JPH06158286A - ポリマー担体材料上を薄い金属層で被覆する方法 - Google Patents
ポリマー担体材料上を薄い金属層で被覆する方法Info
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- JPH06158286A JPH06158286A JP19953893A JP19953893A JPH06158286A JP H06158286 A JPH06158286 A JP H06158286A JP 19953893 A JP19953893 A JP 19953893A JP 19953893 A JP19953893 A JP 19953893A JP H06158286 A JPH06158286 A JP H06158286A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
- C23C14/044—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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Abstract
(57)【要約】
【目的】蒸発させる材料の収率が、予め設定されて固定
された蒸発放射角度において最大限に高められることが
できるようになされ、ＰＶＤ法を用いて材料の傾斜した
凝結により、ポリマー担体上に薄い金属層を施すこと。 【構成】ポリマーの帯状担体材料（２）の上に１０００
ｎｍより薄い厚さで薄い金属層で被覆し、その担体材料
は真空室中で円筒状の担体保持体（１）に沿って動き、
その真空室は担体保持体の方向に金属蒸気を放出する蒸
発坩堝（４）、および蒸発坩堝と担体保持体の間に配置
されて担体材料に当たる蒸気放射の限界角度を限定する
二つの蒸気放射用ブラインド（３，３′）を有する方法
であって、予め設定された蒸着限定角度において、蒸着
ブラインドの設置と蒸発坩堝の位置により担体上に蒸着
される金属が適切になされることができる方法。
された蒸発放射角度において最大限に高められることが
できるようになされ、ＰＶＤ法を用いて材料の傾斜した
凝結により、ポリマー担体上に薄い金属層を施すこと。 【構成】ポリマーの帯状担体材料（２）の上に１０００
ｎｍより薄い厚さで薄い金属層で被覆し、その担体材料
は真空室中で円筒状の担体保持体（１）に沿って動き、
その真空室は担体保持体の方向に金属蒸気を放出する蒸
発坩堝（４）、および蒸発坩堝と担体保持体の間に配置
されて担体材料に当たる蒸気放射の限界角度を限定する
二つの蒸気放射用ブラインド（３，３′）を有する方法
であって、予め設定された蒸着限定角度において、蒸着
ブラインドの設置と蒸発坩堝の位置により担体上に蒸着
される金属が適切になされることができる方法。
Description
【０００１】
【技術分野】本願発明はポリマーの帯状担体材料の上に
１０００ｎｍより薄い厚さに薄い金属層で被覆する方法
に関するものであり、その担体材料は真空室中で円筒状
の担体保持体に沿って動き、真空室は担体保持体の方向
に金属蒸気を放出する蒸発坩堝および、蒸発坩堝と担体
保持体の間に配置される二つの蒸気放射用ブラインドを
有するものであって、担体材料に当たる蒸気放射の限界
角度を定義するものである。
１０００ｎｍより薄い厚さに薄い金属層で被覆する方法
に関するものであり、その担体材料は真空室中で円筒状
の担体保持体に沿って動き、真空室は担体保持体の方向
に金属蒸気を放出する蒸発坩堝および、蒸発坩堝と担体
保持体の間に配置される二つの蒸気放射用ブラインドを
有するものであって、担体材料に当たる蒸気放射の限界
角度を定義するものである。
【０００２】薄い金属層をポリマー担体上に施すことは
磁気記録担体の製造の範囲において特に興味をひく。こ
のことは一方では僅か２０から１０００ｎｍの薄い層厚
さ、それに関連して低い減磁のため、他方容積単位当た
り、より多数の分子磁石並びに高い磁化が得られるため
である。
磁気記録担体の製造の範囲において特に興味をひく。こ
のことは一方では僅か２０から１０００ｎｍの薄い層厚
さ、それに関連して低い減磁のため、他方容積単位当た
り、より多数の分子磁石並びに高い磁化が得られるため
である。
【０００３】
【従来技術】個別的な記録媒体においては、縦方向の記
録がテープの走行方向に沿って整列した磁性粒子による
のが通常であるのに対して、高密度に記憶させた磁気薄
層フィルムにおいては、磁気ヘッドの前で磁力線に従っ
て、コヒーレントな金属層中の分子磁石が傾斜した配置
をとることが好ましい。基質上で強磁性材料が斜めに配
置することにより、明らかに改善された記録特性が得ら
れることができ、例えば中でもＣｏ−Ｎｉ−Ｏ層に関し
ては米国特許第３３４２６３２号明細書および米国特許
第４３２３６２９号明細書に、またＣｏ−Ｃｒ層に関し
ては、Ｄｉｇ−ｅｓｔ Ｉｎｔｅｒｍａｇ １９９０，
ＦＡ−０８におけるＲ．Ｓｕｇｉｔａ他の論稿に記載さ
れている。施された金属層の性質を決定するのに影響を
与える、その時々に望ましい角度範囲は、磁性材料の蒸
発またはスパッタリングの際に、ブラインドを適合した
配置にすることにより調節される。けれども垂直な被覆
と比較すると、斜めの被覆では短所として部分的に材料
の効率が大幅に低下する（Ａ．Ｆｅｕｅｒｓｔｅｉｎ
他、ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇ．２０（１），５１
（１９８４））。従って電子線照射による蒸発の場合、
予定した基板の範囲外で凝縮板に衝突した材料蒸気の部
分は収集され、坩堝に戻されることは既に提案されてい
る。材料の効率を高める他の方法は、放射される蒸気を
イオン化し、電場を用いて基板フィルム上に施すことで
ある（ドイツ特許第２６２２５９７号明細書）。更に他
の方法は、加熱壁を有する炉により蒸気の噴射が基板上
に施される（ドイツ特許出願公開第３２０４３３７
号）。
録がテープの走行方向に沿って整列した磁性粒子による
のが通常であるのに対して、高密度に記憶させた磁気薄
層フィルムにおいては、磁気ヘッドの前で磁力線に従っ
て、コヒーレントな金属層中の分子磁石が傾斜した配置
をとることが好ましい。基質上で強磁性材料が斜めに配
置することにより、明らかに改善された記録特性が得ら
れることができ、例えば中でもＣｏ−Ｎｉ−Ｏ層に関し
ては米国特許第３３４２６３２号明細書および米国特許
第４３２３６２９号明細書に、またＣｏ−Ｃｒ層に関し
ては、Ｄｉｇ−ｅｓｔ Ｉｎｔｅｒｍａｇ １９９０，
ＦＡ−０８におけるＲ．Ｓｕｇｉｔａ他の論稿に記載さ
れている。施された金属層の性質を決定するのに影響を
与える、その時々に望ましい角度範囲は、磁性材料の蒸
発またはスパッタリングの際に、ブラインドを適合した
配置にすることにより調節される。けれども垂直な被覆
と比較すると、斜めの被覆では短所として部分的に材料
の効率が大幅に低下する（Ａ．Ｆｅｕｅｒｓｔｅｉｎ
他、ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇ．２０（１），５１
（１９８４））。従って電子線照射による蒸発の場合、
予定した基板の範囲外で凝縮板に衝突した材料蒸気の部
分は収集され、坩堝に戻されることは既に提案されてい
る。材料の効率を高める他の方法は、放射される蒸気を
イオン化し、電場を用いて基板フィルム上に施すことで
ある（ドイツ特許第２６２２５９７号明細書）。更に他
の方法は、加熱壁を有する炉により蒸気の噴射が基板上
に施される（ドイツ特許出願公開第３２０４３３７
号）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本願発明の課題は、蒸
発させる材料の収率が予め設定されて固定された蒸発放
射角度において最大限に高められることができるように
限定し、ＰＶＤ法を用いて材料の傾斜した凝結によりポ
リマー担体上に薄い金属層を施す方法に関する。
発させる材料の収率が予め設定されて固定された蒸発放
射角度において最大限に高められることができるように
限定し、ＰＶＤ法を用いて材料の傾斜した凝結によりポ
リマー担体上に薄い金属層を施す方法に関する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本願発明は、ポリマーの
帯状担体材料の上に１０００ｎｍより薄い厚さに薄い金
属層を被覆し、その担体材料は真空室中で円筒状の担体
保持体に沿って動き、その真空室は担体保持体の方向に
金属蒸気を放出する蒸発坩堝、および蒸発坩堝と担体保
持体の間に配置されて担体材料に当たる蒸気放射の限界
角度を限定する二つの蒸気放射用ブラインドを有する方
法であって、ブラインドの縁辺における担体保持体への
法線と、坩堝中心と上記ブラインドの縁辺との結合線と
の間の角度によって与えられる予め設定された蒸発放射
限定角度α1 およびα2 において、蒸発坩堝の中心が固
定されたＹT −位置における、座標系の点Ｐ（ＸT ／Ｙ
T）に配置され、更に蒸発放射ブラインドの位置は角度
φ1 およびφ2 によって限定された担体材料の範囲を蒸
気放射から解除し、そこではゼロ点が担体保持体の回転
軸にある座標系の正のＸ軸からその角度が始まって反時
計方向に算定され、角度α1 およびα2 および坩堝の位
置によって決定され、その結果式Ｉ、
帯状担体材料の上に１０００ｎｍより薄い厚さに薄い金
属層を被覆し、その担体材料は真空室中で円筒状の担体
保持体に沿って動き、その真空室は担体保持体の方向に
金属蒸気を放出する蒸発坩堝、および蒸発坩堝と担体保
持体の間に配置されて担体材料に当たる蒸気放射の限界
角度を限定する二つの蒸気放射用ブラインドを有する方
法であって、ブラインドの縁辺における担体保持体への
法線と、坩堝中心と上記ブラインドの縁辺との結合線と
の間の角度によって与えられる予め設定された蒸発放射
限定角度α1 およびα2 において、蒸発坩堝の中心が固
定されたＹT −位置における、座標系の点Ｐ（ＸT ／Ｙ
T）に配置され、更に蒸発放射ブラインドの位置は角度
φ1 およびφ2 によって限定された担体材料の範囲を蒸
気放射から解除し、そこではゼロ点が担体保持体の回転
軸にある座標系の正のＸ軸からその角度が始まって反時
計方向に算定され、角度α1 およびα2 および坩堝の位
置によって決定され、その結果式Ｉ、
【０００６】
【数２】 ［式中、Ａ値はＸt ＝ＸT で最大になり、Ａは蒸発した
全量に対比した担体材料上に衝突した金属蒸気の量であ
り、β1 およびβ2 は坩堝の中心の法線と、坩堝の中心
とそれぞれのブラインドの縁辺を結んだ線との間の角度
であり、更にｎは２から５の間の数を示す］に従って定
義される方法を見出した。
全量に対比した担体材料上に衝突した金属蒸気の量であ
り、β1 およびβ2 は坩堝の中心の法線と、坩堝の中心
とそれぞれのブラインドの縁辺を結んだ線との間の角度
であり、更にｎは２から５の間の数を示す］に従って定
義される方法を見出した。
【０００７】本願発明の詳細、特徴および長所は図およ
び実施例に基づいて、例示的に説明される。そこでは、
図１に担体材料への傾斜した蒸着の幾何学的説明、図２
および３に蒸発坩堝位置および予め設定された蒸着限界
角度におけるブラインド位置の関数としての実施例によ
る材料収率が示される。
び実施例に基づいて、例示的に説明される。そこでは、
図１に担体材料への傾斜した蒸着の幾何学的説明、図２
および３に蒸発坩堝位置および予め設定された蒸着限界
角度におけるブラインド位置の関数としての実施例によ
る材料収率が示される。
【０００８】本願発明の方法を明確にするために、図１
に模式的に示された蒸着装置が掲載される。図中、半径
Ｒの円筒状の担体支持体１があり、その回転軸がｘ／ｙ
−座標軸交点のゼロ点であり、その担体支持体の上に担
体材料２が送られる。蒸着ブラインド３および３′によ
り、蒸発坩堝４から放射される蒸気放射が担体材料上の
凝結範囲５になるようにマスキングされる。そこでは担
体材料２の蒸着されない角度範囲は角度φ1 およびφ2
により、蒸着される角度範囲は角度α1 およびα2 によ
り、更に蒸発坩堝の位置は座標ｘt およびｙt により定
義される。坩堝の位置の決定では、一般にｙt 位置が固
定される（ｙt ＝ｙT ）。線状の坩堝の場合は蒸発角度
β1 およびβ2 （坩堝中央の法線６に対する）による幾
何学的配置から次の関係が生じる：
に模式的に示された蒸着装置が掲載される。図中、半径
Ｒの円筒状の担体支持体１があり、その回転軸がｘ／ｙ
−座標軸交点のゼロ点であり、その担体支持体の上に担
体材料２が送られる。蒸着ブラインド３および３′によ
り、蒸発坩堝４から放射される蒸気放射が担体材料上の
凝結範囲５になるようにマスキングされる。そこでは担
体材料２の蒸着されない角度範囲は角度φ1 およびφ2
により、蒸着される角度範囲は角度α1 およびα2 によ
り、更に蒸発坩堝の位置は座標ｘt およびｙt により定
義される。坩堝の位置の決定では、一般にｙt 位置が固
定される（ｙt ＝ｙT ）。線状の坩堝の場合は蒸発角度
β1 およびβ2 （坩堝中央の法線６に対する）による幾
何学的配置から次の関係が生じる：
【０００９】
【数３】 ここで角度φ1 およびφ2 は、予め設定された蒸着限界
角α1 およびα2 並びに坩堝の固定位置ｙT において個
々に選定された位置ｘt により、絶対式の解として得ら
れる。
角α1 およびα2 並びに坩堝の固定位置ｙT において個
々に選定された位置ｘt により、絶対式の解として得ら
れる。
【００１０】
【数４】 および
【００１１】
【数５】 これらの式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）および（Ｉ
Ｖ）の助けにより、角度β1 およびβ2 によって定義さ
れた担体材料に留まる相対的な材料収率Ａに関する次の
ような数式が得られ、
Ｖ）の助けにより、角度β1 およびβ2 によって定義さ
れた担体材料に留まる相対的な材料収率Ａに関する次の
ような数式が得られ、
【００１２】
【数６】 ここでｎは２から５の数である。
【００１３】予め設定された値Ｒ、α1 、α2 、ｙT お
よびｎから、およびｘt に依存して、φ1 およびφ2
は、式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）から計算されることが
でき、β1 およびβ2 は上記のことおよび式（Ｉ）およ
び（ＩＩ）から計算されることができ、更に最終的に、
Ａは上記のことおよび積分を用いた式（Ｖ）から計算さ
れることができる。対応するプログラムは図４に与えら
れる。蒸発坩堝の中心の位置ｘT およびブラインド位置
φ1 （ｘT ）並びに材料収率が最高となるφ2 （ｘT ）
が、Ａ（ｘt ）、φ1 （ｘt ）およびφ2 （ｘt ）の曲
線から決定されることができる。
よびｎから、およびｘt に依存して、φ1 およびφ2
は、式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）から計算されることが
でき、β1 およびβ2 は上記のことおよび式（Ｉ）およ
び（ＩＩ）から計算されることができ、更に最終的に、
Ａは上記のことおよび積分を用いた式（Ｖ）から計算さ
れることができる。対応するプログラムは図４に与えら
れる。蒸発坩堝の中心の位置ｘT およびブラインド位置
φ1 （ｘT ）並びに材料収率が最高となるφ2 （ｘT ）
が、Ａ（ｘt ）、φ1 （ｘt ）およびφ2 （ｘt ）の曲
線から決定されることができる。
【００１４】次に示す二つの実施例は新規のプロセスを
示し、更に予め設定されたＲ、ｙt、α1 、α2 、ｙT
およびｎが実施例の方法による坩堝位置および被覆ブラ
インドの適当な位置を示すことを意図している。
示し、更に予め設定されたＲ、ｙt、α1 、α2 、ｙT
およびｎが実施例の方法による坩堝位置および被覆ブラ
インドの適当な位置を示すことを意図している。
【００１５】
【実施例】実施例１ 担体支持体の半径がＲである図１による被覆装置におい
て、坩堝のｙT 位置が−１．５Ｒで定義され、蒸着限定
角度α1 およびα2 は９０°および４０°に、指数ｎは
３に限定される。図４に示されるプログラムを使用し
て、Ａ（ｘt ）（図２ａ）および、φ1 （ｘt ）および
φ2 （ｘt ）（図２ｂ）が計算された。図から適当な材
料収率が得られる坩堝位置ｘT および関連するブライン
ド位置が決定された： ｘT ＝０．６４Ｒ、φ1 （ｘ
T ）＝１９４°、φ2 （ｘT ）＝２３０°。実施例２ パラメーターは、角度α1 が７０°および角度α2 が−
２０°である点で実施例１のパラメーターと相違してい
る。対応する計算結果は図３ａおよび図３ｂに示す。図
は適当な材料収率が得られる配置に対応する次の値を示
す：ｘT ＝−０．２７Ｒ、φ1 （ｘT ）＝２２７°、φ
2 （ｘT ）＝２６７°。
て、坩堝のｙT 位置が−１．５Ｒで定義され、蒸着限定
角度α1 およびα2 は９０°および４０°に、指数ｎは
３に限定される。図４に示されるプログラムを使用し
て、Ａ（ｘt ）（図２ａ）および、φ1 （ｘt ）および
φ2 （ｘt ）（図２ｂ）が計算された。図から適当な材
料収率が得られる坩堝位置ｘT および関連するブライン
ド位置が決定された： ｘT ＝０．６４Ｒ、φ1 （ｘ
T ）＝１９４°、φ2 （ｘT ）＝２３０°。実施例２ パラメーターは、角度α1 が７０°および角度α2 が−
２０°である点で実施例１のパラメーターと相違してい
る。対応する計算結果は図３ａおよび図３ｂに示す。図
は適当な材料収率が得られる配置に対応する次の値を示
す：ｘT ＝−０．２７Ｒ、φ1 （ｘT ）＝２２７°、φ
2 （ｘT ）＝２６７°。
【図１】本願発明による担体材料への傾斜した蒸着を与
える、模式的な蒸着装置を示す説明図である。
える、模式的な蒸着装置を示す説明図である。
【図２】本願発明による蒸発坩堝位置および予め設定さ
れた蒸着限界角度におけるブラインド位置の関数として
の実施例１による材料収率を例示する図であり、（Ａ）
は設定された蒸発坩堝位置と材料収率との関係を示す図
であり、（Ｂ）は設定された蒸発坩堝位置とブラインド
位置との関係を示す図である。
れた蒸着限界角度におけるブラインド位置の関数として
の実施例１による材料収率を例示する図であり、（Ａ）
は設定された蒸発坩堝位置と材料収率との関係を示す図
であり、（Ｂ）は設定された蒸発坩堝位置とブラインド
位置との関係を示す図である。
【図３】本願発明による蒸発坩堝位置および予め設定さ
れた蒸着限界角度におけるブラインド位置の関数として
の実施例２による材料収率を示す他の例示図であり、
（Ａ）は設定された蒸発坩堝位置と材料収率との関係を
示す図であり、（Ｂ）は設定された蒸発坩堝位置とブラ
インド位置との関係を示す図である。
れた蒸着限界角度におけるブラインド位置の関数として
の実施例２による材料収率を示す他の例示図であり、
（Ａ）は設定された蒸発坩堝位置と材料収率との関係を
示す図であり、（Ｂ）は設定された蒸発坩堝位置とブラ
インド位置との関係を示す図である。
【図４】本願発明による材料収率Ａを積分を用いた式
（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
【図５】図４に続く、本願発明による材料収率Ａを積分
を用いた式（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
を用いた式（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
【図６】図５に続く、本願発明による材料収率Ａを積分
を用いた式（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
を用いた式（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
【図７】図６に続く、本願発明による材料収率Ａを積分
を用いた式（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
を用いた式（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
【図８】図７に続く、本願発明による材料収率Ａを積分
を用いた式（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
を用いた式（Ｖ）から計算するプログラムを示す。
１ 担体支持体 ２ 担体材料 ３，３′蒸着ブラインド ４ 蒸発坩堝 ５ 放射蒸気凝結範囲 ６ 蒸発坩堝中心の法線 α1 ，α2 ブラインド縁辺における担体支持体の法線
と、ブラインド縁辺と蒸発坩堝中心を結ぶ線との間の角
度 β1 ，β2 蒸発坩堝中心の法線と、ブラインド縁辺と蒸
発坩堝中心を結ぶ線との間の角度 φ1 ，φ2 座標系の正のＸ軸からブラインド縁辺におけ
る担体支持体の法線への反時計方向の角度
と、ブラインド縁辺と蒸発坩堝中心を結ぶ線との間の角
度 β1 ，β2 蒸発坩堝中心の法線と、ブラインド縁辺と蒸
発坩堝中心を結ぶ線との間の角度 φ1 ，φ2 座標系の正のＸ軸からブラインド縁辺におけ
る担体支持体の法線への反時計方向の角度
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス−ペーター、シルトベルク ドイツ連邦共和国、6800、マンハイム、 １、コリニシュトラーセ、５ (72)発明者 ハルトムート、ヒブスト ドイツ連邦共和国、6905、シュリースハイ ム、ブラニヒシュトラーセ、23
Claims (1)
- 【請求項１】ポリマーの帯状担体材料（２）の上に１０
００ｎｍより薄い厚さで薄い金属層で被覆し、その担体
材料（２）は真空室中で円筒状の担体保持体（１）に沿
って動き、その真空室は担体保持体（１）の方向に金属
蒸気を放出する蒸発坩堝（４）、および蒸発坩堝（４）
と担体保持体（１）の間に配置されて担体材料に当たる
蒸気放射の限界角度を限定する二つの蒸気放射用ブライ
ンド（３，３′）を有する方法であって、ブラインド
（３，３′）の縁辺における担体保持体（１）への法線
と、坩堝中心と上記ブラインドの縁辺との結合線との間
の角度によって与えられる予め設定された蒸発放射限定
角度α1 およびα2 において、蒸発坩堝の中心が固定さ
れたＹT −位置における、座標系の点Ｐ（ＸT ／ＹT ）
に配置され、更に蒸発放射ブラインドの位置が角度φ1
およびφ2 によって限定された担体材料の範囲を蒸気放
射から解除し、そこではゼロ点が担体保持体の回転軸に
ある座標系の正のＸ軸からその角度が始まって反時計方
向に算定され、角度α1 およびα2 および坩堝の位置に
よって決定され、その結果式Ｉ、 【数１】 ［式中、Ａ値はＸt ＝ＸT で最大になり、Ａは蒸発した
全量に対比した担体材料上に衝突した金属蒸気の相対的
な量であり、β1 およびβ2 は坩堝の中心の法線（６）
と、坩堝の中心とそれぞれのブラインドの縁辺を結んだ
線との間の角度であり、更に指数ｎは使用される蒸発源
の蒸着特性であり、２から５の間の数を示す］に従うこ
とを特徴とするポリマー担体材料上を薄い金属層で被覆
する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19924227588 DE4227588C2 (de) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Metallschicht auf ein polymeres Trägermaterial |
| DE4227588.1 | 1992-08-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06158286A true JPH06158286A (ja) | 1994-06-07 |
Family
ID=6465976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19953893A Pending JPH06158286A (ja) | 1992-08-20 | 1993-08-11 | ポリマー担体材料上を薄い金属層で被覆する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06158286A (ja) |
| DE (1) | DE4227588C2 (ja) |
| GB (1) | GB2270325B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8427033B2 (en) | 2008-03-28 | 2013-04-23 | Seb S.A. | Domestic appliance comprising a piezoelectric pump provided with a simplified power supply circuit |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4221620C2 (de) * | 1992-07-01 | 2001-05-23 | Emtec Magnetics Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Metallschicht auf ein polymeres Trägermaterial |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS51149008A (en) * | 1975-05-23 | 1976-12-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium manufacturing method |
| GB1596385A (en) * | 1976-12-29 | 1981-08-26 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Methods and apparatus for manufacturing magnetic recording media |
| US4119135A (en) * | 1977-05-19 | 1978-10-10 | Jury Fedorovich Shevakin | Method of producing foil in coils |
| JPS6033289B2 (ja) * | 1979-07-18 | 1985-08-02 | 松下電器産業株式会社 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| DE3172124D1 (en) * | 1980-06-10 | 1985-10-10 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | A method of vacuum depositing a layer on a plastics film substrate |
| DE3204337A1 (de) * | 1981-02-10 | 1982-11-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren und vorrichtung zum bilden eines duennen films |
| JPS57179952A (en) * | 1981-04-24 | 1982-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and apparatus for magnetic recording medium |
| JPS5934232B2 (ja) * | 1981-07-31 | 1984-08-21 | アルバツク成膜株式会社 | 反応蒸着によつて不均質光学的薄膜を形成する方法 |
| JPH04276061A (ja) * | 1991-03-05 | 1992-10-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸着装置 |
| DE4221620C2 (de) * | 1992-07-01 | 2001-05-23 | Emtec Magnetics Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Metallschicht auf ein polymeres Trägermaterial |
-
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8427033B2 (en) | 2008-03-28 | 2013-04-23 | Seb S.A. | Domestic appliance comprising a piezoelectric pump provided with a simplified power supply circuit |
Also Published As
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| GB2270325B (en) | 1995-08-09 |
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