JPH053131B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明はＸ線リソグラフイー用のマスク構造体
を作成する方法に関する。

［従来技術］ 従来から知られているＸ線リソグラフイー用マ
スクの作成方法として、シリコンウエハー上にＸ
線透過層とパターン化されたＸ線吸収層とで構成
される膜体を形成した後、シリコンウエハーのマ
スク部分のエツチングで除去する方法がある。

しかし、この方法には多くの問題点があり、特
に作成に要する工数、時間、歩留り等の点で改善
の必要があり、Ｘ線リソグラフイー実用化を遅ら
せる大き原因となつている。

そこで、本発明者は、シリコンウエハーのエツ
チング等の煩雑な操作を要せず、面精度、バラツ
キ、歩留り等の点で優れる所謂転移（転写）方式
のマスク作成方法において、転移に伴なう煩雑
性、歩留りの悪さ等を解消しうる方法を見出し、
本発明に到達した。

［発明の目的］ 本発明の１つの目的は、簡素化された工程で迅
速且つ高歩留りでＸ線リソグラフイー用マスクを
作成し得る方法を提供することにある。

本発明の他の目的は、所謂転移方式のマスク作
成方法において、転移を簡便且つ高歩留りで行な
うことのできるＸ線リソグラフイー用マスクの作
成方法を提供することにある。

上記目的は、平板上にＸ線透過層及びＸ線吸収
層を構成分とするマスク膜体を形成した後、この
膜体を保持体に接着・転移してＸ線リソグラフイ
ー用マスクを作成する方法において、前記保持体
の前記膜体との接着部位に溝を設けて膜体接着用
剤の流動を制御するこにより、達成される。

［発明の概要］ 本発明のＸ線リソグラフイー用マスクの作成方
法は、所謂転移方式のマスク作成方法を用いてお
り、例えば大略第１図に示した工程を行なうもの
である。

第１図の例では、平板１上に、Ｘ線透過層２、
マスクパターン３を有するＸ線吸収層４、及び保
護層の役割も果たすＸ線透過層５を順次設層して
マスク膜体６を形成する。〔第１図Ａ〕 平板１は、通常、石英、シリコン等の無機結
晶、ガラス、セラミツク、鉄、コバルト、ニツケ
ル、銅、黄銅、鉄鋼、ステンレス、フエルニコ、
インバール等の金属、プラスチツクなどを平面性
良く加工した板で構成される。平板１の形状は、
作成するマスク構造体の形状に合せて選択され
る。

Ｘ線透過層２，５は、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリエステル等の高分子溶液をスキナー、デ
イツプ、スプレー、スクイジー等の塗布方法で塗
布・乾燥して設層した高分子膜、窒化けい素、窒
化ほう素、二酸化けい素、炭化けい素等の無機材
料をCVD等により設層した無機質膜、あるいは
高分子膜と無機質膜との複合膜で構成される。Ｘ
線透過層２，５の層厚は、通常約2μｍ程度とさ
れる。

マスクパターン３は金、白金、パラジウム、イ
ンジウム、ニツケル、タングステン等の貴金属、
重金属で構成され、パターンの形成は、フオトリ
ソグラフイーあるいはＸ線、エレクトロンビー
ム、イオンビーム等を利用したリソグラフイーな
どにより行なわれる。Ｘ線吸収層４の層厚は、通
常0.2〜0.7μｍ程度とされる。

次いで、マスク膜体６との接着面７に接着用剤
８を付着させた保持体９を、第１図Ｂ及びＣに示
した様に膜体６の上方から近ずけて当接させ、接
着用剤８の硬化により、マスク膜体６と保持体９
を接着させる。保持体９は、例えば円環等の形状
を有し、石英、シリコン等の無機結晶、ガラス、
セラミツク、鉄、コバルト、ニツケル、アルミニ
ウム、黄銅、リン青銅等の金属などで構成され
る。接着用剤８としては、ニポキシ系、エマルジ
ヨン系、アミン系等があり、熱硬化型、光硬化
型、溶剤型等の種類は問わないが、特に、疎水系
であり且つ耐熱性の良好な接着剤が好ましい。

ここで、本発明の特徴は、例えば第１図に示さ
れた保持体９のマスク膜体６との接着部位７に溝
１０を設けて膜体接着用剤８の流動を制御するこ
とにある。即ち、第１図の保持体９は接着面７の
円環内周面寄りに１条のコ字条横断面の円周溝１
０を有することにより、接着用剤８の円環内周面
方向への横溢を防止している。また、第１図と同
一要素を同一符合で表わすと、第２図に示した実
施例では、保持体９は接着面７の円環内周面寄り
及び円環外周面寄りに２条のコ字条溝横断面の円
周溝１０，１０を有することにより、接着用剤８
の円環内周面方向及び円環外周面方向への横溢を
防止している。溝の数は１及び２に限定されず３
以上でもよく、また溝の形状は接着用剤の流動を
制御し得るものであれば何れでもよい。

第１図に戻ると、接着用剤８が十分に硬化した
ら、必要に応じて、マスク膜体６の環体９からの
はみ出し部分等を切除した後、膜体６と平板１と
の分離面〔第１図Ｃの１１〕 で、刃物等による機械的方法、紫外線等による分
解、変質法、超音波を用いる方法等により、膜体
６と平板１とを分離して、マスク構造体１２を得
る。

［発明の効果］ 本発明によれば、所謂転移方式のＸ線リソグラ
フイー用マスク作成方法において、接着用剤の横
溢によるマスク構造体の歩留りの低下がなく、接
着用剤の塗工、マスク膜体の転移の作業性が改善
され、これらの操作を簡便且つ高歩留りで行なう
ことができ、従つて簡素化された工程で迅速且つ
高歩留りでＸ線リソグラフイー用マスクを作成す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａ〜Ｄは本発明のＸ線リソグラフイー用
マスクの作成方法の一実施例におけるマスク作成
工程の流れを説明するための模式図、第２図は第
１図Ｃに相当し、本発明のＸ線リソグラフイー用
マスクの作成方法の他の実施例を説明するための
模式図である。 １……平板、２……Ｘ線透過層、３……マスク
パターン、４……Ｘ線吸収層、５……Ｘ線透過
層、６……マスク膜体、７……接着部位、８……
膜体接着用剤、９……保持体、１０……溝、１２
……マスク構造体。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 平板上にＸ線透過層及びＸ線吸収層を構成分
   とするマスク膜体を形成した後、この膜体を保持
   体に接着・転移してＸ線リソグラフイー用マスク
   を作成する方法において、前記保持体の前記膜体
   との接着部位に溝を設けて膜体接着用剤の流動を
   制御することを特徴とするＸ線リソグラフイー用
   マスクの作成方法。