JPH0581610A - 磁気ヘツド用コア材の製造方法 - Google Patents
磁気ヘツド用コア材の製造方法Info
- Publication number
- JPH0581610A JPH0581610A JP27048191A JP27048191A JPH0581610A JP H0581610 A JPH0581610 A JP H0581610A JP 27048191 A JP27048191 A JP 27048191A JP 27048191 A JP27048191 A JP 27048191A JP H0581610 A JPH0581610 A JP H0581610A
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- JP
- Japan
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- substrate
- magnetic
- metal
- magnetic head
- core material
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 第1の基板1の一主面に所定ピッチで複数の
突起2を形成した後、第2の基板3に上記突起2を嵌合
させる凹溝4を形成し、上記凹溝4内に突起2を嵌合さ
せ、これら凹溝4と突起2の間に金属磁性膜5を設けて
上記第1の基板1と第2の基板3を接合一体化し、上記
第1の基板1を上記第2の基板3の一主面3aまで研磨
する。 【効果】 金属磁性膜を設けた磁気ヘッド用コア材を寸
法精度高く、且つ安価で生産性することができる。
突起2を形成した後、第2の基板3に上記突起2を嵌合
させる凹溝4を形成し、上記凹溝4内に突起2を嵌合さ
せ、これら凹溝4と突起2の間に金属磁性膜5を設けて
上記第1の基板1と第2の基板3を接合一体化し、上記
第1の基板1を上記第2の基板3の一主面3aまで研磨
する。 【効果】 金属磁性膜を設けた磁気ヘッド用コア材を寸
法精度高く、且つ安価で生産性することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、ビデオテープ
レコーダ(VTR)等に搭載される磁気ヘッド用コア材
の製造方法に関するものである。
レコーダ(VTR)等に搭載される磁気ヘッド用コア材
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、VTR等の磁気記録再生装置に
おいては、高画質化等を目的として情報信号の短波長記
録化が進められており、これに対応して磁性粉に強磁性
金属粉末を用いたいわゆるメタルテープや、ベースフィ
ルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ等の
高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになってきてい
る。
おいては、高画質化等を目的として情報信号の短波長記
録化が進められており、これに対応して磁性粉に強磁性
金属粉末を用いたいわゆるメタルテープや、ベースフィ
ルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ等の
高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになってきてい
る。
【0003】一方、これに対処するために磁気ヘッドの
分野においても研究が進められており、高抗磁力磁気記
録媒体用の磁気ヘッドとして磁気コア材に高透磁率金属
磁性材料を用いたいわゆるメタル・イン・ギャップ型の
磁気ヘッドが種々開発され、その一部が実用化されてい
る。かかるメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッドに用
いられるコア材としては、例えば、フェライト等の酸化
物磁性材料と金属磁性材料の複合型としたもの、非磁性
材料と金属磁性材料の複合型としたもの、或いは酸化物
磁性材料と非磁性材料とからなる複合材料と金属磁性材
料の複合型としたもの等が知られている。
分野においても研究が進められており、高抗磁力磁気記
録媒体用の磁気ヘッドとして磁気コア材に高透磁率金属
磁性材料を用いたいわゆるメタル・イン・ギャップ型の
磁気ヘッドが種々開発され、その一部が実用化されてい
る。かかるメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッドに用
いられるコア材としては、例えば、フェライト等の酸化
物磁性材料と金属磁性材料の複合型としたもの、非磁性
材料と金属磁性材料の複合型としたもの、或いは酸化物
磁性材料と非磁性材料とからなる複合材料と金属磁性材
料の複合型としたもの等が知られている。
【0004】ところで、メタル・イン・ギャップ型の磁
気ヘッドは、通常、非磁性材料又は酸化物磁性材料或い
は非磁性材料と酸化物磁性材料よりなる基板に高透磁率
金属磁性材料を被着させ、これらを何枚にも積層してヘ
ッドコアブロックとし、このヘッドコアブロックより所
定形状にヘッドチップを切り出して作製される。或い
は、基板と高透磁率金属磁性材料よりなる金属膜を交互
にラミネートして作製されるヘッドコアブロックより切
り出して磁気ヘッドを作製している。
気ヘッドは、通常、非磁性材料又は酸化物磁性材料或い
は非磁性材料と酸化物磁性材料よりなる基板に高透磁率
金属磁性材料を被着させ、これらを何枚にも積層してヘ
ッドコアブロックとし、このヘッドコアブロックより所
定形状にヘッドチップを切り出して作製される。或い
は、基板と高透磁率金属磁性材料よりなる金属膜を交互
にラミネートして作製されるヘッドコアブロックより切
り出して磁気ヘッドを作製している。
【0005】ところが、基板と高透磁率金属磁性材料よ
りなる金属膜を交互にラミネートしてヘッドコアブロッ
クを作製したのでは、基板と金属膜の膜厚を非常に厳し
く管理しないと累積精度が悪くなる。また、ヘッドチッ
プに切り出す際に基板と金属膜の界面において金属膜の
膜剥がれや折れが生じ、歩留りが低下する等の不都合が
生じる。
りなる金属膜を交互にラミネートしてヘッドコアブロッ
クを作製したのでは、基板と金属膜の膜厚を非常に厳し
く管理しないと累積精度が悪くなる。また、ヘッドチッ
プに切り出す際に基板と金属膜の界面において金属膜の
膜剥がれや折れが生じ、歩留りが低下する等の不都合が
生じる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、上述
の技術的な課題を解消するべく提案されたものであっ
て、高精度な加工をすることなく安価でしかも生産性に
優れた信頼性の高い磁気ヘッド用コア材の製造方法を提
供することを目的とする。
の技術的な課題を解消するべく提案されたものであっ
て、高精度な加工をすることなく安価でしかも生産性に
優れた信頼性の高い磁気ヘッド用コア材の製造方法を提
供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、第1の基板の一主面に所定ピッチで複
数の突起を形成する工程と、第2の基板の一主面に上記
第1の基板に形成した突起を嵌合させる凹溝をこれら突
起位置に合わせて形成する工程と、上記凹溝と突起の間
に金属磁性膜を設けて上記第1の基板と第2の基板を接
合一体化する工程と、上記第1の基板を少なくとも上記
第2の基板の一主面まで研磨する工程とを有してなるも
のである。
めに、本発明は、第1の基板の一主面に所定ピッチで複
数の突起を形成する工程と、第2の基板の一主面に上記
第1の基板に形成した突起を嵌合させる凹溝をこれら突
起位置に合わせて形成する工程と、上記凹溝と突起の間
に金属磁性膜を設けて上記第1の基板と第2の基板を接
合一体化する工程と、上記第1の基板を少なくとも上記
第2の基板の一主面まで研磨する工程とを有してなるも
のである。
【0008】
【作用】本発明の方法では、一対の基板に突起と凹溝を
相対向する位置に複数形成し、これら突起と凹溝を嵌合
させて、これら凹溝と突起の間に金属磁性膜を設けて上
記一対の基板を接合一体化させ、一方の基板を少なくと
も他方の基板の主面まで研磨しているので、金属磁性膜
が設けられた累積精度の高い磁気ヘッド用コア材が簡単
に得られる。
相対向する位置に複数形成し、これら突起と凹溝を嵌合
させて、これら凹溝と突起の間に金属磁性膜を設けて上
記一対の基板を接合一体化させ、一方の基板を少なくと
も他方の基板の主面まで研磨しているので、金属磁性膜
が設けられた累積精度の高い磁気ヘッド用コア材が簡単
に得られる。
【0009】
【実施例】以下、本発明を適用した磁気ヘッド用コア材
の製造方法の具体的な実施例について図面を参照しなが
ら説明する。磁気ヘッド用コア材を作製するには、先
ず、図1に示すように、第1の基板1の一主面1aに所
定ピッチで複数の突起2を形成する。
の製造方法の具体的な実施例について図面を参照しなが
ら説明する。磁気ヘッド用コア材を作製するには、先
ず、図1に示すように、第1の基板1の一主面1aに所
定ピッチで複数の突起2を形成する。
【0010】突起2の形状は、作製する磁気ヘッドに応
じて決められ、特に限定されない。なお本実施例では、
第1の基板1の一主面1aに対して垂直な面2aとこれ
に斜交する面2bを有した断面略V字状をなす突起とし
た。
じて決められ、特に限定されない。なお本実施例では、
第1の基板1の一主面1aに対して垂直な面2aとこれ
に斜交する面2bを有した断面略V字状をなす突起とし
た。
【0011】次に、第2の基板3の一主面3aに上記第
1の基板1に形成した突起2を嵌合させる凹溝4をこれ
ら突起2位置に合わせて当該突起2の数だけ形成する。
ここでの凹溝4は、例えば上記突起2がこの凹溝4に嵌
合したときに、該突起2の傾斜面2bと凹溝4とが面接
触状態で接触し、且つ突起2の垂直面2aとの間に隙間
が開くような形状とする。つまり、突起2の傾斜面2b
と面接触する傾斜面4bを有し、且つ突起2の垂直面2
aとの間に隙間が開くような間隔で設けられた垂直面4
aとを有した断面略V字状の溝とする。或いは、上記突
起2が嵌合したときにこの突起の傾斜面2bと垂直面2
aとがいずれも面接触状態で嵌合するような当該突起2
の形状に応じた溝形状であってもよい。
1の基板1に形成した突起2を嵌合させる凹溝4をこれ
ら突起2位置に合わせて当該突起2の数だけ形成する。
ここでの凹溝4は、例えば上記突起2がこの凹溝4に嵌
合したときに、該突起2の傾斜面2bと凹溝4とが面接
触状態で接触し、且つ突起2の垂直面2aとの間に隙間
が開くような形状とする。つまり、突起2の傾斜面2b
と面接触する傾斜面4bを有し、且つ突起2の垂直面2
aとの間に隙間が開くような間隔で設けられた垂直面4
aとを有した断面略V字状の溝とする。或いは、上記突
起2が嵌合したときにこの突起の傾斜面2bと垂直面2
aとがいずれも面接触状態で嵌合するような当該突起2
の形状に応じた溝形状であってもよい。
【0012】なお、突起2及び凹溝4は、例えば高精度
加工が可能な数値制御(NC)工作機械により加工する
ことにより、これら突起2及び凹溝4の寸法精度並びに
ピッチ精度が高精度なものとなる。また、上記第1の基
板1と第2の基板3の材料については、作製する磁気ヘ
ッドに応じて適宜選択すればよい。本実施例では、いず
れも非磁性材料を使用した。
加工が可能な数値制御(NC)工作機械により加工する
ことにより、これら突起2及び凹溝4の寸法精度並びに
ピッチ精度が高精度なものとなる。また、上記第1の基
板1と第2の基板3の材料については、作製する磁気ヘ
ッドに応じて適宜選択すればよい。本実施例では、いず
れも非磁性材料を使用した。
【0013】次に、図2に示すように、上記各凹溝4内
に相対向する突起2を嵌合させる。このとき突起2と凹
溝4とは、ピッチ精度良く形成されているので、その全
ての突起2と凹溝4の形成位置が一致する。また、上記
突起2と凹溝4との間、すなわちこれら突起2の垂直面
2aと凹溝4の垂直面4aとの間には隙間が形成され
る。
に相対向する突起2を嵌合させる。このとき突起2と凹
溝4とは、ピッチ精度良く形成されているので、その全
ての突起2と凹溝4の形成位置が一致する。また、上記
突起2と凹溝4との間、すなわちこれら突起2の垂直面
2aと凹溝4の垂直面4aとの間には隙間が形成され
る。
【0014】そして、上記隙間に高透磁率金属磁性材料
よりなる金属磁性膜5を挾み込み、これら第1の基板1
と第2の基板3を接合一体化する。これら基板2,3の
接合は、例えば無機接着剤、ガラス或いはAu等の金属
接合等による。特に、金属磁性膜5にアモルファス合金
等の非結晶質合金を用いた場合には、磁気特性の低下防
止の観点よりAu等による低温融着法を採用することが
望ましい。
よりなる金属磁性膜5を挾み込み、これら第1の基板1
と第2の基板3を接合一体化する。これら基板2,3の
接合は、例えば無機接着剤、ガラス或いはAu等の金属
接合等による。特に、金属磁性膜5にアモルファス合金
等の非結晶質合金を用いた場合には、磁気特性の低下防
止の観点よりAu等による低温融着法を採用することが
望ましい。
【0015】次に、上記第1の基板1を第2の基板3の
一主面3aに至る位置(図2中a−a線で示す位置)ま
で研磨する。このとき、金属磁性膜5は突起2と凹溝4
とによって挾み付けられた状態にあるので、当該金属磁
性膜5は膜剥がれを起こしたり折れたりするようなこと
がない。
一主面3aに至る位置(図2中a−a線で示す位置)ま
で研磨する。このとき、金属磁性膜5は突起2と凹溝4
とによって挾み付けられた状態にあるので、当該金属磁
性膜5は膜剥がれを起こしたり折れたりするようなこと
がない。
【0016】この結果、第1の基板1に形成された突起
2と金属磁性膜5のみが第2の基板3の凹溝4内に残存
し、金属磁性膜5が所定ピッチで挟み込まれた複合化さ
れた磁気ヘッド用コア材が作製される。このように形成
されたコア材は、突起2と凹溝4が予め所定のピッチで
精度良く形成されているため、従来のように厚みを高精
度に制御した基板と金属磁性膜を交互に重ね合わせて作
製する手法に比べて累積誤差が極めて少ない。また、第
1の基板1と第2の基板3とは一回の接合作業で済むた
め、工数の大幅な削減が望め、生産性が大幅に向上す
る。
2と金属磁性膜5のみが第2の基板3の凹溝4内に残存
し、金属磁性膜5が所定ピッチで挟み込まれた複合化さ
れた磁気ヘッド用コア材が作製される。このように形成
されたコア材は、突起2と凹溝4が予め所定のピッチで
精度良く形成されているため、従来のように厚みを高精
度に制御した基板と金属磁性膜を交互に重ね合わせて作
製する手法に比べて累積誤差が極めて少ない。また、第
1の基板1と第2の基板3とは一回の接合作業で済むた
め、工数の大幅な削減が望め、生産性が大幅に向上す
る。
【0017】そして、上述のように作製されたコア材を
用いて磁気ヘッドを作製するには、以下のようにして行
う。先ず、図3に示すように、一方のコア材6の一主面
6aにコイルを巻装させるための巻線溝7を形成する。
例えば、巻線溝7は、金属磁性膜5に対して略直交する
方向にコア材6全体に亘って断面略矩形状の溝として形
成する。
用いて磁気ヘッドを作製するには、以下のようにして行
う。先ず、図3に示すように、一方のコア材6の一主面
6aにコイルを巻装させるための巻線溝7を形成する。
例えば、巻線溝7は、金属磁性膜5に対して略直交する
方向にコア材6全体に亘って断面略矩形状の溝として形
成する。
【0018】次に、巻線溝7を形成した面6aを鏡面研
磨し、ギャップ面となる部分にギャップ膜(図示は省略
する。)をスパッタリング等によって成膜する。
磨し、ギャップ面となる部分にギャップ膜(図示は省略
する。)をスパッタリング等によって成膜する。
【0019】次いで、図4に示すように、他方のコア材
8の一主面8aを同様にして鏡面研磨する。そして、図
5に示すように、これらコア材6,8を互いの金属磁性
膜5が一致するようにトラック位置合わせして突合わせ
る。次に、上記巻線溝7内にガラス棒等を挿入してガラ
ス融着し、上記一対の接合基板6,8を接合一体化す
る。
8の一主面8aを同様にして鏡面研磨する。そして、図
5に示すように、これらコア材6,8を互いの金属磁性
膜5が一致するようにトラック位置合わせして突合わせ
る。次に、上記巻線溝7内にガラス棒等を挿入してガラ
ス融着し、上記一対の接合基板6,8を接合一体化す
る。
【0020】次いで、図5に示すb−b線及びc−c線
で示す位置で切削し、ヘッドチップを切り出す。そし
て、このヘッドチップに対して磁気記録媒体との当たり
特性を確保するために摺動面を円筒研磨し、図6に示す
ような磁気ヘッド9を完成する。このように作製された
磁気ヘッド9は、磁気記録媒体摺動面9aの略中央部に
媒体の走行方向に延在して設けられる一対の金属磁性膜
5の突合わせ部に磁気ギャップgが構成され、これら金
属磁性膜5の膜厚によってトラック幅Twが規制され
る。
で示す位置で切削し、ヘッドチップを切り出す。そし
て、このヘッドチップに対して磁気記録媒体との当たり
特性を確保するために摺動面を円筒研磨し、図6に示す
ような磁気ヘッド9を完成する。このように作製された
磁気ヘッド9は、磁気記録媒体摺動面9aの略中央部に
媒体の走行方向に延在して設けられる一対の金属磁性膜
5の突合わせ部に磁気ギャップgが構成され、これら金
属磁性膜5の膜厚によってトラック幅Twが規制され
る。
【0021】以上、本発明を適用した具体的な一実施例
について説明したが、本発明は上述の実施例に限定され
ることなく種々の変更が可能である。例えば、上述の実
施例では、第1の基板1と第2の基板3を重ね合わせた
後に突起2と凹溝4の間に金属磁性膜5を挿入する形で
設けるようにしたが、図7に示すように、予め第2の基
板3の凹溝4の垂直面4aに金属磁性膜5を直接成膜す
るようにしておいてもよい。またこの他、図8に示すよ
うに、金属磁性膜5を例えば非磁性材料や酸化物磁性材
料等よりなる基材10に形成して、これを前記隙間に挿
入するようにしてもよい。
について説明したが、本発明は上述の実施例に限定され
ることなく種々の変更が可能である。例えば、上述の実
施例では、第1の基板1と第2の基板3を重ね合わせた
後に突起2と凹溝4の間に金属磁性膜5を挿入する形で
設けるようにしたが、図7に示すように、予め第2の基
板3の凹溝4の垂直面4aに金属磁性膜5を直接成膜す
るようにしておいてもよい。またこの他、図8に示すよ
うに、金属磁性膜5を例えば非磁性材料や酸化物磁性材
料等よりなる基材10に形成して、これを前記隙間に挿
入するようにしてもよい。
【0022】また、上記第1の基板1と第2の基板3に
は、非磁性材料の他、フェライト等の酸化物磁性材料等
が使用できる。かかる組合せとしては、例えば前述の例
のように非磁性材料同士よりなる基板の組合せの他、酸
化物磁性材料同士よりなる基板の組合せ、非磁性材料と
酸化物磁性材料の複合体よりなる基板同士の組合せ、或
いは図9に示すようにガラス11と酸化物磁性材料12
の複合体よりなる基板13と非磁性材料よりなる基板1
4との組合せ、さらには図10に示すように非磁性材料
よりなる基板15と酸化物磁性材料16とガラス17の
複合体よりなる基板18との組合せ等が挙げられる。
は、非磁性材料の他、フェライト等の酸化物磁性材料等
が使用できる。かかる組合せとしては、例えば前述の例
のように非磁性材料同士よりなる基板の組合せの他、酸
化物磁性材料同士よりなる基板の組合せ、非磁性材料と
酸化物磁性材料の複合体よりなる基板同士の組合せ、或
いは図9に示すようにガラス11と酸化物磁性材料12
の複合体よりなる基板13と非磁性材料よりなる基板1
4との組合せ、さらには図10に示すように非磁性材料
よりなる基板15と酸化物磁性材料16とガラス17の
複合体よりなる基板18との組合せ等が挙げられる。
【0023】上述の組合せからなるコア材より作製され
る磁気ヘッドの一例を挙げるとすれば、例えば第1の基
板1を非磁性材料とし、第2の基板3を酸化物磁性材料
として、図3の巻線溝7形成工程で磁気ギャップgのト
ラック幅を規制する円弧状の溝を形成することによって
作製される図11に示す如き磁気ヘッドが挙げられる。
なお、この磁気ヘッドにおいては、磁気記録媒体との当
たり特性を確保するために、トラック幅規制溝内にガラ
ス19を充填する。
る磁気ヘッドの一例を挙げるとすれば、例えば第1の基
板1を非磁性材料とし、第2の基板3を酸化物磁性材料
として、図3の巻線溝7形成工程で磁気ギャップgのト
ラック幅を規制する円弧状の溝を形成することによって
作製される図11に示す如き磁気ヘッドが挙げられる。
なお、この磁気ヘッドにおいては、磁気記録媒体との当
たり特性を確保するために、トラック幅規制溝内にガラ
ス19を充填する。
【0024】またこの他、図10で示す基板15,18
の組合せによって作製される図12に示す如き磁気ヘッ
ド、図9で示す基板13,14の組合せによって作製さ
れる図14に示す如き磁気ヘッド、或いは非磁性材料よ
りなる基板20と酸化物磁性材料よりなる基板21との
組合せによって金属磁性膜5の片側にのみトラック幅規
制溝を形成した図13に示す如き磁気ヘッド等が挙げら
れる。
の組合せによって作製される図12に示す如き磁気ヘッ
ド、図9で示す基板13,14の組合せによって作製さ
れる図14に示す如き磁気ヘッド、或いは非磁性材料よ
りなる基板20と酸化物磁性材料よりなる基板21との
組合せによって金属磁性膜5の片側にのみトラック幅規
制溝を形成した図13に示す如き磁気ヘッド等が挙げら
れる。
【0025】
【発明の効果】本発明においては、一対の基板に突起と
凹溝を相対向する位置に複数形成し、これら突起と凹溝
を嵌合させて、これら凹溝と突起の間に金属磁性膜を設
けて上記一対の基板を接合一体化させ、一方の基板を少
なくとも他方の基板の主面まで研磨しているので、所定
ピッチで金属磁性膜が設けられた累積精度の高い磁気ヘ
ッド用コア材を簡単に作製することができる。したがっ
て、寸法精度の高い磁気ヘッド用コア材を安価にしかも
歩留り良く作製することができる。
凹溝を相対向する位置に複数形成し、これら突起と凹溝
を嵌合させて、これら凹溝と突起の間に金属磁性膜を設
けて上記一対の基板を接合一体化させ、一方の基板を少
なくとも他方の基板の主面まで研磨しているので、所定
ピッチで金属磁性膜が設けられた累積精度の高い磁気ヘ
ッド用コア材を簡単に作製することができる。したがっ
て、寸法精度の高い磁気ヘッド用コア材を安価にしかも
歩留り良く作製することができる。
【図1】本発明を適用した磁気ヘッド用コア材の製造工
程を順次示すもので、突起及び凹溝形成工程を示す正面
図である。
程を順次示すもので、突起及び凹溝形成工程を示す正面
図である。
【図2】基板の接合工程を示す正面図である。
【図3】一方の接合ブロックに巻線溝を形成する工程を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図4】他方の接合ブロックのギャップ形成面を鏡面加
工する工程を示す斜視図である。
工する工程を示す斜視図である。
【図5】接合工程を示す斜視図である。
【図6】ヘッドチップ切り出し工程を示す斜視図であ
る。
る。
【図7】金属磁性膜を予め凹溝内に被着形成した例を示
す基板の正面図である。
す基板の正面図である。
【図8】金属磁性膜を基材に設けた例を示す図である。
【図9】基板を複合材料によって形成した例を示す基板
の正面図である。
の正面図である。
【図10】基板を複合材料によって形成したさらに他の
例を示す基板の正面図である。
例を示す基板の正面図である。
【図11】本発明を適用した接合基板によって作製され
る磁気ヘッドの平面図である。
る磁気ヘッドの平面図である。
【図12】本発明を適用した磁気ヘッド用コア材によっ
て作製される磁気ヘッドのさらに他の例を示す平面図で
ある。
て作製される磁気ヘッドのさらに他の例を示す平面図で
ある。
【図13】本発明を適用した磁気ヘッド用コア材によっ
て作製される磁気ヘッドのさらに他の例を示す平面図で
ある。
て作製される磁気ヘッドのさらに他の例を示す平面図で
ある。
【図14】本発明を適用した磁気ヘッド用コア材によっ
て作製される磁気ヘッドのさらに他の例を示す平面図で
ある。
て作製される磁気ヘッドのさらに他の例を示す平面図で
ある。
1・・・第1の基板 2・・・突起 3・・・第2の基板 4・・・凹溝 5・・・金属磁性膜
Claims (1)
- 【請求項1】 第1の基板の一主面に所定ピッチで複数
の突起を形成する工程と、 第2の基板の一主面に上記第1の基板に形成した突起を
嵌合させる凹溝をこれら突起位置に合わせて形成する工
程と、 上記凹溝と突起の間に金属磁性膜を設けて上記第1の基
板と第2の基板を接合一体化する工程と、 上記第1の基板を少なくとも上記第2の基板の一主面ま
で研磨する工程とを有してなる磁気ヘッド用コア材の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27048191A JPH0581610A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 磁気ヘツド用コア材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27048191A JPH0581610A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 磁気ヘツド用コア材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0581610A true JPH0581610A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17486900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27048191A Withdrawn JPH0581610A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 磁気ヘツド用コア材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0581610A (ja) |
-
1991
- 1991-09-24 JP JP27048191A patent/JPH0581610A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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