JPH0572647B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0572647B2 JPH0572647B2 JP58166677A JP16667783A JPH0572647B2 JP H0572647 B2 JPH0572647 B2 JP H0572647B2 JP 58166677 A JP58166677 A JP 58166677A JP 16667783 A JP16667783 A JP 16667783A JP H0572647 B2 JPH0572647 B2 JP H0572647B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- parts
- resin
- back layer
- carbon black
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/735—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
- G11B5/7356—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2
- G11B5/7358—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2 specially adapted for achieving a specific property, e.g. average roughness [Ra]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/252—Glass or ceramic [i.e., fired or glazed clay, cement, etc.] [porcelain, quartz, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/256—Heavy metal or aluminum or compound thereof
- Y10T428/257—Iron oxide or aluminum oxide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/258—Alkali metal or alkaline earth metal or compound thereof
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/30—Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は、磁気記録媒体に関する。
一層詳細には、電気メツキ、化学メツキ、真空
蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイング等
によりポリエステル等の支持体上に強磁性金属薄
膜（合金も含む）を形成させた薄膜型磁気記録媒
体にバツク層を形成することにより摩擦係数を低
下させ、強磁性薄膜層を内側とするカールを低減
し、ドロツプアウト減少を可能にした磁気記録媒
体及びその製造法に関する。 現在、磁気テープは、オーデイオ、ビデオ、コ
ンピユータ等の分野で広範囲に使用されるように
なつてきた。それに伴い、媒体に記録する情報量
も年々増加し、媒体には記録密度の高いことがま
すます要求されるようになつた。 電気メツキ、化学メツキ、真空蒸着、スパツタ
リング、イオンプレーテイング等の方法を用いた
場合、形成される強磁性金属薄膜は100％金属あ
るいは合金であるために高い記録密度を持ち得
る。しかし上記の方法で強磁性金属薄膜を形成し
た場合、支持体の表面状態が強磁性薄膜の表面状
態に強く影響を及ぼす。 磁性面の表面は磁気ヘツドとのスペーシング損
失を少なくするためにできるだけ平滑にすると共
に、異物の付着によるドロツプをできるだけ抑え
なければならない。金属薄膜を用いる場合、金属
磁性粉をバインダー中に分散した磁性層よりもは
るかに表面性が向上しており、表面粗度（後述の
タリステツプによる測定法においてカツトオフ
0.17mmでR20（測定値20個の平均）の値……以下同
じ）が0.01μｍ程度となつているので、円滑に走
行させることが益々困難になつている。しかも、
支持体としてはポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミ
ド等のプラスチツクフイルムベースの厚さが益々
薄くなる傾向があり、現在のところ11μｍ程度以
下のものが検討されている。ベースが薄くなると
媒体の腰がやわらかくなり過ぎて摩擦が大きくな
り、巻きしまり粘着を生じ、ガイドロープや支持
ピンなどへのはりつきを生じたりする。また金属
薄膜磁性体は媒体をカールさせる。 これのみなとどまらず、表面平滑性が上記のよ
うにすぐれていると、微小な異物の付着による微
小なスペーシングでもドロツプアウトの原因とな
りうる。 これに鑑み、本発明は従来の金属薄膜磁性層を
用いる磁気記録媒体の有する欠点を改良し、きわ
めて有効な効果を発揮するバツク層を提供する。
本発明者は塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアル
コール共重合体と、ポリウレタンと、ポリイソシ
アネートとから成る熱硬化性配合物、或いはそれ
にさらにニトロセルロースを加えた熱硬化性配合
物をバツク層として形成し、或いは、放射線感応
樹脂として代表的にはアタリル系、マレイン系ま
たはアリル系二重結合を含む放射線硬化型樹脂を
バツク層として形成すると、バツク層の摩耗や媒
体のカールや粘着性が減じることが分つた。 バツク層を上記の熱硬化型又は放射線硬化型混
合物から形成したとき、強磁性金属薄膜の表面粗
度が0.01μｍ程度に小さいことから、バツク層の
表面粗度は極めて重要な因子であり、Ｓ／Ｎ比の
改善、走行性の改善の面から、バツク層の表面粗
度を0.05〜0.4μｍの範囲に選定すべきことが分つ
た。0.4μｍ以上の表面粗度では磁性層の表面性が
活用できずＳ／Ｎ比が大幅に低下する。また
0.05μｍ以下ではバツク面の摩擦が大きく、走行
性が阻害される。 バツク層はガイドローラとの摩擦により帯電し
てゴミを吸着してドロツプアウトを生じたり、ま
た磁気テープの巻きを不整にしたり、出力変動を
生じたりする傾向がある。この欠点はバツク層に
導電材粒子、例えばカーボンブラツクを含有させ
れば改善しうるが、カーボンブラツクを用いると
バツク層面が記録・再生糸のガイドポストなどの
接触部材により削られたり、テープが巻かれてい
るときの磁性面とバツク面とのずり応力により削
られてドロツプアウトの原因となる。これはカー
ボンブラツクのもろさによるものである。 本発明はバツク層中に平均粒子径（電子顕微鏡
撮影法による、……以下同じ）が10〜150ｍμの
コーボンブラツクとモース硬度６以下のCaCO3、
カオリン、BaSO4のFe2O3等の10〜500ｍμの無
機化合物粉末とを含有させることにより上記の問
題特に磁性層及びバツク面の削れの少ない磁気記
録媒体を提供するこを目的とする。これによりカ
ーボンブラツクのもろさの問題は完全に回避され
ることが分つた。カーボンブラツクの単独使用で
も温和な条件下では特に問題が生じないけれで
も、高温多湿下（40℃80％RHなど）では軟かい
無機化合物粉末がカーボンブラツクのもろさを補
つて削れが減少する。またこれらの無機化合物粉
末はカーボンブラツクの分散性の悪さを補つてバ
ツク層の表面性及び電磁特性を改善することがで
きる。 本発明においてポリエステルベース等の薄膜フ
イルム基体の裏面に形成するバツク層は、大別し
て２種のものが可能で、一方は以下に示す熱硬化
性樹脂混合物、他方は以下に示す放射線（イオン
化性）樹脂組成物である。 バツク層に用いる熱硬化性樹脂混合物として
は、カーボンブラツク及び無機化合物粉末を添加
した塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール
共重合体、ポリウレタンプレポリマー及びポリイ
ソシアネートより成る熱硬化性バインダー、或い
はこれにさらにニトロセルロースを加えた熱硬化
性がすぐれた作用を有することが分つた。バツク
層に用いる放射線硬化型樹脂混合物は、カーボン
ブラツク及び無機化合物を添加したアクリル系、
マレイン系またはアリル系の二重結合を有する樹
脂バインダーである。 本発明で用いるカーボンブラツクは平均粒子径
10〜150ｍμのものから選択する。10ｍμ以下で
はバツク層中で偏在する傾向があり、バツク層表
面はかえつて粗くなり、それに接触する磁性層の
表面に悪影響を与え、また導電性が低くなつて多
量を要する。150ｍμ以上では導電性は良いが上
述のバツク層表面の削れの問題が増大し、また磁
性面に削れくずが付着してドロツプアウトを生じ
る。本発明においてはさらにモース硬度６以下の
無機化合物粉末を用いることによりカーボンブラ
ツクのもろさの問題を完全に回避する。好ましい
無機化合物にはCaCO3、カリオン、BaSO4、α
−Fe2O3などのモース硬度６以下の粉末がある。
かかる粉末の粒子径は10〜500ｍμのものが使用
できる。なおカーボンブラツクは常温下では問題
を生じないが、上述のようにCaCO2等を含有さ
せることにより高温多湿下（例えば40℃、80％
RH）におけるバツク面の削れの問題を完全に回
避する。さらに、これにより磁性面の削れの問題
も解決されるものである。またカーボンブラツク
と無機化合物粉末の割合は１：９〜９：１（重量
比）とし、かつこれらのバツク層全量に対する割
合は20〜80％で用いると良いことが分つた。 金属薄膜磁性層はγ−Fe2O3、Co含有γ−
Fe2O3などと比べ塗膜面がもろい為、モース硬度
６以上の無機化合物粉末をバツク層に用いると磁
性面が削れ易いが、本発明のようにモース硬度６
以下のものを用いることによつて、この問題を防
止しうる。しかも、これらのものはカーボンブラ
ツクよりも分散性が良好なため、これらを入れる
ことにより表面粗度が減少し、磁性面への形状転
写現象が避けられ、電磁特性が向上する。これは
モース硬度６以下のものを用いることにより適度
な柔軟性が得られるためである。 バツク層が熱硬化型である場合のバインダーの
各成分の比率は、広い範囲で種々に変えることが
できるが、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアル
コール共重合体及びポリウレタンについては、前
者を10〜80重量％、後者を残部とし、ポリイソシ
アネートとして上記樹脂全量を100として５〜80
重量部添加される。 上記のバインダー組成にさらにニトロセルロー
スを加える場合には、ニトロセルロース15〜60重
量％、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコー
ル共重合体15〜60重量％及びポリウレタン10〜70
重量％（ただし全量で100％）の範囲で用いうる。
ポリイソシアネートは上記樹脂全量を100とする
と５〜80重量部添加されうる。なお、ニトロセル
ロースの添加は粘着性をさらに低下させ、また耐
摩耗性をさらに向上させる。 本発明のバツク層に放射線硬化型のバインダー
を用いる場合の放射線重合性二重結合を有するア
クリル系二重結合、マレイン系二重結合、或いは
アリル系二重結合を有する樹脂としては、次のも
のを用いうる。 () 塩化ビニル系共重合体 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル・ビニルアルコール共重
合体、塩化ビニル・ビニルアルコール・プロピ
オン酸ビニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニ
ル・マレイン酸共重合体、塩化ビニル・酢酸ビ
ニル・末端OH側鎖アルキル基共重合体、たと
えばUCC社VROH、VYNC、VYEGX等また
UCC社VERR等が挙げられる。 上記共重合体に後に述べる手法により、アク
リル系二重結合、マレイン酸系二重結合、アリ
ル系二重結合を導入し放射線感応変性を行つた
もの () 飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マ
レイン酸、マレイン酸誘導体、コハク酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、のような飽和多塩基酸と
エチレングリコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、１，２
プロピレングリコール、１，３ブタンジオー
ル、ジプロピレングリコール、１，４ブタンジ
オール、１，６ヘキサンジオール、ペンタエリ
スリツト、ソルビトール、グイセリン、ネオペ
ンチルグリコール、１，４シクロヘキサンジメ
タノールのような多価アルコールとのエステル
結合により得られる飽和がポリエステル樹脂又
はこれらのポリエステル樹脂をSO3Na等で変
性した樹脂（バイロン53S）。これらを後に述
べる手法により放射線感応変性を行つたもの () 不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含
有するポリエステル化合物、例えば第（）項
の熱可塑性樹脂として記載の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成う飽和ポリエス
テル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン酸とした
放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和
ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマー
を挙げることができる。 飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価
アルコール成分は第（）項に記載した各化合
物を挙げることができ、放射線硬化性不飽和二
重結合としてはマレイン酸、フマル酸等を挙げ
ることができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法
は、多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成
分１種以上にマレイン酸、フマル酸等を加え常
法、すなわち触媒存在180〜200℃窒素雰囲気下
脱水あるいは脱アルコール反応の後、240〜280
℃まで昇温し、0.5〜１mmHgの減圧下縮合反応
によりポリエステル樹脂を得ることができる。
マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の
架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜40モル
％で好ましくは10〜30モル％である。 () ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、ア
セタール樹脂、ホルマール樹脂及びこれらの成
分の共重合体。これら樹脂中に含まれる水酸基
を後に述べる手法により放射線感応化変性を行
なつたもの。 () エポキシ系樹脂、フエノキシ樹脂 ビスフエノールＡとエピクロルヒドリン、メ
チルエピクロルヒドリンの反応によるエポキシ
樹脂−シエル化学製（エピコート152、154、
828、1001、1004、1007）ダウケミカル製
（DEN431、DER732、DER511、DER331）、大
日本インキ製（エピクロン400、エピクロン−
800）、更に上記エポキシの高重合度樹脂である
UCC社製フエノキシ樹脂（PKHA、PKHC、
PKHH）臭素化ビスフエノールＡとエピクロ
ルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工
業製（エピクロン145、152、153、1125）等。 これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用し
て、放射線感応変性を行つたもの () 繊維素誘導体 各種分子量の繊維素系誘導体も、また熱可塑
性プラスチツク成分として効果的である。その
中でも、特に効果的なものは硝化綿、セルロー
ズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブチ
ルセルローズ、アセチルセルロース等が好適で
あり、樹脂中の水酸基を活性して後に述べる手
法により放射線応変性を行なつたもの その他、放射性感応変性に用いることのできる
樹脂としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエ
ーテルエステル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂
及び誘導体（PVPオレフイン共重合体）、ポリア
ミド樹脂、ポリイミド樹脂、フエノール樹脂、ス
ピロアセタール樹脂、水酸基を含有するアクリル
エステル及びメタクリルエステルを少なくとも一
種以上重合成分として含むアクリル系樹脂等も有
効である。 さらに上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可
塑性エラストマー又はプレポリマーをブレンドす
ることにより、一層強靭な塗膜とすることができ
る。さらに、下記に述べるように、これらエラス
トマーあるいはプレポリマーが、同時に放射線感
応性に変性された場合は、より効果的である。以
下に、上記放射線感応樹脂と組み合わせることの
できるエラストマー又はプレポリマーを挙げる。 () ポリウレタンエラストマー及びプレポリマ
ー及びテロマー ポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、
PETフイルムへの接着性が良い点で特に有効
である。 このようなウレタン化合物の例としては、イ
ソシアネートとして、２，４−トルエンイソシ
アネート、２，６−トルエンジイソシアネー
ト、１，３−キシレンジイソシアネート、１，
４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナフ
タレンジイソシアネート、ｍ−フエニレンジイ
ソシアネート、ｐ−フエニレンジイソシアネー
ト、３，3′−ジメチル−４，4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネート、４，4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネート、３，3′−ジメチルビフ
エニレンジイソシアネート、４，4′−ビフエニ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、イソフオロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デ
スモジユールＬ、デスモジユールＮ等の各種多
価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル
（エチレングリコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、１，４
−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリスリツト、ソルビトール、ネオ
ペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサン
ジメタノールの様な多価アルコールと、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン
酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様
な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状
飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレ
ングリコール）やカプロラクタム、ヒドロキシ
ン含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ含有メ
タアクリル酸エステル等の各種ポリエステル類
の縮重合物より成るポリウレタンエラストマ
ー、プレポリマー、テロマーが有効である。 これらのエラストマーを放射線感応変性の各
種熱可塑性ブラスチツクスとそのまま組合せて
も良いが、更にウレタンエラストマーの末端の
イソシアネート基又は水酸基と反応するアクリ
ル系二重結合又はアリル系二重結合等を有する
単量体と反応させることにより、放射線感応性
に変性することは非常に効果的である。 () アクリルニトリル−ブタジエン共重合エラ
ストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタ
イツドレジンとして市販されている末端水酸基
のあるアクリロニトリルブタジエン共重合体ブ
レポリマー、あるいは日本ゼオン社製ハイカー
1432J等のエラストマーは、特にブタジエン中
の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋
及び重合させるエラストマー成分として適す
る。 () ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリク
イツドレジンＲ−15等の低分子量末端水酸基を
有するプレポリマーが特に熱可塑性プラスチツ
クとの相溶性の点で好適である。Ｒ−15プレポ
リマーにおいては分子末端が水酸基となつてい
る為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが
可能であり、バインダーとして更に有利とな
る。 また、ポリブタジエンの環化物日本合成ゴム
製CBR−M901も熱可塑性プラスチツクスとの
組合せによりすぐれた性能を発揮する。特に、
環化されたポリブタジエンは、ポリブタジエン
本来の有する不飽和結合のラジカルにより放射
線による架橋重合の効率が良く、バインダーと
して優れた性質を有している。 その他熱可塑性エラストマー及びそのプレポ
リマーの系で好適なものとしては、スチレン−
ブタジエンゴム、塩化ゴム、アクリルゴム、イ
ソプレンゴム及びその環化物（日本合成ゴム製
CIR701）、エポキシ変性ゴム、内部可塑化飽和
線状ポリエステル（東洋紡バイロン＃300）、等
のエラストマーも下記に述べる放射線感応変性
処理をほどこすことにより有効に利用できる。
その他エラストマー以外に塩酢ビ共重合体、エ
ポキシ樹脂、フエノキシ樹脂、繊維素を加えて
も良い。 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明す
る。 トリレンジイソシアネートのアダクトの製法 (a) 塩化ビニル酢酸ビニル共重合系樹脂（放射線
感応変性樹脂）のアクリル変性体の合成 ビニライトVAGH750部とトルエン1250部シ
クロヘキサノン500部を５４つ口フラスコに
仕込み加熱溶解し、80℃昇温後トリレンジイソ
シアネートの２−ヒドロキシエチルメタアクリ
レートアダクトを61.4部加え、更にオクチル部
スズ0.012部、ハイドロキノン0.012部加え80℃
でN2気流中NCO反応率が90％となるまで反応
せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケ
トン1250部を加え希釈する。 ＊トリレンジイソシアネート（TDI）の２−ヒド
ロキシエチルメタアクリレート（2HEMA）
アダクトの製法 トリレンジイソシアネート348部をN2気流中
１の４つ口フラスコ内で80℃に加熱後、２−
ヘキサエチレンメタアクリレート260部、オク
チル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05部を反
応缶内の温度が80〜85℃となるように冷却コン
トロールしながら滴下終了後80℃で３時間撹拌
し反応を完結させる。反応終了後取り出して冷
却後白色ペースト状のTDIの2HEMAを得た。 (b) ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をト
ルエン191.2部、シクロヘキサノン71.4部に５
４つ口フラスコに仕込み加熱溶解し80℃昇温
後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシ
エチルメタアクリレートアダクト※ を7.4部加
え、更にオクチル酸スズ0.015部、ハイドロキ
ノン0.015部を加え、80℃でN2気流中NCO反応
率が90％以上となるまで反応せしめる。反応終
了後冷却しメチルエチルケトンにて希釈する。 (c) 飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成
（放射線感応変性樹脂） 東洋紡製バイロンRV−200 100部をトルエ
ン116部、メチルエチルケトン116部に加熱溶解
し80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト※ を3.55
部加え、オクチル酸スズ0.007部、ハイドロキ
ノン0.007部を添加し、N2気流中80℃でNCO反
応率90％以上となるまで反応せしめる。 (d) エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線
感応変性樹脂） シエル化学製エピコート1007 400部をトルエ
ン50部、MEK50部に加熱溶解後Ｎ，Ｎ−ジメ
チルベンジルアミン0.006部、ハイドロキノン
0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を
滴下し80℃で酸化５以下となるまで反応せしめ
る。 (e) ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線感応エラストマー） 末端イソシアネートのジフエニルメタンジイ
ソシアネート（MDI）系ウレタンプレポリマ
ー（日本ポリウレタン製ニツボラン4040）250
部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、
オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、80℃
に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温度が80
〜90℃となる様に冷却しながら滴下し、滴下終
了後80℃でNCO反応率95％以上となるまで反
応せしめる。 (f) ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマ
ーアクリル変性体の合成（放射線感応エラスト
マー） 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−
500 250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン
0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入
れ80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温
度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後80℃でNCO反応率95％以上と
なるまで反応せしめる。 (g) ポリブタジエンエラストマーアクリル変性体
の合成（放射線感応エラストマー） シンクレアベトロケミカル社製低分子量末端
水酸基ポリブタジエンポリBDリクイツトレジ
ンＲ−15 250部、2HEMA32.5部、ハイドロキ
ノン0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶
に入れ、80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶
内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら
滴下し、滴下終了後80℃でNCO反応率95％以
上となるまで反応せしめる。 また高分子には放射線照射により崩壊するもの
と分子間に架橋を起すものが知られている。分子
間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エ
ステル、ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル、ポリビニルピロリドンゴム、ポリ
ビニルアルコール、ポリアクロレインがある。こ
の様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、その
まま放射線架橋用バツクコート樹脂として使用可
能である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しな
い無溶剤型の樹脂であつても短時間で硬化するこ
とができるので、この様な樹脂をバツクコート用
として用いることもできる。 また、本発明のバツクコートの架橋に使用する
活性エネルギー線としては、放射線加速器を線源
とした電子線、CO60を線源としたγ−線、Sr90
を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源としたＸ
−線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工
程ラインへの導入、電離放射線のしや閉等の見地
から放射線加熱器により放射線を使用する方法が
有利である。 バツク層を硬化する際に使用する放射線特性と
しては、透過力の面から加速電圧100〜750KV好
ましくは150〜300KVの放射線加速器を用い吸収
線量を0.5〜20メガラツドになるように照射する
のが好都合である。 本発明のバツク層硬化に際しては、米国エナー
ジーサイエンス社にて製造されている低線量タイ
プの放射線加速器（エレクトロカーテンシステ
ム）等がテープコーテイグ加工ラインへの導入、
加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽等に極めて有利であ
る。 勿論、従来より放射線加速材として広く活用さ
れているところのフアンデグラフ型加速器を使用
しても良い。 また、放射線架橋に際しては、N2ガスHeガス
等の不活性ガス気流中で放射線をバツク層に照射
することが重要であり、空気中で放射線を照射す
ることは、バインダー成分の架橋に際し放射線照
射により生じたO3等の影響でポリマー中に生じ
たラジカルが有利に架橋反応に働く事を阻害する
ので極めて不利である。 従つて、活性エネルギー線を照射する部分の雰
囲気は、特に酸素濃度が最大で１％のN2、He、
CO2等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要とな
る。 また、バインダー成分の一部にはアクリル酸、
メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド等の放射線硬化性単量体を含んでも良い。 放射線硬化性樹脂には耐摩耗性及び接着性及び
柔軟性を改善するために、さらにポリウレタンエ
ラストマー及びポリウレタンプレポリマー、アク
リロニトリルブタジエン共重合体エラストマー、
ポリブタジエンエラストマー、エポキシ樹脂、フ
エノキシ樹脂、繊維素、塩化ビニル・酢酸ビニル
共重合体等を併用することもできる。 バツク層が放射線硬化型であると、熱硬化型よ
りも均一で強じんなバツク層が形成できる。 バツク層の存在はジツターを増大させる傾向が
ある。ここにジツターとは記録周波を中心として
微少な位相変調を受けることである。この現象は
テープの走行の円滑性に関連するものと思われ
る。かかるジツターは、脂肪酸または脂肪酸エス
テル系の潤滑剤を極く少量存在させれば解決でき
る。これらの酸またはエステルは炭素数10〜22の
ものが好ましく、例えばラウリン酸、ステアリン
酸、ミリスチン酸等或いはそれらの混合物が使用
できる。またその使用量はバツク層の全重量の３
％以下含有させれば十分である。 以下、本発明の実施例を詳しく説明する。以下
の実施例では、磁性層としては真空蒸着法により
コバルト80wt％及びニツケル20wt％の斜め蒸着
合金磁性膜をポリエチレンテレフタレート膜の表
面に約1500Åの厚さとなるように蒸着したものを
用いた。表面粗度は約0.01μｍであつた。 実施例 １ バツク層として次の樹脂組成を混合した。 重量部 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体（ユニオン・カーバイド社製VAGH） 30 ポリウレタンプレポリマー（デスモコール22）20 カーボンブラツク（80ｍμ） 25 CaCO3（40ｍμ） 25 メチルエチルケトン 200 ステアリン酸 ５ ミリスチン酸ミリスチル ２ この混合物にポリイソシアネート（デスモジユ
ールＬ）を30重量部加えて混合し、上記の磁性層
を設けたポリエツテルフイルムの裏面に厚さ1.5μ
に塗布し、乾燥し、カレンダー加工をし、そして
熱硬化し、裁断してビデオテープとした。 上記バツク層の表面粗度はカレンダー加工を
種々に調整することにより0.05〜0.4μｍのものを
得た。 実施例 ２ 実施例１において、バツク層の組成を次のよう
にした他は、同じ工程及び条件下でビデオテープ
を製造した。 重量部 ニトロセルロース（ダイセル社製ニトロセルロー
ス） 30 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体（VAGH） 20 カーボンブラツク（100μｍ） 30 ポリウレタンプレポリマー（デイスモコール22）
50 BaSO4（80ｍμ） 20 ステアリン酸 ５ ミリスチン酸ミリスチル ２ メチルエチルケトン 280 実施例 ３ カーボンブラツク（20ｍμ） 20部 アクリル変性塩ビ・酢ビ・ビニルアルコール共重
合体(a)（上記(a)の方法によるもの） 30部 カオリン（500ｍμ） 25部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー(e) 20部 混合溶剤（MIBK／トルエン＝１／１） 300部 上記混合物をポールミル中５時間分散させ、磁
性面が形成されているポリエステルフイルムの裏
面に乾燥厚1.5μになるように塗布し、エレクトロ
カーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧
150KeV、電極電流10ｍＡ、吸収線量5Mrad、N2
ガス中で電子線をバツク層に照射し、硬化を行な
つた後カレンダー加工して巻き取り、１／２ビデ
オ巾に切断した。 実施例 ４ カーボンブラツク（20ｍμ） 25部 CaCO3（1000ｍμ） 25部 アクリル変性ポリエステル樹脂(c) 60部 混合溶剤 300部 上記混合物を実施例３と同様に調製しサンプル
を得た。 実施例 ５ カーボンブラツク（60ｍμ） 20部 カオリン（80ｍμ） 20部 CaCO3（100ｍμ） 20部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー(e) 30部 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体（U.C.C.VAGH） 70部 混合溶剤 300部 上記混合物を実施例３と同様に調製し、サンプ
ルを得た。 比較例 １、２、３ 実施例１においてCaCO3を同量のカーボンブ
ラツクと置換したもの、及び実施例１においてカ
ーボンブラツクを同量のCaCO3と置換したもの、
及び実施例１においてカーボンブラツク及び
CaCO3を同量のAl2O3粉末（600ｍμ）と置換し
たものをそれぞれ比較例１、２、３とした。 結果を下表に示す。
蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイング等
によりポリエステル等の支持体上に強磁性金属薄
膜（合金も含む）を形成させた薄膜型磁気記録媒
体にバツク層を形成することにより摩擦係数を低
下させ、強磁性薄膜層を内側とするカールを低減
し、ドロツプアウト減少を可能にした磁気記録媒
体及びその製造法に関する。 現在、磁気テープは、オーデイオ、ビデオ、コ
ンピユータ等の分野で広範囲に使用されるように
なつてきた。それに伴い、媒体に記録する情報量
も年々増加し、媒体には記録密度の高いことがま
すます要求されるようになつた。 電気メツキ、化学メツキ、真空蒸着、スパツタ
リング、イオンプレーテイング等の方法を用いた
場合、形成される強磁性金属薄膜は100％金属あ
るいは合金であるために高い記録密度を持ち得
る。しかし上記の方法で強磁性金属薄膜を形成し
た場合、支持体の表面状態が強磁性薄膜の表面状
態に強く影響を及ぼす。 磁性面の表面は磁気ヘツドとのスペーシング損
失を少なくするためにできるだけ平滑にすると共
に、異物の付着によるドロツプをできるだけ抑え
なければならない。金属薄膜を用いる場合、金属
磁性粉をバインダー中に分散した磁性層よりもは
るかに表面性が向上しており、表面粗度（後述の
タリステツプによる測定法においてカツトオフ
0.17mmでR20（測定値20個の平均）の値……以下同
じ）が0.01μｍ程度となつているので、円滑に走
行させることが益々困難になつている。しかも、
支持体としてはポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミ
ド等のプラスチツクフイルムベースの厚さが益々
薄くなる傾向があり、現在のところ11μｍ程度以
下のものが検討されている。ベースが薄くなると
媒体の腰がやわらかくなり過ぎて摩擦が大きくな
り、巻きしまり粘着を生じ、ガイドロープや支持
ピンなどへのはりつきを生じたりする。また金属
薄膜磁性体は媒体をカールさせる。 これのみなとどまらず、表面平滑性が上記のよ
うにすぐれていると、微小な異物の付着による微
小なスペーシングでもドロツプアウトの原因とな
りうる。 これに鑑み、本発明は従来の金属薄膜磁性層を
用いる磁気記録媒体の有する欠点を改良し、きわ
めて有効な効果を発揮するバツク層を提供する。
本発明者は塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアル
コール共重合体と、ポリウレタンと、ポリイソシ
アネートとから成る熱硬化性配合物、或いはそれ
にさらにニトロセルロースを加えた熱硬化性配合
物をバツク層として形成し、或いは、放射線感応
樹脂として代表的にはアタリル系、マレイン系ま
たはアリル系二重結合を含む放射線硬化型樹脂を
バツク層として形成すると、バツク層の摩耗や媒
体のカールや粘着性が減じることが分つた。 バツク層を上記の熱硬化型又は放射線硬化型混
合物から形成したとき、強磁性金属薄膜の表面粗
度が0.01μｍ程度に小さいことから、バツク層の
表面粗度は極めて重要な因子であり、Ｓ／Ｎ比の
改善、走行性の改善の面から、バツク層の表面粗
度を0.05〜0.4μｍの範囲に選定すべきことが分つ
た。0.4μｍ以上の表面粗度では磁性層の表面性が
活用できずＳ／Ｎ比が大幅に低下する。また
0.05μｍ以下ではバツク面の摩擦が大きく、走行
性が阻害される。 バツク層はガイドローラとの摩擦により帯電し
てゴミを吸着してドロツプアウトを生じたり、ま
た磁気テープの巻きを不整にしたり、出力変動を
生じたりする傾向がある。この欠点はバツク層に
導電材粒子、例えばカーボンブラツクを含有させ
れば改善しうるが、カーボンブラツクを用いると
バツク層面が記録・再生糸のガイドポストなどの
接触部材により削られたり、テープが巻かれてい
るときの磁性面とバツク面とのずり応力により削
られてドロツプアウトの原因となる。これはカー
ボンブラツクのもろさによるものである。 本発明はバツク層中に平均粒子径（電子顕微鏡
撮影法による、……以下同じ）が10〜150ｍμの
コーボンブラツクとモース硬度６以下のCaCO3、
カオリン、BaSO4のFe2O3等の10〜500ｍμの無
機化合物粉末とを含有させることにより上記の問
題特に磁性層及びバツク面の削れの少ない磁気記
録媒体を提供するこを目的とする。これによりカ
ーボンブラツクのもろさの問題は完全に回避され
ることが分つた。カーボンブラツクの単独使用で
も温和な条件下では特に問題が生じないけれで
も、高温多湿下（40℃80％RHなど）では軟かい
無機化合物粉末がカーボンブラツクのもろさを補
つて削れが減少する。またこれらの無機化合物粉
末はカーボンブラツクの分散性の悪さを補つてバ
ツク層の表面性及び電磁特性を改善することがで
きる。 本発明においてポリエステルベース等の薄膜フ
イルム基体の裏面に形成するバツク層は、大別し
て２種のものが可能で、一方は以下に示す熱硬化
性樹脂混合物、他方は以下に示す放射線（イオン
化性）樹脂組成物である。 バツク層に用いる熱硬化性樹脂混合物として
は、カーボンブラツク及び無機化合物粉末を添加
した塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール
共重合体、ポリウレタンプレポリマー及びポリイ
ソシアネートより成る熱硬化性バインダー、或い
はこれにさらにニトロセルロースを加えた熱硬化
性がすぐれた作用を有することが分つた。バツク
層に用いる放射線硬化型樹脂混合物は、カーボン
ブラツク及び無機化合物を添加したアクリル系、
マレイン系またはアリル系の二重結合を有する樹
脂バインダーである。 本発明で用いるカーボンブラツクは平均粒子径
10〜150ｍμのものから選択する。10ｍμ以下で
はバツク層中で偏在する傾向があり、バツク層表
面はかえつて粗くなり、それに接触する磁性層の
表面に悪影響を与え、また導電性が低くなつて多
量を要する。150ｍμ以上では導電性は良いが上
述のバツク層表面の削れの問題が増大し、また磁
性面に削れくずが付着してドロツプアウトを生じ
る。本発明においてはさらにモース硬度６以下の
無機化合物粉末を用いることによりカーボンブラ
ツクのもろさの問題を完全に回避する。好ましい
無機化合物にはCaCO3、カリオン、BaSO4、α
−Fe2O3などのモース硬度６以下の粉末がある。
かかる粉末の粒子径は10〜500ｍμのものが使用
できる。なおカーボンブラツクは常温下では問題
を生じないが、上述のようにCaCO2等を含有さ
せることにより高温多湿下（例えば40℃、80％
RH）におけるバツク面の削れの問題を完全に回
避する。さらに、これにより磁性面の削れの問題
も解決されるものである。またカーボンブラツク
と無機化合物粉末の割合は１：９〜９：１（重量
比）とし、かつこれらのバツク層全量に対する割
合は20〜80％で用いると良いことが分つた。 金属薄膜磁性層はγ−Fe2O3、Co含有γ−
Fe2O3などと比べ塗膜面がもろい為、モース硬度
６以上の無機化合物粉末をバツク層に用いると磁
性面が削れ易いが、本発明のようにモース硬度６
以下のものを用いることによつて、この問題を防
止しうる。しかも、これらのものはカーボンブラ
ツクよりも分散性が良好なため、これらを入れる
ことにより表面粗度が減少し、磁性面への形状転
写現象が避けられ、電磁特性が向上する。これは
モース硬度６以下のものを用いることにより適度
な柔軟性が得られるためである。 バツク層が熱硬化型である場合のバインダーの
各成分の比率は、広い範囲で種々に変えることが
できるが、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアル
コール共重合体及びポリウレタンについては、前
者を10〜80重量％、後者を残部とし、ポリイソシ
アネートとして上記樹脂全量を100として５〜80
重量部添加される。 上記のバインダー組成にさらにニトロセルロー
スを加える場合には、ニトロセルロース15〜60重
量％、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコー
ル共重合体15〜60重量％及びポリウレタン10〜70
重量％（ただし全量で100％）の範囲で用いうる。
ポリイソシアネートは上記樹脂全量を100とする
と５〜80重量部添加されうる。なお、ニトロセル
ロースの添加は粘着性をさらに低下させ、また耐
摩耗性をさらに向上させる。 本発明のバツク層に放射線硬化型のバインダー
を用いる場合の放射線重合性二重結合を有するア
クリル系二重結合、マレイン系二重結合、或いは
アリル系二重結合を有する樹脂としては、次のも
のを用いうる。 () 塩化ビニル系共重合体 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル・ビニルアルコール共重
合体、塩化ビニル・ビニルアルコール・プロピ
オン酸ビニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニ
ル・マレイン酸共重合体、塩化ビニル・酢酸ビ
ニル・末端OH側鎖アルキル基共重合体、たと
えばUCC社VROH、VYNC、VYEGX等また
UCC社VERR等が挙げられる。 上記共重合体に後に述べる手法により、アク
リル系二重結合、マレイン酸系二重結合、アリ
ル系二重結合を導入し放射線感応変性を行つた
もの () 飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マ
レイン酸、マレイン酸誘導体、コハク酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、のような飽和多塩基酸と
エチレングリコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、１，２
プロピレングリコール、１，３ブタンジオー
ル、ジプロピレングリコール、１，４ブタンジ
オール、１，６ヘキサンジオール、ペンタエリ
スリツト、ソルビトール、グイセリン、ネオペ
ンチルグリコール、１，４シクロヘキサンジメ
タノールのような多価アルコールとのエステル
結合により得られる飽和がポリエステル樹脂又
はこれらのポリエステル樹脂をSO3Na等で変
性した樹脂（バイロン53S）。これらを後に述
べる手法により放射線感応変性を行つたもの () 不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含
有するポリエステル化合物、例えば第（）項
の熱可塑性樹脂として記載の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成う飽和ポリエス
テル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン酸とした
放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和
ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマー
を挙げることができる。 飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価
アルコール成分は第（）項に記載した各化合
物を挙げることができ、放射線硬化性不飽和二
重結合としてはマレイン酸、フマル酸等を挙げ
ることができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法
は、多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成
分１種以上にマレイン酸、フマル酸等を加え常
法、すなわち触媒存在180〜200℃窒素雰囲気下
脱水あるいは脱アルコール反応の後、240〜280
℃まで昇温し、0.5〜１mmHgの減圧下縮合反応
によりポリエステル樹脂を得ることができる。
マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の
架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜40モル
％で好ましくは10〜30モル％である。 () ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、ア
セタール樹脂、ホルマール樹脂及びこれらの成
分の共重合体。これら樹脂中に含まれる水酸基
を後に述べる手法により放射線感応化変性を行
なつたもの。 () エポキシ系樹脂、フエノキシ樹脂 ビスフエノールＡとエピクロルヒドリン、メ
チルエピクロルヒドリンの反応によるエポキシ
樹脂−シエル化学製（エピコート152、154、
828、1001、1004、1007）ダウケミカル製
（DEN431、DER732、DER511、DER331）、大
日本インキ製（エピクロン400、エピクロン−
800）、更に上記エポキシの高重合度樹脂である
UCC社製フエノキシ樹脂（PKHA、PKHC、
PKHH）臭素化ビスフエノールＡとエピクロ
ルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工
業製（エピクロン145、152、153、1125）等。 これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用し
て、放射線感応変性を行つたもの () 繊維素誘導体 各種分子量の繊維素系誘導体も、また熱可塑
性プラスチツク成分として効果的である。その
中でも、特に効果的なものは硝化綿、セルロー
ズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブチ
ルセルローズ、アセチルセルロース等が好適で
あり、樹脂中の水酸基を活性して後に述べる手
法により放射線応変性を行なつたもの その他、放射性感応変性に用いることのできる
樹脂としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエ
ーテルエステル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂
及び誘導体（PVPオレフイン共重合体）、ポリア
ミド樹脂、ポリイミド樹脂、フエノール樹脂、ス
ピロアセタール樹脂、水酸基を含有するアクリル
エステル及びメタクリルエステルを少なくとも一
種以上重合成分として含むアクリル系樹脂等も有
効である。 さらに上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可
塑性エラストマー又はプレポリマーをブレンドす
ることにより、一層強靭な塗膜とすることができ
る。さらに、下記に述べるように、これらエラス
トマーあるいはプレポリマーが、同時に放射線感
応性に変性された場合は、より効果的である。以
下に、上記放射線感応樹脂と組み合わせることの
できるエラストマー又はプレポリマーを挙げる。 () ポリウレタンエラストマー及びプレポリマ
ー及びテロマー ポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、
PETフイルムへの接着性が良い点で特に有効
である。 このようなウレタン化合物の例としては、イ
ソシアネートとして、２，４−トルエンイソシ
アネート、２，６−トルエンジイソシアネー
ト、１，３−キシレンジイソシアネート、１，
４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナフ
タレンジイソシアネート、ｍ−フエニレンジイ
ソシアネート、ｐ−フエニレンジイソシアネー
ト、３，3′−ジメチル−４，4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネート、４，4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネート、３，3′−ジメチルビフ
エニレンジイソシアネート、４，4′−ビフエニ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、イソフオロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デ
スモジユールＬ、デスモジユールＮ等の各種多
価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル
（エチレングリコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、１，４
−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリスリツト、ソルビトール、ネオ
ペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサン
ジメタノールの様な多価アルコールと、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン
酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様
な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状
飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレ
ングリコール）やカプロラクタム、ヒドロキシ
ン含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ含有メ
タアクリル酸エステル等の各種ポリエステル類
の縮重合物より成るポリウレタンエラストマ
ー、プレポリマー、テロマーが有効である。 これらのエラストマーを放射線感応変性の各
種熱可塑性ブラスチツクスとそのまま組合せて
も良いが、更にウレタンエラストマーの末端の
イソシアネート基又は水酸基と反応するアクリ
ル系二重結合又はアリル系二重結合等を有する
単量体と反応させることにより、放射線感応性
に変性することは非常に効果的である。 () アクリルニトリル−ブタジエン共重合エラ
ストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタ
イツドレジンとして市販されている末端水酸基
のあるアクリロニトリルブタジエン共重合体ブ
レポリマー、あるいは日本ゼオン社製ハイカー
1432J等のエラストマーは、特にブタジエン中
の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋
及び重合させるエラストマー成分として適す
る。 () ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリク
イツドレジンＲ−15等の低分子量末端水酸基を
有するプレポリマーが特に熱可塑性プラスチツ
クとの相溶性の点で好適である。Ｒ−15プレポ
リマーにおいては分子末端が水酸基となつてい
る為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが
可能であり、バインダーとして更に有利とな
る。 また、ポリブタジエンの環化物日本合成ゴム
製CBR−M901も熱可塑性プラスチツクスとの
組合せによりすぐれた性能を発揮する。特に、
環化されたポリブタジエンは、ポリブタジエン
本来の有する不飽和結合のラジカルにより放射
線による架橋重合の効率が良く、バインダーと
して優れた性質を有している。 その他熱可塑性エラストマー及びそのプレポ
リマーの系で好適なものとしては、スチレン−
ブタジエンゴム、塩化ゴム、アクリルゴム、イ
ソプレンゴム及びその環化物（日本合成ゴム製
CIR701）、エポキシ変性ゴム、内部可塑化飽和
線状ポリエステル（東洋紡バイロン＃300）、等
のエラストマーも下記に述べる放射線感応変性
処理をほどこすことにより有効に利用できる。
その他エラストマー以外に塩酢ビ共重合体、エ
ポキシ樹脂、フエノキシ樹脂、繊維素を加えて
も良い。 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明す
る。 トリレンジイソシアネートのアダクトの製法 (a) 塩化ビニル酢酸ビニル共重合系樹脂（放射線
感応変性樹脂）のアクリル変性体の合成 ビニライトVAGH750部とトルエン1250部シ
クロヘキサノン500部を５４つ口フラスコに
仕込み加熱溶解し、80℃昇温後トリレンジイソ
シアネートの２−ヒドロキシエチルメタアクリ
レートアダクトを61.4部加え、更にオクチル部
スズ0.012部、ハイドロキノン0.012部加え80℃
でN2気流中NCO反応率が90％となるまで反応
せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケ
トン1250部を加え希釈する。 ＊トリレンジイソシアネート（TDI）の２−ヒド
ロキシエチルメタアクリレート（2HEMA）
アダクトの製法 トリレンジイソシアネート348部をN2気流中
１の４つ口フラスコ内で80℃に加熱後、２−
ヘキサエチレンメタアクリレート260部、オク
チル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05部を反
応缶内の温度が80〜85℃となるように冷却コン
トロールしながら滴下終了後80℃で３時間撹拌
し反応を完結させる。反応終了後取り出して冷
却後白色ペースト状のTDIの2HEMAを得た。 (b) ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をト
ルエン191.2部、シクロヘキサノン71.4部に５
４つ口フラスコに仕込み加熱溶解し80℃昇温
後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシ
エチルメタアクリレートアダクト※ を7.4部加
え、更にオクチル酸スズ0.015部、ハイドロキ
ノン0.015部を加え、80℃でN2気流中NCO反応
率が90％以上となるまで反応せしめる。反応終
了後冷却しメチルエチルケトンにて希釈する。 (c) 飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成
（放射線感応変性樹脂） 東洋紡製バイロンRV−200 100部をトルエ
ン116部、メチルエチルケトン116部に加熱溶解
し80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト※ を3.55
部加え、オクチル酸スズ0.007部、ハイドロキ
ノン0.007部を添加し、N2気流中80℃でNCO反
応率90％以上となるまで反応せしめる。 (d) エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線
感応変性樹脂） シエル化学製エピコート1007 400部をトルエ
ン50部、MEK50部に加熱溶解後Ｎ，Ｎ−ジメ
チルベンジルアミン0.006部、ハイドロキノン
0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を
滴下し80℃で酸化５以下となるまで反応せしめ
る。 (e) ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線感応エラストマー） 末端イソシアネートのジフエニルメタンジイ
ソシアネート（MDI）系ウレタンプレポリマ
ー（日本ポリウレタン製ニツボラン4040）250
部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、
オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、80℃
に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温度が80
〜90℃となる様に冷却しながら滴下し、滴下終
了後80℃でNCO反応率95％以上となるまで反
応せしめる。 (f) ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマ
ーアクリル変性体の合成（放射線感応エラスト
マー） 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−
500 250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン
0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入
れ80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温
度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後80℃でNCO反応率95％以上と
なるまで反応せしめる。 (g) ポリブタジエンエラストマーアクリル変性体
の合成（放射線感応エラストマー） シンクレアベトロケミカル社製低分子量末端
水酸基ポリブタジエンポリBDリクイツトレジ
ンＲ−15 250部、2HEMA32.5部、ハイドロキ
ノン0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶
に入れ、80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶
内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら
滴下し、滴下終了後80℃でNCO反応率95％以
上となるまで反応せしめる。 また高分子には放射線照射により崩壊するもの
と分子間に架橋を起すものが知られている。分子
間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エ
ステル、ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル、ポリビニルピロリドンゴム、ポリ
ビニルアルコール、ポリアクロレインがある。こ
の様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、その
まま放射線架橋用バツクコート樹脂として使用可
能である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しな
い無溶剤型の樹脂であつても短時間で硬化するこ
とができるので、この様な樹脂をバツクコート用
として用いることもできる。 また、本発明のバツクコートの架橋に使用する
活性エネルギー線としては、放射線加速器を線源
とした電子線、CO60を線源としたγ−線、Sr90
を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源としたＸ
−線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工
程ラインへの導入、電離放射線のしや閉等の見地
から放射線加熱器により放射線を使用する方法が
有利である。 バツク層を硬化する際に使用する放射線特性と
しては、透過力の面から加速電圧100〜750KV好
ましくは150〜300KVの放射線加速器を用い吸収
線量を0.5〜20メガラツドになるように照射する
のが好都合である。 本発明のバツク層硬化に際しては、米国エナー
ジーサイエンス社にて製造されている低線量タイ
プの放射線加速器（エレクトロカーテンシステ
ム）等がテープコーテイグ加工ラインへの導入、
加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽等に極めて有利であ
る。 勿論、従来より放射線加速材として広く活用さ
れているところのフアンデグラフ型加速器を使用
しても良い。 また、放射線架橋に際しては、N2ガスHeガス
等の不活性ガス気流中で放射線をバツク層に照射
することが重要であり、空気中で放射線を照射す
ることは、バインダー成分の架橋に際し放射線照
射により生じたO3等の影響でポリマー中に生じ
たラジカルが有利に架橋反応に働く事を阻害する
ので極めて不利である。 従つて、活性エネルギー線を照射する部分の雰
囲気は、特に酸素濃度が最大で１％のN2、He、
CO2等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要とな
る。 また、バインダー成分の一部にはアクリル酸、
メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド等の放射線硬化性単量体を含んでも良い。 放射線硬化性樹脂には耐摩耗性及び接着性及び
柔軟性を改善するために、さらにポリウレタンエ
ラストマー及びポリウレタンプレポリマー、アク
リロニトリルブタジエン共重合体エラストマー、
ポリブタジエンエラストマー、エポキシ樹脂、フ
エノキシ樹脂、繊維素、塩化ビニル・酢酸ビニル
共重合体等を併用することもできる。 バツク層が放射線硬化型であると、熱硬化型よ
りも均一で強じんなバツク層が形成できる。 バツク層の存在はジツターを増大させる傾向が
ある。ここにジツターとは記録周波を中心として
微少な位相変調を受けることである。この現象は
テープの走行の円滑性に関連するものと思われ
る。かかるジツターは、脂肪酸または脂肪酸エス
テル系の潤滑剤を極く少量存在させれば解決でき
る。これらの酸またはエステルは炭素数10〜22の
ものが好ましく、例えばラウリン酸、ステアリン
酸、ミリスチン酸等或いはそれらの混合物が使用
できる。またその使用量はバツク層の全重量の３
％以下含有させれば十分である。 以下、本発明の実施例を詳しく説明する。以下
の実施例では、磁性層としては真空蒸着法により
コバルト80wt％及びニツケル20wt％の斜め蒸着
合金磁性膜をポリエチレンテレフタレート膜の表
面に約1500Åの厚さとなるように蒸着したものを
用いた。表面粗度は約0.01μｍであつた。 実施例 １ バツク層として次の樹脂組成を混合した。 重量部 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体（ユニオン・カーバイド社製VAGH） 30 ポリウレタンプレポリマー（デスモコール22）20 カーボンブラツク（80ｍμ） 25 CaCO3（40ｍμ） 25 メチルエチルケトン 200 ステアリン酸 ５ ミリスチン酸ミリスチル ２ この混合物にポリイソシアネート（デスモジユ
ールＬ）を30重量部加えて混合し、上記の磁性層
を設けたポリエツテルフイルムの裏面に厚さ1.5μ
に塗布し、乾燥し、カレンダー加工をし、そして
熱硬化し、裁断してビデオテープとした。 上記バツク層の表面粗度はカレンダー加工を
種々に調整することにより0.05〜0.4μｍのものを
得た。 実施例 ２ 実施例１において、バツク層の組成を次のよう
にした他は、同じ工程及び条件下でビデオテープ
を製造した。 重量部 ニトロセルロース（ダイセル社製ニトロセルロー
ス） 30 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体（VAGH） 20 カーボンブラツク（100μｍ） 30 ポリウレタンプレポリマー（デイスモコール22）
50 BaSO4（80ｍμ） 20 ステアリン酸 ５ ミリスチン酸ミリスチル ２ メチルエチルケトン 280 実施例 ３ カーボンブラツク（20ｍμ） 20部 アクリル変性塩ビ・酢ビ・ビニルアルコール共重
合体(a)（上記(a)の方法によるもの） 30部 カオリン（500ｍμ） 25部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー(e) 20部 混合溶剤（MIBK／トルエン＝１／１） 300部 上記混合物をポールミル中５時間分散させ、磁
性面が形成されているポリエステルフイルムの裏
面に乾燥厚1.5μになるように塗布し、エレクトロ
カーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧
150KeV、電極電流10ｍＡ、吸収線量5Mrad、N2
ガス中で電子線をバツク層に照射し、硬化を行な
つた後カレンダー加工して巻き取り、１／２ビデ
オ巾に切断した。 実施例 ４ カーボンブラツク（20ｍμ） 25部 CaCO3（1000ｍμ） 25部 アクリル変性ポリエステル樹脂(c) 60部 混合溶剤 300部 上記混合物を実施例３と同様に調製しサンプル
を得た。 実施例 ５ カーボンブラツク（60ｍμ） 20部 カオリン（80ｍμ） 20部 CaCO3（100ｍμ） 20部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー(e) 30部 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体（U.C.C.VAGH） 70部 混合溶剤 300部 上記混合物を実施例３と同様に調製し、サンプ
ルを得た。 比較例 １、２、３ 実施例１においてCaCO3を同量のカーボンブ
ラツクと置換したもの、及び実施例１においてカ
ーボンブラツクを同量のCaCO3と置換したもの、
及び実施例１においてカーボンブラツク及び
CaCO3を同量のAl2O3粉末（600ｍμ）と置換し
たものをそれぞれ比較例１、２、３とした。 結果を下表に示す。
【表】
常温走行では明確に出来なかつた。顔料系の差
が明確になつた。40℃80％の高温多湿下で走行試
験を行なつたところ、比較例１はカーボンブラツ
クのため塗膜がもろくバツク面のケズレを発生し
た。また電気抵抗が低く且つ強磁性薄膜面も電気
抵抗が低いので、巻きしまりにくい。両面とも電
気抵抗が低いので巻径内ですべりやすく不安定と
なり、巻きみだれ（シンチング）を発生した。 比較例２、３のようにCaCO2、Al2O3は電気抵
抗が高いのでドロツプアウトを発生しやすい。強
磁性薄膜面が電気抵抗が低いので、バツク面が電
気抵抗が高くてもシンチングを発生しない。
CaCO3は硬度が６以下のため強磁性薄膜面への
影響はないが、Al2O3は硬度が高いため磁性面へ
の影響があらわれ、磁性面のケズレを発生した。 上記の実施例１で得られた磁気記録媒体をビデ
オテープの幅に裁断し、これをビデオレコーダで
3.8ｍ／secで駆動し、中心周波数5MHzで記録再
生した場合のＳ／Ｎ比を求めたところバツク層の
表面粗度が0.4μｍ以上になると出力低下が大きく
Ｓ／Ｎ比が1dB以上低下する。一方0.05μｍ以下
ではバツク層の摩擦が大きくなり走行が円滑に行
かないことが分つた。 なお上記の測定は次のようにして行なつた。 摩擦係数 40℃、80％RHでVHS方式VTRで100回走行の
前後の測定である。 直径４mmの表面を研磨したアルミ円柱に磁気テ
ープのバツク面を内側にして180゜の抱き角で巻き
つけ、２cm／秒で走行し送り出し側と巻き取り側
のテンシヨンを測定し計算より求めた。 シンチング現象 一般市販のVHS方式VTRを用いて、テープを
40℃、80％RHで100回走行した後、テープの巻
き状態を目視により観察した。テープ層間にすき
間がなく巻き状態が良好な場合を良好としそして
テープ層間にすき間が発生した場合を不良とし
た。 バツク層及び磁性層の削れ 一般市販のVHS方式VTRを用い、40℃の温度
及び80％相対湿度の環境下で100回走行させた後
の削れを観察した。 電磁特性 中心周波数5MHzで記録・再生した場合の
Ｓ／Ｎ比（相対値）を示す。 VHSのVTRを改造し、5MHz迄測定出来る
ようにした。 ドロツプアウトは15μSでの値であり、個／
minである。 電顕撮影法 透過電顕により、テープからの抽出法によ
る。それにより平均粒子径を測定する。 走査型電顕により、断面写真法による。この
場合、粒子が凝集している場合があるので、バ
ラツキが大の場合は最小粒子径を平均粒子径と
する。 表面粗度 タリステツプ（TAYLOR−HOBSON社製）
を用いて得たチヤートから20点平均法で求めた。
カツトオフ0.17mm、針圧２mg、針0.1×25μｍを用
いた。
が明確になつた。40℃80％の高温多湿下で走行試
験を行なつたところ、比較例１はカーボンブラツ
クのため塗膜がもろくバツク面のケズレを発生し
た。また電気抵抗が低く且つ強磁性薄膜面も電気
抵抗が低いので、巻きしまりにくい。両面とも電
気抵抗が低いので巻径内ですべりやすく不安定と
なり、巻きみだれ（シンチング）を発生した。 比較例２、３のようにCaCO2、Al2O3は電気抵
抗が高いのでドロツプアウトを発生しやすい。強
磁性薄膜面が電気抵抗が低いので、バツク面が電
気抵抗が高くてもシンチングを発生しない。
CaCO3は硬度が６以下のため強磁性薄膜面への
影響はないが、Al2O3は硬度が高いため磁性面へ
の影響があらわれ、磁性面のケズレを発生した。 上記の実施例１で得られた磁気記録媒体をビデ
オテープの幅に裁断し、これをビデオレコーダで
3.8ｍ／secで駆動し、中心周波数5MHzで記録再
生した場合のＳ／Ｎ比を求めたところバツク層の
表面粗度が0.4μｍ以上になると出力低下が大きく
Ｓ／Ｎ比が1dB以上低下する。一方0.05μｍ以下
ではバツク層の摩擦が大きくなり走行が円滑に行
かないことが分つた。 なお上記の測定は次のようにして行なつた。 摩擦係数 40℃、80％RHでVHS方式VTRで100回走行の
前後の測定である。 直径４mmの表面を研磨したアルミ円柱に磁気テ
ープのバツク面を内側にして180゜の抱き角で巻き
つけ、２cm／秒で走行し送り出し側と巻き取り側
のテンシヨンを測定し計算より求めた。 シンチング現象 一般市販のVHS方式VTRを用いて、テープを
40℃、80％RHで100回走行した後、テープの巻
き状態を目視により観察した。テープ層間にすき
間がなく巻き状態が良好な場合を良好としそして
テープ層間にすき間が発生した場合を不良とし
た。 バツク層及び磁性層の削れ 一般市販のVHS方式VTRを用い、40℃の温度
及び80％相対湿度の環境下で100回走行させた後
の削れを観察した。 電磁特性 中心周波数5MHzで記録・再生した場合の
Ｓ／Ｎ比（相対値）を示す。 VHSのVTRを改造し、5MHz迄測定出来る
ようにした。 ドロツプアウトは15μSでの値であり、個／
minである。 電顕撮影法 透過電顕により、テープからの抽出法によ
る。それにより平均粒子径を測定する。 走査型電顕により、断面写真法による。この
場合、粒子が凝集している場合があるので、バ
ラツキが大の場合は最小粒子径を平均粒子径と
する。 表面粗度 タリステツプ（TAYLOR−HOBSON社製）
を用いて得たチヤートから20点平均法で求めた。
カツトオフ0.17mm、針圧２mg、針0.1×25μｍを用
いた。
Claims (1)
- １ プラスチツクフイルムベースの表面に金属薄
膜磁性層を形成した磁気記録媒体において、前記
ベースの裏面には、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビ
ニルアルコール共重合体、ポリウレタンプレポリ
マー及びポリイソシアネートまたはこれらとニト
ロセルロースとから成る熱硬化バツク層または放
射線感応性樹脂より成る放射線硬化バツク層であ
つて、内部に電子顕微鏡撮影にて平均粒子径10〜
150ｍμのカーボンブラツクと平均粒子径10〜500
ｍμでモース硬度６以下の無機化合物粉末とをカ
ーボンブラツク対無機化合物の比が１：９〜９：
１となるように均一に同時混合して分散含有し、
表面粗度が0.05〜0.4μｍでありかつ厚さが0.05〜
0.4μｍであるバツク層が設けられている磁気記録
媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58166677A JPS6059528A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体 |
| US06/642,208 US4618535A (en) | 1983-09-12 | 1984-08-20 | Magnetic recording medium |
| DE3433326A DE3433326C2 (de) | 1983-09-12 | 1984-09-11 | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58166677A JPS6059528A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059528A JPS6059528A (ja) | 1985-04-05 |
| JPH0572647B2 true JPH0572647B2 (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=15835674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58166677A Granted JPS6059528A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4618535A (ja) |
| JP (1) | JPS6059528A (ja) |
| DE (1) | DE3433326C2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3502852C2 (de) * | 1984-02-01 | 1999-06-24 | Tdk Corp | Magnetisches Aufzeichnungsmaterial |
| JPS6126933A (ja) * | 1984-07-16 | 1986-02-06 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH0650563B2 (ja) * | 1984-07-24 | 1994-06-29 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS6192425A (ja) * | 1984-10-12 | 1986-05-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| KR900006305B1 (ko) * | 1985-07-22 | 1990-08-28 | 니뽕 빅터 가부시끼가이샤 | 자기 기록 매체 |
| JPS62124624A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-05 | Sumitomo Suriim Kk | 磁気記録媒体 |
| JPH0740351B2 (ja) * | 1986-02-26 | 1995-05-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US5236738A (en) * | 1989-06-19 | 1993-08-17 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Method for making magnetic recording media by kneading, dilution kneading, and dispersing a mixture of inorganic grains, binders, and solvents |
| JPH04274015A (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-30 | Hitachi Maxell Ltd | オーデイオカセットテープとその製造方法 |
| DE69407415T2 (de) * | 1993-06-30 | 1998-05-14 | Imation Corp | Magnetische aufzeichnungsmedien mit neuem vernetzungsmittel |
| JP3355791B2 (ja) * | 1994-06-30 | 2002-12-09 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729769B2 (ja) * | 1974-02-15 | 1982-06-24 | ||
| JPS5240304A (en) * | 1975-09-26 | 1977-03-29 | Sony Corp | Manufacturing method of magnetic recording medium |
| JPS5698719A (en) * | 1980-01-10 | 1981-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| US4328935A (en) * | 1980-06-12 | 1982-05-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flexible magnetic recording tape having low-friction backside coating |
| US4474843A (en) * | 1980-08-18 | 1984-10-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JPS57130234A (en) * | 1981-02-02 | 1982-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57133520A (en) * | 1981-02-10 | 1982-08-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57150136A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS57169929A (en) * | 1981-04-13 | 1982-10-19 | Tdk Corp | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS57200938A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57208637A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS583132A (ja) * | 1981-06-30 | 1983-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6043224A (ja) * | 1983-08-18 | 1985-03-07 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP58166677A patent/JPS6059528A/ja active Granted
-
1984
- 1984-08-20 US US06/642,208 patent/US4618535A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-09-11 DE DE3433326A patent/DE3433326C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4618535A (en) | 1986-10-21 |
| JPS6059528A (ja) | 1985-04-05 |
| DE3433326C2 (de) | 1996-01-11 |
| DE3433326A1 (de) | 1985-03-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4419406A (en) | Magnetic recording medium and production thereof | |
| US4415630A (en) | Process of making magnetic recording medium | |
| US4567083A (en) | Magnetic recording medium | |
| US4560616A (en) | Magnetic recording medium having binder cured by electron beam radiation | |
| US4547419A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH0572647B2 (ja) | ||
| US4591528A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH0612564B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US4639389A (en) | Magnetic recording medium | |
| US4780366A (en) | Magnetic recording medium for image recording | |
| US4587150A (en) | Magnetic recording medium | |
| US4619868A (en) | Magnetic recording medium | |
| US4976989A (en) | Method for preparing a magnetic recording medium | |
| JPH0533447B2 (ja) | ||
| US4690870A (en) | Magnetic recording medium | |
| GB2130121A (en) | Magnetic recording medium and method for producing the same | |
| US4621027A (en) | Magnetic recording medium | |
| US4946729A (en) | Resin composition and magnetic recording medium employing the composition | |
| JPH0219529B2 (ja) | ||
| JPH0546016B2 (ja) | ||
| JPS6050619A (ja) | 磁気デイスク及びその製造方法 | |
| JPH0576092B2 (ja) | ||
| JPS60163228A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6059527A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6045939A (ja) | 磁気記録媒体 |