実施例１ ２′，３′，５′−Ｏ−トリアセチルグア
ノシンの製造 グアノシン（３５５ｇ、１．２５Ｍ）、無水酢酸（０．
７５０ ｌ）、ピリジン（０．３７５ ｌ）及びジメチ
ルホルムアルデヒド（１ ｌ）の混合物を室温で２時間
撹拌し、次いで７５℃に４時間加熱した。加熱後、混合
物を室温まで冷却し、終夜撹拌した。次いで溶媒のほと
んどを４５℃での真空蒸留によって除去し、白色の沈殿
を得た。固体を濾別し、イソプロパノールで洗浄した。
この固体をイソプロパノールに懸濁させ、還流するまで
加熱した。この時固体のほとんどが溶解した。次いでこ
れを室温まで冷却し、濾過して白色の固体を得、次いで
この固体を６０℃の真空炉中で乾燥し、標題の化合物
（３５８ｇ、６９．８％）を得た。

【００４６】実施例２ ９−（２′，３′，５′−Ｏ
−トリアセチル−ｂ−Ｄ−リボフラノシル）−２−アミ
ノ−６−クロルプリンの製造 実施例１の化合物（４８０ｇ、１．１７Ｍ）、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン（１５０ｍｌ）、テトラエチルアンモ
ニウムクロライド（３８６．４ｇ）及びアセトニトリル
（０．７０ ｌ）の混合物を準備し、次いでオキシ塩化
燐（４００ｍｌ）を窒素雰囲気下に室温で３時間にわた
りゆっくりと（滴々に）添加した。この添加後、混合物
を１００℃に１４分間加熱し、次いで室温まで冷却し
た。溶媒のほとんどを真空下に除去して赤色の油を得
た。この油を塩化メチレン（ＣＨ₂Ｃｌ₂）（２ ｌ）で
処理し、氷水（１．５ ｌ）中に注いだ。有機層を分離
し、水性層をＣＨ₂Ｃｌ₂（３×５００ｍｌ）で抽出し
た。分離した有機層と有機抽出物を一緒にし、ｐＨが６
〜７になるまで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
し、次いで氷水（２×１ ｌ）で洗浄した。有機層を硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を真空下に除去して粘稠な
油を得た。この油をイソプロパノール（２００ｍｌ）で
処理し、４５℃で１時間撹拌し、室温まで冷却させ、そ
して終夜放置して沈殿を生成させた。沈殿を濾別し、次
いで冷イソプロパノールで洗浄して標題の化合物（２３
５ｇ、４７％）を得た。

【００４７】実施例３ ９−（２′，３′，５′−Ｏ
−トリアセチル−ｂ−Ｄ−リボフラノシル）−２，５−
ジクロルプリンの製造 実施例２の化合物（３５０ｇ、８１９ｍＭ）、トリフェ
ニルメチルクロライド（５００ｇ、１．７９Ｍ）及び炭
酸カリウム（６５ｇ）のＣＨ₂Ｃｌ₂（３ ｌ）中混合物
に、亜硫酸ｎ−ペンチル（９８ｇ、８３８ｍＭ）を窒素
下室温において１時間にわたり添加した。得られた混合
物を還流下に２０分間加熱し、室温まで冷却し、濾過し
た。濾液を真空下に濃縮し、得られる残渣をシリカゲル
（２．５ｋｇ、酢酸エチル／ヘキサン１：４〜３：７）
でのカラムクロマトグラフィーにより精製し、標題の化
合物（２７２ｇ、７４％）を淡黄色の固体として得た。

【００４８】実施例４ ２−クロルアデノシンの製造 実施例３の化合物（２７１ｇ、６０６ｍＭ）、濃水酸化
アンモニウム（４ ｌ）及びテトラヒドロフラン（０．
５ ｌ）の混合物を室温で窒素下に４日間撹拌した。溶
媒の容量を真空下に減じ、得られた残渣を無水エタノー
ルでそしゃくした。標題の化合物をエタノール性溶媒か
ら沈殿させ、明褐色の固体（１５９ｇ、８７％）を得
た。

【００４９】実施例５ ２−クロル−（３′，５′−
Ｏ−テトライソプロピルジシロキシ）アデノシン 実施例４の化合物（１３ｇ、４３ｍＭ）、１，３−ジク
ロル−１，１，３，３−テトライソプロピルジシロキサ
ン（１５ｇ、４７．６ｍＭ）及びピリジン（１５０ｍ
ｌ）を室温で窒素下に３時間撹拌した。この溶媒の容量
を真空下に減じ、得られた残渣をＣＨ₂Ｃｌ₂（２５０ｍ
ｌ）に溶解し、飽和硫酸銅溶液（２×１５０ｍｌ）で洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を真空下に濃
縮し、酢酸エチル／ヘキサン（１：１）を用いるシリカ
ゲルでのカラムクロマトグラフィーで精製し、標題の化
合物を白色の粉末（１４．７ｇ、６３％、融点１９８〜
２００℃）として得た。

【００５０】¹H-NMR(CDCl₃):δ 7.9(s,1H,C₈H)、6.32(b
s,2H,NH₂)、5.89(s,1H,C_lH)；IR(KBr): 3400、1650、15
95、1040cm^-1。

【００５１】 分析：計算値（C₂₂H₃₈ClN₅O₅Si₂） C. 48.55; H. 7.04; N. 12.87 実験値 C. 48.66; H. 6.81; N. 12.71 実施例６ ２−クロル−２′−Ｏ−フェノキシチオカ
ルボニル−（３′，５′−Ｏ−テトライソプロピルジシ
ロキシ）アデノシンの製造 実施例５の化合物（１４ｇ、２５．８ｍＭ）、４−ジメ
チルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（６．８８ｇ、５６．
４ｍＭ）及びアセトニトリル（４００ｍｌ）の混合物
に、クロルチオノぎ酸フェニル（４．６６ｇ、２７ｍ
Ｍ）を室温で窒素下に添加し、終夜撹拌した。溶媒を真
空下に除去し、残渣を、酢酸エチル／ヘキサン（４：
６）を用いるシリカゲル（２００ｇ）でのカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、標題の化合物を淡黄色の粉
末（９．８ｇ、５６％、融点１５３〜１５５℃）として
得た。

【００５２】¹H-NMR(CDCl₃):δ 7.9(s,1H,C₈H)、 7.1〜
7.5(m,5H,芳香族プロトン);IR(KBr): 1640、 1590、 1200
cm^-1。

【００５３】 分析：計算値（C₂₉H₄₂ClN₅O₆SSi₂） C. 51.19; H. 6.22; N. 10.29 実験値 C. 51.11; H. 6.50; N. 10.21 実施例７ ２−クロル−２′−デオキシ−（３′，
５′−Ｏ−テトライソプロピルジシロキシ）アデノシン
の製造 実施例６の化合物（５．８ｇ、８．５４ｍＭ）、水素化
トリｎ−ブチルスズ（３ｍｌ、１１ｍＭ）、及びアゾビ
スイソブチロニトリル（３２０ｍｇ）のベンゼン中混合
物を、窒素下に３時間還流させた。冷却後、溶媒を真空
下に除去し、残渣を酢酸エチル／ヘキサン（４．５：
５．５）を用いるシリカゲル（２００ｇ）でのカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、標題の化合物を白色の
粉末（３．７８ｇ、８４％、融点１７１〜１７３℃）と
して得た。

【００５４】¹H-NMR(CDCl₃):δ 7.95(s,1H,C₈H), 6.43
(bs,2H,NH₂);IR(KBr): 3350、 3180、 1660、 1597、 1310
cm^-1。

【００５５】 分析：計算値（C₂₈H₃₈ClN₅O₄Si₂） C. 50.02; H. 7.25; N. 13.26 実験値 C. 50.41; H. 7.41; N. 12.85 実施例８ ２−クロル−２′−デオキシ−アデノシン
の製造 実施例７の化合物（２．５ｇ、４．７４ｍＭ）、及びテ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒド
ロフラン溶液（１．１Ｍ、８．６ｍｌ、９．４６ｍＭ）
のテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）中混合物を室温で窒
素下に２時間撹拌した。溶媒の容量を真空下に減じ、得
られた残渣を水（２００ｍｌ）で処理し、エーテル（３
×２０ｍｌ）で抽出した。水性層を分取用ＨＰＬＣ（Ｃ
−１８逆相カラム、メタノール／水１５：８５〜２０：
８０）で精製し、標題の化合物（６００ｍｇ、４４％、
融点＞２３０℃）を得た。

【００５６】本発明の特徴及び態様は以下の通りであ
る： １．（ａ） 下式

【００５７】

【化３１】

【００５８】の化合物を塩基の存在下に式（ｉ−Ｐｒ)₄
Ｓｉ₂Ｏ(Ｘ)₂、但しＸは塩素又はブロム、のシラン化剤
と反応させて下式

【００５９】

【化３２】

【００６０】の化合物を生成させ、（ｂ） 工程（ａ）
で得られた化合物を、塩基の存在下に式ＸＣ(Ｓ)Ｚ、但
しＸは上述と同義；ＺはＲ²又はＹＲ²；ＹはＯ又はＳ；
そしてＲ²はＣ₁〜₅の直鎖又は分岐鎖アルキル或いはフ
ェニル、のアシル化剤でアシル化して下式

【００６１】

【化３３】

【００６２】の化合物を生成させ、（ｃ） 工程（ｂ）
で得られた化合物を水素化有機スズ及びラジカル開始剤
と反応させて下式

【００６３】

【化３４】

【００６４】の化合物を生成させ、そして（ｄ） 工程
（ｃ）で得られた化合物を脱シラン化して下式

【００６５】

【化３５】

【００６６】の化合物を生成させる、工程を含んでなる
下式

【００６７】

【化３６】

【００６８】の化合物の製造法。

【００６９】２．シラン化剤が１，３−ジハロ−１，
１，３，３−テトライソプロピルジシロキサンである上
記１の方法。

【００７０】３．１，３−ジハロ−１，１，３，３−テ
トライソプロピルジシロキサンが１，３−ジクロル−
１，１，３，３−テトライソプロピルジシロキサンであ
る上記２の方法。

【００７１】４．工程（ｂ）において、アシル化剤がク
ロルチオノぎ酸フェニルである上記１の方法。

【００７２】５．工程（ｂ）において、塩基が４−ジメ
チルアミノピリジンである上記１の方法。

【００７３】６．ラジカル開始剤がアゾビスイソブチロ
ニトリルである上記１の方法。

【００７４】７．水素化有機スズが水素化トリ−ｎ−ブ
チルスズである上記１の方法。

【００７５】８．脱シラン化を弗化物源の存在下に行う
上記１の方法。

【００７６】９．弗化物源がテトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウムフルオリドである上記８の方法。

【００７７】１０．下式

【００７８】

【化３７】

【００７９】の化合物。

【００８０】１１．下式

【００８１】

【化３８】

【００８２】［式中、ＺはＲ²又はＹＲ²であり；ＹはＯ
又はＳであり；そしてＲ²はＣ₁〜₅直鎖又は分岐鎖アル
キル或いはフェニルである］の化合物。

【００８３】１２．下式

【００８４】

【化３９】

【００８５】の化合物。

【００８６】１３．（ａ） グアノシンをアシル化して
式

【００８７】

【化４０】

【００８８】の化合物を生成させ、（ｂ） 工程（ａ）
の化合物を塩素化剤と反応させて式

【００８９】

【化４１】

【００９０】の化合物を生成させ、（ｃ） 工程（ｂ）
の化合物をニトロシル化剤及び塩素化剤と反応させて式

【００９１】

【化４２】

【００９２】の化合物を生成させ、（ｄ） 工程（ｃ）
の化合物をアンモニア又は水酸化アンモニウムと反応さ
せて式

【００９３】

【化４３】

【００９４】の化合物を生成させ、（ｅ） 工程（ｄ）
の化合物を塩基の存在下に式（ｉ−Ｐｒ)₄Ｓｉ₂Ｏ
(Ｘ)₂、但しＸは塩素又は臭素、のシラン化剤と反応さ
せて下式

【００９５】

【化４４】

【００９６】の化合物を生成させ、（ｆ） 工程（ｅ）
で得られた化合物を塩基の存在下に式ＸＣ(Ｓ)Ｚ、但し
Ｘは上述と同義；ＺはＲ²又はＹＲ²；ＹはＯ又はＳ；そ
してＲ²はＣ₁〜₅直鎖又は分岐鎖アルキル或いはフェニ
ル、のアシル化剤でアシル化して下式

【００９７】

【化４５】

【００９８】の化合物を生成させ、（ｇ） 工程（ａ）
で得られた化合物を水素化有機スズ及びラジカル開始剤
と反応させて下式

【００９９】

【化４６】

【０１００】の化合物を生成させ、そして（ｈ） 工程
（ｇ）で得た化合物を脱シラン化して下式

【０１０１】

【化４７】

【０１０２】の化合物を生成させる、下式

【０１０３】

【化４８】

【０１０４】の化合物の製造法。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ） 下式 【化１】 の化合物を塩基の存在下に式（ｉ−Ｐｒ)₄Ｓｉ₂Ｏ
   (Ｘ)₂、但しＸは塩素又はブロム、のシラン化剤と反応
   させて下式 【化２】 の化合物を生成させ、 （ｂ） 工程（ａ）で得られた化合物を、塩基の存在下
   に式ＸＣ(Ｓ)Ｚ、但しＸは上述と同義；ＺはＲ²又はＹ
   Ｒ²；ＹはＯ又はＳ；そしてＲ²はＣ₁〜₅の直鎖又は分岐
   鎖アルキル或いはフェニル、のアシル化剤でアシル化し
   て下式 【化３】 の化合物を生成させ、 （ｃ） 工程（ｂ）で得られた化合物を水素化有機スズ
   及びラジカル開始剤と反応させて下式 【化４】 の化合物を生成させ、そして （ｄ） 工程（ｃ）で得られた化合物を脱シラン化して
   下式 【化５】 の化合物を生成させる、工程を含んでなる下式 【化６】 の化合物の製造法。
2. 【請求項２】 下式 【化７】 の化合物。
3. 【請求項３】 下式 【化８】 ［式中、ＺはＲ²又はＹＲ²であり；ＹはＯ又はＳであ
   り；そしてＲ²はＣ₁〜₅直鎖又は分岐鎖アルキル或いは
   フェニルである］の化合物。
4. 【請求項４】 下式 【化９】 の化合物。
5. 【請求項５】 （ａ） グアノシンをアシル化して式 【化１０】 の化合物を生成させ、 （ｂ） 工程（ａ）の化合物を塩素化剤と反応させて式 【化１１】 の化合物を生成させ、 （ｃ） 工程（ｂ）の化合物をニトロシル化剤及び塩素
   化剤と反応させて式 【化１２】 の化合物を生成させ、 （ｄ） 工程（ｃ）の化合物をアンモニア又は水酸化ア
   ンモニウムと反応させて式 【化１３】 の化合物を生成させ、 （ｅ） 工程（ｄ）の化合物を塩基の存在下に式（ｉ−
   Ｐｒ)₄Ｓｉ₂Ｏ(Ｘ)₂、但しＸは塩素又は臭素、のシラン
   化剤と反応させて下式 【化１４】 の化合物を生成させ、 （ｆ） 工程（ｅ）で得られた化合物を塩基の存在下に
   式ＸＣ(Ｓ)Ｚ、但しＸは上述と同義；ＺはＲ²又はＹ
   Ｒ²；ＹはＯ又はＳ；そしてＲ²はＣ₁〜₅直鎖又は分岐鎖
   アルキル或いはフェニル、のアシル化剤でアシル化して
   下式 【化１５】 の化合物を生成させ、 （ｇ） 工程（ａ）で得られた化合物を水素化有機スズ
   及びラジカル開始剤と反応させて下式 【化１６】 の化合物を生成させ、そして （ｈ） 工程（ｇ）で得た化合物を脱シラン化して下式 【化１７】 の化合物を生成させる、下式 【化１８】 の化合物の製造法。