JPH0549699B2 - - Google Patents
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 50
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- JTQAPFZZCXWQNQ-UHFFFAOYSA-N thiirene Chemical compound S1C=C1 JTQAPFZZCXWQNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VWWMOACCGFHMEV-UHFFFAOYSA-N dicarbide(2-) Chemical group [C-]#[C-] VWWMOACCGFHMEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzenesulfonic acid Chemical compound NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 6
- CBYDUPRWILCUIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethynylbenzene Chemical compound C#CC1=CC=CC=C1C#C CBYDUPRWILCUIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NPKGQBIUYHHPOT-UHFFFAOYSA-N [Cu+2].[C-]#[C-] Chemical compound [Cu+2].[C-]#[C-] NPKGQBIUYHHPOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- PNXLPYYXCOXPBM-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethynylbenzene Chemical compound C#CC1=CC=CC(C#C)=C1 PNXLPYYXCOXPBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- MVLGANVFCMOJHR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diethynylbenzene Chemical compound C#CC1=CC=C(C#C)C=C1 MVLGANVFCMOJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-dithiol Chemical compound SC1=CC=C(S)C=C1 WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000358 iron sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- -1 polyparaphenylene Polymers 0.000 description 3
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 3
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 3
- 229950000244 sulfanilic acid Drugs 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIAAGQAEVGMHPM-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzene-1,2-dithiol Chemical compound CC1=CC=C(S)C(S)=C1 NIAAGQAEVGMHPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine hydrochloride Chemical compound Cl.ON WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001361 allenes Chemical class 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWOASCVFHSYHOB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dithiol Chemical compound SC1=CC=CC(S)=C1 ZWOASCVFHSYHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWBUDBSCIJODII-UHFFFAOYSA-N benzene;3h-dithiole Chemical class C1SSC=C1.C1=CC=CC=C1 QWBUDBSCIJODII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1 PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDBQQANTDCVPDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(1,2-dibromoethyl)benzene Chemical compound BrCC(Br)C1=CC=C(C(Br)CBr)C=C1 KDBQQANTDCVPDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIXGZJCOBGAINX-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2,3-diethynylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(C#C)=C1C#C SIXGZJCOBGAINX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDLDZCJYMCKQH-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzene-1,3-dithiol Chemical compound SC1=CC=C(Cl)C(S)=C1 HCDLDZCJYMCKQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOHCOYTZIXDCCO-UHFFFAOYSA-N 6-thiabicyclo[3.1.1]hepta-1(7),2,4-triene Chemical compound C=1C2=CC=CC=1S2 SOHCOYTZIXDCCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWUCFAJNVTZRLE-UHFFFAOYSA-N 7-thiabicyclo[2.2.1]hepta-1,3,5-triene Chemical compound C1=C(S2)C=CC2=C1 XWUCFAJNVTZRLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007239 Wittig reaction Methods 0.000 description 1
- ZVAKTWSQIIRIIH-UHFFFAOYSA-N [K].[I] Chemical compound [K].[I] ZVAKTWSQIIRIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000021736 acetylation Effects 0.000 description 1
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- YBGKQGSCGDNZIB-UHFFFAOYSA-N arsenic pentafluoride Chemical compound F[As](F)(F)(F)F YBGKQGSCGDNZIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCCKKXXKYBHGCC-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-disulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 DCCKKXXKYBHGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- OEERIBPGRSLGEK-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;methanol Chemical compound OC.O=C=O OEERIBPGRSLGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000360 iron(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- XCENZKPYUOIKTD-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diyn-3-ylbenzene Chemical compound C#CC(C#C)C1=CC=CC=C1 XCENZKPYUOIKTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な芳香族ビニレンスルフイド重
合体、その製造法及び該重合体からなる半導体に
関するものである。 〔従来の技術〕 従来、ベンゼン環と共役するビニレン基を有す
る重合体としてはウイテイヒ反応を利用して合成
されるポリ−p−フエニレンビニレンが知られて
いる。 また、スルフイド基を介してベンゼン環が共役
する重合体としては、ジクロルベンゼンと硫化ナ
トリウムから合成されるポリ−p−フエニレンス
ルフイド及びポリ−m−フエニレンスルフイドが
知られている。さらに、他の基を介してベンゼン
環が共役する重合体としてはポリパラフエニレン
オキシドなども公知である。これらに関しては、
白川氏ら編「合成金属」(化学増刊87化学同人刊)
第7〜13頁にも述べられている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明は従来全く知られていなかつた、ビニレ
ンスルフイド基を介してベンゼン環が連なる構造
を有する新規な重合体を提供するものである。 〔問題点を解決するための手段〕 即ち、本発明は、数平均分子量500ないし
500000の、下記構造式()で表される基を繰り
返し単位とする芳香族ビニレンスルフイド重合
体、 〔式中のR1,R2,R3,R4はそれぞれ水素、ハ
ロゲン、炭素数1ないし5のアルキル基の中から
選ばれた基を表す〕に関するものである。 次ぎに本発明の重合体の詳細について述べる。 本発明の重合体においては、R1,R2,R3,R4
は水素又はメチル基であることが好ましく、すべ
て水素のものが更に好ましい。 又、本重合体の末端構造としては、エチニル基
又はメルカプト基の可能性があるが、エチニル基
であることが好ましい。 次ぎに本発明の重合体の製造法について述べ
る。 本発明の重合体は、下記構造式()及び
()に示す構造の化合物の付加重合により合成
することができる。 〔式中のR1,R2,R3,R4はそれぞれ水素、ハ
ロゲン、炭素数1ないし5のアルキル基の中から
選ばれた基を表す〕。 前記のポリ−p−フエニレンビニレンやポリフ
エニレンスルフイドなどは、縮合反応によつて得
られるものであり、重合体中に縮合物が残り易
く、重合体の精製に手間がかかるのに対し、本発
明の重合体はジエチニルベンゼン又はその置換体
とベンゼンジチオール又はその置換体との付加反
応により容易に得られるものであるから、原料、
溶媒等を予め精製しておけば重合体の精製は極め
て容易であると云う利点を有する。 構造式()で示される化合物としては、p−
ジエチニルベンゼン、m−ジエチニルベゼン、ジ
エチニルトルエン、ジエチニルエチルベンゼン等
があり、この中でもp−若しくはm−ジエチニル
ベンゼンが好ましい。又、構造式()で示され
る化合物としては、p−ベンゼンジチオール、m
−ベンゼンジチオール、4−クロル−m−ベンゼ
ンジチオール、トルエン−3,4−ジチオール、
トルエン−3,4−ジチオール等があり、この中
でもp−若しくはm−ベンゼンジチオールが好ま
しい。 合成法を具体的にのべると、式()の化合物
と式()の化合物の付加重合には、両化合物を
混合して反応させればよいが、反応混合物の形態
としては、溶媒を用いて均一溶液としても良く、
又、化合物()()のみからなる混合物でも
良い。前者の場合、溶媒に制限はないが、ベンゼ
ン、トルエン等芳香族炭化水素、クロロホルム、
塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素、酢酸エチ
ル、プロピオン酸メチル、γ−ブチロラクトン等
のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類がある。又、後者の場合、化合物
()及び()を同時に昇華、蒸着等によりガ
ラス、プラスチツクフイルム、金属板、セラミツ
ク板等の上に皮膜を形成させる方法や、これらの
基板上にスピンコート法、ブレードコート法、デ
イツプ法、キヤスト法等により化合物()と
()の混合物の溶液を塗布した後乾燥させ、皮
膜を形成させることが出来る。 次ぎに反応の手段について述べるならば、まず
化合物()及び()の混合物に活性光を照射
させることにより重合体を得ることが出来る。こ
こで活性光とは、可視光線、紫外線、γ線、X線
等の電磁波、電子線、中性子線等を云う。 又、本発明の重合体は、上記混合物にベンゾイ
ルパーオキサイドの如きラジカル発生剤を加える
ことによつても得ることが出来る。更に、微量の
酸素を存在させて重合を行うことも可能である。 ここで、反応温度は−80℃ないし150℃が好ま
しく、さらには、−40℃ないし100℃が好ましい。 本発明に用いることのできる上記構造式()
で示される化合物は、ジビニルベンゼン又はその
置換体に臭素を付加させた後、アルコキサイドで
脱ハロゲン化水素反応を行わせることにより得る
ことができる。又、上記構造式()で示される
化合物の一つはスルフアニル酸又はその置換体を
原料として後記参考例に示す方法によつて得るこ
とが出来る。 本発明の重合体は、上記構造式()及び
()で示される化合物の合成時の組成比を変え
ることにより、その分子末端基が変わる。例えば
()を()より過剰に加えて合成すると、分
子末端がエチニル基の重合体を得ることができ、
得られた重合体に塩化第一銅等の金属化合物を添
加すると、末端が金属アセチリド化された重合体
になる。 金属化合物の金属としては、銅以外にアルカリ
金属、アルカリ土類金属、銀、金、亜鉛、カドミ
ウム、アルミニウム、トリウム、ウラニウム、希
土類元素があるが、銅、銀が好ましい。 本発明の重合体の分子量は、上記金属アセチリ
ドの金属を定量することや蒸気圧浸透圧法
(VPO)により求めることが出来る。本発明の重
合体の数平均分子量は、好ましくは1000ないし
100000、より好ましくは、2000ないし50000であ
る。 本発明の重合体及び該重合体の末端が金属アセ
チリド化された重合体は電気絶縁体であつて、こ
れらの重合体に電子受容体を添加することによ
り、優れた半導体に変換される価値の高い重合体
である。電子受容体としては、沃素、硫酸、五弗
化砒素の如き無機電子受容体、及びテトラシアノ
キシジメタン、テトラシアノエチレン等のような
有機電子受容体を使用することが出来る。 この電子受容体の含量としては、該重合体100
部に対し0.1重量部ないし100重量部であることが
好ましく、さらには、1ないし50重量部であるこ
とが好ましい。 従来、有機半導体用材料としてはポリアセチレ
ンが知られているが、ポリアセチレンは酸素の影
響を受け易い欠点がある。これに対して本発明の
重合体は空気中でも安定であり半導体材料として
優れている。又、本発明の重合体は圧縮成形等に
より成形することが出来る。 〔実施例〕 参考例1 ベンゼンジチオール類の合成 (a) p−ベンゼンジスルホニルクロライドの合成 撹拌装置、温度計(−80〜50℃)、滴下ロート
を取りつけた500mlの四口フラスコにスルフアニ
ル酸17.3gと炭酸ナトリウム5.5gを含む水溶液
(水60ml)を加え、暖めながらスルフアニル酸を
完全に溶解させた。その後反応容器を氷水中につ
け0〜5℃に保ち希塩酸(濃塩酸24ml、水70ml)
を加えた。さらに撹拌下で亜硝酸ナトリウム7g
を含む水溶液(水70ml)を滴下ロートにより10分
程度で加えジアゾ化した。ジアゾ化の終点は沃素
カリウム澱粉紙により判定した。同時に200mlビ
ーカーに水30ml、硫酸ナトリウム26g、イオウ粉
末3.5gを入れ、加熱、撹拌し完全に溶解させ、
水酸化ナトリウム20%水溶液20mlを加えてNaS
溶液を調整した。その溶液を撹拌装置、温度計
(−80〜50℃)、滴下ロートを取りつけた1の四
口フラスコに速やかに入れ氷水浴中で0〜5℃に
保つた。これに先に合成したジアゾ化溶液を滴下
ロートにより5〜10分で撹拌下において滴下し
た。反応温度が5℃を越えないよう注意し3時間
撹拌を行つた後、窒素の発生がないことを確か
め、溶液をゆつくりと撹拌下で室温まで上昇させ
た。この溶液を飽和過マンガン酸カリウム水溶液
200mlにより酸化させた。その後濾過により酸化
マンガン等の固形成分を除き、濾液をエバポレー
ターで乾固し残つた結晶を130℃で減圧乾燥を3
日間おこなつた。乾燥した結晶約40gを撹拌装
置、アリーン冷却器、温度計(0〜200℃)を取
りつけた500ml四口フラスコに五塩化リン61.2g
(0.3mol)と共に加え130℃で1時間還流煮沸し
た。撹拌を続けながら1時間放置し冷却した。そ
の後反応副生物の塩化ホスホリル、未反応の五塩
化リンを除くために湯浴中で1時間減圧溜去(94
℃、15mmHg)した。 さらに反応容器に水、クロロホルムを1:3の
割合で加え1時間撹拌下で還流加熱した後クロロ
ホルム層を分取し、塩化カルシウムで脱水した。
その後溶媒を溜去し、p−ベンゼンスルホニルク
ロライドの粗結晶を得た。精製は昇華により110
℃、1〜2mmHgで行い収量5.5g(20%)〔m.
p.138.5〜139.5℃〕で得た。 (b) p−ベンゼンジチオールの合成 撹拌装置、温度計(0〜100℃)、アリーン冷却
器(上部に三方コツクを取りつけた)を取りつけ
た1四口フラスコに窒素下でp−ベンゼンジス
ルホニルクロライド20g、亜鉛末70g、水100ml
を加え、撹拌下で濃塩酸210mlを滴下ロートによ
り30分で滴下した。塩酸を滴下することにより反
応温度は65〜70℃となつた。その後油浴中で80℃
に加熱し、1時間還流加熱した。更に亜鉛末14
g、濃塩酸70mlを加え1時間還流加熱した。反応
終了後直ちに氷水中で冷却し濾過した。固体成分
はアルコールに溶解させ、未反応の亜鉛と濾別し
た。そのアルコール溶液を約1/3に濃縮し過剰の
水に注ぎ沈澱を析出させ濾別しp−ベンゼンジチ
オールの粗結晶を得た。アルコールにより再結晶
させ、融点97.5〜98.5℃の結晶8.2gを得た。 この生成物の核磁気共鳴スペクトル(60MHz、
溶媒CDCl3、基準物質テトラメチルシラン)はδ
値3.2と7.0ppmに積分比1:2の2本の一重線を
示した。又、赤外吸収スペクトルは2550,1470,
1390,1250,800cm-1に代表的な吸収を示した。 参考例 2 ジエチニルベンゼン類の合成 (a) 1,4−ビス(1,2−ジブロモエチル)ベ
ンゼンの合成 撹拌装置、温度計、アリーン冷却器、臭化水素
除去用排気管(安全ビン、アルカリ水溶液を経て
アスピレーターに接続)を取りつけた2四口フ
ラスコにp−ジビニルベンゼン170.1g、クロロ
ホルム1を入れ氷浴で5℃以下に冷却した。撹
拌しながらバイパス付き滴下ロートより臭素423
gを約3時間で滴下した。滴下終了後室温で2時
間撹拌を続け、反応混合物を2ビーカーにあけ
た。これを静置して結晶を成長させた後、吸引濾
過し粗結晶を得た。又濾液からも濃縮、冷却結晶
化を繰り返し粗結晶を得た。精製はクロロホルム
からの再結晶で収率81%で融点155〜157℃の結晶
を得た。 (b) P−ジエチニルベンゼンの合成 撹拌装置、温度計、アリーン冷却器、臭化水素
除去用排気管(安全ビン、アルカリ水溶液を経て
アスピレーターに接続)を取りつけた2四口フ
ラスコに原料100g、カリウムtert−ブトキシド
103g、tert−ブチルアルコール1を入れたフ
ラスコを氷浴で冷却し、温度が上がりすぎないよ
うに注意しながら撹拌を開始しした。次第に温度
を上げながら撹拌を続け、最後に還流下で1.5時
間撹拌を行つた。反応混合物を6の氷水中に注
ぎ析出した結晶を吸引濾過により得た。精製は昇
華法(60°±3℃1〜2mmHg)で行つた。融点
96.5℃の結晶22.4gを得た。 この生成物の核磁気共鳴スペクトルは、δ値
3.1及び7.3ppmに積分値比1:2で2本の一重線
を示し、赤外吸収スペクトルは、3270,2100,
1920,1500,1400,1260,840cm-1に強い吸収を
示した。 (c) m−ジエチニルベンゼンの合成 上記(a)の方法に準じて、m−ジビニルベンゼン
より1,3−ビス(1,2−ジブロモエチル)ベ
ンゼンを得た。これを上記(b)の方法に準じてカリ
ウムtert−ブトキシドと反応させた。反応終了
後、反応液を氷水中に注ぎ、次いで多量のクロロ
ホルムを加える。有機層を分別後、クロロホルム
を減圧溜去する。更に、50℃、1torrで減圧蒸溜
を行いm−ジエチニルベンゼンを得た。 実施例 1 完全に窒素置換したパイレツクスガラス製の重
合管に精製したトルエン及び参考例2で調整した
p−ジエチニルベンゼンを表1の条件で注射器に
より仕込んだ。 その後、重合管をドライアイスメタノール浴中
に入れ、更に同様の方法でp−ベンゼンジチオー
ル・トルエン溶液を加えた。仕込がすんだ後窒素
下で酸素バーナーにより封管した。封管された重
合管を−20℃に調節した塩−氷浴に入れ高圧水銀
ランプ(600W)を照射し重合を行つた。重合時
間は表1に示した。重合終了後開管し直ちに遠心
分離により溶液と残渣に分け、残渣は数回トルエ
ンで洗浄後減圧乾燥し、収量を求めた。溶液はエ
バポレーターでトルエンを溜去した後エタノール
で数回洗浄し減圧乾燥し、収量を求めた。トルエ
ン可溶部、不溶部共同じ核磁気共鳴スペクトルを
与えた。即ち、δ値6.25〜6.7、6.9〜7.5ppmに二
群の多重線を示し、その積分比は1:2であつ
た。又、赤外吸収スペクトルは、3250,1660,
1470,1100,830cm-1の吸収を示した。又、トル
エン可溶部の分子量は銅アセチリド法では、3000
と求められた。又、トルエン不溶部の分子量は
7500であつた。
合体、その製造法及び該重合体からなる半導体に
関するものである。 〔従来の技術〕 従来、ベンゼン環と共役するビニレン基を有す
る重合体としてはウイテイヒ反応を利用して合成
されるポリ−p−フエニレンビニレンが知られて
いる。 また、スルフイド基を介してベンゼン環が共役
する重合体としては、ジクロルベンゼンと硫化ナ
トリウムから合成されるポリ−p−フエニレンス
ルフイド及びポリ−m−フエニレンスルフイドが
知られている。さらに、他の基を介してベンゼン
環が共役する重合体としてはポリパラフエニレン
オキシドなども公知である。これらに関しては、
白川氏ら編「合成金属」(化学増刊87化学同人刊)
第7〜13頁にも述べられている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明は従来全く知られていなかつた、ビニレ
ンスルフイド基を介してベンゼン環が連なる構造
を有する新規な重合体を提供するものである。 〔問題点を解決するための手段〕 即ち、本発明は、数平均分子量500ないし
500000の、下記構造式()で表される基を繰り
返し単位とする芳香族ビニレンスルフイド重合
体、 〔式中のR1,R2,R3,R4はそれぞれ水素、ハ
ロゲン、炭素数1ないし5のアルキル基の中から
選ばれた基を表す〕に関するものである。 次ぎに本発明の重合体の詳細について述べる。 本発明の重合体においては、R1,R2,R3,R4
は水素又はメチル基であることが好ましく、すべ
て水素のものが更に好ましい。 又、本重合体の末端構造としては、エチニル基
又はメルカプト基の可能性があるが、エチニル基
であることが好ましい。 次ぎに本発明の重合体の製造法について述べ
る。 本発明の重合体は、下記構造式()及び
()に示す構造の化合物の付加重合により合成
することができる。 〔式中のR1,R2,R3,R4はそれぞれ水素、ハ
ロゲン、炭素数1ないし5のアルキル基の中から
選ばれた基を表す〕。 前記のポリ−p−フエニレンビニレンやポリフ
エニレンスルフイドなどは、縮合反応によつて得
られるものであり、重合体中に縮合物が残り易
く、重合体の精製に手間がかかるのに対し、本発
明の重合体はジエチニルベンゼン又はその置換体
とベンゼンジチオール又はその置換体との付加反
応により容易に得られるものであるから、原料、
溶媒等を予め精製しておけば重合体の精製は極め
て容易であると云う利点を有する。 構造式()で示される化合物としては、p−
ジエチニルベンゼン、m−ジエチニルベゼン、ジ
エチニルトルエン、ジエチニルエチルベンゼン等
があり、この中でもp−若しくはm−ジエチニル
ベンゼンが好ましい。又、構造式()で示され
る化合物としては、p−ベンゼンジチオール、m
−ベンゼンジチオール、4−クロル−m−ベンゼ
ンジチオール、トルエン−3,4−ジチオール、
トルエン−3,4−ジチオール等があり、この中
でもp−若しくはm−ベンゼンジチオールが好ま
しい。 合成法を具体的にのべると、式()の化合物
と式()の化合物の付加重合には、両化合物を
混合して反応させればよいが、反応混合物の形態
としては、溶媒を用いて均一溶液としても良く、
又、化合物()()のみからなる混合物でも
良い。前者の場合、溶媒に制限はないが、ベンゼ
ン、トルエン等芳香族炭化水素、クロロホルム、
塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素、酢酸エチ
ル、プロピオン酸メチル、γ−ブチロラクトン等
のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類がある。又、後者の場合、化合物
()及び()を同時に昇華、蒸着等によりガ
ラス、プラスチツクフイルム、金属板、セラミツ
ク板等の上に皮膜を形成させる方法や、これらの
基板上にスピンコート法、ブレードコート法、デ
イツプ法、キヤスト法等により化合物()と
()の混合物の溶液を塗布した後乾燥させ、皮
膜を形成させることが出来る。 次ぎに反応の手段について述べるならば、まず
化合物()及び()の混合物に活性光を照射
させることにより重合体を得ることが出来る。こ
こで活性光とは、可視光線、紫外線、γ線、X線
等の電磁波、電子線、中性子線等を云う。 又、本発明の重合体は、上記混合物にベンゾイ
ルパーオキサイドの如きラジカル発生剤を加える
ことによつても得ることが出来る。更に、微量の
酸素を存在させて重合を行うことも可能である。 ここで、反応温度は−80℃ないし150℃が好ま
しく、さらには、−40℃ないし100℃が好ましい。 本発明に用いることのできる上記構造式()
で示される化合物は、ジビニルベンゼン又はその
置換体に臭素を付加させた後、アルコキサイドで
脱ハロゲン化水素反応を行わせることにより得る
ことができる。又、上記構造式()で示される
化合物の一つはスルフアニル酸又はその置換体を
原料として後記参考例に示す方法によつて得るこ
とが出来る。 本発明の重合体は、上記構造式()及び
()で示される化合物の合成時の組成比を変え
ることにより、その分子末端基が変わる。例えば
()を()より過剰に加えて合成すると、分
子末端がエチニル基の重合体を得ることができ、
得られた重合体に塩化第一銅等の金属化合物を添
加すると、末端が金属アセチリド化された重合体
になる。 金属化合物の金属としては、銅以外にアルカリ
金属、アルカリ土類金属、銀、金、亜鉛、カドミ
ウム、アルミニウム、トリウム、ウラニウム、希
土類元素があるが、銅、銀が好ましい。 本発明の重合体の分子量は、上記金属アセチリ
ドの金属を定量することや蒸気圧浸透圧法
(VPO)により求めることが出来る。本発明の重
合体の数平均分子量は、好ましくは1000ないし
100000、より好ましくは、2000ないし50000であ
る。 本発明の重合体及び該重合体の末端が金属アセ
チリド化された重合体は電気絶縁体であつて、こ
れらの重合体に電子受容体を添加することによ
り、優れた半導体に変換される価値の高い重合体
である。電子受容体としては、沃素、硫酸、五弗
化砒素の如き無機電子受容体、及びテトラシアノ
キシジメタン、テトラシアノエチレン等のような
有機電子受容体を使用することが出来る。 この電子受容体の含量としては、該重合体100
部に対し0.1重量部ないし100重量部であることが
好ましく、さらには、1ないし50重量部であるこ
とが好ましい。 従来、有機半導体用材料としてはポリアセチレ
ンが知られているが、ポリアセチレンは酸素の影
響を受け易い欠点がある。これに対して本発明の
重合体は空気中でも安定であり半導体材料として
優れている。又、本発明の重合体は圧縮成形等に
より成形することが出来る。 〔実施例〕 参考例1 ベンゼンジチオール類の合成 (a) p−ベンゼンジスルホニルクロライドの合成 撹拌装置、温度計(−80〜50℃)、滴下ロート
を取りつけた500mlの四口フラスコにスルフアニ
ル酸17.3gと炭酸ナトリウム5.5gを含む水溶液
(水60ml)を加え、暖めながらスルフアニル酸を
完全に溶解させた。その後反応容器を氷水中につ
け0〜5℃に保ち希塩酸(濃塩酸24ml、水70ml)
を加えた。さらに撹拌下で亜硝酸ナトリウム7g
を含む水溶液(水70ml)を滴下ロートにより10分
程度で加えジアゾ化した。ジアゾ化の終点は沃素
カリウム澱粉紙により判定した。同時に200mlビ
ーカーに水30ml、硫酸ナトリウム26g、イオウ粉
末3.5gを入れ、加熱、撹拌し完全に溶解させ、
水酸化ナトリウム20%水溶液20mlを加えてNaS
溶液を調整した。その溶液を撹拌装置、温度計
(−80〜50℃)、滴下ロートを取りつけた1の四
口フラスコに速やかに入れ氷水浴中で0〜5℃に
保つた。これに先に合成したジアゾ化溶液を滴下
ロートにより5〜10分で撹拌下において滴下し
た。反応温度が5℃を越えないよう注意し3時間
撹拌を行つた後、窒素の発生がないことを確か
め、溶液をゆつくりと撹拌下で室温まで上昇させ
た。この溶液を飽和過マンガン酸カリウム水溶液
200mlにより酸化させた。その後濾過により酸化
マンガン等の固形成分を除き、濾液をエバポレー
ターで乾固し残つた結晶を130℃で減圧乾燥を3
日間おこなつた。乾燥した結晶約40gを撹拌装
置、アリーン冷却器、温度計(0〜200℃)を取
りつけた500ml四口フラスコに五塩化リン61.2g
(0.3mol)と共に加え130℃で1時間還流煮沸し
た。撹拌を続けながら1時間放置し冷却した。そ
の後反応副生物の塩化ホスホリル、未反応の五塩
化リンを除くために湯浴中で1時間減圧溜去(94
℃、15mmHg)した。 さらに反応容器に水、クロロホルムを1:3の
割合で加え1時間撹拌下で還流加熱した後クロロ
ホルム層を分取し、塩化カルシウムで脱水した。
その後溶媒を溜去し、p−ベンゼンスルホニルク
ロライドの粗結晶を得た。精製は昇華により110
℃、1〜2mmHgで行い収量5.5g(20%)〔m.
p.138.5〜139.5℃〕で得た。 (b) p−ベンゼンジチオールの合成 撹拌装置、温度計(0〜100℃)、アリーン冷却
器(上部に三方コツクを取りつけた)を取りつけ
た1四口フラスコに窒素下でp−ベンゼンジス
ルホニルクロライド20g、亜鉛末70g、水100ml
を加え、撹拌下で濃塩酸210mlを滴下ロートによ
り30分で滴下した。塩酸を滴下することにより反
応温度は65〜70℃となつた。その後油浴中で80℃
に加熱し、1時間還流加熱した。更に亜鉛末14
g、濃塩酸70mlを加え1時間還流加熱した。反応
終了後直ちに氷水中で冷却し濾過した。固体成分
はアルコールに溶解させ、未反応の亜鉛と濾別し
た。そのアルコール溶液を約1/3に濃縮し過剰の
水に注ぎ沈澱を析出させ濾別しp−ベンゼンジチ
オールの粗結晶を得た。アルコールにより再結晶
させ、融点97.5〜98.5℃の結晶8.2gを得た。 この生成物の核磁気共鳴スペクトル(60MHz、
溶媒CDCl3、基準物質テトラメチルシラン)はδ
値3.2と7.0ppmに積分比1:2の2本の一重線を
示した。又、赤外吸収スペクトルは2550,1470,
1390,1250,800cm-1に代表的な吸収を示した。 参考例 2 ジエチニルベンゼン類の合成 (a) 1,4−ビス(1,2−ジブロモエチル)ベ
ンゼンの合成 撹拌装置、温度計、アリーン冷却器、臭化水素
除去用排気管(安全ビン、アルカリ水溶液を経て
アスピレーターに接続)を取りつけた2四口フ
ラスコにp−ジビニルベンゼン170.1g、クロロ
ホルム1を入れ氷浴で5℃以下に冷却した。撹
拌しながらバイパス付き滴下ロートより臭素423
gを約3時間で滴下した。滴下終了後室温で2時
間撹拌を続け、反応混合物を2ビーカーにあけ
た。これを静置して結晶を成長させた後、吸引濾
過し粗結晶を得た。又濾液からも濃縮、冷却結晶
化を繰り返し粗結晶を得た。精製はクロロホルム
からの再結晶で収率81%で融点155〜157℃の結晶
を得た。 (b) P−ジエチニルベンゼンの合成 撹拌装置、温度計、アリーン冷却器、臭化水素
除去用排気管(安全ビン、アルカリ水溶液を経て
アスピレーターに接続)を取りつけた2四口フ
ラスコに原料100g、カリウムtert−ブトキシド
103g、tert−ブチルアルコール1を入れたフ
ラスコを氷浴で冷却し、温度が上がりすぎないよ
うに注意しながら撹拌を開始しした。次第に温度
を上げながら撹拌を続け、最後に還流下で1.5時
間撹拌を行つた。反応混合物を6の氷水中に注
ぎ析出した結晶を吸引濾過により得た。精製は昇
華法(60°±3℃1〜2mmHg)で行つた。融点
96.5℃の結晶22.4gを得た。 この生成物の核磁気共鳴スペクトルは、δ値
3.1及び7.3ppmに積分値比1:2で2本の一重線
を示し、赤外吸収スペクトルは、3270,2100,
1920,1500,1400,1260,840cm-1に強い吸収を
示した。 (c) m−ジエチニルベンゼンの合成 上記(a)の方法に準じて、m−ジビニルベンゼン
より1,3−ビス(1,2−ジブロモエチル)ベ
ンゼンを得た。これを上記(b)の方法に準じてカリ
ウムtert−ブトキシドと反応させた。反応終了
後、反応液を氷水中に注ぎ、次いで多量のクロロ
ホルムを加える。有機層を分別後、クロロホルム
を減圧溜去する。更に、50℃、1torrで減圧蒸溜
を行いm−ジエチニルベンゼンを得た。 実施例 1 完全に窒素置換したパイレツクスガラス製の重
合管に精製したトルエン及び参考例2で調整した
p−ジエチニルベンゼンを表1の条件で注射器に
より仕込んだ。 その後、重合管をドライアイスメタノール浴中
に入れ、更に同様の方法でp−ベンゼンジチオー
ル・トルエン溶液を加えた。仕込がすんだ後窒素
下で酸素バーナーにより封管した。封管された重
合管を−20℃に調節した塩−氷浴に入れ高圧水銀
ランプ(600W)を照射し重合を行つた。重合時
間は表1に示した。重合終了後開管し直ちに遠心
分離により溶液と残渣に分け、残渣は数回トルエ
ンで洗浄後減圧乾燥し、収量を求めた。溶液はエ
バポレーターでトルエンを溜去した後エタノール
で数回洗浄し減圧乾燥し、収量を求めた。トルエ
ン可溶部、不溶部共同じ核磁気共鳴スペクトルを
与えた。即ち、δ値6.25〜6.7、6.9〜7.5ppmに二
群の多重線を示し、その積分比は1:2であつ
た。又、赤外吸収スペクトルは、3250,1660,
1470,1100,830cm-1の吸収を示した。又、トル
エン可溶部の分子量は銅アセチリド法では、3000
と求められた。又、トルエン不溶部の分子量は
7500であつた。
【表】
【表】
実施例 2
実施例1と同様の方法により、ジエチニルベン
ゼンと各種ベンゼンジチオールとを反応させ芳香
族ビニレンスルフイド重合体を得た。 その結果を表2に示す。
ゼンと各種ベンゼンジチオールとを反応させ芳香
族ビニレンスルフイド重合体を得た。 その結果を表2に示す。
【表】
【表】
実施例 3
参考例2で得られたm−ジエチニルベンゼンと
各種ベンゼンジチオールとを実施例1と同様の方
法により反応させ、芳香族ビニレンスルフイド重
合体を得た。その結果を表3に示す。
各種ベンゼンジチオールとを実施例1と同様の方
法により反応させ、芳香族ビニレンスルフイド重
合体を得た。その結果を表3に示す。
【表】
【表】
実施例 4
実施例1ないし3でジエチニルベンゼン類を過
剰にして合成した重合体は赤外吸収スペクトル
(KBr法)により末端がエチニル基(3300cm-1)
であることが確認された。 (a) 銅アセチリド化 滴下ロート、三方コツク、窒素下濾過装置を取
りつけた200ml四口フラスコに窒素下で実施例1
の表1No.6で合成した重合体1g、アルコール50
mlを入れ、マグネチツクスターラーで撹拌した。
同時に250mlメスフラスコに塩化第一銅3.75g、
塩化アンモニウム7.5gを入れ、少量の水で溶解
させた。更に20%アンモニア水15ml、ヒドロキシ
ルアミン塩酸塩12.5gを入れメスアツプし、アン
モニア性銅水溶液を調整した。この溶液を滴下ロ
ートにより既知量滴下し窒素下で3日間撹拌し
た。その後窒素下で濾過し、残渣は洗浄液が過マ
ンガン酸カリウムを脱色しなくなるまで水で洗浄
し、その後数回アセトンで洗浄した後、室温で減
圧乾燥することにより銅アセチリド化された重合
体を得た。銅アセチリド化度は銅を定量すること
により求めた。 (b) 銅の定量 250mlメスフラスコに硫酸第二鉄25g、濃硫酸
50mlを入れメスアツプし、硫酸酸性鉄水溶液を調
整した。 次に三方コツクを取りつけた100ml三角フラス
コに既知量の銅アセチリド化物を入れ、充分に窒
素置換をした後、窒素下で射器により計算量より
少し過剰な硫酸酸性鉄水溶液を加え、マグネチツ
クスターラーで24時間撹拌した。その後窒素下で
濾別し濾液を窒素下で0.1N過マンガン酸カリウ
ムにより滴定した。計算は次式によつた。終点は
硫酸酸性鉄水溶液に0.1規定過マンガン酸水溶液
を加え、その時の色調を基準とした。 Cu−C≡C−R−C≡C−Cu+Fe2(SO4)3+
H2SO4 ――→2FeSO4+2CuSO4+HC≡C−R−C≡CH 実施例 5 実施例1の表1に示した重合体及び沃素ドープ
を行い、それぞれの電導度を測定した。 電導度測定は試料を加圧形成(700Kg/cm2、3
分)し、径1.1cm、厚さ1〜2mmのペレツトとし
て、電導度測定装置を用いて2単子法で行つた。
電極面とペレツトの接触部にはグラフアイトペー
スト(フルウチ化学、エレクトロダツクNo.502)
を用いた。沃素ドープは試料を粉末、数気圧
で形成したペレツト、700気圧でのペレツトに
分け各々30℃、3mmHgで沃素雰囲気下に置き行
い、ドーパント濃度は重量変化から算出した。ド
ープが進むにつれて試料は黄色から茶褐色に変化
し、ペレツトは脆くなつた。ドーパント濃度は
が高くは殆どドープされなかつた。又、電導度
では、ともにおよそ同じ値を示したので、粉
末でドープし、それを加圧形成し測定する方法で
行つた。表4に各々の電導度を示した。 電子受容体である沃素をドープすることにより
電気電導度が大幅に増すことが確認された。
剰にして合成した重合体は赤外吸収スペクトル
(KBr法)により末端がエチニル基(3300cm-1)
であることが確認された。 (a) 銅アセチリド化 滴下ロート、三方コツク、窒素下濾過装置を取
りつけた200ml四口フラスコに窒素下で実施例1
の表1No.6で合成した重合体1g、アルコール50
mlを入れ、マグネチツクスターラーで撹拌した。
同時に250mlメスフラスコに塩化第一銅3.75g、
塩化アンモニウム7.5gを入れ、少量の水で溶解
させた。更に20%アンモニア水15ml、ヒドロキシ
ルアミン塩酸塩12.5gを入れメスアツプし、アン
モニア性銅水溶液を調整した。この溶液を滴下ロ
ートにより既知量滴下し窒素下で3日間撹拌し
た。その後窒素下で濾過し、残渣は洗浄液が過マ
ンガン酸カリウムを脱色しなくなるまで水で洗浄
し、その後数回アセトンで洗浄した後、室温で減
圧乾燥することにより銅アセチリド化された重合
体を得た。銅アセチリド化度は銅を定量すること
により求めた。 (b) 銅の定量 250mlメスフラスコに硫酸第二鉄25g、濃硫酸
50mlを入れメスアツプし、硫酸酸性鉄水溶液を調
整した。 次に三方コツクを取りつけた100ml三角フラス
コに既知量の銅アセチリド化物を入れ、充分に窒
素置換をした後、窒素下で射器により計算量より
少し過剰な硫酸酸性鉄水溶液を加え、マグネチツ
クスターラーで24時間撹拌した。その後窒素下で
濾別し濾液を窒素下で0.1N過マンガン酸カリウ
ムにより滴定した。計算は次式によつた。終点は
硫酸酸性鉄水溶液に0.1規定過マンガン酸水溶液
を加え、その時の色調を基準とした。 Cu−C≡C−R−C≡C−Cu+Fe2(SO4)3+
H2SO4 ――→2FeSO4+2CuSO4+HC≡C−R−C≡CH 実施例 5 実施例1の表1に示した重合体及び沃素ドープ
を行い、それぞれの電導度を測定した。 電導度測定は試料を加圧形成(700Kg/cm2、3
分)し、径1.1cm、厚さ1〜2mmのペレツトとし
て、電導度測定装置を用いて2単子法で行つた。
電極面とペレツトの接触部にはグラフアイトペー
スト(フルウチ化学、エレクトロダツクNo.502)
を用いた。沃素ドープは試料を粉末、数気圧
で形成したペレツト、700気圧でのペレツトに
分け各々30℃、3mmHgで沃素雰囲気下に置き行
い、ドーパント濃度は重量変化から算出した。ド
ープが進むにつれて試料は黄色から茶褐色に変化
し、ペレツトは脆くなつた。ドーパント濃度は
が高くは殆どドープされなかつた。又、電導度
では、ともにおよそ同じ値を示したので、粉
末でドープし、それを加圧形成し測定する方法で
行つた。表4に各々の電導度を示した。 電子受容体である沃素をドープすることにより
電気電導度が大幅に増すことが確認された。
【表】
部を表す。
実施例 6 実施例4で得た銅アセチリド重合体及びこの重
合体に沃素をドープしたものの電気電導度を測定
した結果、未ドープ品は1.77×10-8S/cm、沃素
ドープ品は7.17×10-3S/cmであつた。なお、ド
ープ方法及び電気電導度の測定は実施例5に準じ
て行つた。
実施例 6 実施例4で得た銅アセチリド重合体及びこの重
合体に沃素をドープしたものの電気電導度を測定
した結果、未ドープ品は1.77×10-8S/cm、沃素
ドープ品は7.17×10-3S/cmであつた。なお、ド
ープ方法及び電気電導度の測定は実施例5に準じ
て行つた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 数平均分子量500ないし500000の、下記構造
式()で表される基を繰り返し単位とする芳香
族ビニレンスルフイド重合体。 〔式中のR1,R2,R3,R4はそれぞれ水素、ハ
ロゲン、炭素数1ないし5のアルキル基の中から
選ばれた基を表す〕。 2 上記構造式()のR1,R2,R3,R4が水素
である特許請求の範囲第1項記載の芳香族ビニレ
ンスルフイド重合体。 3 上記構造式()の重合体において、分子末
端がエチニル基である特許請求の範囲第1項又は
第2項記載の芳香族ビニレンスルフイド重合体。 4 上記構造式()の重合体において、分子末
端が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、銅、
銀、金、亜鉛、カドミウム、アルミニウム、トリ
ウム、ウラニウム、希土類元素のいずれかの金属
とのアセチリド基である特許請求の範囲第1項な
いし第3項のいずれかに記載の芳香族ビニレンス
ルフイド重合体。 5 数平均分子量500ないし500000の、下記構造
式 〔式中、R1,R2,R3,R4はそれぞれ水素、ハ
ロゲン、炭素数1ないし5のアルキル基の中から
選ばれた基を表す〕 で表される芳香族ビニレンスルフイド重合体を製
造するに当たり、下記構造式()及び()で
表される化合物を付加重合せしめることを特徴と
する芳香族ビニレンスルフイド重合体の製造法。 〔式中のR1,R2,R3,R4はそれぞれ水素、ハ
ロゲン、炭素数1ないし5のアルキル基の中から
選ばれた基を表す〕。 6 R1,R2,R3,R4が水素である特許請求の範
囲第5項記載の芳香族ビニレンスルフイド重合体
の製造法。 7 上記構造式()及び()を活性光線で照
射して付加重合せしめることを特徴とする特許請
求の範囲第5項又は第6項記載の芳香族ビニレン
スルフイド重合体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59082978A JPS60228540A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 新規な芳香族ビニレンスルフイド重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59082978A JPS60228540A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 新規な芳香族ビニレンスルフイド重合体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60228540A JPS60228540A (ja) | 1985-11-13 |
| JPH0549699B2 true JPH0549699B2 (ja) | 1993-07-27 |
Family
ID=13789298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59082978A Granted JPS60228540A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 新規な芳香族ビニレンスルフイド重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60228540A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0194798B1 (en) * | 1985-03-04 | 1989-06-21 | Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. | Optically functional elements |
| JPH0714978B2 (ja) * | 1987-09-24 | 1995-02-22 | 出光石油化学株式会社 | スチレン系重合体及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-04-26 JP JP59082978A patent/JPS60228540A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60228540A (ja) | 1985-11-13 |
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