JPH0596222A - 液滴下用ノズル - Google Patents
液滴下用ノズルInfo
- Publication number
- JPH0596222A JPH0596222A JP3360602A JP36060291A JPH0596222A JP H0596222 A JPH0596222 A JP H0596222A JP 3360602 A JP3360602 A JP 3360602A JP 36060291 A JP36060291 A JP 36060291A JP H0596222 A JPH0596222 A JP H0596222A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 溶液を流下させるための大径管２の周囲に洗
浄用溶剤を流下させるための小径管３を設け、この小径
管３の下端部３ａを上記大径管２の下端部２ａよりも上
方に位置せしめ、前記小径管３の下端部３ａを斜めにカ
ットし、この下端部３ａの最下部分３ｂを前記大径管２
に臨ませてなるノズル１ 【効果】 小径管を介して洗浄用溶剤でノズル下端部を
洗うので、ノズル下端部において溶液が濃縮したり、或
いは溶質が析出することが無い。また、小径管の下端部
を斜めにカットしているために、ノズルが少々傾いても
洗浄用溶剤を均等に流下することができる。
浄用溶剤を流下させるための小径管３を設け、この小径
管３の下端部３ａを上記大径管２の下端部２ａよりも上
方に位置せしめ、前記小径管３の下端部３ａを斜めにカ
ットし、この下端部３ａの最下部分３ｂを前記大径管２
に臨ませてなるノズル１ 【効果】 小径管を介して洗浄用溶剤でノズル下端部を
洗うので、ノズル下端部において溶液が濃縮したり、或
いは溶質が析出することが無い。また、小径管の下端部
を斜めにカットしているために、ノズルが少々傾いても
洗浄用溶剤を均等に流下することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は被処理物等の表面に液を
滴下するノズルに関し、特にノズル先端周縁部に滴下液
中の溶質が析出したり、或いは滴下液がノズル先端部に
おいて濃縮されることを防止し得るようにした液滴下用
ノズルに関する。
滴下するノズルに関し、特にノズル先端周縁部に滴下液
中の溶質が析出したり、或いは滴下液がノズル先端部に
おいて濃縮されることを防止し得るようにした液滴下用
ノズルに関する。
【０００２】
【従来の技術】被処理物の表面に液を滴下するノズルは
ホトレジスト、金属酸化膜形成用の塗布液或いは拡散剤
を含んだ塗布液を滴下する場合などに広く使用されてい
る。例えばＩＣ、ＬＳＩ等の製作過程において、半導体
用拡散剤をウエハー上に塗布するには図５に示す如く、
スピンナー１０上にウエハー１１を載置し、ウエハー１
１の表面中心部にノズル１２から拡散剤を含んだ塗布液
を滴下し、スピンナー１０によりウエハー１１を高速回
転せしめ、遠心力でウエハー１１表面に拡散剤を均等に
塗布せしめるようにしている。
ホトレジスト、金属酸化膜形成用の塗布液或いは拡散剤
を含んだ塗布液を滴下する場合などに広く使用されてい
る。例えばＩＣ、ＬＳＩ等の製作過程において、半導体
用拡散剤をウエハー上に塗布するには図５に示す如く、
スピンナー１０上にウエハー１１を載置し、ウエハー１
１の表面中心部にノズル１２から拡散剤を含んだ塗布液
を滴下し、スピンナー１０によりウエハー１１を高速回
転せしめ、遠心力でウエハー１１表面に拡散剤を均等に
塗布せしめるようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ノズル１２か
ら塗布液を滴下すると、若干の塗布液がノズル先端周縁
部１２ａに表面張力の影響などによって残留することと
なる。ここで塗布液は拡散剤を有機溶媒等の溶剤で溶解
した溶液からなっているので、ノズル先端周縁部１２ａ
に残った塗布液は時間の経過につれて溶剤のみが揮散
し、徐々に凝縮され、最終的には溶質が析出する。この
ような凝縮された塗布液、或いは析出物がウエハー上に
落下すると、塗布ムラが生じて不良品を製作することと
なり、製品歩留まりにおいて極めて不利である。
ら塗布液を滴下すると、若干の塗布液がノズル先端周縁
部１２ａに表面張力の影響などによって残留することと
なる。ここで塗布液は拡散剤を有機溶媒等の溶剤で溶解
した溶液からなっているので、ノズル先端周縁部１２ａ
に残った塗布液は時間の経過につれて溶剤のみが揮散
し、徐々に凝縮され、最終的には溶質が析出する。この
ような凝縮された塗布液、或いは析出物がウエハー上に
落下すると、塗布ムラが生じて不良品を製作することと
なり、製品歩留まりにおいて極めて不利である。
【０００４】以上の不利を解消すべく従来においては、
スポンジ、布或いはこれらに溶剤を染み込ませたものを
用いてノズル先端部を拭き取ることで濃縮液又は析出物
の落下を防止している。
スポンジ、布或いはこれらに溶剤を染み込ませたものを
用いてノズル先端部を拭き取ることで濃縮液又は析出物
の落下を防止している。
【０００５】しかしながら斯かる従来方法では手作業に
頼らざるを得ず、量産性の面で問題があり、またノズル
とスピンナーとの空間が狭いような場合には拭き取り作
業が困難で、ウエハー表面に異物が落下する虞れが多分
にある。そして更に、塗布工程とこれに前後する工程と
を機械的に連続して行うことができず完全自動化を阻害
する原因ともなっている。
頼らざるを得ず、量産性の面で問題があり、またノズル
とスピンナーとの空間が狭いような場合には拭き取り作
業が困難で、ウエハー表面に異物が落下する虞れが多分
にある。そして更に、塗布工程とこれに前後する工程と
を機械的に連続して行うことができず完全自動化を阻害
する原因ともなっている。
【０００６】本発明者は上述の如き問題点に鑑み、これ
を有効に解決すべく本発明を為したものであり、その目
的とするところは滴下液がノズル先端部において濃縮し
たり、或いは該先端部に溶質が析出することがない液滴
下用ノズルを提供するにある。
を有効に解決すべく本発明を為したものであり、その目
的とするところは滴下液がノズル先端部において濃縮し
たり、或いは該先端部に溶質が析出することがない液滴
下用ノズルを提供するにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明は、溶液を滴下するノズルを、溶液を流下せしめる
大径管と、この大径管の外周を囲繞するように設けた複
数の洗浄用溶剤を供給する小径管とで構成し、小径管の
下端を大径管の下端よりも上方に位置せしめ、小径管の
下端部を斜めにカットし、この下端部の最下部分を前記
大径管に臨ませたことをその要旨としている。
発明は、溶液を滴下するノズルを、溶液を流下せしめる
大径管と、この大径管の外周を囲繞するように設けた複
数の洗浄用溶剤を供給する小径管とで構成し、小径管の
下端を大径管の下端よりも上方に位置せしめ、小径管の
下端部を斜めにカットし、この下端部の最下部分を前記
大径管に臨ませたことをその要旨としている。
【０００８】
【作用】小径管に供給された洗浄用溶剤は小径管の下端
部から大径管の外周に移り、この外周を流下しつつ大径
管下端部を洗浄する。
部から大径管の外周に移り、この外周を流下しつつ大径
管下端部を洗浄する。
【０００９】
【実施例】以下に本発明の好適な実施例を添付図面に従
って詳述する。
って詳述する。
【００１０】図１は本発明に斯かるノズルを適用した塗
布装置の縦断面図、図２は図１の２ー２線断面図であ
り、ノズル１は大径管２と、この大径管２の外周部に固
定された複数の小径管３…とからなり、小径管３の下端
部３ａは大径管２の下端部よりも上位となるようにし、
上記大径管２には例えば拡散剤塗布液をまた小径管３に
は洗浄用溶剤を夫々流下せしめるようにしている。
布装置の縦断面図、図２は図１の２ー２線断面図であ
り、ノズル１は大径管２と、この大径管２の外周部に固
定された複数の小径管３…とからなり、小径管３の下端
部３ａは大径管２の下端部よりも上位となるようにし、
上記大径管２には例えば拡散剤塗布液をまた小径管３に
は洗浄用溶剤を夫々流下せしめるようにしている。
【００１１】図３は本発明に斯かるノズルの要部拡大図
であり、大径管２の外周面に取り付ける小径管３の下端
部３ａの形状を大径管２の外周面に向って斜め下方にカ
ットした形状とし、この小径管３の下端部３ａの最下部
分３ｂを大径管２に当接している。
であり、大径管２の外周面に取り付ける小径管３の下端
部３ａの形状を大径管２の外周面に向って斜め下方にカ
ットした形状とし、この小径管３の下端部３ａの最下部
分３ｂを大径管２に当接している。
【００１２】以上の構成からなる液滴下ノズルの作用を
次に述べる。既述の如くノズル１をスピンナー１０上に
載置したウエハー１１の中心上にこれと所定間隔を保持
して臨ませ、大径管２の先端から拡散剤塗布液を滴下
し、スピンナー１０を回転せしめる。すると滴下された
拡散剤塗布液は遠心力によってウエハー１１表面に均一
に塗布されることになる。
次に述べる。既述の如くノズル１をスピンナー１０上に
載置したウエハー１１の中心上にこれと所定間隔を保持
して臨ませ、大径管２の先端から拡散剤塗布液を滴下
し、スピンナー１０を回転せしめる。すると滴下された
拡散剤塗布液は遠心力によってウエハー１１表面に均一
に塗布されることになる。
【００１３】そして、塗布液を滴下すると、若干の塗布
液が表面張力などによって大径管２の下端周縁部２ａに
残留し、溶剤の揮散につれて該残留液が凝縮したり、拡
散剤が固形物として析出するのでこれを除去する必要が
ある。
液が表面張力などによって大径管２の下端周縁部２ａに
残留し、溶剤の揮散につれて該残留液が凝縮したり、拡
散剤が固形物として析出するのでこれを除去する必要が
ある。
【００１４】そこで上記大径管２の外周面に配設した複
数の小径管３…に、上から洗浄用溶剤を供給する。
数の小径管３…に、上から洗浄用溶剤を供給する。
【００１５】図４（ａ），（ｂ）は本発明に斯かるノズ
ルの作用図であり、図４（ａ）において、洗浄用溶剤Ｌ
１は重力落下作用で小径管３の下端部３ａに至る（矢印
）。
ルの作用図であり、図４（ａ）において、洗浄用溶剤Ｌ
１は重力落下作用で小径管３の下端部３ａに至る（矢印
）。
【００１６】ここで、下端部３ａが斜めにカットされて
いるために、洗浄用溶剤Ｌ１は斜面に沿って流れ（矢印
）、結果的に最下部分３ｂを介して大径管２の外周面
に乗り移り、以降、洗浄用溶剤は大径管２の外周面を流
下しつつ、その下端周縁部２ａに残留している濃縮液或
いは析出物を溶解して洗い落とす（矢印）。
いるために、洗浄用溶剤Ｌ１は斜面に沿って流れ（矢印
）、結果的に最下部分３ｂを介して大径管２の外周面
に乗り移り、以降、洗浄用溶剤は大径管２の外周面を流
下しつつ、その下端周縁部２ａに残留している濃縮液或
いは析出物を溶解して洗い落とす（矢印）。
【００１７】図４（ｂ）はノズルが全体的に角度θだけ
垂線Ｌ２に対して傾いた時を示し、この場合でも洗浄用
溶剤Ｌ１は小径管３の下端部３ａの斜面に沿って矢印
の如く流下する。これは、小径管３の下端部３ａが斜め
にカットされて、丁度ペン先の様な形状を呈しているか
らである。
垂線Ｌ２に対して傾いた時を示し、この場合でも洗浄用
溶剤Ｌ１は小径管３の下端部３ａの斜面に沿って矢印
の如く流下する。これは、小径管３の下端部３ａが斜め
にカットされて、丁度ペン先の様な形状を呈しているか
らである。
【００１８】ところで、洗浄時に洗浄液たる溶剤を直接
スピンナー１０上に落とすことは好ましくないので、実
際上は図１の如く排出装置５を用いて洗浄を行う。即
ち、排出装置５はノズル１全体の形より十分大形の漏斗
状受部６とそれの底に設けられた孔７とを連通する排出
管８とからなり、この排出装置５は洗浄時にはノズル１
の真下に位置し、滴下時にはノズルの側方に移動するよ
うに構成されている。
スピンナー１０上に落とすことは好ましくないので、実
際上は図１の如く排出装置５を用いて洗浄を行う。即
ち、排出装置５はノズル１全体の形より十分大形の漏斗
状受部６とそれの底に設けられた孔７とを連通する排出
管８とからなり、この排出装置５は洗浄時にはノズル１
の真下に位置し、滴下時にはノズルの側方に移動するよ
うに構成されている。
【００１９】次に具体的な実験例を以下に示す。 実験例１ 大径管の直径が１．５ｍｍ、小径管の直径が０．３ｍｍ
で、大径管の下端部を小径管の下端部よりも５ｍｍ突出
した構造のノズルを用いて第１図に示すような装置を構
成した。そして上記ノズルの大径管に東京応化工業
（株）製のＯＣＤ（シリカフィルム塗布液：ＳｉＯ2換
算濃度５．９％）を塗布液として供給すると共に、小径
管にはエチルアルコールを供給し、上記大径管からウエ
ハー上にＯＣＤを１ｍｌ滴下した。その後は排出装置の
受部をノズル下方に位置せしめ、小径管からエチルアル
コールを３ｍｌ流してノズル下端部を洗浄した。
で、大径管の下端部を小径管の下端部よりも５ｍｍ突出
した構造のノズルを用いて第１図に示すような装置を構
成した。そして上記ノズルの大径管に東京応化工業
（株）製のＯＣＤ（シリカフィルム塗布液：ＳｉＯ2換
算濃度５．９％）を塗布液として供給すると共に、小径
管にはエチルアルコールを供給し、上記大径管からウエ
ハー上にＯＣＤを１ｍｌ滴下した。その後は排出装置の
受部をノズル下方に位置せしめ、小径管からエチルアル
コールを３ｍｌ流してノズル下端部を洗浄した。
【００２０】この結果、洗浄後３０分経過してもノズル
下端部には固形物の析出或いは滴下液の濃縮は認められ
なかった。更に同様の操作を多数回繰り返しても前記同
様の良好な結果が得られた。
下端部には固形物の析出或いは滴下液の濃縮は認められ
なかった。更に同様の操作を多数回繰り返しても前記同
様の良好な結果が得られた。
【００２１】実験例２ 以上の実験例と、従来ノズルを用いた場合の効果を比較
すべく、図５に示す従来のノズル（直径１．５ｍｍ）を
用いて前記と同様の塗布液を滴下した。その結果、滴下
後２分程度でノズル下端部に白色の溶質の析出が認めら
れた。
すべく、図５に示す従来のノズル（直径１．５ｍｍ）を
用いて前記と同様の塗布液を滴下した。その結果、滴下
後２分程度でノズル下端部に白色の溶質の析出が認めら
れた。
【００２２】なお、上記の説明及び実験例は本発明の単
なる実施の一例に過ぎず、排出装置と組み合わせて用い
るか否かは任意であり、例えば排出装置を用いない場合
には、スピンナーを備えた回転装置若しくはノズルを側
方に移動可能とし、洗浄時に洗浄液がスピンナー表面に
落下しないようにすれば良い。
なる実施の一例に過ぎず、排出装置と組み合わせて用い
るか否かは任意であり、例えば排出装置を用いない場合
には、スピンナーを備えた回転装置若しくはノズルを側
方に移動可能とし、洗浄時に洗浄液がスピンナー表面に
落下しないようにすれば良い。
【００２３】更に図示例においては半導体の拡散剤塗布
液を滴下する例について示したが、本発明はこれに限定
されないことは勿論であり、揮散しやすい溶剤を用いた
液滴下用ノズルとして広く適用できることを付言する。
液を滴下する例について示したが、本発明はこれに限定
されないことは勿論であり、揮散しやすい溶剤を用いた
液滴下用ノズルとして広く適用できることを付言する。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明で明らかな如く、本発明によ
れば塗布液等の溶液を滴下するノズルを、溶液を流下せ
しめる大径管と、この大径管の外周に洗浄用溶剤を供給
する小径管とによって構成し、小径管の下端を大径管の
下端よりも上位とし、小径管の下端部を斜めにカット
し、この下端部の最下部分を前記大径管に臨ませたの
で、ノズル下端部において溶液が濃縮したり、或いは溶
質が析出することが無く、従って塗布ムラ等を確実に防
止でき、製品歩溜まりの向上が図れる。
れば塗布液等の溶液を滴下するノズルを、溶液を流下せ
しめる大径管と、この大径管の外周に洗浄用溶剤を供給
する小径管とによって構成し、小径管の下端を大径管の
下端よりも上位とし、小径管の下端部を斜めにカット
し、この下端部の最下部分を前記大径管に臨ませたの
で、ノズル下端部において溶液が濃縮したり、或いは溶
質が析出することが無く、従って塗布ムラ等を確実に防
止でき、製品歩溜まりの向上が図れる。
【００２５】そして、本発明は小径管の下端部を斜めに
カットしているために、ノズルが少々傾いても洗浄用溶
剤を均等に流下することができる。
カットしているために、ノズルが少々傾いても洗浄用溶
剤を均等に流下することができる。
【００２６】また手作業による拭き取り等も不要となる
ため、塗布工程とこれに前後する工程とを連続して行う
ことができ完全自動化をも企図でき、更に簡単な構造で
且つ製作が容易な安価なノズルとすることができる等多
大の利点を発揮する。
ため、塗布工程とこれに前後する工程とを連続して行う
ことができ完全自動化をも企図でき、更に簡単な構造で
且つ製作が容易な安価なノズルとすることができる等多
大の利点を発揮する。
【図１】本発明に係るノズルを適用した塗布装置の縦断
側面図
側面図
【図２】図１の２ー２線断面図
【図３】本発明に係るノズルの要部拡大図
【図４】本発明に係るノズルの作用図
【図５】従来例を示す一部縦断側面図
１…ノズル、２…大径管、２ａ…大径管の下端部、３…
小径管、３ａ…小径管の下端部、３ｂ…小径管の最下部
分。
小径管、３ａ…小径管の下端部、３ｂ…小径管の最下部
分。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (1)
- 【請求項１】 溶液を流下させるための大径管の周囲に
洗浄用溶剤を流下させるための小径管を設け、この小径
管の下端部を上記大径管の下端部よりも上方に位置せし
め、前記小径管の下端部を斜めにカットし、この下端部
の最下部分を前記大径管に臨ませたことを特徴とする液
滴下用ノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3360602A JPH0596222A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 液滴下用ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3360602A JPH0596222A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 液滴下用ノズル |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57151351A Division JPS5939363A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 液滴下用ノズル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0596222A true JPH0596222A (ja) | 1993-04-20 |
| JPH0585224B2 JPH0585224B2 (ja) | 1993-12-06 |
Family
ID=18470118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3360602A Granted JPH0596222A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 液滴下用ノズル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0596222A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6076979A (en) * | 1997-07-25 | 2000-06-20 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of and apparatus for supplying developing solution onto substrate |
-
1991
- 1991-12-27 JP JP3360602A patent/JPH0596222A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6076979A (en) * | 1997-07-25 | 2000-06-20 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of and apparatus for supplying developing solution onto substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0585224B2 (ja) | 1993-12-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19940601 |