JPH0577037A - 気相式はんだ付け装置 - Google Patents
気相式はんだ付け装置Info
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- JPH0577037A JPH0577037A JP40237490A JP40237490A JPH0577037A JP H0577037 A JPH0577037 A JP H0577037A JP 40237490 A JP40237490 A JP 40237490A JP 40237490 A JP40237490 A JP 40237490A JP H0577037 A JPH0577037 A JP H0577037A
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- 238000005476 soldering Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims abstract description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 8
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 4
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- DAFIBNSJXIGBQB-UHFFFAOYSA-N perfluoroisobutene Chemical group FC(F)=C(C(F)(F)F)C(F)(F)F DAFIBNSJXIGBQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板12をリフローはんだ付けするためのフッ
素系不活性溶剤16aの蒸気相16から成長したミストを効
率良く回収する。 【構成】 蒸気槽14における基板搬入口18の内側および
基板搬出口19の内側に、大口径かつ大深度のミスト落し
穴31をそれぞれ設ける。この各ミスト落し穴31の内壁
に、ミスト粒子の成長を促進する冷却コイル32を設け
る。ミスト落し穴31の下部にブロワ34の吸込口を接続
し、このブロワ34の吐出口に分離器35およびサイクロン
36を接続する。蒸気相16の粒子径が成長した溶剤ミスト
は、基板搬入口18および基板搬出口19に向って移動する
途中で、ミスト落し穴31に確実に吸引される。ミスト落
し穴31および分離器35の下部に流れ落ちた溶剤は、いっ
たん溶剤タンク41に溜められ、ポンプ42によって蒸気槽
14の溶剤収容部43に循環される。
素系不活性溶剤16aの蒸気相16から成長したミストを効
率良く回収する。 【構成】 蒸気槽14における基板搬入口18の内側および
基板搬出口19の内側に、大口径かつ大深度のミスト落し
穴31をそれぞれ設ける。この各ミスト落し穴31の内壁
に、ミスト粒子の成長を促進する冷却コイル32を設け
る。ミスト落し穴31の下部にブロワ34の吸込口を接続
し、このブロワ34の吐出口に分離器35およびサイクロン
36を接続する。蒸気相16の粒子径が成長した溶剤ミスト
は、基板搬入口18および基板搬出口19に向って移動する
途中で、ミスト落し穴31に確実に吸引される。ミスト落
し穴31および分離器35の下部に流れ落ちた溶剤は、いっ
たん溶剤タンク41に溜められ、ポンプ42によって蒸気槽
14の溶剤収容部43に循環される。
Description
【０００１】〔発明の目的〕
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、気相式はんだ付け装置
に関するものである。
に関するものである。
【０００３】
【従来の技術】図２に示されるように、従来の気相式は
んだ付け装置は、コンベヤ11によって搬送される基板12
を、先ず外部のプリヒータ13により予加熱してから、蒸
気槽14の内部に搬入し、保温ヒータ15を経て、蒸気槽14
の内部に形成された飽和蒸気相16中に搬入し、この飽和
蒸気相16が有する気化潜熱により基板12と基板搭載部品
との間のクリームはんだを溶融（リフロー）するように
している。前記飽和蒸気相16は、蒸気槽底部に収容され
たフッ素系不活性溶剤（商品名…フロリナート）16a を
ヒータ17により加熱して形成している。
んだ付け装置は、コンベヤ11によって搬送される基板12
を、先ず外部のプリヒータ13により予加熱してから、蒸
気槽14の内部に搬入し、保温ヒータ15を経て、蒸気槽14
の内部に形成された飽和蒸気相16中に搬入し、この飽和
蒸気相16が有する気化潜熱により基板12と基板搭載部品
との間のクリームはんだを溶融（リフロー）するように
している。前記飽和蒸気相16は、蒸気槽底部に収容され
たフッ素系不活性溶剤（商品名…フロリナート）16a を
ヒータ17により加熱して形成している。
【０００４】このフッ素系不活性溶剤16a は高価なもの
であるから、蒸気槽14内に浮遊している溶剤ミスト（蒸
気相よりも粒子径の大きなもの）が基板搬入口18および
基板搬出口19から外部に流出しないように、この蒸気槽
内ミストを基板搬入口18および基板搬出口19の内側に設
けられたミスト吸込口21からブロワ22の吸引力によりミ
スト吸引回収部23に吸込み、この吸引回収部23により溶
剤ミストと空気とを分離して前記溶剤16a を回収するよ
うにしている。24は冷却コイルである。
であるから、蒸気槽14内に浮遊している溶剤ミスト（蒸
気相よりも粒子径の大きなもの）が基板搬入口18および
基板搬出口19から外部に流出しないように、この蒸気槽
内ミストを基板搬入口18および基板搬出口19の内側に設
けられたミスト吸込口21からブロワ22の吸引力によりミ
スト吸引回収部23に吸込み、この吸引回収部23により溶
剤ミストと空気とを分離して前記溶剤16a を回収するよ
うにしている。24は冷却コイルである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記ミスト吸
込口21のような小さな吸込口では全てのミストを効率良
く回収できず、このミスト吸込口21の上側を飛越えて基
板搬入口18または基板搬出口19から外部に流出する溶剤
ミストがある。この種の溶剤ミストがプリヒータ13の内
部に設けられた高温のヒータ25と直接接触すると有毒ガ
ス（パーフロロイソブチレン）が発生するおそれがあ
る。
込口21のような小さな吸込口では全てのミストを効率良
く回収できず、このミスト吸込口21の上側を飛越えて基
板搬入口18または基板搬出口19から外部に流出する溶剤
ミストがある。この種の溶剤ミストがプリヒータ13の内
部に設けられた高温のヒータ25と直接接触すると有毒ガ
ス（パーフロロイソブチレン）が発生するおそれがあ
る。
【０００６】これを防ぐために、従来は図２に示される
ように前記プリヒータ13を蒸気槽14の基板搬入口18から
離して設けているが、そうすると、プリヒータ13によっ
て所定の温度まで上昇した基板12が、保温ヒータ15間に
搬入されるまでに温度降下を起こし、その温度降下は保
温ヒータ15では回復できないので、予加熱からリフロー
に至る加熱で希望通りの基板温度プロファイルが得られ
ない問題がある。
ように前記プリヒータ13を蒸気槽14の基板搬入口18から
離して設けているが、そうすると、プリヒータ13によっ
て所定の温度まで上昇した基板12が、保温ヒータ15間に
搬入されるまでに温度降下を起こし、その温度降下は保
温ヒータ15では回復できないので、予加熱からリフロー
に至る加熱で希望通りの基板温度プロファイルが得られ
ない問題がある。
【０００７】本発明は、このような点に鑑みなされたも
のであり、ミスト回収効率を向上させることにより、プ
リヒータと蒸気槽との一体化を可能にし、予加熱からリ
フローに至る基板温度プロファイルを理想的なものにす
ることを目的とするものである。
のであり、ミスト回収効率を向上させることにより、プ
リヒータと蒸気槽との一体化を可能にし、予加熱からリ
フローに至る基板温度プロファイルを理想的なものにす
ることを目的とするものである。
【０００８】〔発明の構成〕
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、プリヒータ13
により予加熱された基板12を、蒸気槽14の基板搬入口18
から蒸気槽内に搬入し、この蒸気槽内に形成された飽和
蒸気相16の気化潜熱によりリフローはんだ付けして、蒸
気槽14の基板搬出口19から外部に搬出する気相式はんだ
付け装置において、前記蒸気槽14における基板搬入口18
の内側および基板搬出口19の内側にそれぞれ大口径かつ
大深度のミスト落し穴31が設けられ、このミスト落し穴
31の下部にミスト吸引回収部33が接続され、前記基板搬
入口18の外側に前記プリヒータ13が一体的に設置された
気相式はんだ付け装置である。
により予加熱された基板12を、蒸気槽14の基板搬入口18
から蒸気槽内に搬入し、この蒸気槽内に形成された飽和
蒸気相16の気化潜熱によりリフローはんだ付けして、蒸
気槽14の基板搬出口19から外部に搬出する気相式はんだ
付け装置において、前記蒸気槽14における基板搬入口18
の内側および基板搬出口19の内側にそれぞれ大口径かつ
大深度のミスト落し穴31が設けられ、このミスト落し穴
31の下部にミスト吸引回収部33が接続され、前記基板搬
入口18の外側に前記プリヒータ13が一体的に設置された
気相式はんだ付け装置である。
【００１０】
【作用】本発明は、大口径のミスト落し穴31では緩やか
でも十分な吸引風量が得られるから、蒸気相16から成長
したミストは、基板搬入口18および基板搬出口19に向っ
て移動する途中で、このミスト落し穴31に確実に吸引さ
れ、そして、大深度のミスト落し穴31に吸込まれたミス
トは下方への方向性を有するから再浮上することなく、
効率良く回収されるから、プリヒータ13を蒸気槽14の基
板搬入口18に一体化しても、前記ミストが蒸気槽外部の
高温のプリヒータ13で反応して有毒ガスを発生するおそ
れがない。
でも十分な吸引風量が得られるから、蒸気相16から成長
したミストは、基板搬入口18および基板搬出口19に向っ
て移動する途中で、このミスト落し穴31に確実に吸引さ
れ、そして、大深度のミスト落し穴31に吸込まれたミス
トは下方への方向性を有するから再浮上することなく、
効率良く回収されるから、プリヒータ13を蒸気槽14の基
板搬入口18に一体化しても、前記ミストが蒸気槽外部の
高温のプリヒータ13で反応して有毒ガスを発生するおそ
れがない。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を図１を参照して詳細に説明す
る。なお、図２と同様の部分には同一符号を付して、そ
の説明を省略する。
る。なお、図２と同様の部分には同一符号を付して、そ
の説明を省略する。
【００１２】蒸気槽14における基板搬入口18の内側およ
び基板搬出口19の内側には、溶剤ミスト（蒸気相の粒子
径が成長したもの）を落し込むための大口径かつ大深度
のミスト落し穴31が、蒸気槽14の全幅（紙面に直角方
向）にわたってそれぞれ設けられ、この各ミスト落し穴
31の内壁には、ミスト粒子の成長を促進する冷却コイル
32が設けられている。
び基板搬出口19の内側には、溶剤ミスト（蒸気相の粒子
径が成長したもの）を落し込むための大口径かつ大深度
のミスト落し穴31が、蒸気槽14の全幅（紙面に直角方
向）にわたってそれぞれ設けられ、この各ミスト落し穴
31の内壁には、ミスト粒子の成長を促進する冷却コイル
32が設けられている。
【００１３】この各ミスト落し穴31の下部には、ミスト
吸引回収部33が接続されている。このミスト吸引回収部
33は、ブロワ34と、分離器35と、サイクロン36とから成
る。分離器35の内部には、衝突板37が互い違いに設けら
れているとともに、ミスト粒子の成長を促進する冷却コ
イル38が設けられている。
吸引回収部33が接続されている。このミスト吸引回収部
33は、ブロワ34と、分離器35と、サイクロン36とから成
る。分離器35の内部には、衝突板37が互い違いに設けら
れているとともに、ミスト粒子の成長を促進する冷却コ
イル38が設けられている。
【００１４】さらに、前記分離器35および前記ミスト落
し穴31の下端に、液化したフッ素系不活性溶剤16a を一
時収容するための溶剤タンク41が接続され、この溶剤タ
ンク41からポンプ42によって蒸気槽14の溶剤収容部43に
前記溶剤16a を循環する溶剤循環系が設けられている。
し穴31の下端に、液化したフッ素系不活性溶剤16a を一
時収容するための溶剤タンク41が接続され、この溶剤タ
ンク41からポンプ42によって蒸気槽14の溶剤収容部43に
前記溶剤16a を循環する溶剤循環系が設けられている。
【００１５】また、前記基板搬入口18の外側にプリヒー
タ13が隙間を開けずに一体的に設置されている。
タ13が隙間を開けずに一体的に設置されている。
【００１６】次に、この実施例の作用を説明すると、プ
リヒータ13により予加熱された基板12は、蒸気槽14の基
板搬入口18から蒸気槽14内に搬入され、この蒸気槽14内
に形成された飽和蒸気相16の気化潜熱によりリフローは
んだ付けされ、蒸気槽14の基板搬出口19から外部に搬出
される。
リヒータ13により予加熱された基板12は、蒸気槽14の基
板搬入口18から蒸気槽14内に搬入され、この蒸気槽14内
に形成された飽和蒸気相16の気化潜熱によりリフローは
んだ付けされ、蒸気槽14の基板搬出口19から外部に搬出
される。
【００１７】前記プリヒータ13と蒸気槽14との間には隙
間がないので、プリヒータ13によって所定の温度に上昇
した基板12は、直ちに前記基板搬入口18から蒸気槽14内
の保温ヒータ15間に搬入され、あまり温度降下を起こさ
ない。したがって、プリヒータ13による予加熱から飽和
蒸気相16によるリフローに至る加熱で希望通りの基板温
度プロファイルが得られる。
間がないので、プリヒータ13によって所定の温度に上昇
した基板12は、直ちに前記基板搬入口18から蒸気槽14内
の保温ヒータ15間に搬入され、あまり温度降下を起こさ
ない。したがって、プリヒータ13による予加熱から飽和
蒸気相16によるリフローに至る加熱で希望通りの基板温
度プロファイルが得られる。
【００１８】前記蒸気相16から成長したミストの一部
は、蒸気槽14の基板搬入口18および基板搬出口19に向っ
て移動するが、その途中で大口径のミスト落し穴31に吸
い寄せられる。
は、蒸気槽14の基板搬入口18および基板搬出口19に向っ
て移動するが、その途中で大口径のミスト落し穴31に吸
い寄せられる。
【００１９】この大口径のミスト落し穴31ではミスト吸
引回収部33のブロワ34により緩やかでも十分な吸引風量
を得ることができるから、溶剤ミストは確実にミスト落
し穴31に吸引され、そして、大深度のミスト落し穴31に
吸込まれたミストは下方への方向性を有するから再浮上
することなく、下方へ移動するほど冷却コイル32の強い
冷却作用を受けて効率良く回収される。
引回収部33のブロワ34により緩やかでも十分な吸引風量
を得ることができるから、溶剤ミストは確実にミスト落
し穴31に吸引され、そして、大深度のミスト落し穴31に
吸込まれたミストは下方への方向性を有するから再浮上
することなく、下方へ移動するほど冷却コイル32の強い
冷却作用を受けて効率良く回収される。
【００２０】ミスト落し穴31内で液化しなかったミスト
は、ミスト吸引回収部33のブロワ34によってミスト落し
穴31から分離器35に送込まれ、その衝突板37によって慣
性力のあるミストが空気から分離され、サイクロン36に
よってさらに完全に分離される。
は、ミスト吸引回収部33のブロワ34によってミスト落し
穴31から分離器35に送込まれ、その衝突板37によって慣
性力のあるミストが空気から分離され、サイクロン36に
よってさらに完全に分離される。
【００２１】前記ミスト落し穴31および分離器35で得ら
れた溶剤16a は、いったん溶剤タンク41に溜められてか
ら、ポンプ42によって蒸気槽14の溶剤収容部43に循環さ
れる。
れた溶剤16a は、いったん溶剤タンク41に溜められてか
ら、ポンプ42によって蒸気槽14の溶剤収容部43に循環さ
れる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、大口径のミスト落し穴
があるから、ミストを吸引回収する際の風量を緩やかで
も十分多くとることができ、外部に流出しようとするミ
ストをこの大口径のミスト落し穴に確実に吸引できると
ともに、大深度のミスト落し穴に吸込まれたミストに下
方への方向性を与えて再浮上を防止でき、ミスト回収効
率を高めることができる。したがって、この種のミスト
が蒸気槽外部の高温のプリヒータと反応して有毒ガスを
発生するおそれがないので、プリヒータを蒸気槽の基板
搬入口に一体化でき、予加熱からリフローに至る基板温
度プロファイルを理想的なものにできる。
があるから、ミストを吸引回収する際の風量を緩やかで
も十分多くとることができ、外部に流出しようとするミ
ストをこの大口径のミスト落し穴に確実に吸引できると
ともに、大深度のミスト落し穴に吸込まれたミストに下
方への方向性を与えて再浮上を防止でき、ミスト回収効
率を高めることができる。したがって、この種のミスト
が蒸気槽外部の高温のプリヒータと反応して有毒ガスを
発生するおそれがないので、プリヒータを蒸気槽の基板
搬入口に一体化でき、予加熱からリフローに至る基板温
度プロファイルを理想的なものにできる。
【図１】本発明の一実施例を示す気相式はんだ付け装置
の断面図である。
の断面図である。
【図２】従来の気相式はんだ付け装置を示す断面図であ
る。
る。
12 基板 13 プリヒータ 14 蒸気槽 16 飽和蒸気相 18 基板搬入口 19 基板搬出口 31 ミスト落し穴 33 ミスト吸引回収部
Claims (1)
- 【請求項１】 プリヒータにより予加熱された基板を、
蒸気槽の基板搬入口から蒸気槽内に搬入し、この蒸気槽
内に形成された飽和蒸気相の気化潜熱によりリフローは
んだ付けして、蒸気槽の基板搬出口から外部に搬出する
気相式はんだ付け装置において、 前記蒸気槽における基板搬入口の内側および基板搬出口
の内側にそれぞれ大口径かつ大深度のミスト落し穴が設
けられ、このミスト落し穴の下部にミスト吸引回収部が
接続され、前記基板搬入口の外側に前記プリヒータが一
体的に設置されたことを特徴とする気相式はんだ付け装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40237490A JPH0577037A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 気相式はんだ付け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40237490A JPH0577037A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 気相式はんだ付け装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0577037A true JPH0577037A (ja) | 1993-03-30 |
Family
ID=18512193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40237490A Pending JPH0577037A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 気相式はんだ付け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0577037A (ja) |
-
1990
- 1990-12-14 JP JP40237490A patent/JPH0577037A/ja active Pending
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