JPH01298510A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH01298510A JPH01298510A JP63128739A JP12873988A JPH01298510A JP H01298510 A JPH01298510 A JP H01298510A JP 63128739 A JP63128739 A JP 63128739A JP 12873988 A JP12873988 A JP 12873988A JP H01298510 A JPH01298510 A JP H01298510A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- core block
- core
- film
- magnetic head
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特に磁性材より
なるコアに形成された磁性膜を良好にして、磁気ヘッド
の磁性特性を向上させ得る磁気ヘッドの製造方法に関す
る。
なるコアに形成された磁性膜を良好にして、磁気ヘッド
の磁性特性を向上させ得る磁気ヘッドの製造方法に関す
る。
8ミリビデオテープレコーダ、R−DAT等の録音装置
には、記録媒体としてメタルテープが使用され、そのメ
タルテープ対応の磁気ヘッドとしてフェライト等の磁性
材からなるコアのギャップ部にFe−A It −5i
(登録商標センダスト)等の高磁束密度の磁性膜を
配した、いわゆるメタル・イン・ギャップと呼ばれるも
のがある。
には、記録媒体としてメタルテープが使用され、そのメ
タルテープ対応の磁気ヘッドとしてフェライト等の磁性
材からなるコアのギャップ部にFe−A It −5i
(登録商標センダスト)等の高磁束密度の磁性膜を
配した、いわゆるメタル・イン・ギャップと呼ばれるも
のがある。
上記磁気ヘッドは、まず一対のフェライトからなるコア
ブロックにトラック加工を施こし、次に加工面にFe−
A 1−5i等の磁性膜をスパッタリング等の方法で形
成し、次に夫々のコアブロックの磁性膜面を突き合わせ
ガラス接合して磁気へラドコアロックを形成し、その後
磁気ヘッドコアブロックを切断し、コイル巻線を施こし
て形成される。
ブロックにトラック加工を施こし、次に加工面にFe−
A 1−5i等の磁性膜をスパッタリング等の方法で形
成し、次に夫々のコアブロックの磁性膜面を突き合わせ
ガラス接合して磁気へラドコアロックを形成し、その後
磁気ヘッドコアブロックを切断し、コイル巻線を施こし
て形成される。
しかし、フェライトコアブロックと磁性膜の境界面には
、■コア加工面の加工歪、■磁性膜形成初期の結晶欠陥
層、及び■フェライトコアと磁性膜とを接して加熱する
さいに、磁性膜中のAffiがコア中の酸素を奪う反応
が起こって、酸素の移動等が発生する等の原因で歪が発
生し易く、その部分での磁気特性を低下させ、ヘッド効
率を落とすと共にいわゆる擬似ギャップ効果を増大させ
てしまう等の問題点がある。
、■コア加工面の加工歪、■磁性膜形成初期の結晶欠陥
層、及び■フェライトコアと磁性膜とを接して加熱する
さいに、磁性膜中のAffiがコア中の酸素を奪う反応
が起こって、酸素の移動等が発生する等の原因で歪が発
生し易く、その部分での磁気特性を低下させ、ヘッド効
率を落とすと共にいわゆる擬似ギャップ効果を増大させ
てしまう等の問題点がある。
そこで、本発明では、コアブロックの磁性膜形成面を予
め表面が−様な磁性薄膜を形成することにより、上記問
題点を解決した磁気ヘッドの製造方法にすることを目的
とする。
め表面が−様な磁性薄膜を形成することにより、上記問
題点を解決した磁気ヘッドの製造方法にすることを目的
とする。
r問題点を解決するための手段及び作用〕上記問題点を
解決するために本発明では、フェライトコアブロックの
磁性膜形成面に予め下地用の磁性薄膜を形成し、その磁
性薄膜面に所望の磁性膜を形成する製造方法にした。
解決するために本発明では、フェライトコアブロックの
磁性膜形成面に予め下地用の磁性薄膜を形成し、その磁
性薄膜面に所望の磁性膜を形成する製造方法にした。
磁気ヘッドの製造方法を上記のようにすることにより、
フェライトコアブロック面に形成される磁性膜がフェラ
イトコアブロックに生じる歪の影響を受けることなく良
好に形成されて磁気ヘッド特性を向上させる。
フェライトコアブロック面に形成される磁性膜がフェラ
イトコアブロックに生じる歪の影響を受けることなく良
好に形成されて磁気ヘッド特性を向上させる。
〔実施例]
第1図〜第8図は本発明になる磁気ヘッドの製造方法の
実施例を示す図である。磁気ヘッドの製造行程について
説明する。まず、第2図の如くフェライト材等の磁性材
からなるコアブロック1を用意する0次に、コアブロッ
ク1を表面研摩した後、C溝(svA窓)4、補強溝5
、捲線ガイド6、クシ加エフの順に機械加工を行って、
第3図の如くCコアのブロック2を形成する。同様に、
コアブロック1を表面研摩した後、C溝(巻線窓)4、
巻線ガイド6、クシ加エフの順に機械加工を行って、第
4図の如くIコアのブロック3を形成する0次に、Cコ
アのブロック2及びIコアのコアブロック30表面に夫
々第5図及び第6図の点線で示す領域(梨地模様)に、
両コアブロック2゜3の磁性材より高い飽和磁束密度を
有するPe−Alt−5t等の磁性膜11.12を形成
する。磁性膜11.12の形成について、第1図(A)
、(B)、(C)で詳述する。第1図はCコアのブロッ
ク2の一部を拡大したものである。まず、同図(A)の
如く、ブロック2の表面に、Fe−A 1−5i磁性材
をターゲツト材とし、不活性ガスであるArに活性ガス
である酸素ガス(08)を添加した雰囲気でスパッタリ
ングして膜厚が約1μ■の第1の磁性1110を形成す
る0次に、熱処理した後、Ar雰囲気でスパッタエツチ
ングして、同図(B)の如く、膜厚が約0.1〜0.5
μ−の磁性11110’を形成する。ここで、磁性11
110,10”はArに酸素ガスを添加した雰囲気でス
パッタリングされるのでブロック2上に表面が−様な下
地用の薄膜が形成され、ブロック2に生じる歪が覆われ
、表面に出゛な(なる0次に、Fe−A It −5t
磁性材をターゲツト材として、Arに活性ガスである
チッ素ガス(Nf)を添加した雰囲気でスバタリングし
て膜厚が4〜5μmの第2の磁性膜11を形成する。
実施例を示す図である。磁気ヘッドの製造行程について
説明する。まず、第2図の如くフェライト材等の磁性材
からなるコアブロック1を用意する0次に、コアブロッ
ク1を表面研摩した後、C溝(svA窓)4、補強溝5
、捲線ガイド6、クシ加エフの順に機械加工を行って、
第3図の如くCコアのブロック2を形成する。同様に、
コアブロック1を表面研摩した後、C溝(巻線窓)4、
巻線ガイド6、クシ加エフの順に機械加工を行って、第
4図の如くIコアのブロック3を形成する0次に、Cコ
アのブロック2及びIコアのコアブロック30表面に夫
々第5図及び第6図の点線で示す領域(梨地模様)に、
両コアブロック2゜3の磁性材より高い飽和磁束密度を
有するPe−Alt−5t等の磁性膜11.12を形成
する。磁性膜11.12の形成について、第1図(A)
、(B)、(C)で詳述する。第1図はCコアのブロッ
ク2の一部を拡大したものである。まず、同図(A)の
如く、ブロック2の表面に、Fe−A 1−5i磁性材
をターゲツト材とし、不活性ガスであるArに活性ガス
である酸素ガス(08)を添加した雰囲気でスパッタリ
ングして膜厚が約1μ■の第1の磁性1110を形成す
る0次に、熱処理した後、Ar雰囲気でスパッタエツチ
ングして、同図(B)の如く、膜厚が約0.1〜0.5
μ−の磁性11110’を形成する。ここで、磁性11
110,10”はArに酸素ガスを添加した雰囲気でス
パッタリングされるのでブロック2上に表面が−様な下
地用の薄膜が形成され、ブロック2に生じる歪が覆われ
、表面に出゛な(なる0次に、Fe−A It −5t
磁性材をターゲツト材として、Arに活性ガスである
チッ素ガス(Nf)を添加した雰囲気でスバタリングし
て膜厚が4〜5μmの第2の磁性膜11を形成する。
ここで、磁性WA11は表面の−様な磁性IlI O’
上に形成されるので、同様に−様な膜が形成され、しか
もArにチッ素ガスを添加した雰囲気でスパッタリング
され磁気特性の良い膜が形成される。
上に形成されるので、同様に−様な膜が形成され、しか
もArにチッ素ガスを添加した雰囲気でスパッタリング
され磁気特性の良い膜が形成される。
■コアのブロック3もCコアのブロック2と同様の方法
で、Fe−A j!−5t磁性膜12が形成される。
で、Fe−A j!−5t磁性膜12が形成される。
次に、いずれかのコアブロックの磁性膜上にギャップと
なる非磁性絶縁膜(SiJ、 Tag’s等で図省略)
を膜厚0.2 p−程度スパッタリングして形成した後
、第7図の如く向き合った両ブロック2゜3を互いのト
ラック幅Tm (第5図、第6図参照)を合せるように
つき合せ、Cコアのブロック2のC溝4、補強溝5にそ
れぞれ納めたガラス棒13゜14を溶融して両ブロック
2.3を固着し、第8図の如く磁気ヘッドコアブロック
15を形成する。
なる非磁性絶縁膜(SiJ、 Tag’s等で図省略)
を膜厚0.2 p−程度スパッタリングして形成した後
、第7図の如く向き合った両ブロック2゜3を互いのト
ラック幅Tm (第5図、第6図参照)を合せるように
つき合せ、Cコアのブロック2のC溝4、補強溝5にそ
れぞれ納めたガラス棒13゜14を溶融して両ブロック
2.3を固着し、第8図の如く磁気ヘッドコアブロック
15を形成する。
第8図において符号13’、14’は、それぞれ第7図
におけるガラス棒13,14が溶融されたものである0
次に、磁気°コアブロック15の摺動。
におけるガラス棒13,14が溶融されたものである0
次に、磁気°コアブロック15の摺動。
面側16に円筒研摩によりRをつけた後、点線X。
Yに沿って切断する三七により、第9図の如く磁気へラ
ドコア17が形成される。符号18はギャップである。
ドコア17が形成される。符号18はギャップである。
磁気ヘッドコア17の巻線窓4と巻線ガイド6にかけて
コイル巻線(図省略)を施こして磁気ヘッドを形成する
。
コイル巻線(図省略)を施こして磁気ヘッドを形成する
。
上記磁気ヘッドの製造方法においては、フェライトコア
ブロック2.3に予め下地用の磁性薄膜を形成し、その
磁性1ull上に磁性膜を形成しているため、膜がコア
ブロック2.3の表面に生じる歪の影響を受けず、また
磁性薄膜が下地膜の役目をしているため、フェライトコ
アブロック2.3と磁性膜との反応を防止している。
ブロック2.3に予め下地用の磁性薄膜を形成し、その
磁性1ull上に磁性膜を形成しているため、膜がコア
ブロック2.3の表面に生じる歪の影響を受けず、また
磁性薄膜が下地膜の役目をしているため、フェライトコ
アブロック2.3と磁性膜との反応を防止している。
なお、上記説明中、磁性薄膜や磁性膜としてFIe−A
Q −St (センダスト)磁性材料を使用したが
、これに限ることなくアモルファス合金等の高飽和磁束
密度の磁性材を用いてもよい。
Q −St (センダスト)磁性材料を使用したが
、これに限ることなくアモルファス合金等の高飽和磁束
密度の磁性材を用いてもよい。
上述の如く、本発明の磁気ヘッドの製造方法では、磁性
材よりなる一対のコアブロックに夫々該コアより高い飽
和磁束密度を有する磁性膜を形成し、次に該コアブロッ
クを磁性膜が突き合わされるように接合して磁気ヘッド
コアブロックを形成し、該磁気ヘッドコアブロックを切
断して磁気ヘッドを形成する磁気ヘッドの製造方法にお
いて、該コアブロックの磁性膜形成面に予め下地用の磁
性薄膜を形成したため、良好な磁性膜が形成でき、コア
の歪による磁気特性の劣化を防止した磁気ヘッドを得る
ことができる等の効果が生じる。
材よりなる一対のコアブロックに夫々該コアより高い飽
和磁束密度を有する磁性膜を形成し、次に該コアブロッ
クを磁性膜が突き合わされるように接合して磁気ヘッド
コアブロックを形成し、該磁気ヘッドコアブロックを切
断して磁気ヘッドを形成する磁気ヘッドの製造方法にお
いて、該コアブロックの磁性膜形成面に予め下地用の磁
性薄膜を形成したため、良好な磁性膜が形成でき、コア
の歪による磁気特性の劣化を防止した磁気ヘッドを得る
ことができる等の効果が生じる。
第1図〜第9図は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の
第1実施例を示し、第1図(A)(B)は夫々コアブロ
ックに磁性薄膜を形成する様子を示す拡大図、第1図(
C)はコアブロックに磁性膜を形成する様子を示す拡大
図、第2図はコアブロックの要部斜視図、第3図はCコ
アのブロックの要部斜視図、第4図は■コアのブロック
の要部斜視図、第5図はCコアのブロックに磁性膜を形
成した要部斜視図、第6図はIコアのブロックに磁性膜
を形成した要部斜視図、第7図はCコアのブロックと■
コアのブロックが向い合った図、第8図は磁気ヘッドコ
アブロックの要部斜視図、第9図は磁気へラドコアの斜
視図である。 1・・・コアブロック 10°・・・磁性薄膜11.1
2・・・磁性膜、 13°、14″・・・ガラス、 15・・・磁気ヘッドコアブロック 特許出願人 ミツミ電機株式会社 第1図 第6図 第7図 第8図 第9図 314° 2 第2図 第3図
第1実施例を示し、第1図(A)(B)は夫々コアブロ
ックに磁性薄膜を形成する様子を示す拡大図、第1図(
C)はコアブロックに磁性膜を形成する様子を示す拡大
図、第2図はコアブロックの要部斜視図、第3図はCコ
アのブロックの要部斜視図、第4図は■コアのブロック
の要部斜視図、第5図はCコアのブロックに磁性膜を形
成した要部斜視図、第6図はIコアのブロックに磁性膜
を形成した要部斜視図、第7図はCコアのブロックと■
コアのブロックが向い合った図、第8図は磁気ヘッドコ
アブロックの要部斜視図、第9図は磁気へラドコアの斜
視図である。 1・・・コアブロック 10°・・・磁性薄膜11.1
2・・・磁性膜、 13°、14″・・・ガラス、 15・・・磁気ヘッドコアブロック 特許出願人 ミツミ電機株式会社 第1図 第6図 第7図 第8図 第9図 314° 2 第2図 第3図
Claims (1)
- 磁性材よりなる一対のコアブロックに夫々該コアブロッ
クより高い飽和磁束密度を有する磁性膜を形成し、次に
該コアブロックを磁性膜が突き合わされるように接合し
て磁気ヘッドコアブロックを形成し、該磁気ヘッドコア
ブロックを切断して磁気ヘッドを形成する磁気ヘッドの
製造方法において、該コアブロックの磁性膜形成面に予
め下地用の磁性薄膜を形成したことを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63128739A JPH01298510A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63128739A JPH01298510A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01298510A true JPH01298510A (ja) | 1989-12-01 |
Family
ID=14992261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63128739A Pending JPH01298510A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01298510A (ja) |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP63128739A patent/JPH01298510A/ja active Pending
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