JPH0565869B2 - - Google Patents
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- JPH0565869B2 JPH0565869B2 JP58186398A JP18639883A JPH0565869B2 JP H0565869 B2 JPH0565869 B2 JP H0565869B2 JP 58186398 A JP58186398 A JP 58186398A JP 18639883 A JP18639883 A JP 18639883A JP H0565869 B2 JPH0565869 B2 JP H0565869B2
- Authority
- JP
- Japan
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- weight
- sensitivity
- resin composition
- photoinsoluble
- bis
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は優れた感度を示す光不溶性樹脂組成
物、さらに詳しくは、アミノフエニル不飽和ケト
ン類とジアリールヨードニウム塩との組合わせを
光重合開始剤とすることを特徴とする光不溶性樹
脂組成物に関するものである。
物、さらに詳しくは、アミノフエニル不飽和ケト
ン類とジアリールヨードニウム塩との組合わせを
光重合開始剤とすることを特徴とする光不溶性樹
脂組成物に関するものである。
光重合を原理とする光不溶性樹脂の感光速度を
増大させるためには多くの研究がなされている
が、その多くは紫外線に活性な光重合開始剤に関
するものである。一方、光不溶性樹脂はフオトレ
ジスト、インキ、塗料、ワニス、印刷製版材料な
どはもとより、レーザ光を用いる画像形成材料や
銀塩に代る感光材料としても注目されている。し
かし、このレーザ用としての感光特性は従来のも
のでは甚だ不十分のものでしかない。そのため、
感光波長領域を拡大し、しかも感光速度を飛躍的
に増大させる必要がある。
増大させるためには多くの研究がなされている
が、その多くは紫外線に活性な光重合開始剤に関
するものである。一方、光不溶性樹脂はフオトレ
ジスト、インキ、塗料、ワニス、印刷製版材料な
どはもとより、レーザ光を用いる画像形成材料や
銀塩に代る感光材料としても注目されている。し
かし、このレーザ用としての感光特性は従来のも
のでは甚だ不十分のものでしかない。そのため、
感光波長領域を拡大し、しかも感光速度を飛躍的
に増大させる必要がある。
可視光線に感光する光重合性樹脂としてはいく
つかの提案がなされている。特開昭48−36281号
においては、エチレン系不飽和によるトリアジン
環と共役された少なくとも1つのトリハロメチル
基と少なくとも1つの発色団部分を有するS−ト
リアジンを光重合開始剤とする方法が提案されて
いる。また、特開昭54−155292号においては、p
−ジアルキルアミノアリリデンと共役した不飽和
ケトンを光重合開始剤とする組成物が提案されて
いる。あるいはまた、特開昭52−134692号におい
ては、多環性キノンと3級アミンを光重合開始系
とする組成物が提案されている。
つかの提案がなされている。特開昭48−36281号
においては、エチレン系不飽和によるトリアジン
環と共役された少なくとも1つのトリハロメチル
基と少なくとも1つの発色団部分を有するS−ト
リアジンを光重合開始剤とする方法が提案されて
いる。また、特開昭54−155292号においては、p
−ジアルキルアミノアリリデンと共役した不飽和
ケトンを光重合開始剤とする組成物が提案されて
いる。あるいはまた、特開昭52−134692号におい
ては、多環性キノンと3級アミンを光重合開始系
とする組成物が提案されている。
これらはいずれも従来の光重合性樹脂に比べて
おり長波長光に感ずる材料を与えることが出来る
が、レーザ用感光材料や銀塩代替材料などとして
利用するにはなお一層高い感光速度が望まれる。
さらに、光重合開始剤としてアミノ基置換不飽和
ケトンを単独で、あるいは2,4,6−置換−
1,3,5−トリアジン又はベンジル類と組み合
わせて含む光重合性組成物(特開昭53−65381号
公報、特開昭55−50001号公報、特開昭57−10605
号公報)、ジアリールヨードニウム塩を単独で、
あるいは特定の芳香族化合物や複素環化合物と組
み合わせて含む光重合性組成物(特開昭51−
100716号公報、特開昭53−22597号公報、特開昭
55−155018号公報)なども提案されているが、い
ずれも感度が低く、レーザ光や長波長光による画
像形成露光に対しては実用的でない。
おり長波長光に感ずる材料を与えることが出来る
が、レーザ用感光材料や銀塩代替材料などとして
利用するにはなお一層高い感光速度が望まれる。
さらに、光重合開始剤としてアミノ基置換不飽和
ケトンを単独で、あるいは2,4,6−置換−
1,3,5−トリアジン又はベンジル類と組み合
わせて含む光重合性組成物(特開昭53−65381号
公報、特開昭55−50001号公報、特開昭57−10605
号公報)、ジアリールヨードニウム塩を単独で、
あるいは特定の芳香族化合物や複素環化合物と組
み合わせて含む光重合性組成物(特開昭51−
100716号公報、特開昭53−22597号公報、特開昭
55−155018号公報)なども提案されているが、い
ずれも感度が低く、レーザ光や長波長光による画
像形成露光に対しては実用的でない。
本発明は、光分解により酸を発生するジアリー
ルヨードニウム塩の増感分解反応を検討する過程
で、アミノフエニル体が効率良くヨードニウム塩
の光分解を増感することを見い出し、その知見に
基づいて完成されたものである。
ルヨードニウム塩の増感分解反応を検討する過程
で、アミノフエニル体が効率良くヨードニウム塩
の光分解を増感することを見い出し、その知見に
基づいて完成されたものである。
すなわち、本発明は、重合能を有するエチレン
性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物およ
び光重合開始剤からなる光不溶性樹脂組成物にお
いて、一般式() (式中のR1、R2、R5、R6はアルキル基を示し、
R3、R4は水素原子またはその両者で環状構造を
形成するC1〜C3のアルキレン残基を示し、nは
0または1を示す。)で表わされる不飽和ケトン
とジアリールヨードニウム塩との組合わせを光重
合開始剤とすることを特徴とする光不溶性樹脂組
成物に関するものである。
性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物およ
び光重合開始剤からなる光不溶性樹脂組成物にお
いて、一般式() (式中のR1、R2、R5、R6はアルキル基を示し、
R3、R4は水素原子またはその両者で環状構造を
形成するC1〜C3のアルキレン残基を示し、nは
0または1を示す。)で表わされる不飽和ケトン
とジアリールヨードニウム塩との組合わせを光重
合開始剤とすることを特徴とする光不溶性樹脂組
成物に関するものである。
光重合開始剤を構成する一般式()で表わさ
れる不飽和ケトンとしては、ジアルキルアミノフ
エニル基と共役した以下の化合物を例示すること
ができる。
れる不飽和ケトンとしては、ジアルキルアミノフ
エニル基と共役した以下の化合物を例示すること
ができる。
光重合開始系を構成する今一つの成分としての
ジアリールヨードニウム塩は、一般式() (式中、R7、R8は水素原子、低級アルキル基、
メトキシ基またはニトロ基を示し、X-はハロゲ
ンイオン、BF4 -、PF6 -、またはAsF6 -を示す) で表わされる化合物である。本発明で用いられる
一般式()で表わされる化合物としては、
Macromolecules、10、1307(1977)に記載の化
合物、たとえば、ジフエニルヨードニウム、ジト
リルヨードニウム、フエニル(p−アニシル)ヨ
ードニウム、ビス(m−ニトロフエニル)ヨード
ニウム、ビス(p−tert−ブチルフエニル)ヨー
ドニウムなどのヨウドニウムのクロリド、ブロミ
ドあるいはホウフツ化塩、ヘキサフルオロホスフ
エート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩をあげ
ることができる。
ジアリールヨードニウム塩は、一般式() (式中、R7、R8は水素原子、低級アルキル基、
メトキシ基またはニトロ基を示し、X-はハロゲ
ンイオン、BF4 -、PF6 -、またはAsF6 -を示す) で表わされる化合物である。本発明で用いられる
一般式()で表わされる化合物としては、
Macromolecules、10、1307(1977)に記載の化
合物、たとえば、ジフエニルヨードニウム、ジト
リルヨードニウム、フエニル(p−アニシル)ヨ
ードニウム、ビス(m−ニトロフエニル)ヨード
ニウム、ビス(p−tert−ブチルフエニル)ヨー
ドニウムなどのヨウドニウムのクロリド、ブロミ
ドあるいはホウフツ化塩、ヘキサフルオロホスフ
エート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩をあげ
ることができる。
本発明の光不溶性樹脂組成物を構成するエチレ
ン性不飽和結合を少なくとも1つ持つ化合物とし
ては、ビニル系モノマーの他にオリゴマーを含
み、さらには、高分子量化合物でもよい。具体的
には、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、アクリルアミド、メタアクリルアミ
ド、ジアセトンアクリルアミド、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルピロリドンなどの高沸点モノマー及
び、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタン
ジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−
ヘキサンジオール、1,10−デカンジオール、ト
リメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ソ
ルビトール、マンニトールなどのジあるいはポリ
(メタ)アクリルエステル、さらには、(メタ)ア
クリル化されたエポキシ樹脂、ポリエステルアク
リレートオリゴマー、(メタ)アクリル化ウレタ
ンオリゴマー、アクロレイン化ポリビニルアルコ
ールなどをあげることが出来るが、この限りでは
ない。
ン性不飽和結合を少なくとも1つ持つ化合物とし
ては、ビニル系モノマーの他にオリゴマーを含
み、さらには、高分子量化合物でもよい。具体的
には、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、アクリルアミド、メタアクリルアミ
ド、ジアセトンアクリルアミド、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルピロリドンなどの高沸点モノマー及
び、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタン
ジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−
ヘキサンジオール、1,10−デカンジオール、ト
リメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ソ
ルビトール、マンニトールなどのジあるいはポリ
(メタ)アクリルエステル、さらには、(メタ)ア
クリル化されたエポキシ樹脂、ポリエステルアク
リレートオリゴマー、(メタ)アクリル化ウレタ
ンオリゴマー、アクロレイン化ポリビニルアルコ
ールなどをあげることが出来るが、この限りでは
ない。
本発明の光不溶性樹脂組成中に含有される光重
合開始剤の量は、一般式()で表わされるアミ
ノフエニル体とエチレン性不飽和結合を持つ化合
物の重量比で約1:5から約1:500までの広い
範囲をとることが可能であり、好ましくは1:10
から1:100の範囲である。また、アミノフエニ
ル体とジアリールヨードニウム塩との重量比は約
10:1から約1:10までの範囲であり、好ましく
は約2:1から約1:5までの範囲である。
合開始剤の量は、一般式()で表わされるアミ
ノフエニル体とエチレン性不飽和結合を持つ化合
物の重量比で約1:5から約1:500までの広い
範囲をとることが可能であり、好ましくは1:10
から1:100の範囲である。また、アミノフエニ
ル体とジアリールヨードニウム塩との重量比は約
10:1から約1:10までの範囲であり、好ましく
は約2:1から約1:5までの範囲である。
本発明の光不溶性樹脂組成物には所望に応じて
公知のバインダー、熱重合禁止剤、可塑剤などの
添加剤を加えても良い。
公知のバインダー、熱重合禁止剤、可塑剤などの
添加剤を加えても良い。
本発明の組成物に適した光源としては、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハロゲン
ランプ、蛍光灯のほかに、He−Cd、Ar、He−
Neなどのレーザが利用できる。
銀灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハロゲン
ランプ、蛍光灯のほかに、He−Cd、Ar、He−
Neなどのレーザが利用できる。
本発明の光不溶性樹脂組成物は従来の光重合性
組成物よりも優れた感度を有しているので、平版
や凸版用製版材料、レリーフの作製、非銀塩画像
の作製、プリント配線板の作製など幅広い分野に
応用できる。
組成物よりも優れた感度を有しているので、平版
や凸版用製版材料、レリーフの作製、非銀塩画像
の作製、プリント配線板の作製など幅広い分野に
応用できる。
以下実施例をもつて本発明を説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。
明はこれに限定されるものではない。
実施例 1〜3
クロロメチルスチレンとメタクリル酸メチルと
の1:1共重合体にメタクリロイル基を導入して
得たポリマーの10重量%ジオキサン溶液1部に、
ジフエニルヨードニウム・ヘキサフルオロホスフ
エート0.01部とビス(p−ジメチルアミノベンジ
リデン)アセトン0.01部を添加し、陽極酸化アル
ミ板にスピン塗布して感度を測定した。Xe灯を
光源とした時には、東京応化工業製TPRの約32
倍の感度が得られた。一方、アルゴンレーザの
488nmの光を照射した結果、0.9mJ/cm2の露光
量でビーム径(0.7mm)と同じ大きさのスポツト
像を得た。
の1:1共重合体にメタクリロイル基を導入して
得たポリマーの10重量%ジオキサン溶液1部に、
ジフエニルヨードニウム・ヘキサフルオロホスフ
エート0.01部とビス(p−ジメチルアミノベンジ
リデン)アセトン0.01部を添加し、陽極酸化アル
ミ板にスピン塗布して感度を測定した。Xe灯を
光源とした時には、東京応化工業製TPRの約32
倍の感度が得られた。一方、アルゴンレーザの
488nmの光を照射した結果、0.9mJ/cm2の露光
量でビーム径(0.7mm)と同じ大きさのスポツト
像を得た。
ビス(p−ジメチルアミノベンジリデン)アセ
トンの代りに、2,5−ビス(p−ジメチルアミ
ノベンジリデン)シクロペンタノン、2、6−ビ
ス(p−ジメチルアミノベンジリデン)シクロヘ
キサノンを用いたときも、ほぼ同程度の感度が得
られた。
トンの代りに、2,5−ビス(p−ジメチルアミ
ノベンジリデン)シクロペンタノン、2、6−ビ
ス(p−ジメチルアミノベンジリデン)シクロヘ
キサノンを用いたときも、ほぼ同程度の感度が得
られた。
実施例 4
ポリメタクリル酸メチル1部、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート1部、ジフエニルヨード
ニウム・ヘキサフルオロホスフエート0.1部およ
びビス(p−ジメチルアミノベンジリデン)アセ
トン0.1部からなる組成物のジオキサン溶液を陽
極酸化アルミ板上にスピン塗布し、キセノン灯を
用いて感度を測定した。これを脱気下で露光した
ところ、TPRの約10倍の感度を示した。
トールトリアクリレート1部、ジフエニルヨード
ニウム・ヘキサフルオロホスフエート0.1部およ
びビス(p−ジメチルアミノベンジリデン)アセ
トン0.1部からなる組成物のジオキサン溶液を陽
極酸化アルミ板上にスピン塗布し、キセノン灯を
用いて感度を測定した。これを脱気下で露光した
ところ、TPRの約10倍の感度を示した。
実施例 5
52%のジメチルアミノ基で置換されたポリ−ε
−カプラミド(東レ製:AQナイロン)の20%エ
タノール溶液に、ポリマーに対して5重量%のジ
フエニルヨードニウム塩とビス(p−ジメチルア
ミノベンジリデン)アセトンおよびポリマーに対
して50重量%のペンタエリスリトールトリアクリ
レートを添加し、これを陽極酸化アルミ板に塗布
して感度を測定した。露光後水道水で現像した結
果、TPRに対して約8倍の感度を示した。
−カプラミド(東レ製:AQナイロン)の20%エ
タノール溶液に、ポリマーに対して5重量%のジ
フエニルヨードニウム塩とビス(p−ジメチルア
ミノベンジリデン)アセトンおよびポリマーに対
して50重量%のペンタエリスリトールトリアクリ
レートを添加し、これを陽極酸化アルミ板に塗布
して感度を測定した。露光後水道水で現像した結
果、TPRに対して約8倍の感度を示した。
比較例 1
クロロメチルスチレンとメタクリル酸メチルと
の1:1共重合体1.26gを20mlのジメチルアセト
アミドに溶解してから、メタクリル酸カリウム
0.83gを加えて80℃で5時間反応させた。生成物
をメタノールに沈澱させて分離し、メタノールで
十分に洗浄してから乾燥することにより側鎖にメ
タクリロイル基を有する重合体を得た。これをジ
メチルホルムアミドに溶解して10重量%溶液とし
た。この重合体1重量部に対して、ビス(p−ジ
メチルアミノベンジリデン)アセトン0.01重量部
と2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン0.05重量部をこの溶液に加
え、これを陽極酸化アルミ板上にスピン塗布して
キセノン灯を光源として感度の評価を行つた。東
京応化工業(株)のTPRに対する相対感度は2であ
つた。それに対して、トリアジンの代わりにジフ
エニルヨードニウムヘキサフルオロホスフエート
を用いた場合には、相対感度は32に達した。
の1:1共重合体1.26gを20mlのジメチルアセト
アミドに溶解してから、メタクリル酸カリウム
0.83gを加えて80℃で5時間反応させた。生成物
をメタノールに沈澱させて分離し、メタノールで
十分に洗浄してから乾燥することにより側鎖にメ
タクリロイル基を有する重合体を得た。これをジ
メチルホルムアミドに溶解して10重量%溶液とし
た。この重合体1重量部に対して、ビス(p−ジ
メチルアミノベンジリデン)アセトン0.01重量部
と2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン0.05重量部をこの溶液に加
え、これを陽極酸化アルミ板上にスピン塗布して
キセノン灯を光源として感度の評価を行つた。東
京応化工業(株)のTPRに対する相対感度は2であ
つた。それに対して、トリアジンの代わりにジフ
エニルヨードニウムヘキサフルオロホスフエート
を用いた場合には、相対感度は32に達した。
比較例 2
クロロメチルスチレンとメタクリル酸メチルと
の1:1共重合体1.26gを20mlのジメチルアセト
アミドに溶解してから、メタクリル酸カリウム
0.83gを加えて80℃で5時間反応させた。生成物
をメタノールに沈澱させて分離し、メタノールで
十分に洗浄してから乾燥することにより側鎖にメ
タクリロイル基を有する重合体を得た。これをジ
メチルホルムアミドに溶解して10重量%溶液とし
た。この重合体1重量部に対して、ビス(p−ジ
メチルアミノベンジリデン)アセトン0.01重量部
とベンジル0.05重量部をこの溶液に加え、これを
陽極酸化アルミ板上にスピン塗布してキセノン灯
を光源として感度の評価を行つた。東京応化工業
(株)のTPRに対する相対感度は1以下であつた。
それに対して、トリアジンの代わりにジフエニル
ヨードニウムヘキサフルオロホスフエートを用い
た場合には、相対感度は32に達した。
の1:1共重合体1.26gを20mlのジメチルアセト
アミドに溶解してから、メタクリル酸カリウム
0.83gを加えて80℃で5時間反応させた。生成物
をメタノールに沈澱させて分離し、メタノールで
十分に洗浄してから乾燥することにより側鎖にメ
タクリロイル基を有する重合体を得た。これをジ
メチルホルムアミドに溶解して10重量%溶液とし
た。この重合体1重量部に対して、ビス(p−ジ
メチルアミノベンジリデン)アセトン0.01重量部
とベンジル0.05重量部をこの溶液に加え、これを
陽極酸化アルミ板上にスピン塗布してキセノン灯
を光源として感度の評価を行つた。東京応化工業
(株)のTPRに対する相対感度は1以下であつた。
それに対して、トリアジンの代わりにジフエニル
ヨードニウムヘキサフルオロホスフエートを用い
た場合には、相対感度は32に達した。
比較例 3
クロロメチルスチレンとメタクリル酸メチルと
の1:1共重合体1.26gを20mlのジメチルアセト
アミドに溶解してから、メタクリル酸カリウム
0.83gを加えて80℃で5時間反応させた。生成物
をメタノールに沈澱させて分離し、メタノールで
十分に洗浄してから乾燥することにより側鎖にメ
タクリロイル基を有する重合体を得た。これをジ
メチルホルムアミドに溶解して10重量%溶液とし
た。この重合体1重量部に対して、ジフエニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフエート0.05重量
部をこの溶液に加え、これを陽極酸化アルミ板上
にスピン塗布し、これに発振波長488nmのアル
ゴンレーザを照射したが、不溶化は全く起こらな
かつた。これに対して、この溶液にビス(p−ジ
メチルアミノベンジリデン)アセトン0.05重量部
を添加したところ、アルゴンレーザに感光し、す
みやかな不溶化が認められた。
の1:1共重合体1.26gを20mlのジメチルアセト
アミドに溶解してから、メタクリル酸カリウム
0.83gを加えて80℃で5時間反応させた。生成物
をメタノールに沈澱させて分離し、メタノールで
十分に洗浄してから乾燥することにより側鎖にメ
タクリロイル基を有する重合体を得た。これをジ
メチルホルムアミドに溶解して10重量%溶液とし
た。この重合体1重量部に対して、ジフエニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフエート0.05重量
部をこの溶液に加え、これを陽極酸化アルミ板上
にスピン塗布し、これに発振波長488nmのアル
ゴンレーザを照射したが、不溶化は全く起こらな
かつた。これに対して、この溶液にビス(p−ジ
メチルアミノベンジリデン)アセトン0.05重量部
を添加したところ、アルゴンレーザに感光し、す
みやかな不溶化が認められた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 重合能を有するエチレン性不飽和結合を少な
くとも1つ有する化合物および光重合開始剤から
なる光不溶性樹脂組成物において、一般式 (式中のR1、R2、R5、R6はアルキル基、R3、R4
は水素原子またはその両者で環状構造を形成する
炭素数1〜3のアルキレン基を示し、nは0また
は1である) で表わされる不飽和ケトンとジアリールヨードニ
ウム塩との組み合わせを光重合開始剤とすること
を特徴とする高感度光不溶性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18639883A JPS6078443A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 光不溶性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18639883A JPS6078443A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 光不溶性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6078443A JPS6078443A (ja) | 1985-05-04 |
| JPH0565869B2 true JPH0565869B2 (ja) | 1993-09-20 |
Family
ID=16187698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18639883A Granted JPS6078443A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 光不溶性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6078443A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2677457B2 (ja) * | 1991-01-22 | 1997-11-17 | 日本ペイント株式会社 | 光重合性組成物 |
| JP3674336B2 (ja) * | 1998-10-02 | 2005-07-20 | 凸版印刷株式会社 | 可視光重合性組成物 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1539192A (en) * | 1975-01-27 | 1979-01-31 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
| AU517415B2 (en) * | 1976-07-09 | 1981-07-30 | General Electric Company | Curable polymer composition |
| JPS5928325B2 (ja) * | 1976-11-22 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| JPS5550001A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photo-polymerizable composition |
| US4250053A (en) * | 1979-05-21 | 1981-02-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Sensitized aromatic iodonium or aromatic sulfonium salt photoinitiator systems |
| JPS5710605A (en) * | 1980-06-24 | 1982-01-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Photopolymerizable composition |
-
1983
- 1983-10-05 JP JP18639883A patent/JPS6078443A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6078443A (ja) | 1985-05-04 |
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