JPH0562732B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0562732B2 JPH0562732B2 JP60107786A JP10778685A JPH0562732B2 JP H0562732 B2 JPH0562732 B2 JP H0562732B2 JP 60107786 A JP60107786 A JP 60107786A JP 10778685 A JP10778685 A JP 10778685A JP H0562732 B2 JPH0562732 B2 JP H0562732B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- equivalent
- acid
- photosensitive resin
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4673—Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
- H05K3/4676—Single layer compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性樹脂組成物に関する。更に詳し
くは印刷配線板製造、金属精密加工等に使用し得
る優れた特性を有する保護膜形成用の感光性樹脂
組成物に関する。
くは印刷配線板製造、金属精密加工等に使用し得
る優れた特性を有する保護膜形成用の感光性樹脂
組成物に関する。
(従来の技術)
従来、精密加工業界、例えば印刷配線板製造等
においてめつきあるいはエツチングのためのレジ
スト形成に感光性樹脂組成物を用いることは良く
知られている。また最近では無電解めつきマス
ク、ソルダマスク等の永久マスクの分野にも感光
性樹脂組成物が用いられてきている。
においてめつきあるいはエツチングのためのレジ
スト形成に感光性樹脂組成物を用いることは良く
知られている。また最近では無電解めつきマス
ク、ソルダマスク等の永久マスクの分野にも感光
性樹脂組成物が用いられてきている。
永久マスクは、耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性、
電気的特性、機械的特性等の優れた特性が要求さ
れるため、使用できる感光性樹脂は限られてい
る。特開昭52−117985号公報、特開昭54−1018号
公報、特開昭53−56018号公報等には永久マスク
として使用可能な感光性樹脂組成物が開示されて
いる。しかしこれらの感光性樹脂組成物は高分子
結合剤およびモノマを主成分としており厚膜の保
護被膜の形成には不向きである。すなわち、これ
らの感光性樹脂組成物ではガラス転移温度の高
い、高分子結合剤が用いられているため、感光層
を形成する場合には、まず該感光性樹脂組成物を
トルエン、メチルエチルケトン、塩化メチレン等
の有機溶剤に均一に溶解または分散させ、次に塗
布、乾燥して感光層を形成しなければならない。
そのため、厚膜になると、乾燥時に気泡が発生し
たり、樹脂の流動が起こり易く、均一な保護被膜
形成は困難である。
電気的特性、機械的特性等の優れた特性が要求さ
れるため、使用できる感光性樹脂は限られてい
る。特開昭52−117985号公報、特開昭54−1018号
公報、特開昭53−56018号公報等には永久マスク
として使用可能な感光性樹脂組成物が開示されて
いる。しかしこれらの感光性樹脂組成物は高分子
結合剤およびモノマを主成分としており厚膜の保
護被膜の形成には不向きである。すなわち、これ
らの感光性樹脂組成物ではガラス転移温度の高
い、高分子結合剤が用いられているため、感光層
を形成する場合には、まず該感光性樹脂組成物を
トルエン、メチルエチルケトン、塩化メチレン等
の有機溶剤に均一に溶解または分散させ、次に塗
布、乾燥して感光層を形成しなければならない。
そのため、厚膜になると、乾燥時に気泡が発生し
たり、樹脂の流動が起こり易く、均一な保護被膜
形成は困難である。
特公昭55−127097号公報、特開昭49−107048号
公報等には永久マスクとして使用可能な無溶剤型
の感光性樹脂組成物が提案されている。しかし、
これらの液状組成物は厚膜、高解像度の保護膜形
成には不向きである。すなわち、これらの液状組
成物では溶解性に劣るエポキシアクリレートが用
いられているため現像性に劣り、通常のエツチン
グおよびめつき用フイルム状感光材料(デユポン
社製リストン、日立化成工業(株)製フオテツク等)
に使用されている1,1,1−トリクロルエタン
等の難燃性現像液で厚膜、高解像度の画像形成は
困難であり、また感度も必ずしも十分とはいえな
い。
公報等には永久マスクとして使用可能な無溶剤型
の感光性樹脂組成物が提案されている。しかし、
これらの液状組成物は厚膜、高解像度の保護膜形
成には不向きである。すなわち、これらの液状組
成物では溶解性に劣るエポキシアクリレートが用
いられているため現像性に劣り、通常のエツチン
グおよびめつき用フイルム状感光材料(デユポン
社製リストン、日立化成工業(株)製フオテツク等)
に使用されている1,1,1−トリクロルエタン
等の難燃性現像液で厚膜、高解像度の画像形成は
困難であり、また感度も必ずしも十分とはいえな
い。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去
し、1,1,1−トリクロルエタン等の難燃性現
像液で厚膜、高解像度の画像を形成でき、かつ耐
熱性にも優れた高信頼性ソルダマスクを形成する
ことのできる感光性樹脂組成物を提供することに
ある。
し、1,1,1−トリクロルエタン等の難燃性現
像液で厚膜、高解像度の画像を形成でき、かつ耐
熱性にも優れた高信頼性ソルダマスクを形成する
ことのできる感光性樹脂組成物を提供することに
ある。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、
(a) 少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物
と不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当
量比が0.1〜0.98の範囲で付加反応させて得ら
れる不飽和化合物に、不飽和化合物の水酸基に
対し、イソシアナートエチルメタクリレート
を、イソシアナート当量/水酸基当量比が0.1
〜1.2の範囲で反応させて得られる光重合性プ
レポリマ (b) 光重合性単量体 並びに (c) 活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤
および(または)増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
と不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当
量比が0.1〜0.98の範囲で付加反応させて得ら
れる不飽和化合物に、不飽和化合物の水酸基に
対し、イソシアナートエチルメタクリレート
を、イソシアナート当量/水酸基当量比が0.1
〜1.2の範囲で反応させて得られる光重合性プ
レポリマ (b) 光重合性単量体 並びに (c) 活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤
および(または)増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
本発明の感光性樹脂組成物は必須成分(a)とし
て、少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物
と不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量
比が0.1〜0.98の範囲で付加反応させて得られる
不飽和化合物に、不飽和化合物の水酸基に対し、
イソシアナートエチルメタクリレートを、イソシ
アナート当量/水酸基当量比が0.1〜1.2の範囲で
反応させて得られる光重合性プレポリマを含有す
る。
て、少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物
と不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量
比が0.1〜0.98の範囲で付加反応させて得られる
不飽和化合物に、不飽和化合物の水酸基に対し、
イソシアナートエチルメタクリレートを、イソシ
アナート当量/水酸基当量比が0.1〜1.2の範囲で
反応させて得られる光重合性プレポリマを含有す
る。
少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物
は、エポキシ基の他に分子内にエポキシ基以外の
官能基、例えば水酸基、アクリル基、メタクリル
基、アクリル基等を持つことができる。
は、エポキシ基の他に分子内にエポキシ基以外の
官能基、例えば水酸基、アクリル基、メタクリル
基、アクリル基等を持つことができる。
少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物と
しては、例えばビスフエノールAとエピクロルヒ
ドリンとを反応させて得られるビスアエノールA
型エポキシ樹脂(例えばシエル化学製エピコート
812、エピコート828、エピコート1001等)臭素化
ビスフエノールA型エポキシ樹脂(例えば東都化
成(株)製エピトートYDB−340、YDB−400等)、
ビスフエノールF型エポキシ樹脂(例えば東都化
成(株)製エポトートYDF−170、YDF−190等)、
ビスフエノールAにアルキレンオキサイドを付加
した後エピクロルヒドリンを反応させて得られる
エポキシ化合物(例えば共栄社油脂(株)製エポライ
ト3002等)、水添ビスフエノールA型エポキシ樹
脂(例えば東都化成(株)製サントートST−1000、
ST−3000等)、グリオキザール型エポキシ樹脂
(例えば東都化成(株)製エポトートYDG−414等)、
グリシジルアミン型エポキシ樹脂(例えば東都化
成(株)製エポトートYDM−120、YH−434等)、オ
ルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹脂(例え
ば日本化薬(株)製EOCN102等)、フエノールノボラ
ツク型エポキシ樹脂(例えば東都化成(株)製
YDPN−638等)、臭素化フエノールノボラツク
型エポキシ樹脂(例えば日本化薬(株)製BREN
等)、脂環式エポキシ化合物(例えばチツソ(株)製
チツソノツクス221、チツソノツクス201等)、フ
タル酸等のジカルボン酸とエピクロルヒドリンと
の反応により得られるグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂(例えば昭和電工(株)製シヨウダイン508、
シヨウダイン540、シヨウダイン550等)、ポリブ
タジエンのエポキシ化物、グリシジルアミン型エ
ポキシ樹脂(シエル化学(株)製エピコート604等)、
トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、グリシジルメタクリレート、グリシジルアク
リレート、アリルグリシジルエーテル等が挙げら
れる。
しては、例えばビスフエノールAとエピクロルヒ
ドリンとを反応させて得られるビスアエノールA
型エポキシ樹脂(例えばシエル化学製エピコート
812、エピコート828、エピコート1001等)臭素化
ビスフエノールA型エポキシ樹脂(例えば東都化
成(株)製エピトートYDB−340、YDB−400等)、
ビスフエノールF型エポキシ樹脂(例えば東都化
成(株)製エポトートYDF−170、YDF−190等)、
ビスフエノールAにアルキレンオキサイドを付加
した後エピクロルヒドリンを反応させて得られる
エポキシ化合物(例えば共栄社油脂(株)製エポライ
ト3002等)、水添ビスフエノールA型エポキシ樹
脂(例えば東都化成(株)製サントートST−1000、
ST−3000等)、グリオキザール型エポキシ樹脂
(例えば東都化成(株)製エポトートYDG−414等)、
グリシジルアミン型エポキシ樹脂(例えば東都化
成(株)製エポトートYDM−120、YH−434等)、オ
ルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹脂(例え
ば日本化薬(株)製EOCN102等)、フエノールノボラ
ツク型エポキシ樹脂(例えば東都化成(株)製
YDPN−638等)、臭素化フエノールノボラツク
型エポキシ樹脂(例えば日本化薬(株)製BREN
等)、脂環式エポキシ化合物(例えばチツソ(株)製
チツソノツクス221、チツソノツクス201等)、フ
タル酸等のジカルボン酸とエピクロルヒドリンと
の反応により得られるグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂(例えば昭和電工(株)製シヨウダイン508、
シヨウダイン540、シヨウダイン550等)、ポリブ
タジエンのエポキシ化物、グリシジルアミン型エ
ポキシ樹脂(シエル化学(株)製エピコート604等)、
トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、グリシジルメタクリレート、グリシジルアク
リレート、アリルグリシジルエーテル等が挙げら
れる。
不飽和カルボン酸としてはアクリル酸、メタク
リル酸、β−フリルアクリル酸、β−スチリルア
クリル酸、α−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用
いられる。
リル酸、β−フリルアクリル酸、β−スチリルア
クリル酸、α−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用
いられる。
本発明において、これらの少なくとも1個のエ
ポキシ基を有する化合物と不飽和カルボン酸との
付加反応は式()に示すようであり、酸当量/
エポキシ当量比が0.1〜0.98の範囲で常法により
行なわれる。酸当量/エポキシ当量比が0.1未満
ではイメージ露光後の現像処理により光硬化被膜
が膨潤しやすい。酸当量/エポキシ当量比が0.98
を超える場合には、密着性、耐熱性等が低下す
る。
ポキシ基を有する化合物と不飽和カルボン酸との
付加反応は式()に示すようであり、酸当量/
エポキシ当量比が0.1〜0.98の範囲で常法により
行なわれる。酸当量/エポキシ当量比が0.1未満
ではイメージ露光後の現像処理により光硬化被膜
が膨潤しやすい。酸当量/エポキシ当量比が0.98
を超える場合には、密着性、耐熱性等が低下す
る。
本発明の不飽和化合物は、例えば触媒としてト
リエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジエ
チルシクロヘキシルアミン等の3級アミン、塩化
ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジル
トリエチルアンモニウム等の4級アンモニウム塩
を、また重合禁止剤としてハイドロキノン、p−
メトキシフエノール等を用い、70〜110℃で前記
不飽和カルボン酸と前記エポキシ基を有する化合
物を攪拌反応させることにより得られる。この反
応にあたつては、反応溶媒としてメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセテート、1,1,1
−トリクロルエタン等の有機溶剤、ポリプロピレ
ングリコールジアクリレート、エチルカルビトー
ルアクリレート等の光重合性単量体を用いること
ができる。
リエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジエ
チルシクロヘキシルアミン等の3級アミン、塩化
ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジル
トリエチルアンモニウム等の4級アンモニウム塩
を、また重合禁止剤としてハイドロキノン、p−
メトキシフエノール等を用い、70〜110℃で前記
不飽和カルボン酸と前記エポキシ基を有する化合
物を攪拌反応させることにより得られる。この反
応にあたつては、反応溶媒としてメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセテート、1,1,1
−トリクロルエタン等の有機溶剤、ポリプロピレ
ングリコールジアクリレート、エチルカルビトー
ルアクリレート等の光重合性単量体を用いること
ができる。
上記のようにエポキシ基を有する化合物と不飽
和カルボン酸とを付加反応させて得られる不飽和
化合物に対するイソシアナートエチルメタクリレ
ートの反応は式()に示すようであり、不飽和
化合物の全水酸基に対するイソシアナートエチル
メタクリレートの反応はイソシアナート当量/水
酸基当量比が0.1〜1.2の範囲で常法により行なわ
れる。イソシアナート当量/水酸基当量比が0.1
未満の場合には、1,1,1−トリクロルエタン
等の難燃性有機溶剤による現像が困難となり、ま
た光硬化性も低下する。イソシネート当量/水酸
基当量比が1.2を超える場合には、反応時にゲル
化しやすく、また耐熱性等の特性も低下する。反
応後、メタノール、エタノール、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート等のアルコールを用いて、残
存するイソシアナートエチルメタクリレートをウ
レタン化し失活させることが、安全上および保存
安定性向上の上で望ましい。
和カルボン酸とを付加反応させて得られる不飽和
化合物に対するイソシアナートエチルメタクリレ
ートの反応は式()に示すようであり、不飽和
化合物の全水酸基に対するイソシアナートエチル
メタクリレートの反応はイソシアナート当量/水
酸基当量比が0.1〜1.2の範囲で常法により行なわ
れる。イソシアナート当量/水酸基当量比が0.1
未満の場合には、1,1,1−トリクロルエタン
等の難燃性有機溶剤による現像が困難となり、ま
た光硬化性も低下する。イソシネート当量/水酸
基当量比が1.2を超える場合には、反応時にゲル
化しやすく、また耐熱性等の特性も低下する。反
応後、メタノール、エタノール、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート等のアルコールを用いて、残
存するイソシアナートエチルメタクリレートをウ
レタン化し失活させることが、安全上および保存
安定性向上の上で望ましい。
イソシアナートエチルメタクリレートとして
は、例えばダウケミカル社製のものが用いられ
る。
は、例えばダウケミカル社製のものが用いられ
る。
例えば前記の少なくとも1個のエポキシ基を有
する化合物とは不飽和カルボン酸との付加反応を
行ない、次いでこの生成物にジブチルチンジラウ
レート、ジブチルチンジ2エチルヘキソエート等
のウレタン化触媒を添加し、上記の当量比の範囲
でイソシアナートエチルメタクリレートを50〜
110℃で攪拌反応させることにより、光重合性プ
レポリマが得られる。このような反応条件下では
ウレタン結合とエポキシ基との反応、不飽和結合
の熱重合等の副反応を防止することができ、その
結果ゲル状物を生成させることなく、光重合性製
プレポリマを得ることができる。
する化合物とは不飽和カルボン酸との付加反応を
行ない、次いでこの生成物にジブチルチンジラウ
レート、ジブチルチンジ2エチルヘキソエート等
のウレタン化触媒を添加し、上記の当量比の範囲
でイソシアナートエチルメタクリレートを50〜
110℃で攪拌反応させることにより、光重合性プ
レポリマが得られる。このような反応条件下では
ウレタン結合とエポキシ基との反応、不飽和結合
の熱重合等の副反応を防止することができ、その
結果ゲル状物を生成させることなく、光重合性製
プレポリマを得ることができる。
本発明において特に好ましい光重合性プレポリ
マとしては、オルソクレゾールノボラツク型エポ
キシ樹脂/オクリル酸/イソシアナートエチルメ
タクリレート(酸当量/エポキシ当量比0.1〜
0.98、イソシアナート当量/水酸基当量比0.1〜
1.2)系反応物、オルソクレゾールノボラツク型
エポキシ樹脂/メタクリル酸/イソシアナートエ
チルメタクリレート(酸当量/エポキシ当量比
0.1〜0.98、イソシアナート当量/水酸基当量比
0.1〜1.2)系反応物、ビスフエノールA型エポキ
シ樹脂/アクリル酸/イソシアナートエチルメタ
クリレート(酸当量/エポキシ当量比0.1〜0.98、
イソシアナート当量/水酸基当量比0.1〜1.2)系
反応物、ビスフエノールA型エポキシ樹脂/メタ
クリル酸/イソシアナートエチルメタクリレート
(酸当量/エポキシ当量比0.1〜0.98、イソシアナ
ート当量/水酸基当量比0.1〜1.2)系反応物等が
挙げられる。
マとしては、オルソクレゾールノボラツク型エポ
キシ樹脂/オクリル酸/イソシアナートエチルメ
タクリレート(酸当量/エポキシ当量比0.1〜
0.98、イソシアナート当量/水酸基当量比0.1〜
1.2)系反応物、オルソクレゾールノボラツク型
エポキシ樹脂/メタクリル酸/イソシアナートエ
チルメタクリレート(酸当量/エポキシ当量比
0.1〜0.98、イソシアナート当量/水酸基当量比
0.1〜1.2)系反応物、ビスフエノールA型エポキ
シ樹脂/アクリル酸/イソシアナートエチルメタ
クリレート(酸当量/エポキシ当量比0.1〜0.98、
イソシアナート当量/水酸基当量比0.1〜1.2)系
反応物、ビスフエノールA型エポキシ樹脂/メタ
クリル酸/イソシアナートエチルメタクリレート
(酸当量/エポキシ当量比0.1〜0.98、イソシアナ
ート当量/水酸基当量比0.1〜1.2)系反応物等が
挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は光重合性単量体を
必須成分(b)として含有する。この光重合性単量体
は既に公知のものが用いられる。
必須成分(b)として含有する。この光重合性単量体
は既に公知のものが用いられる。
好ましい光重合性単量体としては、ブトキシエ
チルアクリレート、エチルカルビトールアクリレ
ート、メチルトリグリコールアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フエノキシプロピルアクリレート、ラ
ウリルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、フエノキシエチルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート等の単官能性単量体、トリメ
チロールプロパン、トリメチロールエタン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトール、
1,3−ブチレングリコール、1,4−ブチレン
グリコール、1,5−ペンタジオール、ポリカプ
ロラクトンジオール、ポリプロピレングリコー
ル、デカメチレングリコール、グリセリン、ネオ
ペンチルグリコール、2,2−ビス〔4,4′(2
−ヒドロキシエチル)フエニル〕プロパン、トリ
ス(2−ヒドロキシアチル)イソシアヌル酸等の
多価アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸と
のエステル、無水フタル酸−ジエチレングリコー
ル−アクリル酸(1/2/2のモル比)縮合物、
トリメチロールプロパン−テトラヒドロ無水フタ
ル酸−アクリル酸(2/1/4のモル比)縮合物
等の末端にアクリロイルオキシ基及び/又はメタ
クリロイルオキシ基を有する低分子ポリエステル
樹脂などがあげられる。特公昭52−43092号公報
等に記載されるようなジオールモノアクリレート
又はジオールモノメタクリレートとジイソシアネ
ートとの反応生成物、イソシアナートエチルメタ
クリレート/水(2/1モル比)反応物等も用い
られる。
チルアクリレート、エチルカルビトールアクリレ
ート、メチルトリグリコールアクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フエノキシプロピルアクリレート、ラ
ウリルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、フエノキシエチルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート等の単官能性単量体、トリメ
チロールプロパン、トリメチロールエタン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトール、
1,3−ブチレングリコール、1,4−ブチレン
グリコール、1,5−ペンタジオール、ポリカプ
ロラクトンジオール、ポリプロピレングリコー
ル、デカメチレングリコール、グリセリン、ネオ
ペンチルグリコール、2,2−ビス〔4,4′(2
−ヒドロキシエチル)フエニル〕プロパン、トリ
ス(2−ヒドロキシアチル)イソシアヌル酸等の
多価アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸と
のエステル、無水フタル酸−ジエチレングリコー
ル−アクリル酸(1/2/2のモル比)縮合物、
トリメチロールプロパン−テトラヒドロ無水フタ
ル酸−アクリル酸(2/1/4のモル比)縮合物
等の末端にアクリロイルオキシ基及び/又はメタ
クリロイルオキシ基を有する低分子ポリエステル
樹脂などがあげられる。特公昭52−43092号公報
等に記載されるようなジオールモノアクリレート
又はジオールモノメタクリレートとジイソシアネ
ートとの反応生成物、イソシアナートエチルメタ
クリレート/水(2/1モル比)反応物等も用い
られる。
本発明の感光性樹脂組成物は活性光により遊離
ラジカルを生成する増感剤および(または)増感
剤系を必須成分(c)として含有する。
ラジカルを生成する増感剤および(または)増感
剤系を必須成分(c)として含有する。
増感剤としては、置換または非置換の多核キノ
ン類、例えば、2−エチルアントラキノン、2−
t−ブチルアントラキノン、オクタメチルアント
ラキノン、1,2−ペンズアントラキノン、2,
3−ジフエニルアントラキノン等、ジアセチルベ
ンジル等のケトアルドニル化合物、ベンゾイル、
ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール類およ
びエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フエニル−ベンゾイン、α,α
−ジエトキシアセトフエノン等、ベンゾフエノ
ン、4,4′−ビスジアルキルアミノベンゾフエノ
ン等の芳香族ケトン類、2メチルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロ
ルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサン
トン、2−エチルチオキサントン等のチオキサン
トン類が用いられ、これらは単独でも組み合わせ
て使用してもよい。
ン類、例えば、2−エチルアントラキノン、2−
t−ブチルアントラキノン、オクタメチルアント
ラキノン、1,2−ペンズアントラキノン、2,
3−ジフエニルアントラキノン等、ジアセチルベ
ンジル等のケトアルドニル化合物、ベンゾイル、
ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール類およ
びエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フエニル−ベンゾイン、α,α
−ジエトキシアセトフエノン等、ベンゾフエノ
ン、4,4′−ビスジアルキルアミノベンゾフエノ
ン等の芳香族ケトン類、2メチルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロ
ルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサン
トン、2−エチルチオキサントン等のチオキサン
トン類が用いられ、これらは単独でも組み合わせ
て使用してもよい。
増感剤系としては、例えば2,4,5−トリア
リルイミダゾール二量体と2−メルカプトベンゾ
キナゾール、ロイコクリスタルバイオレツト、ト
リス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフエニ
ル)メタン等との組み合わせが用いられる。また
それ自体で光開始性はないが、前記物質と組み合
わせて用いることにより全体として光開始性能の
より良好な増感剤系となるような添加剤、例え
ば、ベンゾフエノンに対するトリエタノールアミ
ン等の3級アミン、チオキサントン類に対するジ
メチルアミノ安息香酸イソアミル、N−メチルジ
エタールアミン、ビスエチルアミノベンゾフエノ
ン等を用いることもできる。
リルイミダゾール二量体と2−メルカプトベンゾ
キナゾール、ロイコクリスタルバイオレツト、ト
リス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフエニ
ル)メタン等との組み合わせが用いられる。また
それ自体で光開始性はないが、前記物質と組み合
わせて用いることにより全体として光開始性能の
より良好な増感剤系となるような添加剤、例え
ば、ベンゾフエノンに対するトリエタノールアミ
ン等の3級アミン、チオキサントン類に対するジ
メチルアミノ安息香酸イソアミル、N−メチルジ
エタールアミン、ビスエチルアミノベンゾフエノ
ン等を用いることもできる。
本発明の感光性樹脂組成物は、(a)上記の光重合
性プレポリマ100重量部に対して、(b)上記の光重
合性単量体を1〜400重量部並びに(c)上記の増感
剤および(または)増感剤系を0.1〜30重量部の
範囲で用いることが、解像度および半田耐熱性に
優れたソルダマスクを形成する上で好ましい。
性プレポリマ100重量部に対して、(b)上記の光重
合性単量体を1〜400重量部並びに(c)上記の増感
剤および(または)増感剤系を0.1〜30重量部の
範囲で用いることが、解像度および半田耐熱性に
優れたソルダマスクを形成する上で好ましい。
更に本発明の感光性樹脂組成物は他の副次的成
分を含有していてもよい。副次的成分としては、
熱重合防止剤、染料、顔料、高分子結合剤、フイ
ラー、塗工性向上剤、消泡剤、難燃剤、難燃助
剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤
等が挙げられる。
分を含有していてもよい。副次的成分としては、
熱重合防止剤、染料、顔料、高分子結合剤、フイ
ラー、塗工性向上剤、消泡剤、難燃剤、難燃助
剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤
等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物はロールコート法、
スクリーン印刷法、フローコート法等の常法によ
り、加工保護すべき基板上に厚さ10−200μmの
感光層を容易に形成することができる。
スクリーン印刷法、フローコート法等の常法によ
り、加工保護すべき基板上に厚さ10−200μmの
感光層を容易に形成することができる。
また、感光層の形成は特公昭48−23284号公報、
特開昭49−43701号公報、46−39404号公報等に示
されるように通常の液状型感光性樹脂用の塗布装
置を用いて行なうことができる。
特開昭49−43701号公報、46−39404号公報等に示
されるように通常の液状型感光性樹脂用の塗布装
置を用いて行なうことができる。
こうして形成された感光層の露光および現像は
常法により行なわれる。すなわち、光源として超
高圧水銀灯、高圧水銀灯等を用い、ネガマスクを
通して像的に露光する。ネガマスクに樹脂を付着
するのを防ぐために、ネガマスクと感光性樹脂の
層との間にポリエチレンテレフタレートフイル
ム、ポリプロピレンフイルム、酢酸セルロースフ
イルム、ポリカーボネートフイルム等の透明なカ
バーフイルムを介在させることも可能である。カ
バーフイルムが厚くなると、解像度が低下する傾
向があるので、その厚さは25μm以下にすること
が望ましい。
常法により行なわれる。すなわち、光源として超
高圧水銀灯、高圧水銀灯等を用い、ネガマスクを
通して像的に露光する。ネガマスクに樹脂を付着
するのを防ぐために、ネガマスクと感光性樹脂の
層との間にポリエチレンテレフタレートフイル
ム、ポリプロピレンフイルム、酢酸セルロースフ
イルム、ポリカーボネートフイルム等の透明なカ
バーフイルムを介在させることも可能である。カ
バーフイルムが厚くなると、解像度が低下する傾
向があるので、その厚さは25μm以下にすること
が望ましい。
また、ネガマスクを感光層から0.3mm程度離し
て露光することも可能である。露光後、カバーフ
イルムが残つている場合はカバーフイルムを剥離
した後、現像する。
て露光することも可能である。露光後、カバーフ
イルムが残つている場合はカバーフイルムを剥離
した後、現像する。
現像処理に用いられる現像液は露光部にダメー
ジを与えず、未露光部を選択的に溶出するもので
あればその種類については特に制限はない。現像
液としては、例えば1,1,1−トリクロルエタ
ン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また
1,1,1−トリクロルエタンを主成分とする洗
浄剤、例えばスリーワンEX(東亜合成化学(株)製)
を使用することもできる。
ジを与えず、未露光部を選択的に溶出するもので
あればその種類については特に制限はない。現像
液としては、例えば1,1,1−トリクロルエタ
ン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また
1,1,1−トリクロルエタンを主成分とする洗
浄剤、例えばスリーワンEX(東亜合成化学(株)製)
を使用することもできる。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は、通常
のエツチング、めつき等のための耐食膜としての
特性を持つているが、現像後に活性光の露光およ
び80〜200℃での加熱処理を行なうことにより、
更に特性を向上でき、有するソルダマスクとして
の特性を満足する永久的な保護膜が得られる。こ
れらの活性光の露光および加熱処理の順序はどち
らが先でもよい。
のエツチング、めつき等のための耐食膜としての
特性を持つているが、現像後に活性光の露光およ
び80〜200℃での加熱処理を行なうことにより、
更に特性を向上でき、有するソルダマスクとして
の特性を満足する永久的な保護膜が得られる。こ
れらの活性光の露光および加熱処理の順序はどち
らが先でもよい。
(発明の効果)
本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保
護被膜は、トリクレン、メチルエチルケトン、イ
ソプロピルアルコール、トルエン等の有機溶剤に
充分耐え、酸性水溶液またはアルカリ水溶液にも
耐える。更に耐熱性、機械的特性にも優れている
ので、エツチング、めつき等のための耐食膜、ソ
ルダマスク等の永久的な保護膜として使用するこ
とができる。更に本発明の感光性樹脂組成物を用
いて形成される被膜は優れた化学的、物理的特性
を有し、このため多層印刷配線板の層間絶縁層、
感光性接着剤、塗料、プラスチツクレリーフ、印
刷版材料、金属精密加工材料等にも用いることが
できる。
護被膜は、トリクレン、メチルエチルケトン、イ
ソプロピルアルコール、トルエン等の有機溶剤に
充分耐え、酸性水溶液またはアルカリ水溶液にも
耐える。更に耐熱性、機械的特性にも優れている
ので、エツチング、めつき等のための耐食膜、ソ
ルダマスク等の永久的な保護膜として使用するこ
とができる。更に本発明の感光性樹脂組成物を用
いて形成される被膜は優れた化学的、物理的特性
を有し、このため多層印刷配線板の層間絶縁層、
感光性接着剤、塗料、プラスチツクレリーフ、印
刷版材料、金属精密加工材料等にも用いることが
できる。
また、本発明の感光性樹脂組成物を用いること
により、1,1,1−トリクロルエタン等の難燃
性現像液により現像でき、解像度および耐熱性に
優れたソルダマスクを形成することができる。し
かも写真法により厚膜のソルダマスクを形成する
ことが可能である。
により、1,1,1−トリクロルエタン等の難燃
性現像液により現像でき、解像度および耐熱性に
優れたソルダマスクを形成することができる。し
かも写真法により厚膜のソルダマスクを形成する
ことが可能である。
(実施例)
実施例中の部は重量部を意味する。
実施例 1
(a) 光重合性プレポリマの合成
A ビスフエノールA型エポキシ樹脂、エピコー
ト828(エポキシ当量190) 380部 トリプロピレングリコールジアクリレート
140部 B アクリル酸 93.6部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム 0.4部 p−メトキシフエノール 0.6部 C イソシアナートエチルメタクリレート 214部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 D メタノール 5部 温度計、攪拌装置、冷却管および滴下器の付い
た加熱および冷却可能な1の反応器に、前記A
を加え、攪拌しながら100℃に昇温し、均一に溶
解させた。反応温度を100℃に保ちながら、これ
に約30分かけてBを滴下した。Bの滴下後、100
℃で約20時間攪拌を続け反応系の酸価を1以下に
した。
ト828(エポキシ当量190) 380部 トリプロピレングリコールジアクリレート
140部 B アクリル酸 93.6部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム 0.4部 p−メトキシフエノール 0.6部 C イソシアナートエチルメタクリレート 214部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 D メタノール 5部 温度計、攪拌装置、冷却管および滴下器の付い
た加熱および冷却可能な1の反応器に、前記A
を加え、攪拌しながら100℃に昇温し、均一に溶
解させた。反応温度を100℃に保ちながら、これ
に約30分かけてBを滴下した。Bの滴下後、100
℃で約20時間攪拌を続け反応系の酸価を1以下に
した。
次いで温度を60℃に低下させ、反応温度を60℃
に保ちながら約3時間かけて均一にCを滴下し
た。C滴下後、約5時間かけて徐々に反応温度を
80℃まで昇温した後、温度を60℃に低下させ、D
を加え、約1時間攪拌を続けた。こうしてビスフ
エノールA型エポキシ樹脂/アクリル酸/イソシ
アナートエチルメタクリレート(酸当量/エポキ
シ当量比=0.65、イソシアナート当量/水酸基当
量比=1.06)系光重合性プレポリマを82重量%含
有する混合物()を得た。
に保ちながら約3時間かけて均一にCを滴下し
た。C滴下後、約5時間かけて徐々に反応温度を
80℃まで昇温した後、温度を60℃に低下させ、D
を加え、約1時間攪拌を続けた。こうしてビスフ
エノールA型エポキシ樹脂/アクリル酸/イソシ
アナートエチルメタクリレート(酸当量/エポキ
シ当量比=0.65、イソシアナート当量/水酸基当
量比=1.06)系光重合性プレポリマを82重量%含
有する混合物()を得た。
(b) 感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた光重合性プレポリマ含有混合物
()120部(光重合性プレポリマ99.6部、光重合
性単量体、トリプロピレングリコールジアクリレ
ート20.1部、その他0.3部)2,4ジエチルチオ
キサントン4部、ジメチルアミノ安息香酸イソブ
チル5部およびビクトリアピユアブルー0.01部を
混合して本発明の感光性樹脂組成物を調製した。
()120部(光重合性プレポリマ99.6部、光重合
性単量体、トリプロピレングリコールジアクリレ
ート20.1部、その他0.3部)2,4ジエチルチオ
キサントン4部、ジメチルアミノ安息香酸イソブ
チル5部およびビクトリアピユアブルー0.01部を
混合して本発明の感光性樹脂組成物を調製した。
(c) 硬化被膜の形成
(b)で得られた感光性樹脂組成物を、銅張り積層
板上に塗布し、厚さ80μmの感光層を形成した。
次いでネガマスクを通してオーク製作所(株)製フエ
ニツクス3000型露光機を用い、500mJ/cm2で露光
した。なお、ネガマスクは感光層より0.1mm離し、
露光は大気下で行なつた。露光後80℃で5分間加
熱し、常温で30分放置した後、1,1,1−トリ
クロルエタンを用いて20℃で90秒間スプレー現像
した。次いで、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置
(定格電圧200V、定格消費電力7.2KW、適合ラン
プH5600L/2、ランプ本数1本)を使用し、
1J/cm2で照射した後、150℃で30分間加熱処理し
てネガマスクに相応する寸法精度の優れたソルダ
マスクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性
に優れ、ロジン系フラツクスA−226(タムラ化研
(株)製)を用いて、260℃で10秒間、はんだ付け処
理し、更にトリクレンで25℃、10分間洗浄化処理
した後、MIL−STD−202E 107D 条件B(−65
℃30分間、常温5分以内、125℃30分間)、50サイ
クルの冷熱衝撃試験でクラツクの発生および被膜
の剥がれは認められず、長期間の信頼性が非常に
優れていることがわかつた。
板上に塗布し、厚さ80μmの感光層を形成した。
次いでネガマスクを通してオーク製作所(株)製フエ
ニツクス3000型露光機を用い、500mJ/cm2で露光
した。なお、ネガマスクは感光層より0.1mm離し、
露光は大気下で行なつた。露光後80℃で5分間加
熱し、常温で30分放置した後、1,1,1−トリ
クロルエタンを用いて20℃で90秒間スプレー現像
した。次いで、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置
(定格電圧200V、定格消費電力7.2KW、適合ラン
プH5600L/2、ランプ本数1本)を使用し、
1J/cm2で照射した後、150℃で30分間加熱処理し
てネガマスクに相応する寸法精度の優れたソルダ
マスクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性
に優れ、ロジン系フラツクスA−226(タムラ化研
(株)製)を用いて、260℃で10秒間、はんだ付け処
理し、更にトリクレンで25℃、10分間洗浄化処理
した後、MIL−STD−202E 107D 条件B(−65
℃30分間、常温5分以内、125℃30分間)、50サイ
クルの冷熱衝撃試験でクラツクの発生および被膜
の剥がれは認められず、長期間の信頼性が非常に
優れていることがわかつた。
実施例 2
実施例1(a)で得られた光重合性プレポリマ含有
混合物()122部(光重合性プレポリマ100部、
トリプロピレングリコールジアクリレート22部)、
無水フタル酸/ジエチレングリコール/アクリル
酸(1/2/2モル比)縮合物30部、シムゴン日
本タルク(株)製超微粒子タルク)30部、1−(o−
トリル)ビグアニド4部およびフタロシアニング
リーン0.1部を3本ロールを用いて混練し、本発
明の感光性樹脂組成物を調製した。
混合物()122部(光重合性プレポリマ100部、
トリプロピレングリコールジアクリレート22部)、
無水フタル酸/ジエチレングリコール/アクリル
酸(1/2/2モル比)縮合物30部、シムゴン日
本タルク(株)製超微粒子タルク)30部、1−(o−
トリル)ビグアニド4部およびフタロシアニング
リーン0.1部を3本ロールを用いて混練し、本発
明の感光性樹脂組成物を調製した。
以下、実施例1(c)と同様にして、耐熱性に優れ
た硬化被膜を得た。
た硬化被膜を得た。
実施例 3
(a) 光重合性プレポリマの合成
A オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、ECN1235(チバガイギー社製、エポキシ当
量230) 460部 エチルカルビト−ルアクリレート 460部 B アクリル酸 140部 塩化ベンジルトリエチルアンモニウム 0.1部 p−メトキシフエノール 0.6部 C イソシアナートエチルメタクリレート77.5部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 D メタノール 5部 A〜Dを用い他は実施例1(a)と同様にして、オ
ルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹脂/アク
リル酸/イソシアナートエチルメタクリレート
(酸当量/エポキシ当量比=0.25、イソシアナー
ト当量/水酸基当量比=1)系光重合性プレポリ
マを80重量%含有する混合物()を得た。
脂、ECN1235(チバガイギー社製、エポキシ当
量230) 460部 エチルカルビト−ルアクリレート 460部 B アクリル酸 140部 塩化ベンジルトリエチルアンモニウム 0.1部 p−メトキシフエノール 0.6部 C イソシアナートエチルメタクリレート77.5部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 D メタノール 5部 A〜Dを用い他は実施例1(a)と同様にして、オ
ルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹脂/アク
リル酸/イソシアナートエチルメタクリレート
(酸当量/エポキシ当量比=0.25、イソシアナー
ト当量/水酸基当量比=1)系光重合性プレポリ
マを80重量%含有する混合物()を得た。
(b) 感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた光重合性プレポリマ/光重合性単
量体混合物()125部(光重合性プレポリマ100
部、エチルカルビトールアクリレート25部)、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアナート/2−
ヒドロキシエチルアクリレート(1/2モル比)
反応物100部、三酸化アンチモン6部、2,4−
ジエチルチオキサントン4部、ジメチルアミノ安
息香酸エチル4部、ホスマM(油脂製品(株)製リン
酸エステル)ベンゾトリアゾールとの等モル塩
0.1部およびビクトリアピユアブルー0.02部を3
本ロールを用いて混練し、本発明の感光性樹脂組
成物を調製した。
量体混合物()125部(光重合性プレポリマ100
部、エチルカルビトールアクリレート25部)、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアナート/2−
ヒドロキシエチルアクリレート(1/2モル比)
反応物100部、三酸化アンチモン6部、2,4−
ジエチルチオキサントン4部、ジメチルアミノ安
息香酸エチル4部、ホスマM(油脂製品(株)製リン
酸エステル)ベンゾトリアゾールとの等モル塩
0.1部およびビクトリアピユアブルー0.02部を3
本ロールを用いて混練し、本発明の感光性樹脂組
成物を調製した。
以下、実施例1(c)と同様にして耐熱性に優れた
硬化被膜を得た。
硬化被膜を得た。
また前記感光性樹脂組成物を厚さ0.8mm、
UL94V−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化
成工業(株)製MCL−E−67)の両面に適用し、厚
さ75μmの硬化被膜を形成させた場合には、
UL94V−1の難燃性を保持することがわかつた。
UL94V−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化
成工業(株)製MCL−E−67)の両面に適用し、厚
さ75μmの硬化被膜を形成させた場合には、
UL94V−1の難燃性を保持することがわかつた。
実施例 4
(a) 光重合性プレポリマ合成
A ビスフエノールA型エポキシ樹脂、エピコー
ト828(エポキシ当量190) 380部 B メタクリル酸 86部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム 0.3部 p−メトキシフエノール 0.6部 C イソシアナートエチルメタクリレート 31部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 D メタノール 5部 A〜Dを用い他は実施例1(a)と同様にして、ビ
スフエノールA型エポキシ樹脂/メタクリル酸/
イソシアナートエチルメタクリレート(酸当量/
エポキシ当量比=0.5、イソシアナート当量/水
酸基当量比=0.2)系光重合性プレポリマ)を含
む混合物()を得た。
ト828(エポキシ当量190) 380部 B メタクリル酸 86部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム 0.3部 p−メトキシフエノール 0.6部 C イソシアナートエチルメタクリレート 31部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 D メタノール 5部 A〜Dを用い他は実施例1(a)と同様にして、ビ
スフエノールA型エポキシ樹脂/メタクリル酸/
イソシアナートエチルメタクリレート(酸当量/
エポキシ当量比=0.5、イソシアナート当量/水
酸基当量比=0.2)系光重合性プレポリマ)を含
む混合物()を得た。
(b) 感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた光重合性プレポリマを含む混合物
100部、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナ
ート/2−ヒドロキシエチルアクリレート(1/
2モル比)反応物200部、2−ヒドロキシエチル
メタクリレート15部、シムゴン(日本タルク(株)製
超微粒子タルク)60部、2,4−ジエチルチオキ
サントン4部、ジメチルアミノ安息香酸イソブチ
ル5部およびキユアゾール2E4MZ−A(四国フア
インケミカルズ(株)製イミダゾール系硬化剤)2倍
を配合し、3本ロールで混合して、本発明の感光
性樹脂組成物を調製した。
100部、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナ
ート/2−ヒドロキシエチルアクリレート(1/
2モル比)反応物200部、2−ヒドロキシエチル
メタクリレート15部、シムゴン(日本タルク(株)製
超微粒子タルク)60部、2,4−ジエチルチオキ
サントン4部、ジメチルアミノ安息香酸イソブチ
ル5部およびキユアゾール2E4MZ−A(四国フア
インケミカルズ(株)製イミダゾール系硬化剤)2倍
を配合し、3本ロールで混合して、本発明の感光
性樹脂組成物を調製した。
以下、実施例1(c)と同様にして耐熱性に優れた
硬化被膜を得た。
硬化被膜を得た。
実施例 5
(a) 光重合性プレポリマの合成
A ビスフエノールA型エポキシ樹脂、エピコー
ト1001(エポキシ当量470、水酸基当量350)
235部 トリプロピレングリコールジアクリレート
150部 B アクリル酸 30部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム 0.6部 p−メトキシフエノール 0.8部 C イソシアナートエチルメタクリレート 168部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 D メタノール 5部 A〜Dを用い他は実施例1(a)と同様にして、ビ
スフエノールA型エポキシ樹脂/アクリル酸/イ
ソシアナートエチルメタクリレート(酸当量/エ
ポキシ当量比=0.62、イソシアナート当量/水酸
基当量比=1)系光重合性プレポリマを73%含有
する混合物()を得た。
ト1001(エポキシ当量470、水酸基当量350)
235部 トリプロピレングリコールジアクリレート
150部 B アクリル酸 30部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム 0.6部 p−メトキシフエノール 0.8部 C イソシアナートエチルメタクリレート 168部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 D メタノール 5部 A〜Dを用い他は実施例1(a)と同様にして、ビ
スフエノールA型エポキシ樹脂/アクリル酸/イ
ソシアナートエチルメタクリレート(酸当量/エ
ポキシ当量比=0.62、イソシアナート当量/水酸
基当量比=1)系光重合性プレポリマを73%含有
する混合物()を得た。
(b) 感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた光重合性プレポリマ/光重合性単
量体混合物()137部(光重合性プレポリマ100
部、エチルカルビトールアクリレート37部)、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアナート/2−
ヒドロキシエチルアクリレート(1/2モル比)
反応物100部、シムゴン60部、2,4−ジエチル
チオキサントン4部、ジメチルアミノ安息香酸イ
ソブチル5部およびキユアゾールC11Z−AZINE
(四国フアインケミカルス(株)製、イミダゾール系
硬化剤)2倍を3本ロールを用いて混練し、本発
明の感光性樹脂組成物を調製した。
量体混合物()137部(光重合性プレポリマ100
部、エチルカルビトールアクリレート37部)、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアナート/2−
ヒドロキシエチルアクリレート(1/2モル比)
反応物100部、シムゴン60部、2,4−ジエチル
チオキサントン4部、ジメチルアミノ安息香酸イ
ソブチル5部およびキユアゾールC11Z−AZINE
(四国フアインケミカルス(株)製、イミダゾール系
硬化剤)2倍を3本ロールを用いて混練し、本発
明の感光性樹脂組成物を調製した。
以下、実施例1(c)と同様にして、耐熱性に優れ
た硬化被膜を得た。
た硬化被膜を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a) 少なくとも1個のエポキシ基を有する化
合物と不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキ
シ当量比が0.1〜0.98の範囲で付加反応させて
得られる不飽和化合物に、不飽和化合物の水酸
基に対し、イソシアナートエチルメタクリレー
トを、イソシアナート当量/水酸基当量比が
0.1〜1.2の範囲で反応させて得られる光重合性
プレポリマ (b) 光重合性単量体 並びに (c) 活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤
および(または)増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10778685A JPS61264340A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10778685A JPS61264340A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61264340A JPS61264340A (ja) | 1986-11-22 |
| JPH0562732B2 true JPH0562732B2 (ja) | 1993-09-09 |
Family
ID=14467986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10778685A Granted JPS61264340A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61264340A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH083632B2 (ja) * | 1986-04-21 | 1996-01-17 | 日立化成工業株式会社 | 感光性エレメント |
| JPH0814697B2 (ja) * | 1987-05-12 | 1996-02-14 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| IL94474A (en) * | 1989-06-09 | 1993-07-08 | Morton Int Inc | Photoimageable compositions |
| JP4839710B2 (ja) * | 2004-08-09 | 2011-12-21 | 三菱化学株式会社 | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置 |
| JP2016041778A (ja) * | 2014-08-14 | 2016-03-31 | 株式会社巴川製紙所 | 保護フィルム、フィルム積層体および偏光板 |
| JPWO2016088540A1 (ja) * | 2014-12-05 | 2017-09-14 | 三井金属鉱業株式会社 | 導電性組成物並びに配線基板及びその製造方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2557408C2 (de) * | 1975-12-19 | 1983-08-25 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung eines in organischen Lösungsmitteln löslichen, vernetzbaren Acryloyl- und/oder Methacryloylgruppen und Carboxylgruppen enthaltenden Urethanharzes und seine Verwendung |
| JPS5923723B2 (ja) * | 1980-09-19 | 1984-06-04 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
| JPS60188413A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-25 | Toyobo Co Ltd | 光重合性樹脂組成物 |
| JPS60195171A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-03 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 紫外線硬化型インキ組成物 |
| JPS61130946A (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-18 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JPS61200536A (ja) * | 1985-03-01 | 1986-09-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS61264341A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
-
1985
- 1985-05-20 JP JP10778685A patent/JPS61264340A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61264340A (ja) | 1986-11-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |