JPH0529391A - 厚膜回路基板の製造方法 - Google Patents

厚膜回路基板の製造方法

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JPH0529391A
JPH0529391A JP3184416A JP18441691A JPH0529391A JP H0529391 A JPH0529391 A JP H0529391A JP 3184416 A JP3184416 A JP 3184416A JP 18441691 A JP18441691 A JP 18441691A JP H0529391 A JPH0529391 A JP H0529391A
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JP
Japan
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thick film
circuit board
dried
manufacturing
printed
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Pending
Application number
JP3184416A
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English (en)
Inventor
Katsuhiro Nakano
克宏 中野
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 各種電子機器に使用される厚膜回路基板の製
造方法において、簡潔なライン構成を有し設備投資額も
少なく、形成された抵抗体の出現抵抗値の分散も小さく
抑えることが可能な優れた特徴をもつ厚膜回路基板の製
造方法を提供することを目的とする。 【構成】 まずアルミナ基板1上に厚膜抵抗体ペースト
を印刷乾燥後焼成せずにそのまま厚膜Ag/Ptペース
トの印刷乾燥を行い、両乾燥膜を同時に焼成して半導体
チップ接続用電極,配線,部品ランド2および抵抗体3
を一挙に形成し、その後厚膜オーバーコートガラスを印
刷乾燥後、焼成して回路保護用オーバーコートガラス4
を形成することにより、ライン構成、設備投資額、抵抗
体の出現抵抗値の分散度合の点で大きな効果を実現でき
る厚膜回路基板の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップをフェー
スダウン方式にて半田接続で実装する場合等に用いるこ
とのできる電子部品実装用の厚膜回路基板の製造方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、厚膜回路基板の製造方法として
は、半導体チップをフェースダウン方式にて半田接続で
実装するニーズの高まりに対応して、導体材料として半
田濡れ性及び耐半田性に優れ且つコスト面でも有利な厚
膜Ag/Ptペーストを使用する方法が多く用いられて
いる。
【0003】以下に従来の厚膜回路基板の製造方法につ
いて説明する。図2は従来の製造方法を用いた厚膜回路
基板の断面図を示すものである。図2において、1はア
ルミナ基板であり、2は半導体チップ接続用電極,配
線,部品ランドであり、3は抵抗体、4は回路保護用オ
ーバーコートガラスである。
【0004】以上のように構成された厚膜回路基板につ
いて、以下具体的にその製造方法について説明する。ま
ずアルミナ基板1上に厚膜Ag/Ptペーストを印刷乾
燥後、焼成して半導体チップ接続用電極,配線,部品ラ
ンド2を形成する。続いて厚膜抵抗体ペーストを印刷乾
燥後、焼成して抵抗体3を形成する。さらに厚膜ガラス
ペーストを印刷乾燥後、焼成して回路保護用オーバーコ
ートガラス4を形成する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の構
成による厚膜回路基板の製造方法では、製造工程中に焼
成工程が3工程も存在するために、製造ラインが冗長で
設備投資額も大きくなるという問題点を有し、さらに半
導体チップ接続用電極,配線,部品ランドを形成した後
の非常に起伏の大きい膜面に厚膜抵抗体ペーストを印刷
するために、その出現抵抗値の分散が非常に大きくなる
という課題も有していた。
【0006】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
で、簡潔なライン構成を有し設備投資額も小さく、形成
された抵抗体の出現抵抗値の分散も小さく抑えることが
可能な厚膜回路基板の製造方法を提供することを目的と
する。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の製造方法による厚膜回路基板は、まずアルミ
ナ基板上に厚膜抵抗体ペーストを印刷乾燥後焼成せずに
そのまま厚膜Ag/Ptペーストの印刷乾燥を行い、両
乾燥膜を同時に焼成して半導体チップ接続用電極,配
線,部品ランド及び抵抗体を一挙に形成し、その後厚膜
オーバーコートガラスを印刷乾燥後、焼成して回路保護
用オーバーコートガラスを形成するという構成を有して
いる。
【0008】
【作用】この構成による厚膜回路基板の製造方法では、
製造工程中に焼成工程が2工程しか存在せずライン構成
が簡潔であり設備投資額も小さくすませることができ、
さらに半導体チップ接続用電極,配線,部品ランドを形
成する前の起伏の少ないアルミナ基板上に直接厚膜抵抗
体ペーストの印刷を行うため、その出現抵抗値の分散も
小さく抑えることが可能である。
【0009】
【実施例】以下、本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
【0010】図1において、1はアルミナ基板であり、
2は半導体チップ接続用電極,配線,部品ランドであ
り、3は抵抗体であり、4は回路保護用オーバーコート
ガラスである。
【0011】以上のように構成された厚膜回路基板につ
いて、以下具体的にその製造方法について説明する。ま
ずアルミナ基板1上に厚膜抵抗体ペーストを印刷乾燥後
焼成せずにそのまま厚膜Ag/Ptペーストの印刷乾燥
を行い、両乾燥膜を同時に焼成して半導体チップ接続用
電極,配線,部品ランド2及び抵抗体3を一挙に形成
し、その後厚膜オーバーコートガラスを印刷乾燥後、焼
成して回路保護用オーバーコートガラス4を形成する。
【0012】本実施例による厚膜回路基板の製造方法の
特徴と従来の厚膜回路基板の製造方法の特徴を(表1)
に比較して示している。
【0013】
【表1】
【0014】この(表1)から明らかなように、本実施
例による厚膜回路基板の製造方法は、ライン構成、設備
投資額、抵抗体の出現抵抗値の分散度合の点で優れた効
果が得られる。
【0015】以上のように本実施例によれば、まずアル
ミナ基板1上に厚膜抵抗体ペーストを印刷乾燥後焼成せ
ずにそのまま厚膜Ag/Ptペーストの印刷乾燥を行
い、両乾燥膜を同時に焼成して半導体チップ接続用電
極,配線,部品ランド2及び抵抗体3を一挙に形成し、
その後厚膜オーバーコートガラスを印刷乾燥後、焼成し
て回路保護用オーバーコートガラス4を形成するため、
製造工程中に焼成工程が1回しか存在せずライン構成が
簡潔であり且つ設備投資額も小さくすることができ、さ
らに半導体チップ接続用電極,配線,部品ランドを形成
する前の起伏の少ないアルミナ基板上に直接厚膜抵抗体
ペーストの印刷を行うため、その出現抵抗値の分散も小
さく抑えることが可能である。
【0016】
【発明の効果】以上のように本発明は、まずアルミナ基
板上に厚膜抵抗体ペーストを印刷乾燥後焼成せずにその
まま厚膜Ag/Ptペーストの印刷乾燥を行い。両乾燥
膜を同時に焼成して半導体チップ接続用電極,配線,部
品ランドおよび抵抗体を一挙に形成し、その後厚膜オー
バーコートガラスを印刷乾燥後、焼成して回路保護用オ
ーバーコートガラスを形成することにより、簡潔なライ
ン構成を有し設備投資額も小さく、形成された抵抗体の
出現抵抗値の分散も小さく抑えることが可能な優れた厚
膜回路基板の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の厚膜回路基板の製造方法を
示す断面図
【図2】従来の厚膜回路基板の製造方法を示す断面図
【符号の説明】
1 アルミナ基板 2 半導体チップ接続用電極,配線,部品ランド 3 抵抗体 4 回路保護用オーバーコートガラス

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 抵抗体を形成するための厚膜抵抗体ペー
    ストを印刷乾燥後、半導体チップ接続用電極、配線およ
    び部品ランドのうち少なくとも一つを形成するための厚
    膜Ag/Ptペーストを印刷乾燥し、その乾燥膜と前記
    乾燥膜の両者を同時に焼成する工程を少なくとも有する
    ことを特徴とする厚膜回路基板の製造方法。
JP3184416A 1991-07-24 1991-07-24 厚膜回路基板の製造方法 Pending JPH0529391A (ja)

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