JPH0570397A - ポリヒドロキシベンゾフエノン類の製造法 - Google Patents
ポリヒドロキシベンゾフエノン類の製造法Info
- Publication number
- JPH0570397A JPH0570397A JP3263176A JP26317691A JPH0570397A JP H0570397 A JPH0570397 A JP H0570397A JP 3263176 A JP3263176 A JP 3263176A JP 26317691 A JP26317691 A JP 26317691A JP H0570397 A JPH0570397 A JP H0570397A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- represented
- polyhydroxybenzophenones
- formula
- general formula
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 22
- MBDNRNMVTZADMQ-UHFFFAOYSA-N sulfolene Chemical compound O=S1(=O)CC=CC1 MBDNRNMVTZADMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims abstract description 11
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims abstract description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 7
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 13
- -1 phosphorus halide compound Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 4
- ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical class OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 abstract description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 abstract description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 abstract description 2
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 abstract 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 3
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRIXVKKOHPQOFK-UHFFFAOYSA-N p-methoxysalicylic acid Natural products COC1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 MRIXVKKOHPQOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXQASHMWLQBEEQ-UHFFFAOYSA-N (2,3-dihydroxy-4-methoxyphenyl)-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C(O)=C1O YXQASHMWLQBEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQZZLQKUYLGFT-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O GBQZZLQKUYLGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXASYBOZGMKPMZ-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2-hydroxy-3,4-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(OC)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O XXASYBOZGMKPMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQYOUPUVFQNLO-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O YLQYOUPUVFQNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLYXGBNUYGAFAC-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O FLYXGBNUYGAFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKJFKPFBSPZTAH-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O OKJFKPFBSPZTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAVGLBFSNSGWRA-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3,4-dimethoxyphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(OC)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O VAVGLBFSNSGWRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUXVLNXXUCZUMI-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3,4-dimethoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=C(OC)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IUXVLNXXUCZUMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNUNDQZDGVWLPX-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-4-propoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NNUNDQZDGVWLPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APVNRHLATFVPPS-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O APVNRHLATFVPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSUUDNFYSFENAE-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CSUUDNFYSFENAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFWBOSKVRUUIPP-UHFFFAOYSA-N (4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O KFWBOSKVRUUIPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IADJBCIKCXGXDN-UHFFFAOYSA-N (4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IADJBCIKCXGXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAFUHGPESJSRJX-UHFFFAOYSA-N (4-ethoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 JAFUHGPESJSRJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGJXZWFPIDESNQ-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 LGJXZWFPIDESNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVWLDMBJNPCODI-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O NVWLDMBJNPCODI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSPAPKTIGPYOV-BQYQJAHWSA-N (e)-1-[4-(4-hydroxyphenyl)piperazin-1-yl]-3-thiophen-2-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N1CCN(C(=O)\C=C\C=2SC=CC=2)CC1 BFSPAPKTIGPYOV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxyphenol Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1O KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUDSTWAOSUDFKD-UHFFFAOYSA-N 3-Desmethyl-5-deshydroxyscleroin Chemical compound OC1=C(O)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FUDSTWAOSUDFKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Dihydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNGFVIMNTYOBTK-UHFFFAOYSA-N 4-butoxy-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound CCCCOC1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 RNGFVIMNTYOBTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVZPQHRWOUXUPU-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxy-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound CCOC1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 DVZPQHRWOUXUPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- GKHBKLKHMLBPRN-UHFFFAOYSA-N C(CC)OOC=1C(C(=O)O)=CC=CC1 Chemical compound C(CC)OOC=1C(C(=O)O)=CC=CC1 GKHBKLKHMLBPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILUJQPXNXACGAN-UHFFFAOYSA-N O-methylsalicylic acid Chemical compound COC1=CC=CC=C1C(O)=O ILUJQPXNXACGAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960004365 benzoic acid Drugs 0.000 description 1
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法
を、高収率、高純度で、工業的に有利に製造すること。 【構成】 フェノール類と芳香族カルボン酸類とを反応
させて一般式（III) （式中、R1, R2，R3, R4はそれぞれ独立に水素原子、ヒ
ドロキシル基または低級アルコキシル基を示す。）で表
わされるポリヒドロキシベンゾフェノン類を製造する方
法において、反応溶媒としてスルホレンを用いることを
特徴とするポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法。 【効果】 ポリヒドロキシベンゾフェノンを、高純度、
高収率で、工業的に有利に製造することができる。
を、高収率、高純度で、工業的に有利に製造すること。 【構成】 フェノール類と芳香族カルボン酸類とを反応
させて一般式（III) （式中、R1, R2，R3, R4はそれぞれ独立に水素原子、ヒ
ドロキシル基または低級アルコキシル基を示す。）で表
わされるポリヒドロキシベンゾフェノン類を製造する方
法において、反応溶媒としてスルホレンを用いることを
特徴とするポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法。 【効果】 ポリヒドロキシベンゾフェノンを、高純度、
高収率で、工業的に有利に製造することができる。
Description
【産業上の利用分野】本発明は、ポリヒドロキシベンゾ
フェノン類の製造方法に関する。ポリヒドロキシベンゾ
フェノン類は、染料、高分子重合体、紫外線吸収剤、合
成樹脂の安定剤、農薬、医薬品、フォトレジスト用感光
剤などの中間体として有用な物質である。
フェノン類の製造方法に関する。ポリヒドロキシベンゾ
フェノン類は、染料、高分子重合体、紫外線吸収剤、合
成樹脂の安定剤、農薬、医薬品、フォトレジスト用感光
剤などの中間体として有用な物質である。
【０００２】
【従来の技術】ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造
法としては、フェノール類と芳香族カルボン酸類とを反
応させる方法において、触媒としてＨＦを用いる方法
（米国特許第 3,403,183号明細書）、強酸性イオン交換
樹脂を用いる方法（特開昭61−282335号公報）、三弗化
硼素を用いる方法（特開昭59−190943号、特開昭61−97
240 号公報）又は有機スルホン酸を用いる方法（特開昭
63−264543号、特開昭57−154140号公報）等が知られて
いる。
法としては、フェノール類と芳香族カルボン酸類とを反
応させる方法において、触媒としてＨＦを用いる方法
（米国特許第 3,403,183号明細書）、強酸性イオン交換
樹脂を用いる方法（特開昭61−282335号公報）、三弗化
硼素を用いる方法（特開昭59−190943号、特開昭61−97
240 号公報）又は有機スルホン酸を用いる方法（特開昭
63−264543号、特開昭57−154140号公報）等が知られて
いる。
【０００３】また、米国特許第 2,854,485号、同第 2,9
21,962号明細書及びJ.Chem.Soc,3982(1955年) に示され
るように、芳香族カルボン酸類とフェノール類とを、塩
化亜鉛及び燐酸、オキシ塩化燐又は三塩化燐の存在下に
反応させる方法が知られている。更に、スルホラン溶媒
中、無水塩化亜鉛、塩素化燐化合物の存在下で反応させ
る方法（特開平３−167151号公報）等が知られるに至っ
た。
21,962号明細書及びJ.Chem.Soc,3982(1955年) に示され
るように、芳香族カルボン酸類とフェノール類とを、塩
化亜鉛及び燐酸、オキシ塩化燐又は三塩化燐の存在下に
反応させる方法が知られている。更に、スルホラン溶媒
中、無水塩化亜鉛、塩素化燐化合物の存在下で反応させ
る方法（特開平３−167151号公報）等が知られるに至っ
た。
【０００４】しかしながら、これら従来の技術はいずれ
も工業的実施を困難にするいくつかの欠点を有してい
る。例えば、弗化水素を用いる場合には極めて毒性が強
い上、反応には加圧装置を必要とし、装置の材質も耐酸
でなければならない。加うるに弗化水素の使用量が、フ
ェノール類に対して１６モル倍と大きく、容積効率が不
良であると共に、弗化水素が高価であるため回収には特
別な配慮が必要である。これは三弗化硼素を用いる場合
も同様である。
も工業的実施を困難にするいくつかの欠点を有してい
る。例えば、弗化水素を用いる場合には極めて毒性が強
い上、反応には加圧装置を必要とし、装置の材質も耐酸
でなければならない。加うるに弗化水素の使用量が、フ
ェノール類に対して１６モル倍と大きく、容積効率が不
良であると共に、弗化水素が高価であるため回収には特
別な配慮が必要である。これは三弗化硼素を用いる場合
も同様である。
【０００５】イオン交換樹脂を用いる場合には、樹脂の
価格が高いことから、再使用をする必要があるが、この
時活性が落ちるため、最初の量に対して、使用量を増や
さなければならない。また、アルカンスルホン酸を用い
る方法については、例えばメタンスルホン酸の場合、そ
の使用量が、原料に対して多い（８〜１２モル倍）にも
かかわらず、収率もそれ程高くないので、容積効率の点
でも不利である。
価格が高いことから、再使用をする必要があるが、この
時活性が落ちるため、最初の量に対して、使用量を増や
さなければならない。また、アルカンスルホン酸を用い
る方法については、例えばメタンスルホン酸の場合、そ
の使用量が、原料に対して多い（８〜１２モル倍）にも
かかわらず、収率もそれ程高くないので、容積効率の点
でも不利である。
【０００６】更に、塩化亜鉛及び燐酸、オキシ塩化燐又
は三塩化燐を用いる方法では、オキシ塩化燐の場合には
特にヒドロキシル基の数が多い目的物の場合には、反応
生成物が溶解しないために生成物が反応容器の壁に固着
し、撹拌が困難となる等の問題を有し、また燐酸を溶媒
とする方法ではその使用量が多く、燐含有排水の処理に
難点があり、更にまた、溶媒としてスルホランを用いる
方法は、収率的に充分とは言えず、しかもスルホランが
比較的高価であり、また溶媒の回収・再利用が煩雑であ
る等々、いずれも工業的製造方法として充分満足できる
ものとは言えなかった。
は三塩化燐を用いる方法では、オキシ塩化燐の場合には
特にヒドロキシル基の数が多い目的物の場合には、反応
生成物が溶解しないために生成物が反応容器の壁に固着
し、撹拌が困難となる等の問題を有し、また燐酸を溶媒
とする方法ではその使用量が多く、燐含有排水の処理に
難点があり、更にまた、溶媒としてスルホランを用いる
方法は、収率的に充分とは言えず、しかもスルホランが
比較的高価であり、また溶媒の回収・再利用が煩雑であ
る等々、いずれも工業的製造方法として充分満足できる
ものとは言えなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、芳香
族カルボン酸類とフェノール類との反応により、工業的
に有利に、高収率、高純度でポリヒドロキシベンゾフェ
ノン類を製造する方法を提供することにある。
族カルボン酸類とフェノール類との反応により、工業的
に有利に、高収率、高純度でポリヒドロキシベンゾフェ
ノン類を製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）
【０００９】
【化−４】
【００１０】（式中、R1, R2はそれぞれ独立に水素原
子、ヒドロキシル基または低級アルコキシル基を示す）
で表わされるフェノール類と、一般式(II)
子、ヒドロキシル基または低級アルコキシル基を示す）
で表わされるフェノール類と、一般式(II)
【００１１】
【化−５】 （式中、R3, R4はそれぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ
ル基または低級アルコキシル基を示す。）で表わされる
芳香族カルボン酸類とを反応させて一般式(III)
ル基または低級アルコキシル基を示す。）で表わされる
芳香族カルボン酸類とを反応させて一般式(III)
【化−６】
【００１２】（式中、R1, R2, R3及びR4は前記と同じ意
味を有する）で表わされるポリヒドロキシベンゾフェノ
ン類を製造する方法において、反応溶媒として２，５−
ジヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド（以下、スル
ホレンという）を用いることを特徴とするポリヒドロキ
シベンゾフェノン類の製造法である。
味を有する）で表わされるポリヒドロキシベンゾフェノ
ン類を製造する方法において、反応溶媒として２，５−
ジヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド（以下、スル
ホレンという）を用いることを特徴とするポリヒドロキ
シベンゾフェノン類の製造法である。
【００１３】以下、本発明の方法を更に詳しく説明す
る。本発明に用いられる一般式（Ｉ）で示されるフェノ
ール類としては、具体的にはフェノール、レゾルシン、
ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、フロログ
ルシン、レゾルシンモノメチルエーテル、ピロガロール
モノメチルエーテル、レゾルシンモノエチルエーテル、
ピロガロールジメチルエーテル、レゾルシンモノプロピ
ルエーテルまたはレゾルシンモノブチルエーテルなどが
挙げられる。
る。本発明に用いられる一般式（Ｉ）で示されるフェノ
ール類としては、具体的にはフェノール、レゾルシン、
ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、フロログ
ルシン、レゾルシンモノメチルエーテル、ピロガロール
モノメチルエーテル、レゾルシンモノエチルエーテル、
ピロガロールジメチルエーテル、レゾルシンモノプロピ
ルエーテルまたはレゾルシンモノブチルエーテルなどが
挙げられる。
【００１４】本発明に用いられる一般式(II)で示される
芳香族カルボン酸類としては、具体的には安息香酸、サ
リチル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、β−レゾルシン
酸、ｏ−メトキシ安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、ｐ
−メトキシサリチル酸、ｐ−エトキシサリチル酸、ｐ−
プロポキシサリチル酸、ｐ−ブトキシサリチル酸などが
挙げられる。
芳香族カルボン酸類としては、具体的には安息香酸、サ
リチル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、β−レゾルシン
酸、ｏ−メトキシ安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、ｐ
−メトキシサリチル酸、ｐ−エトキシサリチル酸、ｐ−
プロポキシサリチル酸、ｐ−ブトキシサリチル酸などが
挙げられる。
【００１５】本発明の方法によって得られる一般式(II
I) で示されるポリヒドロキシベンゾフェノンとして
は、具体的には４，４′−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４′−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、２，２′，４−トリヒドロ
キシベンゾフェノン、２，２′，３，４−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２，３，４，４′−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、２，２′，３，４，４′−ペン
タヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−エトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−プロポキシベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ブトキシベンゾフェ
ノン、３，４−ジメトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，３−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，４−ジヒドロキシ−４′−メトキシベンゾ
フェノン、２，２′−ジヒドロキシ−３，４−ジメトキ
シベンゾフェノン、２，３−ジヒドロキシ−４，４′−
ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ
４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４−メトキシ−
２，２′，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−
メトキシ−２′，３′，４′−トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、４−ブトキシ−２，２′，４′−トリヒドロキ
シベンゾフェノン、および３，４−ジメトキシ−２，
２′，４′−トリヒドロキシベンゾフェノンなどが挙げ
られる。
I) で示されるポリヒドロキシベンゾフェノンとして
は、具体的には４，４′−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４′−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、２，２′，４−トリヒドロ
キシベンゾフェノン、２，２′，３，４−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２，３，４，４′−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、２，２′，３，４，４′−ペン
タヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−エトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−プロポキシベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ブトキシベンゾフェ
ノン、３，４−ジメトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，３−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，４−ジヒドロキシ−４′−メトキシベンゾ
フェノン、２，２′−ジヒドロキシ−３，４−ジメトキ
シベンゾフェノン、２，３−ジヒドロキシ−４，４′−
ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ
４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４−メトキシ−
２，２′，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−
メトキシ−２′，３′，４′−トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、４−ブトキシ−２，２′，４′−トリヒドロキ
シベンゾフェノン、および３，４−ジメトキシ−２，
２′，４′−トリヒドロキシベンゾフェノンなどが挙げ
られる。
【００１６】本発明は、前述した通り、一般式（Ｉ）で
表わされるフェノール類と、一般式(II)で表わされる芳
香族カルボン酸類との反応により、ポリヒドロキシベン
ゾフェノン類を製造する方法において、反応溶媒とし
て、スルホレンを用いることを特徴とするものである
が、その使用量は芳香族カルボン酸類に対して０．５〜
２０重量倍、好ましくは１〜１０重量倍である。このス
ルホレンの使用量は反応生成物が撹拌可能とする量であ
ることが必要である以外には特に制限はない。
表わされるフェノール類と、一般式(II)で表わされる芳
香族カルボン酸類との反応により、ポリヒドロキシベン
ゾフェノン類を製造する方法において、反応溶媒とし
て、スルホレンを用いることを特徴とするものである
が、その使用量は芳香族カルボン酸類に対して０．５〜
２０重量倍、好ましくは１〜１０重量倍である。このス
ルホレンの使用量は反応生成物が撹拌可能とする量であ
ることが必要である以外には特に制限はない。
【００１７】本発明者らは、反応溶媒としてスルホレン
と他の有機溶剤、例えばジオキサンとの混合溶媒を用い
ることによって、工業的に更に有利に目的とするポリヒ
ドロキシベンゾフェノン類を製造し得ることを見出し
た。ここで、他の有機溶剤としては、反応に支障を来さ
ない範囲で適宜選択されるが、具体的にはジオキサン、
ニトロベンゼン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、二硫化炭素、１，２−ジクロルエタンなどを挙げる
ことができる。他の有機溶剤の混合割合は、スルホレン
１００重量部に対して２０〜３００、好ましくは５０〜
２５０部である。
と他の有機溶剤、例えばジオキサンとの混合溶媒を用い
ることによって、工業的に更に有利に目的とするポリヒ
ドロキシベンゾフェノン類を製造し得ることを見出し
た。ここで、他の有機溶剤としては、反応に支障を来さ
ない範囲で適宜選択されるが、具体的にはジオキサン、
ニトロベンゼン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、二硫化炭素、１，２−ジクロルエタンなどを挙げる
ことができる。他の有機溶剤の混合割合は、スルホレン
１００重量部に対して２０〜３００、好ましくは５０〜
２５０部である。
【００１８】本発明に於いて一般式（Ｉ）で表わされる
フェノール類と、一般式(II)で表わされる芳香族カルボ
ン酸類との使用比率は、通常芳香族カルボン酸類(II)１
モルに対して、フェノール類（Ｉ）が、０．６〜２．０
モル、好ましくは０．８〜１．７モルである。
フェノール類と、一般式(II)で表わされる芳香族カルボ
ン酸類との使用比率は、通常芳香族カルボン酸類(II)１
モルに対して、フェノール類（Ｉ）が、０．６〜２．０
モル、好ましくは０．８〜１．７モルである。
【００１９】本発明の方法においては、触媒として、塩
化亜鉛または塩化スズ等従来公知の触媒を使用すること
が好ましい。
化亜鉛または塩化スズ等従来公知の触媒を使用すること
が好ましい。
【００２０】本発明の方法において、最も好ましい触媒
系としては、塩化亜鉛とオキシ塩化燐の組合せを挙げる
ことができる。これら触媒の使用量は、塩化亜鉛は芳香
族カルボン酸類に対して０．５〜５モル倍、好ましくは
１〜３モル倍、オキシ塩化燐は同じく０．５〜５モル
倍、好ましくは１〜４モル倍である。
系としては、塩化亜鉛とオキシ塩化燐の組合せを挙げる
ことができる。これら触媒の使用量は、塩化亜鉛は芳香
族カルボン酸類に対して０．５〜５モル倍、好ましくは
１〜３モル倍、オキシ塩化燐は同じく０．５〜５モル
倍、好ましくは１〜４モル倍である。
【００２１】反応温度は３０〜２００℃、好ましくは４
０〜１５０℃であり、反応温度が低いと反応速度が遅く
なり、又高すぎると副反応生成物が生ずる傾向を示す。
これら反応温度、反応時間または触媒量などの反応条件
によっては中間体と思われるエステル化合物が生成する
ことがある。
０〜１５０℃であり、反応温度が低いと反応速度が遅く
なり、又高すぎると副反応生成物が生ずる傾向を示す。
これら反応温度、反応時間または触媒量などの反応条件
によっては中間体と思われるエステル化合物が生成する
ことがある。
【００２２】反応によって生成したポリヒドロキシベン
ゾフェノン類は、生成物を冷水中に投入し、析出したポ
リヒドロキシベンゾフェノン類を濾過、水洗、再結晶な
どの通常の分離精製法により分離精製して、目的のポリ
ヒドロキシベンゾフェノン類を得ることができる。
ゾフェノン類は、生成物を冷水中に投入し、析出したポ
リヒドロキシベンゾフェノン類を濾過、水洗、再結晶な
どの通常の分離精製法により分離精製して、目的のポリ
ヒドロキシベンゾフェノン類を得ることができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明の方法によれば、目的とするポリ
ヒドロキシベンゾフェノンを、高純度、高収率で、工業
的に有利に製造することができる。
ヒドロキシベンゾフェノンを、高純度、高収率で、工業
的に有利に製造することができる。
【００２４】
【実施例】以下、本発明を実施例によって、更に詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００２５】実施例１ レゾルシン４５ｇ、β−レゾルシン酸４５ｇ、塩化亜鉛
６０ｇ、オキシ塩化燐１００ｇおよびスルホレン６０ｇ
を３００mlのガラス製４ツ口フラスコに仕込み、７０℃
まで昇温する。その温度で２時間保温した後、水2400ml
中に滴下した。３０分撹拌した後、２０℃迄冷却し、析
出した固体を濾過した。水洗後、熱水に溶解して、活性
炭処理後、冷却して再結晶、濾過、乾燥を行うことによ
り、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン61．５ｇ（融点200 〜 201.5℃）が得られた。収率
は85.5％であった。
６０ｇ、オキシ塩化燐１００ｇおよびスルホレン６０ｇ
を３００mlのガラス製４ツ口フラスコに仕込み、７０℃
まで昇温する。その温度で２時間保温した後、水2400ml
中に滴下した。３０分撹拌した後、２０℃迄冷却し、析
出した固体を濾過した。水洗後、熱水に溶解して、活性
炭処理後、冷却して再結晶、濾過、乾燥を行うことによ
り、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン61．５ｇ（融点200 〜 201.5℃）が得られた。収率
は85.5％であった。
【００２６】実施例２ 実施例１において、スルホレン６０ｇの代わりにスルホ
レン３０ｇ及びジオキサン１５ｇの混合溶媒を用い、以
下実施例１と同様にして、収率85％で目的とする２，
２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンを得
た。
レン３０ｇ及びジオキサン１５ｇの混合溶媒を用い、以
下実施例１と同様にして、収率85％で目的とする２，
２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンを得
た。
【００２７】実施例３ レゾルシン２０ｇ、β−レゾルシン酸２０ｇ、塩化亜鉛
３２ｇ、オキシ塩化燐６０ｇおよびスルホレン６０ｇを
２００mlのガラス製４ツ口フラスコに仕込み、５５℃ま
で昇温する。その温度で６時間保温した後、水2400ml中
に滴下した。３０分撹拌した後、２０℃迄冷却し、析出
した固体を濾過した。水洗後、熱水に溶解して、活性炭
処理後、冷却して再結晶、濾過、乾燥を行うことによ
り、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン27ｇ（融点 200〜 201.5℃）が得られた。収率は8
4.5％であった。
３２ｇ、オキシ塩化燐６０ｇおよびスルホレン６０ｇを
２００mlのガラス製４ツ口フラスコに仕込み、５５℃ま
で昇温する。その温度で６時間保温した後、水2400ml中
に滴下した。３０分撹拌した後、２０℃迄冷却し、析出
した固体を濾過した。水洗後、熱水に溶解して、活性炭
処理後、冷却して再結晶、濾過、乾燥を行うことによ
り、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン27ｇ（融点 200〜 201.5℃）が得られた。収率は8
4.5％であった。
【００２８】実施例４ ピロガロール６０ｇ、ｐ−ヒドロキシ安息香酸65.8ｇ、
塩化亜鉛 162ｇ、オキシ塩化燐 256ｇ、スルホレン200
ｇ及びジオキサン100 ｇを１ｌ４ツ口フラスコに仕込
む。５０℃まで昇温し、その温度に４時間保温する。３
ｌの水に反応生成物を注加して、30分間撹拌する。濾
過、水洗後、ウェットケーキを５ｌの熱水に溶解し、シ
ュウ酸２０ｇ、35％塩酸２０ｇおよび活性炭１０ｇを加
え、濾過する。濾液を５℃まで冷却して析出した結晶を
濾過する。水洗後、乾燥して２，３，４，４′−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノン93.7ｇ（融点 215〜 218.5
℃）が得られる。収率は80.0％であった。
塩化亜鉛 162ｇ、オキシ塩化燐 256ｇ、スルホレン200
ｇ及びジオキサン100 ｇを１ｌ４ツ口フラスコに仕込
む。５０℃まで昇温し、その温度に４時間保温する。３
ｌの水に反応生成物を注加して、30分間撹拌する。濾
過、水洗後、ウェットケーキを５ｌの熱水に溶解し、シ
ュウ酸２０ｇ、35％塩酸２０ｇおよび活性炭１０ｇを加
え、濾過する。濾液を５℃まで冷却して析出した結晶を
濾過する。水洗後、乾燥して２，３，４，４′−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノン93.7ｇ（融点 215〜 218.5
℃）が得られる。収率は80.0％であった。
【００２９】実施例５〜９ 実施例１に於いて原料および反応温度を変えることによ
り、第１表の結果を得た。
り、第１表の結果を得た。
【００３０】
【表−１−ａ】
【００３１】
【表−１−ｂ】
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 49/84 Ｆ 8213−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (9)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化−１】 （式中、R1, R2はそれぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ
ル基または低級アルコキシル基を示す）で表わされるフ
ェノール類と、一般式(II) 【化−２】 （式中、R3, R4はそれぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ
ル基または低級アルコキシル基を示す。）で表わされる
芳香族カルボン酸類とを反応させて一般式(III) 【化−３】 （式中、R1, R2, R3及びR4は前記と同じ意味を有する）
で表わされるポリヒドロキシベンゾフェノン類を製造す
る方法において、反応溶媒としてスルホレンを用いるこ
とを特徴とするポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造
法。 - 【請求項２】 反応溶媒としてスルホレン及び他の有機
溶媒との混合溶媒を用いることを特徴とする請求項１に
記載のポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法。 - 【請求項３】 触媒として塩化亜鉛または塩化スズを用
いる請求項１又は請求項２に記載のポリヒドロキシベン
ゾフェノン類の製造法。 - 【請求項４】 触媒としてハロゲン化リン化合物を併用
する請求項３に記載のポリヒドロキシベンゾフェノン類
の製造法。 - 【請求項５】 ハロゲン化リン化合物がオキシ塩化リン
である請求項４に記載のポリヒドロキシベンゾフェノン
類の製造法。 - 【請求項６】 反応温度が４０〜１５０℃である請求項
１〜請求項５のいずれかに記載のポリヒドロキシベンゾ
フェノン類の製造法。 - 【請求項７】 一般式(III) で示されるポリヒドロキシ
ベンゾフェノン類が、２，２′，４，４′−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンである請求項１〜請求項６のいず
れかに記載のポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造
法。 - 【請求項８】 一般式(III) で示されるポリヒドロキシ
ベンゾフェノン類が、２，３，４，４′−テトラヒドロ
キシベンゾフェノンである請求項１〜請求項６のいずれ
かに記載のポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法。 - 【請求項９】 一般式(III) で示されるポリヒドロキシ
ベンゾフェノン類が、２，３，４−トリヒドロキシベン
ゾフェノン類である請求項１〜請求項６のいずれかに記
載のポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法。 【０００１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3263176A JPH0570397A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | ポリヒドロキシベンゾフエノン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3263176A JPH0570397A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | ポリヒドロキシベンゾフエノン類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0570397A true JPH0570397A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=17385830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3263176A Pending JPH0570397A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | ポリヒドロキシベンゾフエノン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0570397A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8052900B2 (en) | 2008-11-04 | 2011-11-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Reactive UV absorber, UV-screen film-forming curable coating solution, UV-screen film, and substrate having UV-screening function |
| EP2426175A1 (en) | 2010-09-06 | 2012-03-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Plastic article for automotive glazing |
| EP2428540A1 (en) | 2010-09-08 | 2012-03-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating composition |
| EP2607413A1 (en) | 2011-12-22 | 2013-06-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Plastic Substrate for Automotive Glazing and Its Repairing Method |
| CN113754872A (zh) * | 2021-09-08 | 2021-12-07 | 宁夏清研高分子新材料有限公司 | 一种高流动性tlcp材料及其制备方法 |
| CN117964468A (zh) * | 2023-11-20 | 2024-05-03 | 上海予君生物科技发展有限公司 | 一种2，2′，3，4，4′-五羟基二苯甲酮的制备方法 |
-
1991
- 1991-09-13 JP JP3263176A patent/JPH0570397A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8052900B2 (en) | 2008-11-04 | 2011-11-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Reactive UV absorber, UV-screen film-forming curable coating solution, UV-screen film, and substrate having UV-screening function |
| EP2426175A1 (en) | 2010-09-06 | 2012-03-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Plastic article for automotive glazing |
| US9862806B2 (en) | 2010-09-06 | 2018-01-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Plastic article for automotive glazing |
| EP2428540A1 (en) | 2010-09-08 | 2012-03-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating composition |
| US8642672B2 (en) | 2010-09-08 | 2014-02-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating composition |
| EP2607413A1 (en) | 2011-12-22 | 2013-06-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Plastic Substrate for Automotive Glazing and Its Repairing Method |
| CN113754872A (zh) * | 2021-09-08 | 2021-12-07 | 宁夏清研高分子新材料有限公司 | 一种高流动性tlcp材料及其制备方法 |
| CN117964468A (zh) * | 2023-11-20 | 2024-05-03 | 上海予君生物科技发展有限公司 | 一种2，2′，3，4，4′-五羟基二苯甲酮的制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09255609A (ja) | ９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ ェニル）フルオレンの製造方法 | |
| JPH0579053B2 (ja) | ||
| JPH04211625A (ja) | ビスフェノールａの製造方法 | |
| JP2841322B2 (ja) | ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造方法 | |
| JPH0655691B2 (ja) | ヒドロキシベンゾフエノン類の製造方法 | |
| JPH0825935B2 (ja) | １，３−ジヒドロキシ−４，６−ビス〔α−メチル−α−（４’−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼンおよびその製造方法 | |
| JP4424571B2 (ja) | ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造方法 | |
| EP0600318A1 (de) | Neue asymmetrische, halogenierte Benzophenone und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| JP3379979B2 (ja) | ２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法 | |
| JPH06107623A (ja) | 高純度２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン類の製造方法 | |
| JPH03127753A (ja) | ４―クロロ―４′―ヒドロキシベンゾフェノン類の製造法 | |
| JP2002179622A (ja) | ４−アセトキシスチレンの製造方法 | |
| JPH06172252A (ja) | ベンゾフェノン類の製造方法 | |
| JP2677687B2 (ja) | ３，５―ジヨードサリチル酸の製造方法 | |
| JP3640319B2 (ja) | ベンズアミド誘導体の製造方法 | |
| JPS6087248A (ja) | ２−アミノベンゾフェノン類の製造法 | |
| JP2013166707A (ja) | フェニルヒドラジン−β−カルボキシレート化合物の精製方法 | |
| KR890003596B1 (ko) | 3,3'-디니트로디페닐 화합물의 정제방법 | |
| JPH06172253A (ja) | ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法 | |
| JPH03167151A (ja) | ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造方法 | |
| JPH10204020A (ja) | クロロ−ベンゾイルクロリド類の製造方法 | |
| JP3927835B2 (ja) | ヨウ化芳香族化合物ジアセテートの製造方法 | |
| JP3804811B2 (ja) | ビス（ニトロフェニル）カーボネート類の製造法 | |
| JPH06316545A (ja) | 塩素化４，５− ジフルオル安息香酸、 −安息香酸誘導体及び− ベンズアルデヒドの製法 | |
| JPS6197240A (ja) | ポリハイドロキシベンゾフエノンの製造法 |