JPH0531574B2 - - Google Patents
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- JPH0531574B2 JPH0531574B2 JP59083262A JP8326284A JPH0531574B2 JP H0531574 B2 JPH0531574 B2 JP H0531574B2 JP 59083262 A JP59083262 A JP 59083262A JP 8326284 A JP8326284 A JP 8326284A JP H0531574 B2 JPH0531574 B2 JP H0531574B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- aromatic
- acid chloride
- aminophenylthio
- polyamide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Polyamides (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、チオエーテル結合を有する芳香族ポ
リアミドに関するものである。本発明の芳香族ポ
リアミドは、耐熱性および成形性に優れ、繊維、
フイルム、塗膜素材として有用である。
リアミドに関するものである。本発明の芳香族ポ
リアミドは、耐熱性および成形性に優れ、繊維、
フイルム、塗膜素材として有用である。
芳香族ジアミンと芳香族ジカルボン酸またはそ
のクロライドより合成される芳香族ポリアミド樹
脂は、その優れた耐熱性および難燃性に着目さ
れ、活発な研究開発がなされている。しかし、芳
香族ポリアミドは、一般に融点が高く、空気中で
は熱分解開始温度以上の融点を有するものが多
く、射出成形や押出成形が困難である。また、通
常の有機溶剤に対する溶解性が悪く、繊維、フイ
ルムあるいは塗膜などを形成する場合極めて不都
合である。従つて、共重合体として融点を下げる
か、あるいは溶剤に溶解させることにより、加工
性を改良している。
のクロライドより合成される芳香族ポリアミド樹
脂は、その優れた耐熱性および難燃性に着目さ
れ、活発な研究開発がなされている。しかし、芳
香族ポリアミドは、一般に融点が高く、空気中で
は熱分解開始温度以上の融点を有するものが多
く、射出成形や押出成形が困難である。また、通
常の有機溶剤に対する溶解性が悪く、繊維、フイ
ルムあるいは塗膜などを形成する場合極めて不都
合である。従つて、共重合体として融点を下げる
か、あるいは溶剤に溶解させることにより、加工
性を改良している。
このような、加工性を改良した芳香族ポリアミ
ドとしては、(a)脂肪族成分を共重合する方法(特
開昭52−109592、特開昭53−94397号公報)、(b)主
鎖に連結性官能基を導入したり、屈曲性を持たせ
る方法(米国特許第3505288号明細書、特開昭52
−23198、特開昭53−104695号公報)、(c)芳香族成
分をランダム共重合する方法(特開昭53−104697
号、特開昭56−88427号公報、米国特許第4410684
号明細書)等が知られている。しかし、これら技
術で得られるポリアミドは、加工性と耐熱性のバ
ランスの面で充分とは言い難い。
ドとしては、(a)脂肪族成分を共重合する方法(特
開昭52−109592、特開昭53−94397号公報)、(b)主
鎖に連結性官能基を導入したり、屈曲性を持たせ
る方法(米国特許第3505288号明細書、特開昭52
−23198、特開昭53−104695号公報)、(c)芳香族成
分をランダム共重合する方法(特開昭53−104697
号、特開昭56−88427号公報、米国特許第4410684
号明細書)等が知られている。しかし、これら技
術で得られるポリアミドは、加工性と耐熱性のバ
ランスの面で充分とは言い難い。
本発明は、成形加工性と耐熱性のバランスのと
れたチオエーテル結合を有する芳香族ポリアミド
を提供するものである。
れたチオエーテル結合を有する芳香族ポリアミド
を提供するものである。
即ち、本発明は、0.2%N−メチルピロリドン
溶液、0.5%ジメチルスルホキシド溶液、または
0.3%キノリン溶液中、30℃で測定した固有粘度
が0.4〜1.5dl/gの高分子化合物である次の繰返
し単位を有する芳香族ポリチオエーテルアミド重
合体を提供するものである。
溶液、0.5%ジメチルスルホキシド溶液、または
0.3%キノリン溶液中、30℃で測定した固有粘度
が0.4〜1.5dl/gの高分子化合物である次の繰返
し単位を有する芳香族ポリチオエーテルアミド重
合体を提供するものである。
〔式中、Xは−O−、−SO2−または−CO−を
示す。aは0または1であり、aが0のときに
は、Xはなしに芳香族環が互いに結合をしている
ことを表わす。Arは炭素数6〜30の芳香族環で
ある。〕 〔芳香族ジアミン〕 本発明のポリアミドは、下記一般式()で示
されるチオエーテル結合を有する芳香族ジアミン
を必須成分として用い、これと芳香族ジカルボン
酸クロライドとを反応させることにより得られ
る。
示す。aは0または1であり、aが0のときに
は、Xはなしに芳香族環が互いに結合をしている
ことを表わす。Arは炭素数6〜30の芳香族環で
ある。〕 〔芳香族ジアミン〕 本発明のポリアミドは、下記一般式()で示
されるチオエーテル結合を有する芳香族ジアミン
を必須成分として用い、これと芳香族ジカルボン
酸クロライドとを反応させることにより得られ
る。
〔式中、Xは−O−、−SO2−または−CO−を
示す。aは0または1であり、aが0のときに
は、Xはなしに芳香族環が互いに結合をしている
ことを表わす。〕 一般式()で示されるチオエーテル結合を有
する芳香族ジアミンとしては、2,2−ビス(4
−(4−アミノフエニルチオ)フエニル)プロパ
ン、4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジ
フエニルエーテル、4,4′−ビス(4−アミノフ
エニルチオ)ベンゾフエノン、4,4′−ビス(4
−アミノフエニルチオ)ジフエニルスルホン、
3,3′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジフエ
ニルスルホン、4,4′−ビス(4−アミノフエニ
ルチオ)ビフエニル等を挙げることができる。
示す。aは0または1であり、aが0のときに
は、Xはなしに芳香族環が互いに結合をしている
ことを表わす。〕 一般式()で示されるチオエーテル結合を有
する芳香族ジアミンとしては、2,2−ビス(4
−(4−アミノフエニルチオ)フエニル)プロパ
ン、4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジ
フエニルエーテル、4,4′−ビス(4−アミノフ
エニルチオ)ベンゾフエノン、4,4′−ビス(4
−アミノフエニルチオ)ジフエニルスルホン、
3,3′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジフエ
ニルスルホン、4,4′−ビス(4−アミノフエニ
ルチオ)ビフエニル等を挙げることができる。
これら芳香族ジアミンの一部(50モル%以下、
好ましくは5〜30モル%)を一般式() で示される芳香族ジアミンまたは、一般式()
で示される芳香族ジアミン H2N−Ar′−NH2 () に置きかえることにより、得られる芳香族ポリア
ミドの溶解性、成形性を向上させることができ
る。〔式中、dは0〜20の間の数を示す。また
Ar′は炭素数6〜30の芳香族環である。〕。
好ましくは5〜30モル%)を一般式() で示される芳香族ジアミンまたは、一般式()
で示される芳香族ジアミン H2N−Ar′−NH2 () に置きかえることにより、得られる芳香族ポリア
ミドの溶解性、成形性を向上させることができ
る。〔式中、dは0〜20の間の数を示す。また
Ar′は炭素数6〜30の芳香族環である。〕。
上記式()で示されるチオエーテル結合を有
する芳香族ジアミンとしては、4,4′−ビス(4
−アミノフエニルチオ)ジフエニルスルフイド、
1,4−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゼ
ン、1,3−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベ
ンゼン、α,ω−ジアミノポリ(1,4−フエニ
レン)オリゴマー等が挙げられる。
する芳香族ジアミンとしては、4,4′−ビス(4
−アミノフエニルチオ)ジフエニルスルフイド、
1,4−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゼ
ン、1,3−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベ
ンゼン、α,ω−ジアミノポリ(1,4−フエニ
レン)オリゴマー等が挙げられる。
また、式()で示される芳香族ジアミンとし
ては、p−フエニレンジアミン、m−フエニレン
ジアミン、4−メチル−1,3−フエニレンジア
ミン、5−メチル−1,3−フエニレンジアミ
ン、4,4′−ジアミノビフエニル、4,4′−ジア
ミノジフエニルエーテル、4,4′−ジアミノジフ
エニルスルフイド、4,4′−ジアミノベンゾフエ
ノン、4,4′−ジアミノジフエニルスルホキシ
ド、4,4′−ジアミノジフエニルスルホン、4,
4′−ジアミノジフエニルメタン、2,2−ビス
(4−アミノフエニル)プロパン、1,4−ビス
(4−アミノフエノキシ)ベンゼン、1,4−ビ
ス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−
ビス(4−アミノベンゼンスルホニル)ベンゼ
ン、4,4′−ビス(4−アミノフエノキシ)ジフ
エニルエーテル、4,4′−ビス(4−アミノフエ
ノキシ)ジフエニルスルフイド、4,4′−ビス
(4−アミノフエノキシ)ベンゾフエノン、4,
4′−ビス(4−アミノフエノキシ)ジフエニルス
ルホン、4,4′−ビス(4−アミノフエノキシ)
ジフエニルメタン、2,2−ビス(4−(4−ア
ミノフエノキシ)フエニル)プロパン、4,4′−
ビス(4−アミノベンゾイル)ジフエニルエーテ
ル、4,4′−ビス(4−アミノベンゾイル)ベン
ゾフエノン、4,4′−ビス(4−アミノベンゾイ
ル)ジフエニルスルホキシド、4,4′−ビス(4
−アミノベンゾイル)ジフエニルスルホン、4,
4′−ビス(4−アミノベンゾイル)ジフエニルメ
タン、2,2−ビス(4−(4−アミノベンゾイ
ル)フエニル)プロパン、4,4′−ビス(4−ア
ミノベンゼンスルホニル)ジフエニルエーテル、
4,4′−ビス(4−アミノベンゼンスルホニル)
ジフエニルスルフイド、4,4′−ビス(4−アミ
ノベンゼンスルホニル)ベンゾフエノン、4,
4′−ビス(4−アミノベンゼンスルホニル)ジフ
エニルスルホキシド、4,4′−ビス(4−アミノ
ベンゼンスルホニル)ジフエニルスルホン、4,
4′−ビス(4−アミノベンゼンスルホニル)ジフ
エニルメタン、2,2−ビス〔4−(4−アミノ
ベンゼンスルホニル)フエニル〕プロパン等を挙
げることができる。
ては、p−フエニレンジアミン、m−フエニレン
ジアミン、4−メチル−1,3−フエニレンジア
ミン、5−メチル−1,3−フエニレンジアミ
ン、4,4′−ジアミノビフエニル、4,4′−ジア
ミノジフエニルエーテル、4,4′−ジアミノジフ
エニルスルフイド、4,4′−ジアミノベンゾフエ
ノン、4,4′−ジアミノジフエニルスルホキシ
ド、4,4′−ジアミノジフエニルスルホン、4,
4′−ジアミノジフエニルメタン、2,2−ビス
(4−アミノフエニル)プロパン、1,4−ビス
(4−アミノフエノキシ)ベンゼン、1,4−ビ
ス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−
ビス(4−アミノベンゼンスルホニル)ベンゼ
ン、4,4′−ビス(4−アミノフエノキシ)ジフ
エニルエーテル、4,4′−ビス(4−アミノフエ
ノキシ)ジフエニルスルフイド、4,4′−ビス
(4−アミノフエノキシ)ベンゾフエノン、4,
4′−ビス(4−アミノフエノキシ)ジフエニルス
ルホン、4,4′−ビス(4−アミノフエノキシ)
ジフエニルメタン、2,2−ビス(4−(4−ア
ミノフエノキシ)フエニル)プロパン、4,4′−
ビス(4−アミノベンゾイル)ジフエニルエーテ
ル、4,4′−ビス(4−アミノベンゾイル)ベン
ゾフエノン、4,4′−ビス(4−アミノベンゾイ
ル)ジフエニルスルホキシド、4,4′−ビス(4
−アミノベンゾイル)ジフエニルスルホン、4,
4′−ビス(4−アミノベンゾイル)ジフエニルメ
タン、2,2−ビス(4−(4−アミノベンゾイ
ル)フエニル)プロパン、4,4′−ビス(4−ア
ミノベンゼンスルホニル)ジフエニルエーテル、
4,4′−ビス(4−アミノベンゼンスルホニル)
ジフエニルスルフイド、4,4′−ビス(4−アミ
ノベンゼンスルホニル)ベンゾフエノン、4,
4′−ビス(4−アミノベンゼンスルホニル)ジフ
エニルスルホキシド、4,4′−ビス(4−アミノ
ベンゼンスルホニル)ジフエニルスルホン、4,
4′−ビス(4−アミノベンゼンスルホニル)ジフ
エニルメタン、2,2−ビス〔4−(4−アミノ
ベンゼンスルホニル)フエニル〕プロパン等を挙
げることができる。
芳香族ジカルボン酸クロライドとしては、例え
ばテレフタル酸クロライド、イソフタル酸クロラ
イド、4,4′−ビフエニルジカルボン酸クロライ
ド、4,4′−ジフエニルエーテルジカルボン酸ク
ロライド、4,4′−ジフエニルスルフイドジカル
ボン酸クロライド、4,4′−ベンゾフエノンジカ
ルボン酸クロライド、4,4′−ジフエニルスルホ
ンジカルボン酸クロライド、4,4′−ジフエニル
メタンジカルボン酸クロライド、1,5−ナフタ
リンジカルボン酸クロライド等を挙げることがで
きる。
ばテレフタル酸クロライド、イソフタル酸クロラ
イド、4,4′−ビフエニルジカルボン酸クロライ
ド、4,4′−ジフエニルエーテルジカルボン酸ク
ロライド、4,4′−ジフエニルスルフイドジカル
ボン酸クロライド、4,4′−ベンゾフエノンジカ
ルボン酸クロライド、4,4′−ジフエニルスルホ
ンジカルボン酸クロライド、4,4′−ジフエニル
メタンジカルボン酸クロライド、1,5−ナフタ
リンジカルボン酸クロライド等を挙げることがで
きる。
芳香族ジアミンと芳香族ジカルボン酸クロライ
ドとの反応に際して、既に公知の方法をそのまま
採用することができる。例えば、界面重縮合法、
溶液重縮合法等によつて達成することができる。
ドとの反応に際して、既に公知の方法をそのまま
採用することができる。例えば、界面重縮合法、
溶液重縮合法等によつて達成することができる。
界面重縮合法に関しては、公知の水溶性中和剤
が使用される。例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム等の無機アルカリを挙げること
ができる。アルカリの使用量は芳香族ジカルボン
酸クロライドの反応基のモル数に対して0.3〜3
当量の範囲であり、好ましくは0.5〜1.5当量であ
る。
が使用される。例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム等の無機アルカリを挙げること
ができる。アルカリの使用量は芳香族ジカルボン
酸クロライドの反応基のモル数に対して0.3〜3
当量の範囲であり、好ましくは0.5〜1.5当量であ
る。
上記の水溶性中和剤を含む水溶液に芳香族ジア
ミンを分散させ、これに芳香族ジカルボン酸クロ
ライドを有機溶媒に溶かした溶液を加えて反応さ
せることにより芳香族ポリチオエーテルアミドを
製造することができる。
ミンを分散させ、これに芳香族ジカルボン酸クロ
ライドを有機溶媒に溶かした溶液を加えて反応さ
せることにより芳香族ポリチオエーテルアミドを
製造することができる。
上記有機溶媒としては、シクロヘキサノン、ジ
イソブチルケトン、アセトフエノン、p−メチル
アセトフエノン等のケトン系溶媒または塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、1,1,1−
トリクロルエタン、1,1,2,2−テトラクロ
ルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒を挙げる
ことができる。高分子量体を得るためにはシクロ
ヘキサノン、p−メチルアセトフエノン等が好ま
しい。又、反応温度は0〜100℃、好ましくは3
〜50℃の範囲である。
イソブチルケトン、アセトフエノン、p−メチル
アセトフエノン等のケトン系溶媒または塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、1,1,1−
トリクロルエタン、1,1,2,2−テトラクロ
ルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒を挙げる
ことができる。高分子量体を得るためにはシクロ
ヘキサノン、p−メチルアセトフエノン等が好ま
しい。又、反応温度は0〜100℃、好ましくは3
〜50℃の範囲である。
反応時間は1分〜10時間、好ましくは5分〜3
時間の範囲である。
時間の範囲である。
溶液重縮合法の場合には、公知の三級アミンを
中和剤として使用する場合がある。例えばトリエ
チルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、キノ
リン、ピリミジン2,6−ルチジン等を挙げるこ
とができる。但し、これらの化合物は、有機酸ア
ミドを反応溶媒として用いる場合には、必ずしも
添加する必要はない。中和剤を使用する場合、そ
の使用量は芳香族ジカルボン酸クロリドの反応基
のモル数に対して、0.3〜3.0当量用いることが好
ましい。一方、反応溶媒としては有機酸アミド、
有機スルホキシドが好ましい。例えば、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、N−メチルピロリドン、N−メチル−ε
−カプロラクタム、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド等
を挙げることができる。
中和剤として使用する場合がある。例えばトリエ
チルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、キノ
リン、ピリミジン2,6−ルチジン等を挙げるこ
とができる。但し、これらの化合物は、有機酸ア
ミドを反応溶媒として用いる場合には、必ずしも
添加する必要はない。中和剤を使用する場合、そ
の使用量は芳香族ジカルボン酸クロリドの反応基
のモル数に対して、0.3〜3.0当量用いることが好
ましい。一方、反応溶媒としては有機酸アミド、
有機スルホキシドが好ましい。例えば、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、N−メチルピロリドン、N−メチル−ε
−カプロラクタム、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド等
を挙げることができる。
芳香族ジアミンを上記の反応溶媒に溶かし、必
要な場合には中和剤を加え、この溶液中に、芳香
族ジカルボン酸クロライドを加えて反応させるこ
とにより、本発明のポリアミドを製造することが
できる。
要な場合には中和剤を加え、この溶液中に、芳香
族ジカルボン酸クロライドを加えて反応させるこ
とにより、本発明のポリアミドを製造することが
できる。
ポリアミドの製造の際、5〜10重量%の塩化リ
チウム、塩化カルシウム、ロダンカルシウム等を
反応系に加えて合成すると著しく溶解性が増し好
都合な場合がある。この場合の反応温度は−30〜
+100℃、好まくは−20℃〜+30℃の範囲である。
反応時間は5分〜10時間、好ましくは30分〜5時
間の範囲である。
チウム、塩化カルシウム、ロダンカルシウム等を
反応系に加えて合成すると著しく溶解性が増し好
都合な場合がある。この場合の反応温度は−30〜
+100℃、好まくは−20℃〜+30℃の範囲である。
反応時間は5分〜10時間、好ましくは30分〜5時
間の範囲である。
本発明のポリアミドは、芳香族ジアミンと芳香
族ジカルボン酸とを重縮合、例えば、公知の直接
重縮合法をそのまま採用することによつて製造す
ることもできる。
族ジカルボン酸とを重縮合、例えば、公知の直接
重縮合法をそのまま採用することによつて製造す
ることもできる。
具体的には、芳香族ジアミンと芳香族ジカルボ
ン酸とを、有機酸アミドまたは有機スルホキシド
に溶解し、これに縮合剤として三級アミン等を加
えて反応させる。この溶媒としては、例えばN,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン、N−メチル
−ε−カプロラクタム、ヘキサメチルホスホルア
ミド、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド
等を挙げることができる。縮合剤としては、トリ
フエニルホスフアイト等のリン系縮合剤が好まし
い。三級アミンとしては例えば、ピリジン、キノ
リン、ピリミジン、2,6−ルチジン、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン等を挙げることがで
きる。縮合剤は、芳香族ジカルボン酸の反応基の
モル数に対し1〜2当量用いることが望ましい。
三級アミンは過剰に用いてかまわない。さらに、
必要に応じて1〜10重量%の塩化リチウム、塩化
カルシウム、ロダンカルシウム等を加えて合成す
ると好都合な場合がある。又、反応温度は0〜
200℃、反応時間は30分〜20時間の範囲である。
ン酸とを、有機酸アミドまたは有機スルホキシド
に溶解し、これに縮合剤として三級アミン等を加
えて反応させる。この溶媒としては、例えばN,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、N−メチルピロリドン、N−メチル
−ε−カプロラクタム、ヘキサメチルホスホルア
ミド、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド
等を挙げることができる。縮合剤としては、トリ
フエニルホスフアイト等のリン系縮合剤が好まし
い。三級アミンとしては例えば、ピリジン、キノ
リン、ピリミジン、2,6−ルチジン、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン等を挙げることがで
きる。縮合剤は、芳香族ジカルボン酸の反応基の
モル数に対し1〜2当量用いることが望ましい。
三級アミンは過剰に用いてかまわない。さらに、
必要に応じて1〜10重量%の塩化リチウム、塩化
カルシウム、ロダンカルシウム等を加えて合成す
ると好都合な場合がある。又、反応温度は0〜
200℃、反応時間は30分〜20時間の範囲である。
以上示したいずれかの方法により製造された芳
香族ポリチオエーテルアミド重合体を含む溶液
を、ポリマーを溶解せず、かつ反応溶剤と相溶し
やすい溶剤で希釈して、重合体を沈澱させ、これ
を濾取することによりポリアミが単離される。
香族ポリチオエーテルアミド重合体を含む溶液
を、ポリマーを溶解せず、かつ反応溶剤と相溶し
やすい溶剤で希釈して、重合体を沈澱させ、これ
を濾取することによりポリアミが単離される。
このようにして製造されたポリアミドは、次の
繰返し単位を必須の構成として有する芳香族ポリ
チオエーテルアミド重合体である。
繰返し単位を必須の構成として有する芳香族ポリ
チオエーテルアミド重合体である。
〔式中、Xは−O−、−SO2−または−CO−を
示す。aは0または1であり、aが0のときに
は、Xはなしに芳香族環が互いに結合をしている
ことを表わす。Arは炭素数6〜30の芳香族環で
ある。〕 このようにして得られたポリアミドのガラス転
位温度は、ホモ重合体は約150〜280℃、共重合体
のそれは約200〜350℃である。
示す。aは0または1であり、aが0のときに
は、Xはなしに芳香族環が互いに結合をしている
ことを表わす。Arは炭素数6〜30の芳香族環で
ある。〕 このようにして得られたポリアミドのガラス転
位温度は、ホモ重合体は約150〜280℃、共重合体
のそれは約200〜350℃である。
本発明の重合体を成形加工する際は、公知の
種々の充填剤成分を含むことができる。充填剤成
分の代表的な例としては、(a)繊維状充填剤:ガラ
ス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、アラミツド繊
維、アルミナ繊維、シリコン=カーバイト繊維
等、(b)無機物充填剤:マイカ、タルク、クレイ、
グラフアイト、カーボンブラツク、シリカ、アス
ベスト、硫化モリブデン、酸化マグネシウム、酸
化カルシウム等、を挙げることができる。
種々の充填剤成分を含むことができる。充填剤成
分の代表的な例としては、(a)繊維状充填剤:ガラ
ス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、アラミツド繊
維、アルミナ繊維、シリコン=カーバイト繊維
等、(b)無機物充填剤:マイカ、タルク、クレイ、
グラフアイト、カーボンブラツク、シリカ、アス
ベスト、硫化モリブデン、酸化マグネシウム、酸
化カルシウム等、を挙げることができる。
本発明のポリアミドは、電気、電子分野の各種
部品、ハウジング類、自動車部品、航空機用内装
材、摺動部品、ギアー、絶縁材料、耐熱フイル
ム、耐熱ワニス、耐熱繊維、等広範な範囲で用い
ることが可能である。
部品、ハウジング類、自動車部品、航空機用内装
材、摺動部品、ギアー、絶縁材料、耐熱フイル
ム、耐熱ワニス、耐熱繊維、等広範な範囲で用い
ることが可能である。
次に、本発明を実施例によつて、更に具体的に
説明する。
説明する。
実施例 1
1リツトルの三ツ口フラスコ内に撹拌棒、温度
計および滴下ロートをセツトし、水酸化ナトリウ
ム2.0gを水40mlに溶かしてフラスコに入れた。
次に4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジ
フエニルスルホン5.80gと4,4′−ジアミノジフ
エニルエーテル2.50gを加え、5℃ではげしく撹
拌し、水溶液中に分散させた。
計および滴下ロートをセツトし、水酸化ナトリウ
ム2.0gを水40mlに溶かしてフラスコに入れた。
次に4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジ
フエニルスルホン5.80gと4,4′−ジアミノジフ
エニルエーテル2.50gを加え、5℃ではげしく撹
拌し、水溶液中に分散させた。
一方、テレフタル酸クロライド2.54gとイソフ
タル酸クロライド2.54gをシクロヘキサノン120
mlに溶解し、この酸クラロイド溶液を滴下ロート
からフラスコ内に注ぎこんだ。この際、反応温度
を15℃以下に保つた。20分後、反応溶液中に、水
100mlとシクロヘキサノン80mlを加え、次いで、
アセトン200mlを注ぎこみ、ポリマーを沈殿させ
た。
タル酸クロライド2.54gをシクロヘキサノン120
mlに溶解し、この酸クラロイド溶液を滴下ロート
からフラスコ内に注ぎこんだ。この際、反応温度
を15℃以下に保つた。20分後、反応溶液中に、水
100mlとシクロヘキサノン80mlを加え、次いで、
アセトン200mlを注ぎこみ、ポリマーを沈殿させ
た。
ポリマーを濾別し、熱水洗浄し、その後真空炉
で乾燥した(100℃、8時間)。収量11.6g(収率
100%)。このポリマーのガラス転移温度は208℃
であつた。また固有粘度は0.89dl/g(0.5%
DMSO溶液、30℃)であつた。
で乾燥した(100℃、8時間)。収量11.6g(収率
100%)。このポリマーのガラス転移温度は208℃
であつた。また固有粘度は0.89dl/g(0.5%
DMSO溶液、30℃)であつた。
このポリマーの赤外線吸収スペクトルを測定し
たところ、1640、1515cm-1にアミドに由来するる
吸収、1240cm-1にエーテルに由来する吸収、1145
cm-1にスルホンに由来する吸収、1070cm-1にチオ
エーテルに由来する吸収、805cm-1に芳香環に由
来する吸収が見られた。
たところ、1640、1515cm-1にアミドに由来するる
吸収、1240cm-1にエーテルに由来する吸収、1145
cm-1にスルホンに由来する吸収、1070cm-1にチオ
エーテルに由来する吸収、805cm-1に芳香環に由
来する吸収が見られた。
実施例 2
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様な方
法で製造を行なつた。
法で製造を行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ビフエ
ニル 10.0g テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml ポリマー収量13.2g(100%)。ガラス転移温度
250℃。固有粘度0.45dl/g(0.2%NMP溶液、
30℃)。
ニル 10.0g テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml ポリマー収量13.2g(100%)。ガラス転移温度
250℃。固有粘度0.45dl/g(0.2%NMP溶液、
30℃)。
IRスペクトル(第1図):1640、1520cm-1(ア
ミド)、1080cm-1(チオエーテル)、805cm-1(芳香
環)。
ミド)、1080cm-1(チオエーテル)、805cm-1(芳香
環)。
実施例 3
500mlの三ツ口フラスコ内に撹拌棒、温度計、
滴下ロートをセツトし、4,4′−ビス(4−アミ
ノフエニルチオ)ベンゾフエノン10.7gを、乾燥
N−メチルピロリドン50mlに溶かし、フラスコに
入れた。−5℃で撹拌下、イソフタル酸クロライ
ド5.08gの乾燥N−メチルピロリドン50ml溶液を
滴下ロートからフラスコ内に注ぎこんだ。この
際、反応温度を0℃以下に保つた。0℃で2時間
撹拌を続け、その後、この反応溶液をアセトン中
に注ぎ込み、ポリマーを沈殿させた。
滴下ロートをセツトし、4,4′−ビス(4−アミ
ノフエニルチオ)ベンゾフエノン10.7gを、乾燥
N−メチルピロリドン50mlに溶かし、フラスコに
入れた。−5℃で撹拌下、イソフタル酸クロライ
ド5.08gの乾燥N−メチルピロリドン50ml溶液を
滴下ロートからフラスコ内に注ぎこんだ。この
際、反応温度を0℃以下に保つた。0℃で2時間
撹拌を続け、その後、この反応溶液をアセトン中
に注ぎ込み、ポリマーを沈殿させた。
ポリマーを濾別し、熱水洗浄し、その後真空炉
で乾燥した(100℃、8時間)。ポリマーの収量
14.0g(100%)。ガラス転移温度231℃、軟化点
310℃。固有粘度0.99dl/g(0.5%DMSO溶液、
30℃)。
で乾燥した(100℃、8時間)。ポリマーの収量
14.0g(100%)。ガラス転移温度231℃、軟化点
310℃。固有粘度0.99dl/g(0.5%DMSO溶液、
30℃)。
赤外線吸収IRスペクトル:1640、1512cm-1(ア
ミド)、1640cm-1(ケトン)、1070cm-1(チオエーテ
ル)、810cm-1(芳香環)。
ミド)、1640cm-1(ケトン)、1070cm-1(チオエーテ
ル)、810cm-1(芳香環)。
実施例 4
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様の方
法でポリアミドの製造を行なつた。
法でポリアミドの製造を行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゾ
フエノン 10.7g テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml ポリマー収量14.0g(100%)。ガラス転移温度
229℃、軟化点322℃。固有粘度0.45dl/g(0.5
%DMSO溶液、30℃)。
フエノン 10.7g テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml ポリマー収量14.0g(100%)。ガラス転移温度
229℃、軟化点322℃。固有粘度0.45dl/g(0.5
%DMSO溶液、30℃)。
固有粘度0.45dl/g(0.2%NMP溶液、30℃)。
IRスペクトル(図2):1645、1520cm-1(アミ
ド)、1645cm-1(ケトン)、1080cm-1(チオエーテ
ル)、825cm-1(芳香環)。
ド)、1645cm-1(ケトン)、1080cm-1(チオエーテ
ル)、825cm-1(芳香環)。
実施例 5
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様の装
置、方法で行なつた。
置、方法で行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゾ
フエノン 10.7g テレフタル酸クロライド 1.02g イソフタル酸クロライド 4.06g シクロヘキサノン 120ml 収量13.9g(99%)。ガラス転移温度227℃、軟
化点300℃。固有粘度0.88dl/g(0.5%DMSO溶
液、30℃)。
フエノン 10.7g テレフタル酸クロライド 1.02g イソフタル酸クロライド 4.06g シクロヘキサノン 120ml 収量13.9g(99%)。ガラス転移温度227℃、軟
化点300℃。固有粘度0.88dl/g(0.5%DMSO溶
液、30℃)。
IRスペクトル:1640、1510cm-1(アミド)、
1640cm-1(ケトン)、1070cm-1(チオエーテル)、
810cm-1(芳香環)。
1640cm-1(ケトン)、1070cm-1(チオエーテル)、
810cm-1(芳香環)。
この重合体を320℃で圧縮成形したところ、淡
黄色の強靭な樹脂板が得られた。
黄色の強靭な樹脂板が得られた。
実施例 6
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様の方
法でポリアミドの製造を行なつた。
法でポリアミドの製造を行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジフエ
ニルスルホン 1.16g イソフタル酸クロライド 5.08g シクロヘキサノン 120ml 収量14.7g(99%)。ガラス転移温度188℃、軟
化点262℃。固有粘度0.41dl/g(0.5%DMSO溶
液、30℃)。
ニルスルホン 1.16g イソフタル酸クロライド 5.08g シクロヘキサノン 120ml 収量14.7g(99%)。ガラス転移温度188℃、軟
化点262℃。固有粘度0.41dl/g(0.5%DMSO溶
液、30℃)。
IRスペクトル:1650、1510cm-1(アミド)、
1150cm-1(スルホン)、1070cm-1(チオエーテル)、
810cm-1(芳香環)。
1150cm-1(スルホン)、1070cm-1(チオエーテル)、
810cm-1(芳香環)。
実施例 7
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様の方
法でポリアミドの製造を行なつた。
法でポリアミドの製造を行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジフエ
ニルスルホン 11.6g テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン
120ml 収量14.9g(100%)。ガラス転移温度199
℃、軟化点284℃。固有粘度0.63dl/g(0.5%
DMSO溶液、30℃)。
ニルスルホン 11.6g テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン
120ml 収量14.9g(100%)。ガラス転移温度199
℃、軟化点284℃。固有粘度0.63dl/g(0.5%
DMSO溶液、30℃)。
IRスペクトル(図3):1640、1510cm-1(アミ
ド)、1150cm-1(スルホン)、1070cm-1(チオエーテ
ル)、815cm-1(芳香環)。
ド)、1150cm-1(スルホン)、1070cm-1(チオエーテ
ル)、815cm-1(芳香環)。
参考例 1
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様の方
法でポリアミドの製造を行なつた。
法でポリアミドの製造を行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジフエ
ニルスルホン 5.80g (50モル%) 4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゼ
ン 4.05g (50モル%) テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml 収量13.1g(100%)。ガラス転移温度243℃。
固有粘度0.54dl/g(0.5%DMSO溶液、30℃)。
ニルスルホン 5.80g (50モル%) 4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゼ
ン 4.05g (50モル%) テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml 収量13.1g(100%)。ガラス転移温度243℃。
固有粘度0.54dl/g(0.5%DMSO溶液、30℃)。
IRスペクトル:1640、1510cm-1(アミド)、
1145cm-1(スルホン)、1070cm-1(チオエーテル)、
805cm-1(芳香環)。
1145cm-1(スルホン)、1070cm-1(チオエーテル)、
805cm-1(芳香環)。
参考例 2
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様の方
法でポリアミドの製造を行なつた。
法でポリアミドの製造を行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジフエ
ニルスルホン 5.80g (50モル%) 4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジフエ
ニルスルフイド 5.40g (50モル%) テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml 収量14.5g(99%)。ガラス転移温度230℃。固
有粘度0.55dl/g(0.5%DMSO溶液、30℃)。
ニルスルホン 5.80g (50モル%) 4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ジフエ
ニルスルフイド 5.40g (50モル%) テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml 収量14.5g(99%)。ガラス転移温度230℃。固
有粘度0.55dl/g(0.5%DMSO溶液、30℃)。
IRスペクトル:1640、1510cm-1(アミド)、
1145cm-1(スルホン)、1070cm-1(チオエーテル)、
805cm-1(芳香環)。
1145cm-1(スルホン)、1070cm-1(チオエーテル)、
805cm-1(芳香環)。
参考例 3
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様の方
法でポリアミドの製造を行なつた。
法でポリアミドの製造を行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゾ
フエノン 5.35g (50モル%) 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル 2.50g (50モル%) テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml 収量11.2g(100%)。ガラス転移温度241℃。
固有粘度0.88dl/g(0.5%DMSO溶液、30℃)。
フエノン 5.35g (50モル%) 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル 2.50g (50モル%) テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml 収量11.2g(100%)。ガラス転移温度241℃。
固有粘度0.88dl/g(0.5%DMSO溶液、30℃)。
IRスペクトル:1640、1510cm-1(アミド)、
1640cm-1(ケトン)、1240cm-1(エーテル)、1070cm
-1(チオエーテル)、805cm-1(芳香環)。
1640cm-1(ケトン)、1240cm-1(エーテル)、1070cm
-1(チオエーテル)、805cm-1(芳香環)。
参考例 4
下記組成の原料を用いて、実施例1と同様の方
法でポリアミドの製造を行なつた。
法でポリアミドの製造を行なつた。
水酸化ナトリウム 2.0g
水 40ml
4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゾ
フエノン 5.35g (50モル%) 4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゼ
ン 4.05g (50モル%) テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml 収量12.7g(100%)。ガラス転移温度232℃。
固有粘度0.61dl/g(0.5%DMSO溶液、30℃)。
フエノン 5.35g (50モル%) 4,4′−ビス(4−アミノフエニルチオ)ベンゼ
ン 4.05g (50モル%) テレフタル酸クロライド 2.54g イソフタル酸クロライド 2.54g シクロヘキサノン 120ml 収量12.7g(100%)。ガラス転移温度232℃。
固有粘度0.61dl/g(0.5%DMSO溶液、30℃)。
この重合体を300℃で圧縮成形したところ、黄
土色の強靭な樹脂板が得られた。
土色の強靭な樹脂板が得られた。
IRスペクトル:1640、1510cm-1(アミド)、
1640cm-1(ケトン)、1070cm-1(チオエーテル)、
805cm-1(芳香環)。
1640cm-1(ケトン)、1070cm-1(チオエーテル)、
805cm-1(芳香環)。
第1図、第2図および第3図は、本発明の実施
例2、4および7で得られたポリアミドの赤外線
吸収スペクトル図である。
例2、4および7で得られたポリアミドの赤外線
吸収スペクトル図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 0.2%N−メチルピロリドン溶液、0.5%ジメ
チルスルホキシド溶液、または0.3%キノリン溶
液中、30℃で測定した固有粘度が0.4〜1.5dl/g
の高分子化合物である次の繰返し単位を有する芳
香族ポリチオエーテルアミド重合体 〔式中、Xは−O−、−SO2−または−CO−を
示す。aは0または1であり、aが0のときに
は、Xはなしに芳香族環が互いに結合をしている
ことを表わす。Arは炭素数6〜30の芳香族環で
ある。〕。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59083262A JPS60226527A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 芳香族ポリチオエ−テルアミド重合体 |
| US06/720,688 US4621134A (en) | 1984-04-25 | 1985-04-08 | Aromatic polythioetheramide |
| DE8585302934T DE3567890D1 (en) | 1984-04-25 | 1985-04-25 | Aromatic polythioetheramides and process for their production |
| EP85302934A EP0162606B1 (en) | 1984-04-25 | 1985-04-25 | Aromatic polythioetheramides and process for their production |
| JP3298015A JPH0670135B2 (ja) | 1984-04-25 | 1991-10-18 | 芳香族ポリチオエーテルアミド重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59083262A JPS60226527A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 芳香族ポリチオエ−テルアミド重合体 |
| JP3298015A JPH0670135B2 (ja) | 1984-04-25 | 1991-10-18 | 芳香族ポリチオエーテルアミド重合体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3298015A Division JPH0670135B2 (ja) | 1984-04-25 | 1991-10-18 | 芳香族ポリチオエーテルアミド重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60226527A JPS60226527A (ja) | 1985-11-11 |
| JPH0531574B2 true JPH0531574B2 (ja) | 1993-05-12 |
Family
ID=26424314
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59083262A Granted JPS60226527A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 芳香族ポリチオエ−テルアミド重合体 |
| JP3298015A Expired - Lifetime JPH0670135B2 (ja) | 1984-04-25 | 1991-10-18 | 芳香族ポリチオエーテルアミド重合体の製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3298015A Expired - Lifetime JPH0670135B2 (ja) | 1984-04-25 | 1991-10-18 | 芳香族ポリチオエーテルアミド重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS60226527A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JPH0768349B2 (ja) * | 1986-10-30 | 1995-07-26 | 東ソー株式会社 | 芳香族スルフィドアミド重合体の製造方法 |
| JP2588713B2 (ja) * | 1987-04-28 | 1997-03-12 | 株式会社 サト− | 携帯式ラベル印字貼付装置 |
| JPH0832782B2 (ja) * | 1988-03-20 | 1996-03-29 | 新日本理化株式会社 | 芳香族ポリアミド及びその樹脂組成物 |
| JP2011079944A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Dow Corning Toray Co Ltd | アラミドシリコーンポリマーの製造方法 |
| CN103965468A (zh) * | 2014-04-18 | 2014-08-06 | 四川大学 | 高含硫自阻燃半芳族聚酰胺及其制备方法和用途 |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP59083262A patent/JPS60226527A/ja active Granted
-
1991
- 1991-10-18 JP JP3298015A patent/JPH0670135B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60226527A (ja) | 1985-11-11 |
| JPH0641297A (ja) | 1994-02-15 |
| JPH0670135B2 (ja) | 1994-09-07 |
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