JPH0435061B2 - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しく
は印刷配線板製造、金属精密加工等に使用し得る
保護膜形成用の感光性樹脂組成物に関する。

（従来の技術） 従来、印刷配線板業界において、ソルダマス
ク、化学めつき用レジスト等に使用可能な優れた
特性を有する感光性樹脂組成物が知られている。
ソルダマスクの主な目的は、はんだ付け時のはん
だ付け領域を限定し、はんだブリツジ等を防ぐこ
と、裸の銅導体の腐食を防止すること、および長
期にわたつて導体間の電気絶縁性を保持すること
である。通常ソルダマスクとしては、エポキシ樹
脂、アミノプラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成
分とするもので（印刷マスク）が用いられる。

しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高ま
り、また導体間の電気絶縁性の要求も厳しくな
り、それに用いるソルダマスクも厚膜で寸法精度
の優れたものが要求されるようになり、スクリー
ン印刷方式のものでは対処できなくなつている。

そこで写真法（像状露光に続く現像により画像
を形成）で厚膜（導体上25μm）で、かつ寸法精
度の優れた高信頼性のソルダマスクを形成する感
光性樹脂組成物の出現が望まれている。

従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物と
しては、(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノ
マを主成分とする感光性樹脂組成物（特開昭53−
56018号公報、特開昭54−1018号公報等）、(2)光反
応性が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹
脂硬化剤を主成分とする感光性樹脂組成物（特開
昭52−37996号公報、特開昭58−62636号公報等）
等が知られている。

しかしながら前記(1)の感光性樹脂組成物は、通
常のエツチングおよびめつき用フイルム状感光材
料（例えばデユポン社製 商品名リストン、日立
化成工業(株)製、商品名フオテツク等）に使用され
ている、難燃性の１，１，１−トリクロルエタン
で現像可能であり、高解像度のソルダマスクを形
成することはできるが、このような感光性樹脂組
成物はフイルム性付与のためアクリル系ポリマを
多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱性が充
分でないという欠点がある。

一方、前記(2)の感光性樹脂組成物は、エポキシ
樹脂をベースとしており、硬化被膜の耐熱性には
優れているが、１，１，１−トリクロルエタン等
の難燃性有機溶剤に不溶性であるため、現像液と
して、シクロヘキサノン等の可燃性有機溶剤を使
用する必要があり、安全上好ましくないという欠
点がある。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去
し、１，１，１−トリクロルエタン等の難燃性現
像液により現像でき、かつ解像度および耐熱性に
も優れた高信頼性ソルダマスクを形成することの
できる感光性樹脂組成物を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明は(a)オルソクレゾールノボラツク型エポ
キシ樹脂、フエノールノボラツク型エポキシ樹脂
およびハロゲン化フエノールノボラツク型エポキ
シ樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の
ノボラツク型エポキシ樹脂と、不飽和カルボン酸
とを、酸当量／エポキシ当量比が0.2〜１の範囲
で付加反応させて得られる不飽和化合物の２級水
酸基に、イソシアナートエチルメタクリレート
を、イソシアナート当量／水酸基当量比が0.2〜
１の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化
合物、(b)ガラス転移温度が約40〜150℃の線状高
分子化合物並びに(c)活性光により遊離ラジカルを
生成する増感剤および（または）増感剤系を含有
してなる感光性樹脂組成物に関する。

本発明の感光性樹脂組成物は必須成分(a)とし
て、オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、フエノールノボラツク型エポキシ樹脂および
ハロゲン化フエノールノボラツク型エポキシ樹脂
からなる群から選ばれた少なくとも１種のノボラ
ツク型エポキシ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、
酸当量／エポキシ当量比が0.2〜１の範囲で付加
反応させて得られる不飽和化合物の２級水酸基
に、イソシアナートエチルメタクリレートを、イ
ソシアナート当量／水酸基当量比が0.2〜１の範
囲で反応させて得られる光重合性不飽和化合物を
含有する。

本発明に用いられるノボラツク型エポキシ樹脂
は、例えばオルソクレゾール、フエノール、ハロ
ゲン化フエノール等とアルデヒドを酸触媒の存在
下に反応させて得られるノボラツク型樹脂のフエ
ノール性水酸基にアルカリの存在下にエピクロル
ヒドリンを反応させて得られるもので、商業的に
も入手可能である。

オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹脂と
しては、例えばチバ・ガイギー社製アラルダイト
ECN1299（軟化点99℃、エポキシ当量230）、
ECN1280（軟化点80℃、エポキシ当量230）、
ECN1273（軟化点73℃、エポキシ当量230）、日本
化薬(株)製EOCN104（軟化点90〜100℃、エポキシ
当量225〜245）、EOCN103（軟化点80〜90℃、エ
ポキシ当量215〜235）、EOCN102（軟化点70〜80
℃、エポキシ当量215〜235）、EOCN101（軟化点
65〜69℃、エポキシ当量205〜225）等が挙げられ
る。

フエノールノボラツク型エポキシ樹脂として
は、例えばシエル社製エピコート154（エポキシ当
量176〜181）ダウケミカル社製DEN431（エポキ
シ当量172〜179）、DEN438（エポキシ当量175〜
182）、東都化成(株)製YDPN−638（エポキシ当量
170〜190）、YDPN−601（エポキシ当量180〜
220）、YDPN−602（エポキシ当量180〜220）等
が挙げられる。

ハロゲン化フエノールノボラツク型エポキシ樹
脂としては、例えば日本化薬(株)製BREN（エポキ
シ当量270〜300、臭素含有量35〜37％、軟化点80
〜90℃）等の臭素化フエノールノボラツク型エポ
キシ樹脂等が挙げられる。不飽和カルボン酸とし
ては、アクリル酸、メタクリル酸、β−フリルア
クリル酸、β−スチリルアクリル酸、α−シアノ
ケイ皮酸、ケイ皮酸等が用いられる。

本発明において、これらのノボラツク型エポキ
シ樹脂と不飽和カルボン酸との付加反応は式
（）に示すようであり、酸当量／エポキシ当量
比が0.2〜１の範囲で常法により行なわれる。酸
当量／エポキシ当量比が0.2未満ではイメージ露
光後の現像処理により光硬化被膜が膨潤しやす
い。酸当量／エポキシ当量比が１を超える場合に
は、密着性、耐熱性等が低下する。

例えば前記ノボラツク型エポキシ樹脂をメチル
エチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エ
チルセロソルブアセテート、シクロヘキサノン等
の不活性有機溶剤に溶解し、触媒としてトリエチ
ルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジエチルシ
クロヘキシルアミン等の３級アミン、塩化ベンジ
ルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエ
チルアンモニウム等の４級アンモニウム塩を、ま
た重合禁止剤としてハイドロキノン、ｐ−メトキ
シフエノール等を用い、70〜110℃で前記不飽和
カルボン酸と攪拌反応させることにより、不飽和
化合物が得られる。

上記のようにノボラツク型エポキシ樹脂を不飽
和カルボン酸との付加反応させて得られる不飽和
化合物の２級水酸基に対するイソシアナートエチ
ルメタクリレートの反応は式（）に示すようで
ありイソシアナート当量／水酸基当量比が0.2〜
１の範囲で常法により行なわれる。イソシアナー
ト当量／水酸基当量比が0.2未満の場合には、１，
１，１−トリクロルエタン等の難燃性有機溶剤に
よる現像が困難となり、また光硬化性も低下す
る。イソシアナート当量／水酸基当量比が１を超
える場合には、保存安定性、耐熱性等が低下す
る。イソシアナートエチルメタクリレートとして
は、例えばダウケミカル社製のものが用いられ
る。

例えば前記のノボラツク型エポキシ樹脂と不飽
和カルボン酸との付加反応を行ない、次でいこの
生成物にジブチルチンジラウレート、ジブチルチ
ンジ２エチルヘキソエート等のウレタン化触媒を
添加し、所定量のイソシアナートエチルメタクリ
レートを50〜110℃で攪拌反応させることにより、
光重合性不飽和化合物が得られる。このような反
応条件下ではウレタン結合とエポキシ基との反
応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止するこ
とができ、その結果ゲル状物を生成させることな
く、光重合性不飽和化合物を得ることができる。

本発明において、特に好ましい光重合性不飽和
化合物としては、オルソクレゾールノボラツク型
エポキシ樹脂／アクリル酸／イソシアナートエチ
ルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比0.2
〜１、イソシアナート当量／水酸基当量比0.2〜
１）系反応物、オルソクレゾールノボラツク型エ
ポキシ樹脂／メタクリル酸／イソシアナートエチ
ルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比0.2
〜１、イソシアナート当量／水酸基当量比0.2〜
１）系反応物等が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物は、ガラス転移温度
が約40〜150℃の線状高分子化合物を必須成分ｂ
として含有する。この高分子化合物は既に公知の
ものが用いられる。

ガラス転移温度が約40℃未満では形成されるソ
ルダマスクの耐熱性が低く、ガラス転移温度が約
150℃を超えると前記光重合性不飽和化合物との
相溶性が悪くなり、支持体フイルムまたは基板上
に感光性樹脂組成物の層を形成できなくなる。

前記線状高分子化合物としては、前記光重合性
不飽和化合物との相溶性、印刷配線基板と感光性
樹脂組成物の層との密着性の点で、ビニル共重合
線状高分子化合物が好ましい。線状高分子化合物
の重合成分として各種のビニル単量体、例えばメ
チルメタクリレート、ブチルメタクリレート、エ
チルアクリレート、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、アク
リル酸、メタクリル酸、グリシジルメタクリレー
ト、ｔ−ブチルアミノエチルメタクリレート、
２，３−ジブロモプロピルメタクリレート、３−
クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、モノブロモフエニルアクリレート、モノブロ
モフエニルメタクリレート、ジブロモフエニルア
クリレート、ジブロモフエニルメタクリレート、
トリブロモフエニルアクリレート、トリブロモフ
エニルメタクリレート、トリブロモフエノキシエ
チルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタ
クリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレ
ート、アクリルアミド、アクリロニトリル等を用
いることができる。

本発明の感光性樹脂組成物は、活性光により遊
離ラジカルを生成する増感剤および（または）増
感剤系を必須成分ｃとして含有する。

増感剤としては、置換または非置換の多核キノ
ン類、例えば、２−エチルアントラキノン、２−
ｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアント
ラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，
３−ジフエニルアントラキノン等、ジアセチルベ
ンジル等のケトアルドニル化合物、ベンゾイン、
ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール類およ
びエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フエニル−ベンゾイン、α，α
−ジエトキシアセトフエノン等、ベンゾフエノ
ン、４，4′−ビスジアルキルアミノベンゾフエノ
ン等の芳香族ケトン類、２メチルチオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロ
ルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサン
トン、２−エチルチオキサントン等のチオキサン
トン類が用いられ、これらは単独でも組合わせて
使用してもよい。

増感剤系としては、例えば２，４，５−トリア
リ、ルイミダゾール二量体と２−メルカプトベン
ゾキナゾール、ロイコクリスタルバイオレツト、
トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフエニ
ル）メタン等との組合わせが用いられる。またそ
れ自体で光開始性はないが、前記物質と組合わせ
て用いることにより全体として光開始性能のより
良好な増感剤系となるような添加剤、例えば、ベ
ンゾフエノンに対するトリエタノールアミン等の
３級アミン、チオキサントン類に対するジメチル
アミノ安息香酸イソアミル、Ｎ−メチルジエター
ルアミン、ビスエチルアミノベンゾフエノン等を
用いることもできる。

本発明の感光性樹脂組成物は、(a)上記の光重合
性不飽和化合物100重量部に対して、(b)上記の線
状高分子化合物を５〜400重量部並びに(c)上記の
増感剤および（または）増感剤系を0.1〜30重量
部の範囲で用いることが、解像度および半田耐熱
性に優れたソルダマスクを形成する上で好まし
い。更に他の光重合性化合物を含有していてもよ
い。他の光重合性化合物としては、例えばトリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、トリメチルヘキサ
メチレンジイソシアナート／２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート（１／２モル比）反応物等が挙げ
られる。また特開昭53−56018号公報に示される
光重合性化合物を用いることもできる。しかしこ
れら他の光重合性化合物の含有量は、耐熱性保持
上、(a)光重合性不飽和化合物および(b)線状高分子
化合物の合計量に対して10重量％以下であること
が好ましい。

更に本発明の感光性樹脂組成物は他の副次的成
分を含有していてもよい。副次的成分としては、
熱重合防止剤、染料、顔料、フイラー、塗工性向
上剤、消泡剤、難燃剤、難燃助剤、密着性向上
剤、エポキシ樹脂の潜在硬化剤等が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物を用いて感光層を形
成するに際しては、例えば、感光性樹脂組成物を
メチルエチルケトン、メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート、シクロヘキサ
ノン等の有機溶剤に溶解させ、この溶液をデイツ
プコート法、フローコート法、ロールコート法、
スクリーン印刷法等の常法により、加工保護すべ
き基板板上に直接塗布し、溶剤を乾燥させること
により、厚さ10〜150μmの感光層を容易に形成す
ることができる。

また前記溶液を、例えばポリエチレンテレフタ
レートフイルム、ポリイミドフイルム等の支持体
フイルム上に、ナイフコート法、ロールコート法
等により塗布し、乾燥して得られる感光性エレメ
ントを熱ロールを用いて基板上に加熱加圧積層し
て感光層を形成することもできる。この際基板が
導体配線ラインの形成された印刷配線板等の
10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き
込みを防ぐため、200mmHg以下の真空下で積層す
ることが好ましい。このための装置としては例え
ば特公昭55−13341号公報に記載される積層装置
が用いられる。なお活性光に不透明な支持体フイ
ルムを用いる場合には、露光時に支持体フイルム
を剥離する必要がある。

こうして形成された感光層の露光および現像は
常法により行なわれる。すなわち、光源として超
高圧水銀灯、高圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組
成物の層上に直接または支持体フイルムを介し、
ネガマスクを通して、像的に露光する。露光後支
持体フイルムが残つている場合は支持体フイルム
を剥離した後、現像する。

現像処理に用いられる現像液は露光部にダメー
ジを与えず、未露光部を選択的に溶出するもので
あればその種類については特に制限はない。現像
液としては、例えば１，１，１−トリクロルエタ
ン等のハロゲン化炭化水素、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル炭酸ナトリウム水溶液等の
有機溶剤／希アルカリ水溶液混合液等が用いられ
る。また１，１，１−トリクロルエタンを主成分
とする洗浄剤、例えばスリーワンEX（東亜合成化
学(株)製）を使用することもできる。

上記の方法で得られた像的な保護被膜は、通常
のエツチング、めつき等のための耐食膜である
が、現像後に活性光の露光および80〜200℃での
加熱処理を行なうことにより、更に優れた特性を
有する保護膜が得られる。これらの活性光の露光
および加熱処理の順序はどちらが先でもよい。

（発明の効果） 本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保
護被膜は、トリクレン、メチルエチルケトン、イ
ソプロピルアルコール、トルエン等の有機溶剤に
充分耐え、酸性水溶液またはアルカリ水溶液にも
耐える。更に耐熱性、機械的特性にも優れている
ので、ソルダマスク等の永久的な保護膜として使
用することができる。更に本発明の感光性樹脂組
成物を用いて形成される被膜は優れた化学的、物
理的特性を有し、このため多層印刷配線板の層間
絶縁層、感光性接着剤、塗料、プラスチツクレリ
ーフ、印刷版材料、金属精密加工材料等にも用い
ることができる。

また、本発明の感光性樹脂組成物を用いること
により、１，１，１−トリクロルエタン等の難燃
性現像液により現像でき、解像度および耐熱性に
優れたソルダマスクを形成することができる。し
かも写真法により厚膜のソルダマスクを形成する
ことも可能である。

（実施例） 実施例中の部は重量部を意味する。

実施例 １ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、EOCN102（エポキシ当量230） 1095部 メチルエチルケトン 800部 Ｂ アクリル酸 343部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフエノール ３部 メチルエチルケトン 100部 Ｃ イソシアナートエチルメタクリレート 737部 ジブチルチンジラウレート 0.5部 メチルエチルケトン 100部 Ｄ メタノール 10部 温度計、攪拌装置、冷却管および滴下器の付い
た加熱および冷却可能な５の反応器に、前記Ａ
を加え、攪拌しながら60℃に昇温し、均一に溶解
させた。反応温度を60℃に保ちながら、これに約
１時間かけてＢを滴下した。Ｂ滴下後、２時間か
けて80℃に昇温し、80℃で約20時間攪拌を続け反
応系の酸価を１以下にした。

次いで温度を60℃に低下させ、反応温度を60℃
に保ちながら約３時間かけて均一にＣを滴下し
た。Ｃ滴下後、約５時間かけて徐々に反応温度を
80℃まで昇温した後、温度を60℃に低下させ、Ｄ
を加え、約１時間攪拌を続けた。こうして不揮発
分69％のオルソクレゾールノボラツク型エポキシ
樹脂／アクリル酸／イソシアナートエチルメタク
リレート（酸当量／エポキシ当量比＝１、イソシ
アナート当量／水酸基当量比＝１）系光重合性不
飽和化合物の溶液（）を得た。

(b) 感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）72部（不揮発分50部）、スチレン／メチルメ
タクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート（30／63／７重量比）共重合体（分子量約15
万、ガラス転移温度100℃）20部、２，４−ジエ
チルチオキサントン１部、ジメチルアミノ安息香
酸イソアミル２部およびビクトリアピユアブルー
0.01部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶
液を調製した。

(c) 硬化被膜の形成 (b)で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、銅張
り積層板上に塗布し、室温で20分、80℃で20分間
乾燥し、厚さ40μmの感光層を形成した。次いで
ネガマスクを通してオーク製作所(株)製フエニツク
ス3000型露光機を用い、200mJ／cm²で露光した。
露光後80℃で５分間加熱し、常温で30分放置した
後、１，１，１−トリクロルエタンを用いて20℃
で90秒間スプレー現像した。次いで東芝電材(株)製
東芝紫外線照射装置（定格電圧200V、定格消費
電力7.2KW、適合ランプH5600L／２、ランプ本
数１本）を使用し、1J／cm²で照射した後、150℃
で30分間加熱処理してネガマスクに相応する寸法
精度の優れたソルダマスクを得た。このソルダマ
スクは耐冷熱衝撃性に優れ、ロジン系フラツクス
Ａ−226（タムラ化研(株)製）を用いて、260℃で10
秒間、はんだ付け処理し、更にトリクレンで25
℃、10分間清浄化処理した後、MIL−STD−
202E 107D 条件Ｂ（−65℃30分間、常温５分以
内、125℃30分間）、50サイクルの冷熱衝撃試験で
クラツクの発生および被膜の剥がれは認められ
ず、長期間の信頼性が非常に優れていることがわ
かつた。

実施例 ２ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、EOCN104（エポキシ当量230） 920部 ハロゲン化フエノールノボラツク型エポキシ樹
脂、BREN（エポキシ当量285） 285部 メチルセロソルブアセテート 600部 Ｂ アクリル酸 288部 塩化ヘンジルトリメチルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフエノールノ ３部 メチルセロソルブアセテート 100部 Ｃ イソシアナートエチルメタクリレート 620部 ジブチルチンジラウレート 0.5部 メチルセロソルブアセテート 100部 Ｄ メタノール 10部 Ａ〜Ｄを用い、その他は実施例１−(a)と同様に
して、不揮発分54％のノボラツク型エポキシ樹
脂／アクリル酸／イソシアナートエチルメタクリ
レート（酸当量／エポキシ当量比＝0.8イソシア
ナート当量／水酸基当量比＝１）系光重合性不飽
和化合物の溶液（）を得た。

(b) 感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）148部（不揮発分80部）、メチルメタクリレ
ート／トリブロモフエニルアクリレート／スチレ
ン／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（68／
10／15／７重量比）共重合体（分子量約10万、ガ
ラス転移温度102℃）20部、ベンゾフエノン2.7
部、ミヒラーケトン0.3部、ホスマーＭ（油脂製品
(株)製リン酸エステル）とベンゾトリアゾールとの
等モル塩0.1部およびビクロアピユアブルー0.02
部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の溶液を
調製した。

以下、実施例１−(c)と同様にして耐熱性に優れ
た硬化被膜を得た。

また前記感光性樹脂組成物を厚さ0.8mm、
UL94V−０のガラスエポキシ難燃基材（日立化
成工業(株)製 MCL−Ｅ−67）の両面に適用し、
厚さ75μmの硬化被膜を形成させた場合には
UL94V−１の難燃性を保持することがわかつた。

実施例 ３ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
脂、EOCN104（エポキシ当量230） 1095部 メチルセロソルブアセテート 600部 Ｂ メタクリル酸 368部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム ７部 ｐ−メトキシフエノールノ ３部 メチルセロソルブアセテート 100部 Ｃ イソシアナートエチルメタクリレート 287部 ジブチルチンジラウレート 0.5部 メチルセロソルブアセテート 100部 Ｄ メタノール 10部 Ａ〜Ｄを用い、その他は実施例１−(a)と同様に
して、不揮発分69％のノボラツク型エポキシ樹
脂／メタクリル酸／イソシアナートエチルメタク
リレート（酸当量／エポキシ当量比＝0.8イソシ
アナート当量／水酸基当量比＝0.88）系光重合性
不飽和化合物の溶液（）を得た。

(b) 感光性樹脂組成物の調製 光重合性不飽和化合物の溶液（）の代わり
に、(a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）116部（不揮発分80部）を用い、その他は実
施例２(b)および(c)と同様にして、耐熱性に優れた
硬化被膜を得た。

実施例 ４ (a) 光重合性不飽和化合物の合成 Ａ フエノールノボラツク型エポキシ樹脂、
YDPN−638（エポキシ当量180） 857部 エチルセロソルブアセテート 600部 Ｂ ケイ皮酸 176部 アクリル酸 86部 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム塩７部 ｐ−メトキシフエノール ３部 エチルセロソルブアセテート 100部 Ｃ イソシアナートエチルメタクリレート 369部 ジブチルチンジラウレート 0.1部 エチルセロソルブアセテート 100部 Ｄ メタノール 10部 Ａ〜Ｄを用い、その他は実施例１−(a)と同様に
して、NV65％のフエノールノボラツク型エポキ
シ樹脂／ケイ皮酸／アクリル酸／イソシアナート
エチルメタクリレート（酸当量／エポキシ当量比
＝0.5、イソシアナート当量／水酸基当量比＝１）
系光重合性不飽和化合物の溶液（）を得た。

(b) 感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液
（）92部（不揮発分60部）、アクリル酸メチル／
スチレン／メタクリル酸メチル（55／25／20重量
比）共重合体（分子量約10万、ガラス転移温度44
℃）40部、２，４−ジエチルチオキサントン２
部、ジメチルアミノ安息香酸エチル３部、および
ビクトリアピユアブルー0.02部を混合して本発明
の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。

(c) 硬化被膜の形成 現像液として、１，１，１−トリクロルエタン
の代わりにスリーワンEX（１，１，１−トリクロ
ルエタンを主成分とする洗浄液、東亜合成(株)製）
を用い、その他は実施例１−(c)と同様にして耐熱
性に優れた硬化被膜を得た。

実施例より明らかなように、本発明の感光性樹
脂組成物を用いることにより、写真法による厚膜
の画像形成が可能であり、また１，１，１−トリ
クロルエタン等の難燃性現像液を用いて、解像度
および耐熱性に優れた高信頼性のソルダマスクを
形成することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ (a)オルソクレゾールノボラツク型エポキシ樹
   脂、フエノールノボラツク型エポキシ樹脂および
   ハロゲン化フエノールノボラツク型エポキシ樹脂
   からなる群から選ばれた少なくとも１種のノボラ
   ツク型エポキシ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、
   酸当量／エポキシ当量比が0.2〜１の範囲で付加
   反応させて得られる不飽和化合物の２級水酸基
   に、イソシアナートエチルメタクリレートを、イ
   ソシアナート当量／水酸基当量比が0.2〜１の範
   囲で反応させて得られる光重合性不飽和化合物、
   (b)ガラス転移温度が約40〜150℃の線状高分子化
   合物並びに(c)活性光により遊離ラジカルを生成す
   る増感剤および（または）増感剤系を含有してな
   る感光性樹脂組成物。