JPH0558175B2 - - Google Patents
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- JPH0558175B2 JPH0558175B2 JP58242814A JP24281483A JPH0558175B2 JP H0558175 B2 JPH0558175 B2 JP H0558175B2 JP 58242814 A JP58242814 A JP 58242814A JP 24281483 A JP24281483 A JP 24281483A JP H0558175 B2 JPH0558175 B2 JP H0558175B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- tetrazolium
- diphenyl
- silver halide
- phenyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/067—Additives for high contrast images, other than hydrazine compounds
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関し、
更に詳しくは、安定な現像液によつてコントラス
トが高い画像が得られ、かつ高温、高湿条件下で
の保存安定性が改良されたハロゲン化銀写真感光
材料に関する。 （従来技術） 最近、ハロゲン化銀写真感光材料を用いる画像
処理はエレクトロニクスの発達に伴ない、レーザ
ー光や発光ダイオードによるハロゲン化銀写真感
光材料上でのデジタル出力としてのとり出し方式
が普及しつつある。 このような画像処理システムを安定に行なうた
めには、処理液の安定性を追求するばかりでな
く、ハロゲン化銀写真感光材料の写真性能の安定
性をも改良することが強く要求されている。 すなわち、上記感光材料の長期間の経時安定
性、更には高温、高湿条件下における極めて優れ
た保存安定性が望まれる。 高いコントラストを得る方法として、従来から
比較的微粒子で粒子径分布が狭く、かつ塩化銀含
有率の高い塩臭化銀乳剤からなる感光材料を亜硫
酸塩濃度が非常に小さいアルカリハイドロキノン
現像液で処理する方法、所謂リス現像法が知られ
ている。 しかし、この方法を用いると現像液中の亜硫酸
イオン濃度が小さい為保恒性が極めて悪く、かつ
ハイドロキノン単体主薬を用いる為に迅速処理が
できないという欠点を有していた。 保恒性が良好で迅速処理が可能な超加成性現像
主薬を含有し、比較的濃度の亜硫酸塩を含有する
所謂PQ型あるいはMQ型の現像液による処理に
よつて高いコントラストが得られる感光材料とし
てテトラゾリウム化合物を支持体上の親水性コロ
イド層中に含有させ、これを超加成性型現像液で
処理する技術が、例えば特開昭52−18317号、同
53−17719号および同53−17720号に開示されてい
る。 これらの酸化性を有するテトラゾリウム化合物
を含有する感光材料を超加成性型現像液で処理
し、高いコントラストを有する銀画像を得る方法
は従来技術に対して極めて画期的技術である。 しかしながら、上記の如き技術においては、高
温、高湿等の条件下において感度が変動し、また
コントラストが低下するという欠点を有してい
る。 更に、交線スクリーンまたはコンタクトスクリ
ーンを介して原稿の撮影を行う場合、特に高いコ
ントラストを要求されるが、前記技術は必ずしも
十分満足なコントラストが得られないため、その
改良が望まれていた。 （発明の目的） 本発明の目的は、第１に自動酸化を受け難い保
恒性の良好な安定な現像液を用いて処理しても十
分に高いコントラストを有する画像が得られるハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することにあり、
その第２は画像が高いコントラストであると同時
に高温、高湿条件下においても安定なハロゲン化
銀写真感光材料を提供することにある。 （発明の構成） 上記本発明の目的は、支持体の少なくとも１面
に、少なくとも１層の親水性コロイド層（ハロゲ
ン化銀乳剤層を含む）を塗設してなるハロゲン化
銀写真感光材料において、前記親水性コロイド層
中にアニオン部およびカチオン部からなる2H−
テトラゾリウム化合物を含有し、かつ該テトラゾ
リウム化合物のアニオン部が弗素化されているハ
ロゲン化銀写真感光材料により達成することがで
きる。 以下、本発明を更に詳細に説明する。 本発明は、支持体上に塗設された少なくとも１
層の親水性コロイド層中に、アニオン部が弗素化
されたテトラゾリウム化合物を含有せしめたこと
を特徴とするが、上記テトラゾリウム化合物は下
記一般式〔〕、〔〕または〔〕で示すことが
できる。 一般式〔〕 一般式〔〕 一般式〔〕 式中、R1、R3、R4、R5、R8、R9、R10および
R11は、それぞれアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ドデシル基等）、アルケ
ニル基（例えばビニル基、アリル基、プロペニル
基等）、アリール基（例えばフエニル基、トリル
基、ヒドロキシフエニル基、カルボキシフエニル
基、アミノフエニル基、メルカプトフエニル基、
α−ナフチル基、β−ナフチル基、ヒドロキシナ
フチル基、カルボキシナフチル基、アミノナフチ
ル基等）、および複素環基（例えばチアゾリル基、
ベンゾチアゾリル基、オキサゾリル基、ピリミジ
ニル基、ピリジル基等）から選ばれる基を表わ
し、これらはいずれも金属キレートあるいは錯体
を形成するような基でもよい。 R2、R6およびR7はそれぞれアリル基、置換基
を有してもよいフエニル基、置換基を有してもよ
いナフチル基、複素環基、アルキル基（例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メル
カプトメチル基、メルカプトエチル基等）、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基またはその塩、アル
コキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基等）、アミノ基（例え
ばアミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等）、
メルカプト基、ニトロ基または水素原子から選ば
れる基を表わし、Ｄは２価の芳香族基を表わし、
Ｅはアルキレン基、アリレン基、アラルアルキレ
ン基から選ばれる基を表わし、Ｘ は弗素化され
たアニオンを表わし、ｎは１または２の整数を表
わす。ただし化合物が分子内塩を形成する場合ｎ
は１である。 次に前記一般式〔〕、〔〕または〔〕で表
わされるテトラゾリウム化合物のカチオン部の具
体例を示すが、本発明はこれらのみに限定される
ものではない。 例示化合物： (1) ２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−３−フ
エニル−５−ドデシル−2H−テトラゾリウム (2) ２，３−ジフエニル−５−（４−ｔ−オクチ
ルオキシフエニル）−2H−テトラゾリウム (3) ２，３，５−トリフエニル−2H−テトラゾ
リウム (4) ２，３，５−トリ（ｐ−カルボキシエチルフ
エニル）−2H−テトラゾリウム (5) ２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−３−フ
エニル−５−（ｏ−クロルフエニル）−2H−テ
トラゾリウム (6) ２，３−ジフエニル−2H−テトラゾリウム (7) ２，３−ジフエニル−５−メチル−2H−テ
トラゾリウム (8) ３−（Ｐ−ヒドロキシフエニル）−５−メチル
−２−フエニル−2H−テトラゾリウム (9) ２，３−ジフエニル−５−エチル−2H−テ
トラゾリウム (10) ２，３−ジフエニル−５−ｎ−ヘキシル−
2H−テトラゾリウム (11) ５−シアノ−２，３−ジフエニル−2H−テ
トラゾリウム (12) ２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−５−フ
エニル−３−（４−トリル）−2H−テトラゾリ
ウム (13) ２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−５−
（４−クロロフエニル）−３−（４−ニトロフエ
ニル）−2H−テトラゾリウム (14) ５−エトキシカルボニル−２，３−ジ（３−
ニトロフエニル−2H−テトラゾリウム (15) ５−アセチル−２，３−ジ（ｐ−エトキシフ
エニル）−2H−テトラゾリウム (16) ２，５−ジフエニル−３−（ｐ−トリール）−
2H−テトラゾリウム (17) ２，５−ジフエニル−３−（ｐ−ヨードフエ
ニル）−2H−テトラゾリウム (18) ２，３−ジフエニル−５−（ｐ−ジフエニル）
−2H−テトラゾリウム (19) ５−（ｐ−プロモフエニル）−２−フエニル−
３−（２，４，６−トイクロルフエニル）−2H
−テトラゾリウム (20) ３−（ｐ−ハイドロキシフエニル）−５−（ｐ
−ニトロフエニル）−２−フエニル−2H−テト
ラゾリウム (21) ５−（３，４−ジメトキシフエニル）−３−
（２−エトキシフエニル）−２−（４−メトキシ
フエニル）−2H−テトラゾリウム (22) ５−（４−シアノフエニル）−２，３−ジフ
エニル−2H−テトラゾリウム (23) ３−（ｐ−アセトアミドフエニル）−２，５
−ジフエニル−2H−テトラゾリウム (24) ５−アセチル−２，３−ジフエニル−2H
−テトラゾリウム (25) ５−（フル−２−イル）−２，３−ジフエニ
ル−2H−テトラゾリウム (26) ５−（チエン−２−イル）−２，３−ジフエ
ニル−2H−テトラゾリウム (27) ２，３−ジフエニル−５−（ピリド−４−
イル）−2H−テトラゾリウム (28) ２，３−ジフエニル−５−（キノール−２
−イル）−2H−テトラゾリウム (29) ２，３−ジフエニル−５−（ベンゾオキサ
ゾール−２−イル）−2H−テトラゾリウム (30) ２，３，５−トリ（ｐ−エチルフエニル）
−2H−テトラゾリウム (31) ２，３，５−トリ（ｐ−アリルフエニル）
−2H−テトラゾリウム (32) ２，３，５−トリ（ｐ−ヒドロキシエチル
オキシエトキシフエニル）−2H−テトラゾリウ
ム (33) ２，３，５−トリ（ｐ−ドデシルフエニ
ル）−2H−テトラゾリウム (34) ２，３，５−トリ（ｐ−ベンジルフエニ
ル）−2H−テトラゾリウム 次に前記一般式〔〕、〔〕または〔〕で表
わされるテトラゾリウム化合物のアニオン部は下
記一般式〔ａ〕、〔ｂ〕、〔ｃ〕、〔ｄ〕または〔ｅ〕
で表わすことができる。 一般式〔ａ〕 式中、R12は炭素原子数１〜32のアルキル基
で、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘ
キシル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシル
基等を表わすが、これらの基は少なくとも１つの
弗素原子で置換されている。ｎは１〜３の整数を
表わし、n1は０〜４の整数を表わす。 一般式〔ｂ〕 一般式〔ｃ〕 式中、R13、R14、R16、R17およびR18は、それ
ぞれ炭素原子数１〜32の直鎖または分岐状のアル
キル基で、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オ
クタデシル基等を表わすが環状をなすアルキル基
でもよく、これらの基は少なくとも１つの弗素原
子で置換されている。またR13、R14、R16、R17
およびR18は、それぞれアリール基、例えばフエ
ニル基、ナフチル基等を表わし、これらのアリー
ル基は少くとも１つの弗素原子または少なくとも
１つの弗素原子で置換された基で置換されてい
る。 さらにR15およびR19はカルボキシラト基、ス
ルホナト基またはリン酸基等の酸基を表わす。 一般式〔ｄ〕 式中、R20は炭素原子数１〜32の飽和、不飽和
の直鎖または分岐状のアルキル基を表わし、例え
ば飽和アルキル基としては、メチル基、エチル
基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基等を表わし、不飽和アル
キル基としては例えばアリル基、ブデニル基、オ
クテニル基等を表わす。そしてこれらの飽和、不
飽和のアルキル基は少なくとも１つの弗素原子で
置換されている。n2およびn3は１〜３の整数を示
す。またn4は０〜６の整数を表わす。 一般式〔ｅ〕 式中、Ｙは硫黄原子、セレン原子、酸素原子、
窒素原子または
更に詳しくは、安定な現像液によつてコントラス
トが高い画像が得られ、かつ高温、高湿条件下で
の保存安定性が改良されたハロゲン化銀写真感光
材料に関する。 （従来技術） 最近、ハロゲン化銀写真感光材料を用いる画像
処理はエレクトロニクスの発達に伴ない、レーザ
ー光や発光ダイオードによるハロゲン化銀写真感
光材料上でのデジタル出力としてのとり出し方式
が普及しつつある。 このような画像処理システムを安定に行なうた
めには、処理液の安定性を追求するばかりでな
く、ハロゲン化銀写真感光材料の写真性能の安定
性をも改良することが強く要求されている。 すなわち、上記感光材料の長期間の経時安定
性、更には高温、高湿条件下における極めて優れ
た保存安定性が望まれる。 高いコントラストを得る方法として、従来から
比較的微粒子で粒子径分布が狭く、かつ塩化銀含
有率の高い塩臭化銀乳剤からなる感光材料を亜硫
酸塩濃度が非常に小さいアルカリハイドロキノン
現像液で処理する方法、所謂リス現像法が知られ
ている。 しかし、この方法を用いると現像液中の亜硫酸
イオン濃度が小さい為保恒性が極めて悪く、かつ
ハイドロキノン単体主薬を用いる為に迅速処理が
できないという欠点を有していた。 保恒性が良好で迅速処理が可能な超加成性現像
主薬を含有し、比較的濃度の亜硫酸塩を含有する
所謂PQ型あるいはMQ型の現像液による処理に
よつて高いコントラストが得られる感光材料とし
てテトラゾリウム化合物を支持体上の親水性コロ
イド層中に含有させ、これを超加成性型現像液で
処理する技術が、例えば特開昭52−18317号、同
53−17719号および同53−17720号に開示されてい
る。 これらの酸化性を有するテトラゾリウム化合物
を含有する感光材料を超加成性型現像液で処理
し、高いコントラストを有する銀画像を得る方法
は従来技術に対して極めて画期的技術である。 しかしながら、上記の如き技術においては、高
温、高湿等の条件下において感度が変動し、また
コントラストが低下するという欠点を有してい
る。 更に、交線スクリーンまたはコンタクトスクリ
ーンを介して原稿の撮影を行う場合、特に高いコ
ントラストを要求されるが、前記技術は必ずしも
十分満足なコントラストが得られないため、その
改良が望まれていた。 （発明の目的） 本発明の目的は、第１に自動酸化を受け難い保
恒性の良好な安定な現像液を用いて処理しても十
分に高いコントラストを有する画像が得られるハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することにあり、
その第２は画像が高いコントラストであると同時
に高温、高湿条件下においても安定なハロゲン化
銀写真感光材料を提供することにある。 （発明の構成） 上記本発明の目的は、支持体の少なくとも１面
に、少なくとも１層の親水性コロイド層（ハロゲ
ン化銀乳剤層を含む）を塗設してなるハロゲン化
銀写真感光材料において、前記親水性コロイド層
中にアニオン部およびカチオン部からなる2H−
テトラゾリウム化合物を含有し、かつ該テトラゾ
リウム化合物のアニオン部が弗素化されているハ
ロゲン化銀写真感光材料により達成することがで
きる。 以下、本発明を更に詳細に説明する。 本発明は、支持体上に塗設された少なくとも１
層の親水性コロイド層中に、アニオン部が弗素化
されたテトラゾリウム化合物を含有せしめたこと
を特徴とするが、上記テトラゾリウム化合物は下
記一般式〔〕、〔〕または〔〕で示すことが
できる。 一般式〔〕 一般式〔〕 一般式〔〕 式中、R1、R3、R4、R5、R8、R9、R10および
R11は、それぞれアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ドデシル基等）、アルケ
ニル基（例えばビニル基、アリル基、プロペニル
基等）、アリール基（例えばフエニル基、トリル
基、ヒドロキシフエニル基、カルボキシフエニル
基、アミノフエニル基、メルカプトフエニル基、
α−ナフチル基、β−ナフチル基、ヒドロキシナ
フチル基、カルボキシナフチル基、アミノナフチ
ル基等）、および複素環基（例えばチアゾリル基、
ベンゾチアゾリル基、オキサゾリル基、ピリミジ
ニル基、ピリジル基等）から選ばれる基を表わ
し、これらはいずれも金属キレートあるいは錯体
を形成するような基でもよい。 R2、R6およびR7はそれぞれアリル基、置換基
を有してもよいフエニル基、置換基を有してもよ
いナフチル基、複素環基、アルキル基（例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メル
カプトメチル基、メルカプトエチル基等）、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基またはその塩、アル
コキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基等）、アミノ基（例え
ばアミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等）、
メルカプト基、ニトロ基または水素原子から選ば
れる基を表わし、Ｄは２価の芳香族基を表わし、
Ｅはアルキレン基、アリレン基、アラルアルキレ
ン基から選ばれる基を表わし、Ｘ は弗素化され
たアニオンを表わし、ｎは１または２の整数を表
わす。ただし化合物が分子内塩を形成する場合ｎ
は１である。 次に前記一般式〔〕、〔〕または〔〕で表
わされるテトラゾリウム化合物のカチオン部の具
体例を示すが、本発明はこれらのみに限定される
ものではない。 例示化合物： (1) ２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−３−フ
エニル−５−ドデシル−2H−テトラゾリウム (2) ２，３−ジフエニル−５−（４−ｔ−オクチ
ルオキシフエニル）−2H−テトラゾリウム (3) ２，３，５−トリフエニル−2H−テトラゾ
リウム (4) ２，３，５−トリ（ｐ−カルボキシエチルフ
エニル）−2H−テトラゾリウム (5) ２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−３−フ
エニル−５−（ｏ−クロルフエニル）−2H−テ
トラゾリウム (6) ２，３−ジフエニル−2H−テトラゾリウム (7) ２，３−ジフエニル−５−メチル−2H−テ
トラゾリウム (8) ３−（Ｐ−ヒドロキシフエニル）−５−メチル
−２−フエニル−2H−テトラゾリウム (9) ２，３−ジフエニル−５−エチル−2H−テ
トラゾリウム (10) ２，３−ジフエニル−５−ｎ−ヘキシル−
2H−テトラゾリウム (11) ５−シアノ−２，３−ジフエニル−2H−テ
トラゾリウム (12) ２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−５−フ
エニル−３−（４−トリル）−2H−テトラゾリ
ウム (13) ２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−５−
（４−クロロフエニル）−３−（４−ニトロフエ
ニル）−2H−テトラゾリウム (14) ５−エトキシカルボニル−２，３−ジ（３−
ニトロフエニル−2H−テトラゾリウム (15) ５−アセチル−２，３−ジ（ｐ−エトキシフ
エニル）−2H−テトラゾリウム (16) ２，５−ジフエニル−３−（ｐ−トリール）−
2H−テトラゾリウム (17) ２，５−ジフエニル−３−（ｐ−ヨードフエ
ニル）−2H−テトラゾリウム (18) ２，３−ジフエニル−５−（ｐ−ジフエニル）
−2H−テトラゾリウム (19) ５−（ｐ−プロモフエニル）−２−フエニル−
３−（２，４，６−トイクロルフエニル）−2H
−テトラゾリウム (20) ３−（ｐ−ハイドロキシフエニル）−５−（ｐ
−ニトロフエニル）−２−フエニル−2H−テト
ラゾリウム (21) ５−（３，４−ジメトキシフエニル）−３−
（２−エトキシフエニル）−２−（４−メトキシ
フエニル）−2H−テトラゾリウム (22) ５−（４−シアノフエニル）−２，３−ジフ
エニル−2H−テトラゾリウム (23) ３−（ｐ−アセトアミドフエニル）−２，５
−ジフエニル−2H−テトラゾリウム (24) ５−アセチル−２，３−ジフエニル−2H
−テトラゾリウム (25) ５−（フル−２−イル）−２，３−ジフエニ
ル−2H−テトラゾリウム (26) ５−（チエン−２−イル）−２，３−ジフエ
ニル−2H−テトラゾリウム (27) ２，３−ジフエニル−５−（ピリド−４−
イル）−2H−テトラゾリウム (28) ２，３−ジフエニル−５−（キノール−２
−イル）−2H−テトラゾリウム (29) ２，３−ジフエニル−５−（ベンゾオキサ
ゾール−２−イル）−2H−テトラゾリウム (30) ２，３，５−トリ（ｐ−エチルフエニル）
−2H−テトラゾリウム (31) ２，３，５−トリ（ｐ−アリルフエニル）
−2H−テトラゾリウム (32) ２，３，５−トリ（ｐ−ヒドロキシエチル
オキシエトキシフエニル）−2H−テトラゾリウ
ム (33) ２，３，５−トリ（ｐ−ドデシルフエニ
ル）−2H−テトラゾリウム (34) ２，３，５−トリ（ｐ−ベンジルフエニ
ル）−2H−テトラゾリウム 次に前記一般式〔〕、〔〕または〔〕で表
わされるテトラゾリウム化合物のアニオン部は下
記一般式〔ａ〕、〔ｂ〕、〔ｃ〕、〔ｄ〕または〔ｅ〕
で表わすことができる。 一般式〔ａ〕 式中、R12は炭素原子数１〜32のアルキル基
で、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘ
キシル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシル
基等を表わすが、これらの基は少なくとも１つの
弗素原子で置換されている。ｎは１〜３の整数を
表わし、n1は０〜４の整数を表わす。 一般式〔ｂ〕 一般式〔ｃ〕 式中、R13、R14、R16、R17およびR18は、それ
ぞれ炭素原子数１〜32の直鎖または分岐状のアル
キル基で、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オ
クタデシル基等を表わすが環状をなすアルキル基
でもよく、これらの基は少なくとも１つの弗素原
子で置換されている。またR13、R14、R16、R17
およびR18は、それぞれアリール基、例えばフエ
ニル基、ナフチル基等を表わし、これらのアリー
ル基は少くとも１つの弗素原子または少なくとも
１つの弗素原子で置換された基で置換されてい
る。 さらにR15およびR19はカルボキシラト基、ス
ルホナト基またはリン酸基等の酸基を表わす。 一般式〔ｄ〕 式中、R20は炭素原子数１〜32の飽和、不飽和
の直鎖または分岐状のアルキル基を表わし、例え
ば飽和アルキル基としては、メチル基、エチル
基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基等を表わし、不飽和アル
キル基としては例えばアリル基、ブデニル基、オ
クテニル基等を表わす。そしてこれらの飽和、不
飽和のアルキル基は少なくとも１つの弗素原子で
置換されている。n2およびn3は１〜３の整数を示
す。またn4は０〜６の整数を表わす。 一般式〔ｅ〕 式中、Ｙは硫黄原子、セレン原子、酸素原子、
窒素原子または
【式】基（こゝでR22は水素
原または炭素原子数１〜３のアルキル基、例えば
メチル基、エチル基を表わす）を表わしR21は、
前記一般式〔ａ〕におけるR12で表わされる基と
同義の基または少なくとも１つの弗素原子で置換
されたアリール基（例えばフエニル基、ナフチル
基等）を表わす。またＺは、５員または６員ヘテ
ロ環を形成するのに必要な原子群を表わし、これ
らの例としては、チアゾール環、セレナゾール
環、オキサゾール環、イミダゾール環、ピラゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環、ピリミ
ジン環、トリアジン環等を挙げることができる。 上記のヘテロ環には更にアルキル基、アリール
基等の置換基を有してもよく、またこれらの置換
基には弗素原子が置換されてもよい。 次に上記一般式〔ａ〕乃至〔ｅ〕で表わされる
テトラゾリウム化合物のアニオン部の具体例を示
すが、本発明に用いることのできる化合物はこれ
らに限定されるものではない。 （例示化合物）
メチル基、エチル基を表わす）を表わしR21は、
前記一般式〔ａ〕におけるR12で表わされる基と
同義の基または少なくとも１つの弗素原子で置換
されたアリール基（例えばフエニル基、ナフチル
基等）を表わす。またＺは、５員または６員ヘテ
ロ環を形成するのに必要な原子群を表わし、これ
らの例としては、チアゾール環、セレナゾール
環、オキサゾール環、イミダゾール環、ピラゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環、ピリミ
ジン環、トリアジン環等を挙げることができる。 上記のヘテロ環には更にアルキル基、アリール
基等の置換基を有してもよく、またこれらの置換
基には弗素原子が置換されてもよい。 次に上記一般式〔ａ〕乃至〔ｅ〕で表わされる
テトラゾリウム化合物のアニオン部の具体例を示
すが、本発明に用いることのできる化合物はこれ
らに限定されるものではない。 （例示化合物）
【表】
【表】
−○
CF３(CF２)５OOCCH−SO３
CF３(CF２)５OOCCH−SO３
【表】
【表】
（工程） （温度） （時間）
現 像 30℃ 30秒
定 着 30℃ 20秒
水 洗 常温 20秒
〔現像液組成〕
純水 150ml
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 ２ｇ
亜硫酸カリウム（55％水溶液） 100ml
炭酸カリウム 50ｇ
ハイドロキノン 10ｇ
５−メチルベンゾトリアゾール 200mg
１−フエニル−５−メルカプトテトラゾール
30mg 臭化カリウム ２ｇ （組成Ｂ） ジエチレングリコール 50ｇ 純水 ３ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 25mg 酢酸（90％溶液） 0.3ml ５−ニトロインダゾール 110mg １−フエニル−３−ピラゾリドン 200mg 亜硫酸カリウム（55％水溶液） １ml 現像液の使用時に純水500ml中に上記組成Ａ、
組成Ｂの順に溶かし、１に仕上げて用いた。 これらのテスト試料について、塗布直後及び一
定期間後のコントラストの変化を調べるため、上
記テスト試料を25℃で相対湿度50％で調湿後、写
真用バリア包材に密封して50℃で30日間加熱処理
した。 得られた結果を第１表に示した。
30mg 臭化カリウム ２ｇ （組成Ｂ） ジエチレングリコール 50ｇ 純水 ３ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 25mg 酢酸（90％溶液） 0.3ml ５−ニトロインダゾール 110mg １−フエニル−３−ピラゾリドン 200mg 亜硫酸カリウム（55％水溶液） １ml 現像液の使用時に純水500ml中に上記組成Ａ、
組成Ｂの順に溶かし、１に仕上げて用いた。 これらのテスト試料について、塗布直後及び一
定期間後のコントラストの変化を調べるため、上
記テスト試料を25℃で相対湿度50％で調湿後、写
真用バリア包材に密封して50℃で30日間加熱処理
した。 得られた結果を第１表に示した。
【表】
（比較化合物）
上記表においてコントラストは示性曲線で濃度
1.0から2.5を得る各点間の傾きを表わす値であ
る。 この表から本発明の化合物が添加された白黒ハ
ロゲン化銀写真感光材料は、本発明以外のテトラ
ゾリウム化合物が添加された感光材料に比較して
著じるしく超硬調であり、しかも高温、高湿下で
長期間保存しても、その硬調性にまつたく変化が
見られず安定であることが判る。 一方テトラゾリウム化合物を含有しない比較試
料(1)は全く軟調であり、印刷用リス型感光材料と
しては使用し得ないものであることもわかつた。 実施例 ２ 乳剤中に添加したテトラゾリウムクロライドの
カチオン部を第２表に示したテトラゾリウム化合
物に変え、保護膜液に添加したテトラゾリウム化
合物の弗素化アニオン部を添加しないほかは、実
施例１と同様の実験を行つた。その結果を下記第
２表に示す。
1.0から2.5を得る各点間の傾きを表わす値であ
る。 この表から本発明の化合物が添加された白黒ハ
ロゲン化銀写真感光材料は、本発明以外のテトラ
ゾリウム化合物が添加された感光材料に比較して
著じるしく超硬調であり、しかも高温、高湿下で
長期間保存しても、その硬調性にまつたく変化が
見られず安定であることが判る。 一方テトラゾリウム化合物を含有しない比較試
料(1)は全く軟調であり、印刷用リス型感光材料と
しては使用し得ないものであることもわかつた。 実施例 ２ 乳剤中に添加したテトラゾリウムクロライドの
カチオン部を第２表に示したテトラゾリウム化合
物に変え、保護膜液に添加したテトラゾリウム化
合物の弗素化アニオン部を添加しないほかは、実
施例１と同様の実験を行つた。その結果を下記第
２表に示す。
【表】
第２表から、アニオン部が弗素化されているテ
トラゾリウム化合物はアニオン部が弗素化されて
いないテトラゾリウム化合物及び1H−テトラゾ
リウム化合物と比較して画像の高コントラスト及
び高温、高湿条件下における安定性が優れている
ことが分かる。 （発明の効果） 親水性コロイド層中に本発明に係わるテトラゾ
リウム化合物を含有せしめた感光材料は、安定性
のよい現像液を用いることができ、コントラスト
が高く、かつ高温、高湿条件下においても画像特
性の安定した感光材料である。
トラゾリウム化合物はアニオン部が弗素化されて
いないテトラゾリウム化合物及び1H−テトラゾ
リウム化合物と比較して画像の高コントラスト及
び高温、高湿条件下における安定性が優れている
ことが分かる。 （発明の効果） 親水性コロイド層中に本発明に係わるテトラゾ
リウム化合物を含有せしめた感光材料は、安定性
のよい現像液を用いることができ、コントラスト
が高く、かつ高温、高湿条件下においても画像特
性の安定した感光材料である。
Claims (1)
- １ 支持体の少なくとも１面に、少なくとも１層
の親水性コロイド層（ハロゲン化銀乳剤層を含
む）を塗設してなるハロゲン化銀写真感光材料に
おいて、前記親水性コロイド層の少なくとも１層
中にアニオン部およびカチオン部からなる2H−
テトラゾリウム化合物を含有し、かつ該2H−テ
トラゾリウム化合物のアニオン部が弗素化されて
いることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24281483A JPS60133441A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24281483A JPS60133441A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60133441A JPS60133441A (ja) | 1985-07-16 |
| JPH0558175B2 true JPH0558175B2 (ja) | 1993-08-25 |
Family
ID=17094681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24281483A Granted JPS60133441A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60133441A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6364040A (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-22 | Konica Corp | 保存性等が改良された高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS63106645A (ja) * | 1986-10-22 | 1988-05-11 | Konica Corp | 保存安定性等が改良されたハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH0778615B2 (ja) * | 1987-12-07 | 1995-08-23 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5536840A (en) * | 1978-09-07 | 1980-03-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Silver halide photographic material |
| JPS58173737A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 |
-
1983
- 1983-12-21 JP JP24281483A patent/JPS60133441A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60133441A (ja) | 1985-07-16 |
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