JPH0546929A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

薄膜磁気ヘツド

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JPH0546929A
JPH0546929A JP22842091A JP22842091A JPH0546929A JP H0546929 A JPH0546929 A JP H0546929A JP 22842091 A JP22842091 A JP 22842091A JP 22842091 A JP22842091 A JP 22842091A JP H0546929 A JPH0546929 A JP H0546929A
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JP
Japan
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film
magnetic
thin film
magnetic head
thin
Prior art date
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Pending
Application number
JP22842091A
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English (en)
Inventor
Mikio Matsuzaki
幹男 松崎
Atsuo Kobayashi
敦夫 小林
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Publication of JPH0546929A publication Critical patent/JPH0546929A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】薄膜磁気回路に対する磁気的悪影響を小さくし
て、寄生キャパシンタンス蓄積電荷に起因する放電を防
止する。 【構成】 スライダ1と、薄膜磁気変換素子2とを有す
る。スライダ1はその大部分を構成する導電性基体11
と、その表面に設けられた絶縁膜12とを有する。薄膜
磁気変換素子2は磁性膜21、22とコイル膜23とを
含み、絶縁膜12の上に設けられ、磁性膜21、22の
少なくとも一部が絶縁膜12に設けられた孔121を通
して導電性基体11上に直接に形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、浮上型の薄膜磁気ヘッ
ドに関し、更に詳しくは、薄膜磁気変換素子を構成する
コイル膜と磁性膜との間に発生するキャパシタの蓄積電
荷に起因する放電を防止し得る薄膜磁気ヘッドに係る。
【0002】
【従来の技術】この種の薄膜磁気ヘッドは、スライダ
と、薄膜磁気変換素子とを有し、薄膜磁気変換素子があ
る電位に保たれるコイル膜と、コイル膜と共に薄膜磁気
回路を構成する磁性膜とを有しており、磁性膜とコイル
膜との間にキャパシタが発生する。
【0003】一方、最近の小型HDDでは、パソコン搭
載を考慮してパソコン電源である5ボルト、12ボルト
をそのまま利用すべく、小型HDD用の読み書き用IC
も5ボルトまたは12ボルトの片電源を用いるようにな
っている。このため、薄膜磁気ヘッドは一定電圧、具体
的には、6ボルトの正電圧で常時バイアスされる。その
結果、キャパシタはバイアス電圧により常時一方向に電
荷が蓄積される。
【0004】キャパシタに蓄積された電荷はポ−ル部と
媒体との間の接触などによる放電により放出され、磁性
膜の電位が変動する。磁性膜の電位変動によりコモンモ
ードノイズが発生し、読み取りデ−タにエラ−を生じ
る。かかる放電防止技術に関する先行技術文献として
は、例えば、特開平2−246048号公報等がある。
この先行技術においては、薄膜磁気ヘッドのバイアス電
位と媒体の電位とを等しくして放電を生じさせないよう
にして亜る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た先行技術では、薄膜磁気ヘッドのバイアス電位と媒体
の電位とを等しくするために、回転する媒体に薄膜磁気
ヘッドと同電位にする手段を設けることが必須になるの
で、磁気ディスク装置の構造が複雑となり、大型化を招
くと共に、高価になる。
【0006】そこで本発明の課題は、上述する従来の問
題点を解決し、薄膜磁気回路に対する磁気的悪影響を小
さくして、キャパシタンス蓄積電荷に起因する放電を確
実に防止し得るようにした薄膜磁気ヘッドを提供するこ
とである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上述した課題解決のた
め、本発明は、スライダと、薄膜磁気変換素子とを有す
る薄膜磁気ヘッドであって、前記スライダは、その大部
分を構成する導電性基体と、前記導電性基体の表面に設
けられた絶縁膜とを有しており、前記薄膜磁気変換素子
は、磁性膜とコイル膜とを含み、前記絶縁膜の上に設け
られ、前記磁性膜の少なくとも一部が前記絶縁膜に設け
られた孔を通して前記導電性基体上に直接に形成されて
いることを特徴とする。
【0008】
【作用】薄膜磁気変換素子は、磁性膜の少なくとも一部
が、スイライダの絶縁膜に設けられた孔を通して、導電
性基体上に直接に形成されているから、磁性膜がアース
電位となる導電性基体と同電位に保たれる。このため、
コイル膜と磁性層との間に発生するキャパシタに電荷が
蓄積されても、蓄積電荷に起因して磁性膜のポ−ル部と
媒体との間に放電を発生することはない。しかも、薄膜
磁気回路に対する磁気的な悪影響を生じる余地がない。
【0009】スライダは導電性基体の表面に設けられた
絶縁膜を有しており、薄膜磁気変換素子は絶縁膜の上に
設けられ、磁性膜は絶縁膜に設けられた孔を通して導電
性基体上に形成されているから、薄膜磁気変換素子のコ
イル膜、そのリード電極及び取出電極と、導電性基体と
の間で絶縁膜による充分な電気絶縁を確保できる。
【0010】
【実施例】図1は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの薄膜磁
気変換素子の部分の拡大断面図である。図は構造の概略
を示すために用いられているもので、各部寸法は誇張さ
れている。図において、1はスライダ、2は薄膜磁気変
換素子である。
【0011】スライダ1は、その大部分を構成する例え
ばAl2O3-Tic 等の導電性基体11と、導電性基体11の
表面に設けられたアルミナ等の絶縁膜12とを有してい
る。薄膜磁気変換素子2は、下部磁性膜21と、上部磁
性膜22と、コイル膜23とを有し、下部磁性膜21が
絶縁膜12に設けられた孔121を通して導電性基体1
1上に直接に形成されている。下部磁性膜21及び上部
磁性膜22は、通常、パーマロイ等で構成され、先端部
が変換ギャップを構成するポ−ル部211、221とな
っていて、ポ−ル部211、221に連なるヨ−ク部2
12、222の後方側213、223が磁気回路を完成
するように結合されている。ポール部211、221は
アルミナ等でなるギャップ膜24により隔てられてい
る。下部磁性膜21は、ヨーク部212の大部分が絶縁
膜12に設けられた孔121を通して導電性基体11上
に形成され、ポール部211が先端部に残る絶縁膜12
2によって支持されている。ヨーク部212の表面は、
ポール部211の表面から段差をもって落ち込んでい
る。
【0012】コイル膜23は、ヨーク部212ー222
間に形成される間隔内を通りヨーク部212、222の
結合部の周りを渦巻状にまわるように配置され、有機絶
縁膜251〜253によって支持されている。有機絶縁
膜251〜253は、通常、ノボラック樹脂等の有機樹
脂で構成される。26はアルミナ等でなる保護膜であ
る。
【0013】上述のように、薄膜磁気変換素子2は、下
部磁性膜21が絶縁膜12に設けられた孔121を通し
て導電性基体11上に直接に形成されているから、下部
磁性膜21及び上部磁性膜22がアース電位となる導電
性基体11と同電位に保たれる。このため、コイル膜2
3と下部磁性層21及び上部磁性膜22との間に発生す
るキャパシタに電荷が蓄積されても、蓄積電荷に起因し
て磁性膜21、22のポ−ル部211、221と媒体
(図示しない)との間に放電を発生することはない。し
かも、薄膜磁気回路に対する磁気的な悪影響を生じる余
地がない。
【0014】また、薄膜磁気変換素子12は絶縁膜12
の上に設けられているから、薄膜磁気変換素子2のコイ
ル膜23は、有機絶縁膜251〜253による電気絶縁
の他に、絶縁膜12による電気絶縁も受ける。
【0015】図2は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの薄膜
磁気変換素子部分の拡大断面図である。図において、図
1と同一の参照符号は同一性ある構成部分を示してい
る。この実施例では、下部磁性膜21は、絶縁膜12に
設けられた孔121を通して導電性基体11上に直接に
形成され、ヨーク部212の表面とポール部211の表
面が実質的に同一の平面を形成している。
【0016】本発明に係る薄膜磁気ヘッドにおいて、ス
ライダ1は種々の構造をとることができる。その例を図
3及び図4に示す。図3では、スライダ1は、媒体対向
面側に2つのレール101、102を有しており、レー
ル101、102の表面が空気ベアリング面103、1
04として利用される。27、28はコイル膜23に導
通する取出電極、271、281はリード電極である。
これらは、スライダ1を構成する絶縁膜12の上に設け
られている。従って、取出電極27、28及びリード電
極271、281と、導電性基体11との間で絶縁膜1
2による充分な電気絶縁を確保できる。
【0017】図4では、スライダ1は媒体対向面がレー
ル部を持たない平面状の空気ベアリング面105となっ
ている。取出電極27、28及びリード電極271、2
81は絶縁膜12の上に設けられており、導電性基体1
1との間で絶縁膜12による充分な電気絶縁を確保でき
る。
【0018】実施例では、面内記録再生用の薄膜磁気ヘ
ッドを示したが、垂直記録再生用の薄膜磁気ヘッドにも
同様に適用が可能である。
【0019】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果が得られる。 (a)薄膜磁気変換素子は、磁性膜の少なくとも一部
が、スイライダの絶縁膜に設けられた孔を通して、導電
性基体上に直接に形成されているから、キャパシタへの
電荷蓄積に起因する磁性膜のポ−ル部と媒体との間の放
電、及び、放電による読み取りデ−タ・エラ−を発生す
ることのない薄膜磁気ヘッドを提供できる。 (b)放電防止構造が薄膜磁気回路に対して磁気的な悪
影響を与える余地のない薄膜磁気ヘッドを提供できる。 (c)スライダは導電性基体の表面に設けられた絶縁膜
を有しており、薄膜磁気変換素子は絶縁膜の上に設けら
れ、磁性膜は絶縁膜に設けられた孔を通して導電性基体
上に形成されているから、薄膜磁気変換素子のコイル
膜、そのリード電極及び取出電極と、導電性基体との間
で絶縁膜による充分な電気絶縁を確保し得る薄膜磁気ヘ
ッドを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの薄膜磁気変換素
子部分の拡大断面図である。
【図2】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例にお
ける薄膜磁気変換素子部分の拡大断面図である。
【図3】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの外観斜視図であ
る。
【図4】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの別の実施例にお
ける外観斜視図である。
【符号の説明】
1 基体 11 導電性基体 12 絶縁膜 121 孔 2 薄膜磁気変換素子 21 下部磁性膜 22 上部磁性膜 23 コイル膜
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年7月25日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】一方、最近の小型HDDでは、パソコン搭
載を考慮してパソコン電源である5ボルト、12ボルト
をそのまま利用すべく、小型HDD用の読み書き用IC
5ボルトの片電源を用いるようになっている。このた
め、薄膜磁気ヘッドは一定電圧、具体的には、2.5
ルトの正電圧で常時バイアスされる。その結果、キャパ
シタはバイアス電圧により常時一方向に電荷が蓄積され
る。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 スライダと、薄膜磁気変換素子とを有す
    る薄膜磁気ヘッドであって、 前記スライダは、その大部分を構成する導電性基体と、
    前記導電性基体の表面に設けられた絶縁膜とを有してお
    り、 前記薄膜磁気変換素子は、磁性膜とコイル膜とを含み、
    前記絶縁膜の上に設けられ、前記磁性膜の少なくとも一
    部が前記絶縁膜に設けられた孔を通して前記導電性基体
    上に直接に形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘ
    ッド。
  2. 【請求項2】 前記磁性膜は、下部磁性膜と上部磁性膜
    とを含み、 前記下部磁性膜及び上部磁性膜は、先端部に変換ギャッ
    プを構成するポール部を有すると共に、前記ポール部に
    連なるヨーク部を有し、前記ヨーク部が互いに間隔を隔
    てて対向し後方で互いに結合されており、 前記下部磁性膜は、前記ヨーク部の大部分が前記孔を通
    して前記導電性基体上に形成され、前記ポール部が前記
    絶縁膜によって支持されてており、 前記コイル膜は、前記ヨーク部間に形成される前記間隔
    内を通り前記ヨーク部の結合部の周りを渦巻状にまわる
    ように配置され、有機絶縁膜によって支持されているこ
    とを特徴とする請求項1に記載の薄膜磁気ヘッド。
  3. 【請求項3】 前記下部磁性膜は、前記ヨーク部の表面
    が前記ポール部の表面から段差をもって落ち込んでいる
    ことを特徴とする請求項2に記載の薄膜磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】 前記下部磁性膜は、前記ヨーク部の表面
    と前記ポール部の表面が実質的に同一の平面を形成して
    いることを特徴とする請求項2に記載の薄膜磁気ヘッ
    ド。
JP22842091A 1991-08-13 1991-08-13 薄膜磁気ヘツド Pending JPH0546929A (ja)

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19951128