JPH05258228A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 摺動面に剥離，クラックや偏摩耗が起こりに
くく、かつ、コアの接合強度の強い磁気ヘッドとその製
造方法を提供する。 【構成】 磁性材からなる１対のコア１，３と、１対の
コア１，３の間に１対の軟磁性合金薄膜５と、１対の軟
磁性合金薄膜５の間に１対の非磁性薄膜６と、トラック
幅を規制するガラス７からなる摺動面９を備え、１対の
コア１，３の接合面に摺動面９から下方に所定の深さの
ギャップ面４を備え、そのギャップ面４の下端から２０
μｍ以上下方に摺動面９より広幅の段加工部１０を備
え、コア１に巻線窓２を備え、１対のコア１，３の段加
工部１０に摺動面の側端面から２０μｍ以上離れた位置
にガラス７とコア１，３が直接接合した部分１１，１２
を備えた構成。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ，ＤＡＴまたは
ＦＤＤなどの高密度磁気記録再生装置に好適な磁気ヘッ
ドおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の磁気記録技術の動向は、ビデオヘ
ッドなどにおいては、高周波特性の優れたものが要求さ
れ、最短記録波長が１μｍ以下を記録再生できるものが
要望されている。

【０００３】そこで、より高密度記録を達成する媒体
は、高い保持力を有した純鉄系のメタル媒体（ＭＰテー
プ）や垂直用媒体が開発され、その一部はＤＡＴや８mm
ＶＴＲなどに実用化されている。

【０００４】一方、磁気ヘッドにおいては、従来のＶＴ
Ｒなどに使用されているフェライトヘッドは上記の媒体
を磁化するのに充分な飽和磁束密度を有していないこと
が知られており、センダストまたはアモルファスといっ
た軟磁性合金薄膜を主磁路とする磁気ヘッドが提案さ
れ、従来より高効率な磁気ヘッドとして実用化されてい
る（特開平３−２２２１０９号公報）。

【０００５】以下、図面を参照しながら従来の磁気ヘッ
ドおよびその製造方法について説明する。

【０００６】図６は従来の磁気ヘッドの正面図であり、
酸化物磁性材料の１対のコア３０−１および３０−２の
間に合金磁性材料薄膜３１を設け、トラック溝の底傾斜
部分３２に形成された合金磁性材料薄膜３１を除去した
ものであった。３３は溶着用ガラスである。上記磁気ヘ
ッドの製造において、合金磁性材料薄膜３１の除去方法
は図７（ａ）および（ｂ）に示すように、コア３０−１
および３０−２のギャップ対向面の上に合金磁性材料薄
膜３１を形成後トラック溝の底傾斜部分の合金磁性材料
薄膜３１を３４の位置で研削などの方法によって除去し
ていた。図７（ｃ）はコア３０−１の研削加工後の部分
正面図である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来の
構成では加工歪の多い図７（ｃ）に示した端面３５がテ
ープ摺動面に露出しているためテープで摺動するとここ
で剥離，クラックや偏摩耗が起こり、耐久性の点で問題
があった。

【０００８】本発明は、上記の従来の問題を解決するも
ので、耐久性の優れた磁気ヘッドとその製造方法の提供
を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の磁気ヘッドは、磁性材からなる１対のコア
と、その１対のコアの間に１対の軟磁性合金薄膜と、そ
の１対の軟磁性合金薄膜の間に非磁性薄膜と、トラック
幅を規制するガラスとからなる摺動面を備え、上記１対
のコアの接合面に上記摺動面から下方に所定の深さのギ
ャップ面を備え、そのギャップ面の下端から２０μｍ以
上下方に上記摺動面より広幅の段加工部を備え上記１対
のコアの少なくとも一方に巻線窓を備え、上記１対のコ
アの少なくとも一方のコアの少なくとも１箇所の段加工
部に上記摺動面の側端面から２０μｍ以上離れた位置に
上記ガラスとコアが直接接合した部分を備えた構成とす
る。

【００１０】

【作用】上記の構成によれば、加工歪の多い軟磁性合金
薄膜と非磁性薄膜の端面がテープとの摺動面に露出しな
くなるとともにガラスとコアの接合強度が強くなる。

【００１１】

【実施例】

（実施例１）以下本発明の一実施例の磁気ヘッドについ
て図面を参照しながら説明する。

【００１２】図１は本発明の磁気ヘッドをギャップ面で
分割したものの斜視図である。同図において、１は巻線
窓２を有するフェライトからなる一方のコア、３は同じ
くフェライトからなる他方のコアであり、コア１および
３のギャップ面にはＣｏ_0.8Ｎｂ_0.2の軟磁性合金薄膜５
を設け、軟磁性合金薄膜５の上には酸化けい素からなる
非磁性薄膜６が設けられている。そして１対のコア１お
よび３はギャップ面４で貼合わせてガラス７で封着さ
れ、所定のトラック幅８を有する摺動面９を形成してい
る。さらにギャップ面４の下端から２０μｍ下方にトラ
ック幅８より広幅の段加工部１０が設けられている。さ
らに摺動面９の側端面より２０μｍ離れた位置にガラス
７とコア１および３が直接接合した部分１１および１２
を設けた。この構成によれば、加工歪の多い軟磁性合金
薄膜と非磁性薄膜の端面１３がテープ摺動面９に露出し
ないので従来の磁気ヘッドより耐久性が向上した。

【００１３】直接接合した部分１１および１２をギャッ
プ面４の下端から２０μｍ以上下方で、摺動面の側端面
から２０μｍ以上離れた位置に設ける理由は、２０μｍ
未満にするとヘッド特性に悪影響を及ぼしたり、記録時
に磁気飽和が起こり記録特性が低下するためである。

【００１４】（実施例２）次に本発明の磁気ヘッドの製
造方法を図２，３および４を参照しながら説明する。

【００１５】まず図２（ａ）に示すように一方のコア１
に所定の角度をもった巻線窓２の加工を施す。次に１対
のコア１および３のギャップ面４を鏡面研磨する。次に
図２（ｂ）に示すように所定のトラック幅規制溝１６を
加工する。次に図２（ｃ）に示すようにスパッタリング
法でＣｏ_0.8Ｎｂ_0.2の軟磁性合金薄膜５、続いてスパッ
タリング法で酸化けい素の非磁性薄膜６を被着する。但
し図では一層の薄膜で示してある。次に図３（ａ）に示
すようにコア１および３のトラック幅規制溝１６内で、
ギャップ面の下端１７から２０μｍ下方の１８および１
９で、摺動面の側端面２０から２０μｍ離れた位置の段
加工部１０の軟磁性合金薄膜５と被磁性薄膜６を研削加
工で除去する。斜線で示した部分が除去部である。次に
図３（ａ）のコア１および３をギャップ面で貼合わせて
図３（ｂ）に示すようにガラス７で封着してコアブロッ
ク２１を製造する。次に図４に示すようにコアブロック
２１に２２に沿って切断し、次に２３に沿って切断して
ギャップ面の下端から２０μｍ下方に段加工部１０を設
け、所定形状に切断して図１の磁気ヘッドを製造した。

【００１６】（実施例３）次に本発明の磁気ヘッドの他
の製造方法を図５を参照しながら説明する。

【００１７】図５（ａ）および（ｂ）の巻線窓２，１対
のコア１および３のギャップ面４を鏡面研磨する工程は
実施例２と同じである。次に図５（ｃ）に示すように、
コア１および３のトラック幅規制溝１６内で、ギャップ
面の下端１７かあ２０μｍ下方の１８および１９で、摺
動面の側端面２０から２０μｍ離れた位置の段加工部１
０にマスク２４を設ける。次にスパッタリング法で、Ｃ
ｏ_0.8Ｎｂ_0.2の軟磁性合金薄膜５、続いてスパッタリン
グ法で酸化けい素の被磁性薄膜６を被着する。この方法
によればマスク２４を設けた部分には軟磁性合金薄膜５
と被磁性薄膜６が被着されないコアが製造される。次に
図３（ｂ）と同様にコア１および３をガラス７で封着し
てコアブロック２１と同じコアブロックを製造する。次
にコアブロックに実施例２と同様に段加工部を設け、所
定形状に切断して図１の磁気ヘッドを製造した。

【００１８】なお、実施例においては軟磁性合金薄膜と
して、Ｃｏ_0.8Ｎｂ_0.2を用いて説明したが、これに代え
て以下の軟磁性合金薄膜を用いても同様の効果が得られ
る。

【００１９】（１）軟磁性合金薄膜がＣｏａＭｂからな
り、厚み方向に窒素で組成変調されたものであること。

【００２０】ここでＭは、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔ
ｉ，Ｍｏ，Ｗから選ばれる少なくとも１種以上の元素か
らなり、ａ，ｂは原子比を表し次の式を満足するものと
する。

【００２１】０．８０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．２０ ａ＋ｂ＝１．０ （２）軟磁性合金薄膜がＦｅａＭｂからなり、厚み方向
に窒素で組成変調されたものであること。

【００２２】ここでＭは、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔ
ｉ，Ｍｏ，Ｗから選ばれる少なくとも１種以上の元素か
らなり、ａ，ｂは原子比を表し次の式を満足するものと
する。

【００２３】０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ａ＋ｂ＝１．０

【００２４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の磁気ヘッドおよびその製造方法によれば、加工歪の多
い軟磁性合金薄膜と非磁性薄膜の端面が摺動面に露出し
ないために従来より剥離，クラックや偏摩耗が起こりに
くくなり耐久性が向上するとともにコアの接合強度も向
上した磁気ヘッドが得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例における磁気ヘッドを分割した
斜視図

【図２】（ａ），（ｂ），（ｃ）同じく製造方法の工程
図

【図３】（ａ），（ｂ）同じく製造方法の工程図

【図４】同じくコアブロックの一部斜視図

【図５】（ａ），（ｂ），（ｃ）同じく他の実施例にお
ける製造方法の工程図

【図６】従来の磁気ヘッドの正面図

【図７】（ａ），（ｂ），（ｃ）同じく製造方法の工程
図

【符号の説明】

１，３ コア ２ 巻線窓 ４ ギャップ面 ５ 軟磁性合金薄膜 ６ 非磁性薄膜 ７ ガラス ８ トラック幅 ９ 摺動面 １０ 段加工部 １１，１２ 直接接合した部分 １６ トラック幅規制溝 １７ ギャップ面の下端 ２１ コアブロック ２４ マスク

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁性材からなる１対のコアと、その１対
   のコアの間に１対の軟磁性合金薄膜と、その１対の軟磁
   性合金薄膜の間に１対の非磁性薄膜と、トラック幅を規
   制するガラスとからなる摺動面を備え、上記１対のコア
   の接合面に上記摺動面から下方に所定の深さのギャップ
   面を備え、そのギャップ面の下端から２０μｍ以上下方
   に上記摺動面より広幅の段加工部を備え、上記１対のコ
   アの少なくとも一方に巻線窓を備え、上記１対のコアの
   少なくとも一方のコアの少なくとも１箇所の段加工部に
   上記摺動面の側端面から２０μｍ以上離れた位置に上記
   ガラスとコアが直接接合した部分を備えた磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 軟磁性合金薄膜がＣｏａＭｂからなり、
   厚み方向に窒素が組成変調された請求項１記載の磁気ヘ
   ッド。ここでＭは、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍ
   ｏ，Ｗの１種以上の元素からなり、ａ，ｂは原子比を表
   し次の式を満足するものとする。 ０．８０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．２０ ａ＋ｂ＝１．０
3. 【請求項３】 軟磁性合金薄膜がＦｅａＭｂからなり、
   厚み方向に窒素が組成変調された請求項１記載の磁気ヘ
   ッド。ここでＭは、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍ
   ｏ，Ｗの１種以上の元素からなり、ａ，ｂは原子比を表
   し次の式を満足するものとする。 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ａ＋ｂ＝１．０
4. 【請求項４】 １対の磁性材からなるコアの少なくとも
   一方に巻線窓を加工をする工程と、前記１対のコアのギ
   ャップ面を鏡面研磨する工程と、前記１対のコアに所定
   のトラック幅規制溝を加工する工程と、前記ギャップ面
   に軟磁性合金薄膜を被着する工程と、前記軟磁性合金薄
   膜の上に非磁性薄膜を被着する工程と、少なくとも一方
   のコアの隣り合うトラック幅規制溝の少なくとも一方
   で、ギャップ面の下端から２０μｍ以上下方で、摺動面
   の側端面から２０μｍ以上離れた位置の段加工部の軟磁
   性合金薄膜と非磁性薄膜を除去する工程と、前記１対の
   コアをギャップ面で貼合せてガラス封着してコアブロッ
   クとする工程と、前記ギャップ面の下端から２０μｍ以
   上下方に段加工部を設ける工程と、前記コアブロックを
   所定形状に切断する工程とからなる磁気ヘッドの製造方
   法。
5. 【請求項５】 １対の磁性材からなるコアの少なくとも
   一方に巻線窓を加工をする工程と、前記１対のコアのギ
   ャップ面を鏡面研磨する工程と、前記１対のコアに所定
   のトラック幅規制溝を加工する工程と、前記トラック幅
   規制溝にマスクを設ける工程と、前記ギャップ面に軟磁
   性合金薄膜を被着する工程と、前記軟磁性合金薄膜の上
   に非磁性薄膜を被着する工程と、前記１対のコアをギャ
   ップ面で貼合わせてガラス封着してコアブロックとする
   工程と、前記ギャップ面の下端から２０μｍ以上下方に
   段加工部を設ける工程と、前記コアブロックを所定形状
   に切断する工程とからなる磁気ヘッドの製造方法。
6. 【請求項６】 軟磁性合金薄膜がＣｏａＭｂからなり、
   厚み方向に窒素が組成変調された請求項４または５記載
   の磁気ヘッドの製造方法。ここでＭは、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚ
   ｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｗの１種以上の元素からなり、
   ａ，ｂは原子比を表し次の式を満足するものとする。 ０．８０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．２０ ａ＋ｂ＝１．０
7. 【請求項７】 軟磁性合金薄膜がＦｅａＭｂからなり、
   厚み方向に窒素が組成変調された請求項４または５記載
   の磁気ヘッドの製造方法。ここでＭは、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚ
   ｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｗの１種以上の元素からなり、
   ａ，ｂは原子比を表し次の式を満足するものとする。 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ａ＋ｂ＝１．０