JPH05331696A - 鉄系電気めつき方法 - Google Patents
鉄系電気めつき方法Info
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- JPH05331696A JPH05331696A JP14034892A JP14034892A JPH05331696A JP H05331696 A JPH05331696 A JP H05331696A JP 14034892 A JP14034892 A JP 14034892A JP 14034892 A JP14034892 A JP 14034892A JP H05331696 A JPH05331696 A JP H05331696A
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- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 77
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 18
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 38
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 29
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 7
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- KFZAUHNPPZCSCR-UHFFFAOYSA-N iron zinc Chemical compound [Fe].[Zn] KFZAUHNPPZCSCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- DPTATFGPDCLUTF-UHFFFAOYSA-N phosphanylidyneiron Chemical compound [Fe]#P DPTATFGPDCLUTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
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Abstract
(57)【要約】
【目的】めつき浴中のFe2+イオンの通電酸化を抑制す
ることができる鉄系電気めつき方法を提供するにある。 【構成】導電性基体上に酸化イリジウム系の被覆層を設
けてなる電極を不溶性陽極として用いると共に、陽極電
流密度を50A/dm2 以上とすることによつて、めつ
き浴中のFe2+イオンの通電酸化を抑制する。
ることができる鉄系電気めつき方法を提供するにある。 【構成】導電性基体上に酸化イリジウム系の被覆層を設
けてなる電極を不溶性陽極として用いると共に、陽極電
流密度を50A/dm2 以上とすることによつて、めつ
き浴中のFe2+イオンの通電酸化を抑制する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は鉄系電気めつき方法に関
し、詳しくは、めつき浴中のFe2+イオンの通電酸化を
抑制することができる鉄系電気めつき方法に関する。
し、詳しくは、めつき浴中のFe2+イオンの通電酸化を
抑制することができる鉄系電気めつき方法に関する。
【0002】
【産業上の利用分野】例えば従来の鉛系の不溶性陽極を
用いる鉄系電気めつきにおいては、めつき浴中のFe2+
イオンが陽極反応の一つであるFe2+→Fe3++e- な
る反応によつて通電酸化されて、めつき浴中に次第にF
e3+が増加する。このように、めつき浴中にFe3+イオ
ンが増加すると、めつき電流効率及びめつき品質が低下
し、作業性を著しく損なう。
用いる鉄系電気めつきにおいては、めつき浴中のFe2+
イオンが陽極反応の一つであるFe2+→Fe3++e- な
る反応によつて通電酸化されて、めつき浴中に次第にF
e3+が増加する。このように、めつき浴中にFe3+イオ
ンが増加すると、めつき電流効率及びめつき品質が低下
し、作業性を著しく損なう。
【0003】従来の鉄系電気めつき方法においても、め
つき浴中のFe3+イオンは、Fe2+イオンの供給のため
に、金属鉄を溶解させる際に一部還元されて、減少す
る。しかし、従来の鉄系電気めつき方法においては、上
述したようなFe3+イオンの通電酸化量が多いために、
Fe3+イオン濃度を低下させるためには、金属鉄を過剰
に溶解させなければならず、Fe2+及びFe3+イオン濃
度の制御が容易でなく、また、コスト的にも不利であ
る。
つき浴中のFe3+イオンは、Fe2+イオンの供給のため
に、金属鉄を溶解させる際に一部還元されて、減少す
る。しかし、従来の鉄系電気めつき方法においては、上
述したようなFe3+イオンの通電酸化量が多いために、
Fe3+イオン濃度を低下させるためには、金属鉄を過剰
に溶解させなければならず、Fe2+及びFe3+イオン濃
度の制御が容易でなく、また、コスト的にも不利であ
る。
【0004】安定した鉄系電気めつきを行なうために
は、Fe3+イオンを低濃度に、また、Fe2+イオン濃度
を一定の濃度範囲に管理しなければならないが、そのた
めには、Fe2+イオンの通電酸化量を少なくする必要が
ある。
は、Fe3+イオンを低濃度に、また、Fe2+イオン濃度
を一定の濃度範囲に管理しなければならないが、そのた
めには、Fe2+イオンの通電酸化量を少なくする必要が
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した鉄
系電気めつきにおける従来の問題を解決するためになさ
れたものであつて、めつき浴中のFe2+イオンの通電酸
化を抑制した鉄系電気めつき方法を提供することを目的
とする。
系電気めつきにおける従来の問題を解決するためになさ
れたものであつて、めつき浴中のFe2+イオンの通電酸
化を抑制した鉄系電気めつき方法を提供することを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による鉄系電気め
つき方法は、導電性基体上に酸化イリジウム系の被覆層
を設けてなる電極を不溶性陽極として用いると共に、陽
極電流密度を50A/dm2 以上とすることによつて、
めつき浴中のFe2+イオンの通電酸化を抑制することを
特徴とする。
つき方法は、導電性基体上に酸化イリジウム系の被覆層
を設けてなる電極を不溶性陽極として用いると共に、陽
極電流密度を50A/dm2 以上とすることによつて、
めつき浴中のFe2+イオンの通電酸化を抑制することを
特徴とする。
【0007】本発明においては、不溶性陽極として、導
電性基体上に酸化イリジウム系の被覆層を設けてなる電
極を用いる。導電性基体としては、例えば、チタン、タ
ンタル、ジルコニウム、ニオブ等の金属又はこれらから
選ばれる2種以上の金属の合金が用いられる。また、酸
化イリジウム系の被覆層としては、酸化イリジウムのみ
からなる被覆層でもよいが、酸化イリジウムに白金、タ
ンタル、ルテニウム、パラジウム、チタン、コバルト等
の金属又は化合物の1種又は2種以上を適量添加してな
るものであつてもよい。このような酸化イリジウム系の
被覆層(以下、酸化イリジウム電極という。)の形状
は、板状、メツシユ状、穿孔板状等、いずれでもよい。
電性基体上に酸化イリジウム系の被覆層を設けてなる電
極を用いる。導電性基体としては、例えば、チタン、タ
ンタル、ジルコニウム、ニオブ等の金属又はこれらから
選ばれる2種以上の金属の合金が用いられる。また、酸
化イリジウム系の被覆層としては、酸化イリジウムのみ
からなる被覆層でもよいが、酸化イリジウムに白金、タ
ンタル、ルテニウム、パラジウム、チタン、コバルト等
の金属又は化合物の1種又は2種以上を適量添加してな
るものであつてもよい。このような酸化イリジウム系の
被覆層(以下、酸化イリジウム電極という。)の形状
は、板状、メツシユ状、穿孔板状等、いずれでもよい。
【0008】図1に鉄−亜鉛めつき時の浴中のFe3+イ
オン濃度の時間的変化を示す。めつき条件は次のとおり
である。 FeSO4・7H2O: 400g/l ZnSO4・7H2O: 10g/l H2SO4 : 10g/l 陽極電流密度 : 70A/dm2 不溶性電極として、従来の鉛系合金を用いた場合と、本
発明に従つて、酸化イリジウム電極を用いた場合とを比
較すれば、めつき時のFe3+イオン濃度変化に明らかに
差異がある。即ち、本発明に従つて、酸化イリジウム電
極を用いることによつて、浴中のFe3+イオン濃度の増
加が抑制されている。
オン濃度の時間的変化を示す。めつき条件は次のとおり
である。 FeSO4・7H2O: 400g/l ZnSO4・7H2O: 10g/l H2SO4 : 10g/l 陽極電流密度 : 70A/dm2 不溶性電極として、従来の鉛系合金を用いた場合と、本
発明に従つて、酸化イリジウム電極を用いた場合とを比
較すれば、めつき時のFe3+イオン濃度変化に明らかに
差異がある。即ち、本発明に従つて、酸化イリジウム電
極を用いることによつて、浴中のFe3+イオン濃度の増
加が抑制されている。
【0009】図2にFe2+イオンの通電酸化率を示す。
めつき条件は次のとおりである。 FeSO4・7H2O: 400g/l ZnSO4・7H2O: 10g/l H2SO4 : 10g/l Fe3+ :6000ppm 陽極電流密度 : 70A/dm2 また、Fe2+イオンの通電酸化率は、1×104 クーロ
ンの電気量にて5.79gのFe3+イオンが生成する場合
を100%とした。
めつき条件は次のとおりである。 FeSO4・7H2O: 400g/l ZnSO4・7H2O: 10g/l H2SO4 : 10g/l Fe3+ :6000ppm 陽極電流密度 : 70A/dm2 また、Fe2+イオンの通電酸化率は、1×104 クーロ
ンの電気量にて5.79gのFe3+イオンが生成する場合
を100%とした。
【0010】Fe2+イオンの通電酸化率は、陽極とし
て、従来の鉛系合金を用いる場合、75%であるのに対
して、本発明に従つて、酸化イリジウム電極を用いた場
合、60%である。このように、陽極として、酸化イリ
ジウム電極を用いることによつて、Fe2+イオンの通電
酸化率が低くなる理由は、必ずしも明らかではないが、
不溶性電極を用いた鉄系電気めつきの陽極反応には、 Fe2+→Fe3++e- … (1) H2O→2H+ +(1/2)O2 +2e- … (2) の二つがあり、これらが相互に競合しているところ、陽
極に酸化イリジウム電極を用いた場合には、上記のう
ち、(2) の反応が起こりやすいのがその理由であろう。
事実、純亜鉛めつき液中における酸化イリジウム電極上
の酸素発生電位は、図3に示すように、鉛系合金電極上
のそれよりもかなり低い。即ち、酸化イリジウム電極上
では、低い過電圧にて上記(2) の反応が起こるために、
鉄系電気めつきにおいては、相対的に(1) の反応が少な
くなるものと考えられる。
て、従来の鉛系合金を用いる場合、75%であるのに対
して、本発明に従つて、酸化イリジウム電極を用いた場
合、60%である。このように、陽極として、酸化イリ
ジウム電極を用いることによつて、Fe2+イオンの通電
酸化率が低くなる理由は、必ずしも明らかではないが、
不溶性電極を用いた鉄系電気めつきの陽極反応には、 Fe2+→Fe3++e- … (1) H2O→2H+ +(1/2)O2 +2e- … (2) の二つがあり、これらが相互に競合しているところ、陽
極に酸化イリジウム電極を用いた場合には、上記のう
ち、(2) の反応が起こりやすいのがその理由であろう。
事実、純亜鉛めつき液中における酸化イリジウム電極上
の酸素発生電位は、図3に示すように、鉛系合金電極上
のそれよりもかなり低い。即ち、酸化イリジウム電極上
では、低い過電圧にて上記(2) の反応が起こるために、
鉄系電気めつきにおいては、相対的に(1) の反応が少な
くなるものと考えられる。
【0011】次に、図4にFe2+イオンの通電酸化率と
陽極電流密度との関係を示すように、陽極電流密度が5
0A/dm2 よりも小さいときは、陽極に酸化イリジウ
ム電極を用いても、Fe2+イオンの通電酸化率がかなり
高い。その理由としては、前述した陽極反応(1) 及び
(2) を比較すれば、(2) の方が反応電位が高いために、
低い陽極過電圧(即ち、低い陽極電流密度)の場合、陽
極電位が(2) の反応電位に達せず、(1) の反応のみが生
じる。たとえ、陽極電位が(2) の反応電位に達しても、
陽極過電圧(陽極電流密度)が低いときは、(1) の反応
が優先的に起こるのであろう。かくして、陽極電流密度
は高いのが好ましく、本発明によれば、陽極電流密度を
50A/dm2 以上とすることによつて、Fe2+イオン
の通電酸化率を低く抑えることができる。
陽極電流密度との関係を示すように、陽極電流密度が5
0A/dm2 よりも小さいときは、陽極に酸化イリジウ
ム電極を用いても、Fe2+イオンの通電酸化率がかなり
高い。その理由としては、前述した陽極反応(1) 及び
(2) を比較すれば、(2) の方が反応電位が高いために、
低い陽極過電圧(即ち、低い陽極電流密度)の場合、陽
極電位が(2) の反応電位に達せず、(1) の反応のみが生
じる。たとえ、陽極電位が(2) の反応電位に達しても、
陽極過電圧(陽極電流密度)が低いときは、(1) の反応
が優先的に起こるのであろう。かくして、陽極電流密度
は高いのが好ましく、本発明によれば、陽極電流密度を
50A/dm2 以上とすることによつて、Fe2+イオン
の通電酸化率を低く抑えることができる。
【0012】本発明において、鉄系電気めつき浴は、硫
酸浴とする。めつき層は、鉄系であれば、何ら限定され
るものではなく、例えば、鉄−亜鉛、鉄−リン、鉄−ニ
ツケル等を挙げることができる。
酸浴とする。めつき層は、鉄系であれば、何ら限定され
るものではなく、例えば、鉄−亜鉛、鉄−リン、鉄−ニ
ツケル等を挙げることができる。
【0013】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。陽極としてチタンに酸化イリジウム系被覆を施して
なる電極を用い、下記に示す組成を有するめつき浴中に
て、電流密度130A/dm2 、めつき流速1.2m/
秒、ストリツプ速度80m/分にて、鉄−亜鉛電気めつ
きを行なつた。めつき浴組成 FeSO4・7H2O: 400g/l ZnSO4・7H2O: 10g/l H2SO4 : 10g/l Fe3+ : 7g/l 浴温 : 60℃ Fe2+イオンの通電酸化率を表1に示す。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。陽極としてチタンに酸化イリジウム系被覆を施して
なる電極を用い、下記に示す組成を有するめつき浴中に
て、電流密度130A/dm2 、めつき流速1.2m/
秒、ストリツプ速度80m/分にて、鉄−亜鉛電気めつ
きを行なつた。めつき浴組成 FeSO4・7H2O: 400g/l ZnSO4・7H2O: 10g/l H2SO4 : 10g/l Fe3+ : 7g/l 浴温 : 60℃ Fe2+イオンの通電酸化率を表1に示す。
【0014】
【表1】
【0015】
【発明の効果】このように、本発明の方法によれば、不
溶性陽極として導電性基体上に酸化イリジウム系の被覆
層を設けてなる電極を用いると共に、陽極電流密度を5
0A/dm2 以上とすることによつて、めつき浴中のF
e2+イオンの通電酸化を有効に抑制し、めつき液中のF
e3+イオンの増加を抑制することができるので、Fe2+
イオンの補給、Fe3+イオンの還元負荷を軽減すること
ができ、かくして、コストの低減、めつき液管理を正確
にすることができる。
溶性陽極として導電性基体上に酸化イリジウム系の被覆
層を設けてなる電極を用いると共に、陽極電流密度を5
0A/dm2 以上とすることによつて、めつき浴中のF
e2+イオンの通電酸化を有効に抑制し、めつき液中のF
e3+イオンの増加を抑制することができるので、Fe2+
イオンの補給、Fe3+イオンの還元負荷を軽減すること
ができ、かくして、コストの低減、めつき液管理を正確
にすることができる。
【0016】
【図1】は、めつき時の浴中のFe3+イオン濃度の経時
変化を示すグラフである。
変化を示すグラフである。
【図2】は、陽極として、鉛−スズ系合金電極及び酸化
イリジウム電極をそれぞれ用いた場合のFe2+イオンの
通電酸化率を示すグラフである。
イリジウム電極をそれぞれ用いた場合のFe2+イオンの
通電酸化率を示すグラフである。
【図3】は、純亜鉛めつき液中における陽極の酸素発生
電位を示すグラフである。
電位を示すグラフである。
【図4】は、Fe2+イオンの通電酸化率と陽極電流密度
との関係を示すグラフである。
との関係を示すグラフである。
Claims (1)
- 【請求項1】導電性基体上に酸化イリジウム系の被覆層
を設けてなる電極を不溶性陽極として用いると共に、陽
極電流密度を50A/dm2 以上とすることによつて、
めつき浴中のFe2+イオンの通電酸化を抑制することを
特徴とする鉄系電気めつき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14034892A JPH05331696A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | 鉄系電気めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14034892A JPH05331696A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | 鉄系電気めつき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05331696A true JPH05331696A (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=15266743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14034892A Pending JPH05331696A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | 鉄系電気めつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05331696A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4159C1 (ro) * | 2010-10-25 | 2012-10-31 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de regenerare electrochimică a electrolitului de fierare oxidat |
| MD4229C1 (ro) * | 2012-02-16 | 2013-12-31 | Государственный Университет Молд0 | Dispozitiv şi procedeu de control analitic al conţinutului ionilor de fier(III) în electrolitul de fierare şi instalaţie de regenerare electrochimică a electrolitului de fierare cu reglare automată |
| CN111864124A (zh) * | 2020-09-02 | 2020-10-30 | 合肥福纳科技有限公司 | 量子点发光器件的制备方法及量子点发光器件 |
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| KR20230092886A (ko) | 2021-12-02 | 2023-06-26 | 딥솔 가부시키가이샤 | 금속으로 물품을 전기 도금하는 방법 및 시스템 |
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