JPH06199787A - ホトクロミック化合物、それらの製造方法及びそれらの用途 - Google Patents
ホトクロミック化合物、それらの製造方法及びそれらの用途Info
- Publication number
- JPH06199787A JPH06199787A JP5253088A JP25308893A JPH06199787A JP H06199787 A JPH06199787 A JP H06199787A JP 5253088 A JP5253088 A JP 5253088A JP 25308893 A JP25308893 A JP 25308893A JP H06199787 A JPH06199787 A JP H06199787A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- alkyl
- formula
- halogen
- phenyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 82
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 22
- -1 alkali metal cation Chemical class 0.000 claims abstract description 52
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 50
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 16
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 15
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 9
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 4
- 125000006177 alkyl benzyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 3
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 claims description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 claims description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 37
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 16
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 16
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 16
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 13
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 13
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 12
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 4
- WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 6-phosphonohexylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCP(O)(O)=O WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 3
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMAXTTGGLSDVQM-UHFFFAOYSA-N 10-chloro-5-phenylbenzo[b]carbazole-6,11-dione Chemical compound O=C1C=2C(Cl)=CC=CC=2C(=O)C2=C1C1=CC=CC=C1N2C1=CC=CC=C1 CMAXTTGGLSDVQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLPURCWBDVAJCD-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5-tetrachloro-6-(1-methylpyrrole-2-carbonyl)benzoic acid Chemical compound CN1C=CC=C1C(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O QLPURCWBDVAJCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHIAXADWHGGSP-UHFFFAOYSA-N 2-(1-benzothiophene-2-carbonyl)-3,6-dichlorobenzoic acid Chemical compound S1C(=CC2=C1C=CC=C2)C(=O)C2=C(C(=O)O)C(=CC=C2Cl)Cl AUHIAXADWHGGSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUCHWMCJCBYDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-benzylpyrrol-2-yl)methyl]-6-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1CC1=CC=CN1CC1=CC=CC=C1 XUCHWMCJCBYDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVDFUBWFAKCXKV-UHFFFAOYSA-N 3-(1-benzylpyrrol-2-yl)-7-chloro-3h-2-benzofuran-1-one Chemical compound O1C(=O)C=2C(Cl)=CC=CC=2C1C1=CC=CN1CC1=CC=CC=C1 AVDFUBWFAKCXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical class [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical class [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical class [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical class C(CCCC)* 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LZPBKINTWROMEA-UHFFFAOYSA-N tetracene-5,12-dione Chemical class C1=CC=C2C=C3C(=O)C4=CC=CC=C4C(=O)C3=CC2=C1 LZPBKINTWROMEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYTFRTGALHHWRP-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-5-chlorobenzo[f]indole-4,9-dione Chemical compound O=C1C=2C(Cl)=CC=CC=2C(=O)C2=C1C=CN2CC1=CC=CC=C1 VYTFRTGALHHWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXCITQLDOUGVRZ-UHFFFAOYSA-N 1-benzylindole-3-carbaldehyde Chemical compound C12=CC=CC=C2C(C=O)=CN1CC1=CC=CC=C1 OXCITQLDOUGVRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- LXEQKKWJDGVPRW-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CN1C1=CC=CC=C1 LXEQKKWJDGVPRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWCITCQRUBWCJA-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5-nitronaphthalene-1,4-dione Chemical compound O=C1C(Cl)=C(Cl)C(=O)C2=C1C=CC=C2[N+](=O)[O-] AWCITCQRUBWCJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFRDXVJWXWOTEW-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)CO SFRDXVJWXWOTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 2-[(1s)-1-[4-amino-3-(3-fluoro-4-propan-2-yloxyphenyl)pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]ethyl]-6-fluoro-3-(3-fluorophenyl)chromen-4-one Chemical compound C1=C(F)C(OC(C)C)=CC=C1C(C1=C(N)N=CN=C11)=NN1[C@@H](C)C1=C(C=2C=C(F)C=CC=2)C(=O)C2=CC(F)=CC=C2O1 IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 0.000 description 1
- TUCRZHGAIRVWTI-UHFFFAOYSA-N 2-bromothiophene Chemical compound BrC1=CC=CS1 TUCRZHGAIRVWTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZJHBUKIOBJCAW-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n,n-diethylbenzamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C1=CC=CC=C1Cl MZJHBUKIOBJCAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- ZWTKSSXSNVYXII-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-n,n-diethylbenzamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 ZWTKSSXSNVYXII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAIPRQZXSYSCRD-UHFFFAOYSA-N 4,5-dichloro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound ClC1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl GAIPRQZXSYSCRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEGLMCPFDADCAQ-UHFFFAOYSA-N 4,7-dichloro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C2=C1C(=O)OC2=O HEGLMCPFDADCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYGMXWKRRNOTLT-UHFFFAOYSA-N 5,10-dihydroxynaphtho[2,3-f][1]benzothiole-4,11-dione Chemical compound OC1=C2C(C3=C(SC=C3)C(C2=C(C2=CC=CC=C12)O)=O)=O XYGMXWKRRNOTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALAQDKCTBKVLTL-UHFFFAOYSA-N 5,6,7,8-tetrachloro-1-methylbenzo[f]indole-4,9-dione Chemical compound O=C1C2=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)C2=C1N(C)C=C2 ALAQDKCTBKVLTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFHYHFGKCZDVPJ-UHFFFAOYSA-N 5,8-dichlorobenzo[f][1]benzothiole-4,9-dione Chemical compound O=C1C=2C(Cl)=CC=C(Cl)C=2C(=O)C2=C1C=CS2 RFHYHFGKCZDVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWOBGWCNFSPYKI-UHFFFAOYSA-N 5-benzyl-10-chlorobenzo[b]carbazole-6,11-dione Chemical compound O=C1C=2C(Cl)=CC=CC=2C(=O)C2=C1C1=CC=CC=C1N2CC1=CC=CC=C1 TWOBGWCNFSPYKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AANIVQSFRFQHTG-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1-phenylbenzo[f]indole-4,9-dione Chemical compound O=C1C=2C(Cl)=CC=CC=2C(=O)C2=C1C=CN2C1=CC=CC=C1 AANIVQSFRFQHTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSBOSAGJYNRBJN-UHFFFAOYSA-N 5-nitronaphthalene-1,4-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)C2=C1C=CC=C2[N+](=O)[O-] VSBOSAGJYNRBJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMHBGNNZCINOLG-UHFFFAOYSA-N 7,10-dichloronaphtho[3,2-b][1]benzothiole-6,11-dione Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C=3C(Cl)=CC=C(C=3C3=O)Cl)=C3SC2=C1 PMHBGNNZCINOLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKWYGHSFYXFSSS-UHFFFAOYSA-N 7-chloro-3-(1-phenylpyrrol-2-yl)-3h-2-benzofuran-1-one Chemical compound O1C(=O)C=2C(Cl)=CC=CC=2C1C1=CC=CN1C1=CC=CC=C1 VKWYGHSFYXFSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACTJJIKMSGWIHS-UHFFFAOYSA-N 7-oxo-10,12-dihydrobenzo[a]thioxanthen-9-one Chemical group C1=CC=C2C(CC3=CCC(C=C3S3=O)=O)=C3C=CC2=C1 ACTJJIKMSGWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Chemical class CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006898 Intramolecular Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric Acid Chemical compound [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N benzocaine Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJRCIQAMTAINCB-UHFFFAOYSA-N benzoylacetonitrile Chemical compound N#CCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZJRCIQAMTAINCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 229920001870 copolymer plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000001640 fractional crystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical compound CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- ZNMATIXSWXFBPZ-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1.C=CC(=O)OCC1CO1 ZNMATIXSWXFBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N palladium(II) acetate Substances [Pd].CC(O)=O.CC(O)=O LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004151 quinonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000011896 sensitive detection Methods 0.000 description 1
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AIWZOHBYSFSQGV-LNKPDPKZSA-M sodium;(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Na+].C\C([O-])=C\C(C)=O AIWZOHBYSFSQGV-LNKPDPKZSA-M 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006488 t-butyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O tributylazanium Chemical compound CCCC[NH+](CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/58—[b]- or [c]-condensed
- C07D209/60—Naphtho [b] pyrroles; Hydrogenated naphtho [b] pyrroles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/92—Naphthofurans; Hydrogenated naphthofurans
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D333/74—Naphthothiophenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B5/00—Dyes with an anthracene nucleus condensed with one or more heterocyclic rings with or without carbocyclic rings
- C09B5/24—Dyes with an anthracene nucleus condensed with one or more heterocyclic rings with or without carbocyclic rings the heterocyclic rings being only condensed with an anthraquinone nucleus in 1-2 or 2-3 position
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K9/00—Tenebrescent materials, i.e. materials for which the range of wavelengths for energy absorption is changed as a result of excitation by some form of energy
- C09K9/02—Organic tenebrescent materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 式(I)又は(II):
【化16】
(式中、Xは−O−、−S−又は−NR8 −;R1 及び
R2 は、C1 −C4 アルキル、フェニルなど、又は一緒
になって、−CH=CR12−CR13=CH−;R3 は−
OR9 ;R4 及びR7 はハロゲン、−OR9 など;R5
及びR6 は、互いに独立に、R1 及びR2 と同義、又は
一緒になって、1,2−ベンゾブタ−1,3−ジエン−
1,4−ジイル;R8 は、C1 −C18アルキルなど;R
9 は、C6−C14アリール;そしてR12及びR13は、独
立に、R1 及びR2 と同義)で示される化合物、又は式
(I)の化合物及び式(II)の化合物の混合物、それら
の製造方法及びそれらの用途。 【効果】 上記化合物を、300〜450nmの波長を有
する光で照射したときは、赤、菫色又は青への顕著な可
逆的色変化が認められ、循環的な書き込み及び消去が可
能な情報の光学的記憶層としてに用いることができる。
R2 は、C1 −C4 アルキル、フェニルなど、又は一緒
になって、−CH=CR12−CR13=CH−;R3 は−
OR9 ;R4 及びR7 はハロゲン、−OR9 など;R5
及びR6 は、互いに独立に、R1 及びR2 と同義、又は
一緒になって、1,2−ベンゾブタ−1,3−ジエン−
1,4−ジイル;R8 は、C1 −C18アルキルなど;R
9 は、C6−C14アリール;そしてR12及びR13は、独
立に、R1 及びR2 と同義)で示される化合物、又は式
(I)の化合物及び式(II)の化合物の混合物、それら
の製造方法及びそれらの用途。 【効果】 上記化合物を、300〜450nmの波長を有
する光で照射したときは、赤、菫色又は青への顕著な可
逆的色変化が認められ、循環的な書き込み及び消去が可
能な情報の光学的記憶層としてに用いることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フラン、チオフェン又
はピロール環を有する少なくとも三環式である複素環芳
香族パラジオン類、それらに対応するアナキノン類、そ
れらの製造方法、並びに対照、吸光及び情報記録のため
のホトクロミック系としてのそれらの用途に関する。
はピロール環を有する少なくとも三環式である複素環芳
香族パラジオン類、それらに対応するアナキノン類、そ
れらの製造方法、並びに対照、吸光及び情報記録のため
のホトクロミック系としてのそれらの用途に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ヨーロ
ッパ公開特許第0,438,376 号公報には、そのホトクロミ
ズム、すなわち黄から赤への色変化が、6−位及び11
−位の2個のアリールオキシ基に起因するホトクロミッ
クな5,12−ナフタセンジオン類が記載されている。
ッパ公開特許第0,438,376 号公報には、そのホトクロミ
ズム、すなわち黄から赤への色変化が、6−位及び11
−位の2個のアリールオキシ基に起因するホトクロミッ
クな5,12−ナフタセンジオン類が記載されている。
【0003】ヨーロッパ公開特許第0,489,689 号公報に
は、2−、3−、8−及び/又は9−位に更に少なくと
も1個のアリールオキシ基又はハロゲン原子を追加的に
含む、類似のホトクロミックな5,12−ナフタセンジ
オン類が記載されている。
は、2−、3−、8−及び/又は9−位に更に少なくと
も1個のアリールオキシ基又はハロゲン原子を追加的に
含む、類似のホトクロミックな5,12−ナフタセンジ
オン類が記載されている。
【0004】ヨーロッパ公開特許第0,494,689 号公報に
は、11−位、及び可能性としては6−位がアリールオ
キシ基で置換されたホトクロミックなベンゾチオキサン
トンオキシド類が記載されている。
は、11−位、及び可能性としては6−位がアリールオ
キシ基で置換されたホトクロミックなベンゾチオキサン
トンオキシド類が記載されている。
【0005】意外にも、少なくとも三環式である芳香族
化合物は、キノン環と縮合したフラン、チオフェン若し
くはピロール環、及びこのキノン環に縮合したベンゼン
環の少なくとも一つのペリ位に結合したアリールオキシ
基を有し、又はキノン/ペリ−ジアリールオキシベンゼ
ン/フラン、チオフェン若しくはピロールの順に縮合環
を有するならば、同様にホトクロミックであり、無色/
黄から赤色、菫色又は青色への明確な色変化を有するこ
とが発見された。
化合物は、キノン環と縮合したフラン、チオフェン若し
くはピロール環、及びこのキノン環に縮合したベンゼン
環の少なくとも一つのペリ位に結合したアリールオキシ
基を有し、又はキノン/ペリ−ジアリールオキシベンゼ
ン/フラン、チオフェン若しくはピロールの順に縮合環
を有するならば、同様にホトクロミックであり、無色/
黄から赤色、菫色又は青色への明確な色変化を有するこ
とが発見された。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、式(I)及び
(II):
(II):
【0007】
【化5】
【0008】(式中、Xは−O−、−S−又は−NR8
−であり;R1 及びR2 は、互いに独立に、H、C1 −
C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、フェニル、ベン
ジル、−OR9 、−CN、−CO2 R10、−CO−R11
若しくはハロゲンであるか、又はR1 とR2 は、一緒に
なって、−CH=CR12−CR13=CH−であり;R3
は−OR9 基;R4 は、H、ハロゲン又は−OR9 基で
あり;R5 及びR6 は、互いに独立に、R1 及びR2 と
同義であるか、又はR5 とR6 は、一緒になって、1,
2−ベンゾブタ−1,3−ジエン−1,4−ジイルであ
り;R7 はH、ハロゲン又は−OR9 基であり;R8
は、H、直鎖若しくは分岐鎖のC1 −C18アルキル、或
はそれぞれ非置換又はC1 −C4 アルキル若しくはC1
−C4 アルコキシで置換された、フェニル若しくはベン
ジルであり;R9 は、非置換又はC1−C12アルキル、
C1 −C12アルコキシ、C1 −C12アルキルチオ、C1
−C12アルキルスルフィニル、C1 −C12アルキルスル
ホニル、フェニル、ベンジル、−CN、−CF3 、ハロ
ゲン、−CO−R11若しくは−CO2 R10で置換された
C6 −C14アリールであり;R10は、H、C1 −C18ア
ルキル、シクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、
C1 −C12アルキルフェニル、ベンジル又はC1−C12
アルキルベンジルであり;R11は、H、C1 −C4 アル
キル又はフェニルであり;そしてR12及びR13は、独立
に、R1 及びR2 と同義である)で示される化合物、又
は式(I)の化合物及び式(II)の化合物の混合物に関
する。
−であり;R1 及びR2 は、互いに独立に、H、C1 −
C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、フェニル、ベン
ジル、−OR9 、−CN、−CO2 R10、−CO−R11
若しくはハロゲンであるか、又はR1 とR2 は、一緒に
なって、−CH=CR12−CR13=CH−であり;R3
は−OR9 基;R4 は、H、ハロゲン又は−OR9 基で
あり;R5 及びR6 は、互いに独立に、R1 及びR2 と
同義であるか、又はR5 とR6 は、一緒になって、1,
2−ベンゾブタ−1,3−ジエン−1,4−ジイルであ
り;R7 はH、ハロゲン又は−OR9 基であり;R8
は、H、直鎖若しくは分岐鎖のC1 −C18アルキル、或
はそれぞれ非置換又はC1 −C4 アルキル若しくはC1
−C4 アルコキシで置換された、フェニル若しくはベン
ジルであり;R9 は、非置換又はC1−C12アルキル、
C1 −C12アルコキシ、C1 −C12アルキルチオ、C1
−C12アルキルスルフィニル、C1 −C12アルキルスル
ホニル、フェニル、ベンジル、−CN、−CF3 、ハロ
ゲン、−CO−R11若しくは−CO2 R10で置換された
C6 −C14アリールであり;R10は、H、C1 −C18ア
ルキル、シクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、
C1 −C12アルキルフェニル、ベンジル又はC1−C12
アルキルベンジルであり;R11は、H、C1 −C4 アル
キル又はフェニルであり;そしてR12及びR13は、独立
に、R1 及びR2 と同義である)で示される化合物、又
は式(I)の化合物及び式(II)の化合物の混合物に関
する。
【0009】アルキル又はアルコキシであるR1 及びR
2 は、メチル、エチル、n−若しくはi−プロピル、n
−、i−若しくはt−ブチル、メトキシ、エトキシ、n
−若しくはi−プロポキシ、又はn−、i−若しくはt
−ブトキシであることができる。好適であるのはメチ
ル、エチル、メトキシ及びエトキシである。
2 は、メチル、エチル、n−若しくはi−プロピル、n
−、i−若しくはt−ブチル、メトキシ、エトキシ、n
−若しくはi−プロポキシ、又はn−、i−若しくはt
−ブトキシであることができる。好適であるのはメチ
ル、エチル、メトキシ及びエトキシである。
【0010】ハロゲンであるR1 及びR2 は、好ましく
はF、Cl又はBr、特に好ましくはClである。
はF、Cl又はBr、特に好ましくはClである。
【0011】本発明の好適な実施態様では、R1 及びR
2 は、H若しくはR9 基であるか、又はR1 とR2 は、
一緒になって、−CH=CH−CH=CH−基である。
2 は、H若しくはR9 基であるか、又はR1 とR2 は、
一緒になって、−CH=CH−CH=CH−基である。
【0012】ハロゲンであるR4 及びR7 は、好ましく
はF、Cl又はBr、特に好ましくはClである。
はF、Cl又はBr、特に好ましくはClである。
【0013】本発明のもう一つの好適な実施態様では、
R5 及びR6 は、H、C1 −若しくはC2 −アルキル、
C1 −若しくはC2 −アルコキシ、−CN、−CO2 −
(C1 C4 アルキル)、−CO−(C1 −C4 アルキ
ル)、フェニル又はベンジルであるか、或はR5 とR6
は、一緒になって、1,2−ベンゾブタ−1,3−ジエ
ン−1,4−ジイル又は−CH=CR12−CR13=CH
−基(ここで、R12及びR13はH、C1 −若しくはC2
−アルキル、C1 −若しくはC2 −アルコキシ、又は−
CO2 −(C1 −C4 アルキル)である)である。R12
及びR13の一方は、特に好ましくはHである。
R5 及びR6 は、H、C1 −若しくはC2 −アルキル、
C1 −若しくはC2 −アルコキシ、−CN、−CO2 −
(C1 C4 アルキル)、−CO−(C1 −C4 アルキ
ル)、フェニル又はベンジルであるか、或はR5 とR6
は、一緒になって、1,2−ベンゾブタ−1,3−ジエ
ン−1,4−ジイル又は−CH=CR12−CR13=CH
−基(ここで、R12及びR13はH、C1 −若しくはC2
−アルキル、C1 −若しくはC2 −アルコキシ、又は−
CO2 −(C1 −C4 アルキル)である)である。R12
及びR13の一方は、特に好ましくはHである。
【0014】アルキルであるR8 は、C1 −C12アルキ
ル、好ましくはC1 −C4 アルキルである。例は、メチ
ル、エチル、並びにプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル及びオクタ
デシルの異性体類である。アルキルであるR8 は、好ま
しくはメチル又はエチルである。置換フェニル又はベン
ジルであるR8 のいくつかの例は、メチルフェニル、エ
チルフェニル、メチルベンジル、エチルベンジル、メト
キシフェニル、エトキシフェニル、メトキシベンジル及
びエトキシベンジルである。
ル、好ましくはC1 −C4 アルキルである。例は、メチ
ル、エチル、並びにプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル及びオクタ
デシルの異性体類である。アルキルであるR8 は、好ま
しくはメチル又はエチルである。置換フェニル又はベン
ジルであるR8 のいくつかの例は、メチルフェニル、エ
チルフェニル、メチルベンジル、エチルベンジル、メト
キシフェニル、エトキシフェニル、メトキシベンジル及
びエトキシベンジルである。
【0015】好適な下位群では、R8 はC1 −C4 アル
キル、フェニル又はベンジルである。
キル、フェニル又はベンジルである。
【0016】−OR9 基中のR9 は、好ましくは、非置
換又は置換されたC6 −C10アリール、例えばフェニル
又は1−若しくは2−ナフチルである。R9 は、好まし
くは非置換又は置換フェニルである。
換又は置換されたC6 −C10アリール、例えばフェニル
又は1−若しくは2−ナフチルである。R9 は、好まし
くは非置換又は置換フェニルである。
【0017】R9 基は、1個又はそれ以上の基、好まし
くは1〜3個の基で置換されていてもよい。R9 がアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル又はアルキルスルホニルで置換されているならば、そ
のアルキルは、直鎖又は分岐鎖であってもよく、好まし
くは1〜6個、特に好ましくは1〜4個の炭素原子を有
する。例は、メチル、エチル、並びにプロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、デシル、ウンデシル及びドデシルの異性体類、並び
に対応するアルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフ
ィニル及びアルキルスルホニル基である。好適であるの
は、メチル、エチル、n−及びi−プロピル、n−、i
−及びt−ブチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、
エチルチオ、メチル−及びエチル−スルフィニル、並び
にメチル−及びエチル−スルホニルである。
くは1〜3個の基で置換されていてもよい。R9 がアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル又はアルキルスルホニルで置換されているならば、そ
のアルキルは、直鎖又は分岐鎖であってもよく、好まし
くは1〜6個、特に好ましくは1〜4個の炭素原子を有
する。例は、メチル、エチル、並びにプロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、デシル、ウンデシル及びドデシルの異性体類、並び
に対応するアルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフ
ィニル及びアルキルスルホニル基である。好適であるの
は、メチル、エチル、n−及びi−プロピル、n−、i
−及びt−ブチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、
エチルチオ、メチル−及びエチル−スルフィニル、並び
にメチル−及びエチル−スルホニルである。
【0018】R9 がハロゲンで置換されている場合は、
そのハロゲンは、好ましくはBr、Cl又はFである。
そのハロゲンは、好ましくはBr、Cl又はFである。
【0019】特に好適である実施態様では、R9 はフェ
ニルである。
ニルである。
【0020】アルキルであるR10は、直鎖又は分岐鎖で
あってもよい。アルキルの例は上記に述べた。アルキル
であるR10は、1〜12個、好ましくは1〜6個の炭素
原子を有する。アルキルフェニルであるR10は、好まし
くはC1 −C6 アルキルフェニル、特にC1 −C4 アル
キルフェニル、例えば、ドデシルフェニル、オクチルフ
ェニル、ヘキシルフェニル、n−、i−若しくはt−ブ
チルフェニル、n−若しくはi−プロピルフェニル、エ
チルフェニル又はメチルフェニルである。アルキルベン
ジルであるR10は、好ましくはC1 −C6 アルキルベン
ジル、特にC1−C4 アルキルベンジル、例えば、ドデ
シルベンジル、オクチルベンジル、ヘキシルベンジル、
n−、i−若しくはt−ブチルベンジル、n−若しくは
i−プロピルベンジル、エチルベンジル又はメチルベン
ジルである。R10は、好ましくはH又はC1 −C18アル
キル、特にC1 −C12アルキル、さらに特にC1 −C4
アルキルである。
あってもよい。アルキルの例は上記に述べた。アルキル
であるR10は、1〜12個、好ましくは1〜6個の炭素
原子を有する。アルキルフェニルであるR10は、好まし
くはC1 −C6 アルキルフェニル、特にC1 −C4 アル
キルフェニル、例えば、ドデシルフェニル、オクチルフ
ェニル、ヘキシルフェニル、n−、i−若しくはt−ブ
チルフェニル、n−若しくはi−プロピルフェニル、エ
チルフェニル又はメチルフェニルである。アルキルベン
ジルであるR10は、好ましくはC1 −C6 アルキルベン
ジル、特にC1−C4 アルキルベンジル、例えば、ドデ
シルベンジル、オクチルベンジル、ヘキシルベンジル、
n−、i−若しくはt−ブチルベンジル、n−若しくは
i−プロピルベンジル、エチルベンジル又はメチルベン
ジルである。R10は、好ましくはH又はC1 −C18アル
キル、特にC1 −C12アルキル、さらに特にC1 −C4
アルキルである。
【0021】R11は、好ましくはH、メチル、エチル又
はフェニルである。
はフェニルである。
【0022】R12及びR13は、好ましくはH、C1 −若
しくはC2 −アルキル、C1 −若しくはC2 −アルコキ
シ、又は−CO2 −(C1 −C4 アルキル)である。R
12及びR13の一方がHであり、他方がC1 −若しくはC
2 −アルキル、C1 −若しくはC2 −アルコキシ、又は
−CO2 −(C1 −C4 アルキル)であるならば、特に
好適である。R12及び/又はR13は、特に好ましくはメ
トキシ、エトキシ、−C(O)OCH3 又は- C(O)
OC2 H5 である。
しくはC2 −アルキル、C1 −若しくはC2 −アルコキ
シ、又は−CO2 −(C1 −C4 アルキル)である。R
12及びR13の一方がHであり、他方がC1 −若しくはC
2 −アルキル、C1 −若しくはC2 −アルコキシ、又は
−CO2 −(C1 −C4 アルキル)であるならば、特に
好適である。R12及び/又はR13は、特に好ましくはメ
トキシ、エトキシ、−C(O)OCH3 又は- C(O)
OC2 H5 である。
【0023】特に好適であるのは、R1 及びR2 がH又
は−OC6 H5 であるか、又はR1とR2 が、一緒に
なって、−CH=CH−CH=CH−であり、R3 が−
OC6H5 であり、R4 及びR7 が、H、Cl又は−O
C6 H5 であり、R5 及びR6が、互いに独立に、H、
−CN、メチル、エチル、−C6 H5 、−CO−CH3
若しくは−C(O)−C2 H5 であるか、又はR5 とR
6 が、一緒になって、1,2−ベンゾブタ−1,3−ジ
エン−1,4−ジイル若しくは−CH=CR12−CR13
=CH−基(ここで、R12及びR13は、互いに独立に、
H、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−CO2 C
H3 又は−CO2 C2 H5 である)であり、そしてXが
−O−、−S−又は−NR8 −(ここで、R8 はC1 −
C4 ルキル、ベンジル又はフェニルである)である式
(I)及び(II)の化合物である。
は−OC6 H5 であるか、又はR1とR2 が、一緒に
なって、−CH=CH−CH=CH−であり、R3 が−
OC6H5 であり、R4 及びR7 が、H、Cl又は−O
C6 H5 であり、R5 及びR6が、互いに独立に、H、
−CN、メチル、エチル、−C6 H5 、−CO−CH3
若しくは−C(O)−C2 H5 であるか、又はR5 とR
6 が、一緒になって、1,2−ベンゾブタ−1,3−ジ
エン−1,4−ジイル若しくは−CH=CR12−CR13
=CH−基(ここで、R12及びR13は、互いに独立に、
H、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−CO2 C
H3 又は−CO2 C2 H5 である)であり、そしてXが
−O−、−S−又は−NR8 −(ここで、R8 はC1 −
C4 ルキル、ベンジル又はフェニルである)である式
(I)及び(II)の化合物である。
【0024】本発明は、更に、式(I)又は(II)の化
合物の製造方法であって、上昇した温度で、極性非プロ
トン性又はプロトン性溶媒の存在下で、式(III )又は
(IV):
合物の製造方法であって、上昇した温度で、極性非プロ
トン性又はプロトン性溶媒の存在下で、式(III )又は
(IV):
【0025】
【化6】
【0026】(式中、R1 、R2 、R5 、R6 及びXは
上記と同義であり、Yはハロゲン又は−NO2 であり、
そしてY1 は、H、ハロゲン又は−NO2 である)で示
される化合物を、式R9 O- M+ で示される化合物(こ
こで、R9 は上記と同義であり、そしてM+ はアルカリ
金属カチオン又はアンモニウムカチオンである)と反応
させることを特徴とする方法に関する。
上記と同義であり、Yはハロゲン又は−NO2 であり、
そしてY1 は、H、ハロゲン又は−NO2 である)で示
される化合物を、式R9 O- M+ で示される化合物(こ
こで、R9 は上記と同義であり、そしてM+ はアルカリ
金属カチオン又はアンモニウムカチオンである)と反応
させることを特徴とする方法に関する。
【0027】ハロゲンであるY及びY1 は、好ましくは
F、Cl又はBr、特に好ましくはClである。
F、Cl又はBr、特に好ましくはClである。
【0028】M+ の例は、Li+ 、Na+ 、K+ 及び第
三級アンモニウム、例えば、トリエチル−、トリメチル
−、トリ−n−プロピル−又はトリ−n−ブチルアンモ
ニウムである。
三級アンモニウム、例えば、トリエチル−、トリメチル
−、トリ−n−プロピル−又はトリ−n−ブチルアンモ
ニウムである。
【0029】本発明による方法は、好ましくは50〜2
00℃、特に50〜150℃の温度で実施される。式R
9 O- M+ の塩は、そのようなものとして、あるいは適
切なフェノールをアルカリ金属塩基若しくはアルカリ金
属炭酸塩又はアミンと反応させることにより、反応混合
物中にその場で生成されるものとして用いることができ
る。塩は、等モル量で、又は過剰量、例えば40モル%
までの過剰量で用いることができる。
00℃、特に50〜150℃の温度で実施される。式R
9 O- M+ の塩は、そのようなものとして、あるいは適
切なフェノールをアルカリ金属塩基若しくはアルカリ金
属炭酸塩又はアミンと反応させることにより、反応混合
物中にその場で生成されるものとして用いることができ
る。塩は、等モル量で、又は過剰量、例えば40モル%
までの過剰量で用いることができる。
【0030】適切な溶媒の例は、N−置換カルボキサミ
ド及びラクタム類(例えばジメチルホルムアミド又はN
−メチルピロリドン)、スルホキシド及びスルホン類
(例えばジメチルスルホキシド又はテトラメチレンスル
ホン)、又はエーテル類(例えばn−ジプロピルエーテ
ル、n−ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジ
オキサン)である。反応を過剰量のフェノールR9 OH
中で実施し、そうして同時に、これを溶媒として用いる
こともできる。
ド及びラクタム類(例えばジメチルホルムアミド又はN
−メチルピロリドン)、スルホキシド及びスルホン類
(例えばジメチルスルホキシド又はテトラメチレンスル
ホン)、又はエーテル類(例えばn−ジプロピルエーテ
ル、n−ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジ
オキサン)である。反応を過剰量のフェノールR9 OH
中で実施し、そうして同時に、これを溶媒として用いる
こともできる。
【0031】式(I)及び(II)の化合物は、慣用の方
法、例えば結晶化及び再結晶によって、又はクロマトグ
ラフィー法によって単離かつ精製される。
法、例えば結晶化及び再結晶によって、又はクロマトグ
ラフィー法によって単離かつ精製される。
【0032】本発明は、式(III )又は(IV):
【0033】
【化7】
【0034】(式中、R1 、R2 、R5 、R6 及びXは
上記と同義であり、Yはハロゲン又は−NO2 であり、
そしてY1 はH、ハロゲン又は−NO2 である)で示さ
れる化合物にも関する。
上記と同義であり、Yはハロゲン又は−NO2 であり、
そしてY1 はH、ハロゲン又は−NO2 である)で示さ
れる化合物にも関する。
【0035】Y、及び所望ならばY1 が、ハロゲンであ
る式(III )及び(IV )の化合物は、例えば、適切なハ
ロゲン化剤、例えばPOCl3 又はPOBr3 を用い
た、互いに平衡状態にある式(A)及び(B):
る式(III )及び(IV )の化合物は、例えば、適切なハ
ロゲン化剤、例えばPOCl3 又はPOBr3 を用い
た、互いに平衡状態にある式(A)及び(B):
【0036】
【化8】
【0037】で示されるヒドロキノンのハロゲン化によ
る公知の方法で得ることができる。Y2 はH又は−OH
である。製造の際は、これらの異性体の混合物を形成さ
せて、更に用いることができるが、塩基又は酸を用いた
処理によって平衡を一方の異性体へと移動させることに
より、個々の異性体を純粋な形態で製造することもでき
る。
る公知の方法で得ることができる。Y2 はH又は−OH
である。製造の際は、これらの異性体の混合物を形成さ
せて、更に用いることができるが、塩基又は酸を用いた
処理によって平衡を一方の異性体へと移動させることに
より、個々の異性体を純粋な形態で製造することもでき
る。
【0038】式(A)及び(B)の化合物は、それ自体
は公知である方法[例えば、C. Weizmann ら:J. Chem.
Soc.,398(1939) を参照]で、式(C):
は公知である方法[例えば、C. Weizmann ら:J. Chem.
Soc.,398(1939) を参照]で、式(C):
【0039】
【化9】
【0040】で示される複素環式1,2−ジカルボン酸
と式(D):
と式(D):
【0041】
【化10】
【0042】で示されるモノ−又はジ−フェノールとの
フリーデル−クラフツ反応によって得ることができる。
フリーデル−クラフツ反応によって得ることができる。
【0043】式(III )及び(IV)の化合物は、式
(E):
(E):
【0044】
【化11】
【0045】で示される芳香族ジカルボン酸無水物と式
(F):
(F):
【0046】
【化12】
【0047】で示される五員複素環芳香族化合物との分
子内フリーデル−クラフツ反応によって製造することも
できる。例えば、H.E. Schroederら:J. Am. Chem. So
c.,74,4357(1952) 及びA.T. Peters ら:J. Chem. So
c.,1625( 1957) を参照。
子内フリーデル−クラフツ反応によって製造することも
できる。例えば、H.E. Schroederら:J. Am. Chem. So
c.,74,4357(1952) 及びA.T. Peters ら:J. Chem. So
c.,1625( 1957) を参照。
【0048】製造の際は、位置異性体の混合物を形成さ
せることができ、これをその後の反応のため、又はさら
に反応する前に、それ自体は公知である方法、例えば分
別結晶化又はクロマトグラフィー法を用いて分離してか
ら更に反応させることができる。
せることができ、これをその後の反応のため、又はさら
に反応する前に、それ自体は公知である方法、例えば分
別結晶化又はクロマトグラフィー法を用いて分離してか
ら更に反応させることができる。
【0049】その他の製造法は実施例で説明する。
【0050】式(I)及び(II)の化合物は、結晶であ
り、熱的に安定であって、無色ないし黄色である。それ
らは有機溶媒及び重合体に可溶である。それらはエチレ
ン性不飽和二重結合を含む光重合し得る系のための効果
的なカラーインジケータである。さらに、式(I)の化
合物は可逆的ホトクロミックである。
り、熱的に安定であって、無色ないし黄色である。それ
らは有機溶媒及び重合体に可溶である。それらはエチレ
ン性不飽和二重結合を含む光重合し得る系のための効果
的なカラーインジケータである。さらに、式(I)の化
合物は可逆的ホトクロミックである。
【0051】本発明による化合物を、所望ならば基材中
で、約300〜450nmの波長を有する光で照射したと
きは、赤、菫色又は青への顕著な色変化が認められる。
比較してみると、吸光はより短い波長へと移行する。色
変化は本発明によるパラキノンが式(V)及び(VI)の
対応するアナキノンへと光化学的に転換されることに起
因する。転換速度は驚異的に高く、量、試料の厚さ及び
放射強度に応じて3秒未満であり得る。このように、式
(V)及び(VI)のアナキノンは、式(I)及び(II)
のパラキノンを照射することによって得ることができ
る。この光化学的転換は可逆的であって、このアナキノ
ンを新たな比較的長波長の吸光帯の波長域で照射するな
らば、無色ないし黄色のパラキノンへの逆転換が観察さ
れる。
で、約300〜450nmの波長を有する光で照射したと
きは、赤、菫色又は青への顕著な色変化が認められる。
比較してみると、吸光はより短い波長へと移行する。色
変化は本発明によるパラキノンが式(V)及び(VI)の
対応するアナキノンへと光化学的に転換されることに起
因する。転換速度は驚異的に高く、量、試料の厚さ及び
放射強度に応じて3秒未満であり得る。このように、式
(V)及び(VI)のアナキノンは、式(I)及び(II)
のパラキノンを照射することによって得ることができ
る。この光化学的転換は可逆的であって、このアナキノ
ンを新たな比較的長波長の吸光帯の波長域で照射するな
らば、無色ないし黄色のパラキノンへの逆転換が観察さ
れる。
【0052】本発明は、更に、式(V)及び(VI):
【0053】
【化13】
【0054】(式中、X及びR1 ないしR7 は、好適な
ものを含めて上記と同義である)で示されるアナキノン
にも関する。
ものを含めて上記と同義である)で示されるアナキノン
にも関する。
【0055】式(V)の化合物は、式(I)又は(II)
の化合物の溶液を照射した後に溶媒を除去することによ
って得ることができ、必要ならば、慣用の方法によって
精製することができる。
の化合物の溶液を照射した後に溶媒を除去することによ
って得ることができ、必要ならば、慣用の方法によって
精製することができる。
【0056】この色変化は可逆的である。約450〜6
50nmの波長を有する光で再照射すると、最初の色が回
復される(パラキノン構造の再形成)。この過程が多数
回反復できることは、特に好都合である。この光化学的
可逆反応(to and fro reaction )の安定性は驚異的に
高く、疲労は、基質中又は空気中でさえ、それに対応し
て低い。したがって、20サイクルを超えた後も、実質
的に全く変化が認められない。光化学的転換に要する吸
光が商業的に入手できるレーザーの波長域にあること
も、好都合であると考えられる。
50nmの波長を有する光で再照射すると、最初の色が回
復される(パラキノン構造の再形成)。この過程が多数
回反復できることは、特に好都合である。この光化学的
可逆反応(to and fro reaction )の安定性は驚異的に
高く、疲労は、基質中又は空気中でさえ、それに対応し
て低い。したがって、20サイクルを超えた後も、実質
的に全く変化が認められない。光化学的転換に要する吸
光が商業的に入手できるレーザーの波長域にあること
も、好都合であると考えられる。
【0057】本発明は、更に、対照又は吸光のための可
逆的ホトクロミック系としての式(I)及び(II)、又
は(V)及び(VI)の化合物の用途にも関する。
逆的ホトクロミック系としての式(I)及び(II)、又
は(V)及び(VI)の化合物の用途にも関する。
【0058】式(I)及び(II)、又は(V)及び(V
I)の化合物は、光重合し得る系でのカラーインジケー
タとして用いることができる。したがって、露光した製
品(例えば、保護被覆、印刷用プレート、オフセット印
刷用プレート、プリント回路、及びはんだ止め隠蔽剤)
にマークすること、及びそれらを露光していない製品か
ら識別すること、更に、製品管理の際に、現像の前後に
誤って露出された製品を分別することが可能である。
I)の化合物は、光重合し得る系でのカラーインジケー
タとして用いることができる。したがって、露光した製
品(例えば、保護被覆、印刷用プレート、オフセット印
刷用プレート、プリント回路、及びはんだ止め隠蔽剤)
にマークすること、及びそれらを露光していない製品か
ら識別すること、更に、製品管理の際に、現像の前後に
誤って露出された製品を分別することが可能である。
【0059】また、式(I)及び(II)、又は(V)及
び(VI)の化合物は、溶液中に、又は重合体に混入し
て、光学的カラーインジケータ又は光学的切換え要素と
して用いることもできる。
び(VI)の化合物は、溶液中に、又は重合体に混入し
て、光学的カラーインジケータ又は光学的切換え要素と
して用いることもできる。
【0060】また、式(I)及び(II)、又は(V)及
び(VI)の化合物は、光学的に切換え得るカラーフィル
ターとして、有機又は無機ガラス中に、例えばサングラ
ス、コンタクトレンズ、窓及び鏡のためのガラスに用い
ることもできる。
び(VI)の化合物は、光学的に切換え得るカラーフィル
ターとして、有機又は無機ガラス中に、例えばサングラ
ス、コンタクトレンズ、窓及び鏡のためのガラスに用い
ることもできる。
【0061】更に、本発明は、(a)放射線感受性有機
材料、及び(b)式(I)若しくは(II)、又は(V)
若しくは(VI)の化合物のうち少なくとも1種、或はそ
れらの混合物を含む放射線感受性組成物にも関する。
材料、及び(b)式(I)若しくは(II)、又は(V)
若しくは(VI)の化合物のうち少なくとも1種、或はそ
れらの混合物を含む放射線感受性組成物にも関する。
【0062】式(I)及び(II)、又は(V)及び(V
I)の化合物、或はそれらの混合物は、成分(a)に基
づいて0.001〜20重量%、特に0.001〜10
重量%、さらに特には0.01〜5重量%の量で存在す
ることができる。
I)の化合物、或はそれらの混合物は、成分(a)に基
づいて0.001〜20重量%、特に0.001〜10
重量%、さらに特には0.01〜5重量%の量で存在す
ることができる。
【0063】放射線感受性であり、したがってまた、光
化学的に構成し得る材料は公知である。これらは陽性の
系又は陰性の系であることができる。そのような材料
は、例えばG.E. Greenらによって、J. Macromol. Sci.;
Revs. Macromol. and Chem.,C21(2),187 〜273(1981〜
1982) 及びG.A. Delzenne よって、Adv. Photochem.,1
1,1〜103(1979) に記載されている。
化学的に構成し得る材料は公知である。これらは陽性の
系又は陰性の系であることができる。そのような材料
は、例えばG.E. Greenらによって、J. Macromol. Sci.;
Revs. Macromol. and Chem.,C21(2),187 〜273(1981〜
1982) 及びG.A. Delzenne よって、Adv. Photochem.,1
1,1〜103(1979) に記載されている。
【0064】放射線感受性有機材料は、好ましくは、a
1)光重合し得る、又は光二量化し得るエチレン性不飽
和基を有する不揮発性の、単量体、オリゴマー若しくは
ポリマー性物質、a2)カチオンによって硬化し得る
系、又はa3)光架橋し得るポリイミドである。
1)光重合し得る、又は光二量化し得るエチレン性不飽
和基を有する不揮発性の、単量体、オリゴマー若しくは
ポリマー性物質、a2)カチオンによって硬化し得る
系、又はa3)光架橋し得るポリイミドである。
【0065】光重合し得る物質の例は、ポリオール、例
えば、エチレングリコール、プロパンジオール、ブタン
ジオール、ヘキサンジオール、ジ(ヒドロキシメチル)
シクロヘキサン、ポリオキシアルキレンジオール類、例
えばジ−、トリ−又はテトラ−エチレングリコール、ジ
−又はトリ−1,2−プロピレングリコール、トリメチ
ロール−メタン、−エタン又は−プロパン、及びペンタ
エリトリトールとのアクリル酸エステル、及び特にメタ
クリル酸エステルである。これらはすべて、単独で、混
合物として、及び結合剤との配合物として用いることが
できる。
えば、エチレングリコール、プロパンジオール、ブタン
ジオール、ヘキサンジオール、ジ(ヒドロキシメチル)
シクロヘキサン、ポリオキシアルキレンジオール類、例
えばジ−、トリ−又はテトラ−エチレングリコール、ジ
−又はトリ−1,2−プロピレングリコール、トリメチ
ロール−メタン、−エタン又は−プロパン、及びペンタ
エリトリトールとのアクリル酸エステル、及び特にメタ
クリル酸エステルである。これらはすべて、単独で、混
合物として、及び結合剤との配合物として用いることが
できる。
【0066】光二量化し得る物質の例は、側鎖基中にシ
ンナモイル基若しくは置換マレイミジル化合物を、又は
重合体鎖中にカルコン基を有する単独重合体若しくは共
重合体である。
ンナモイル基若しくは置換マレイミジル化合物を、又は
重合体鎖中にカルコン基を有する単独重合体若しくは共
重合体である。
【0067】好適であるのは、成分a1)が、アクリル
酸、メタクリル酸又はマレイン酸エステルの単独重合体
又は共重合体であって、そのエステル基が式(1):
酸、メタクリル酸又はマレイン酸エステルの単独重合体
又は共重合体であって、そのエステル基が式(1):
【0068】
【化14】
【0069】(式中、Aは、非置換又はヒドロキシル置
換の、直鎖若しくは分岐鎖のC2 −C12アルキレン又
はシクロヘキシレン若しくはフェニレンであり、R7 及
びR8 は、互いに独立に、Cl、Br、フェニル若しく
はC1 −C4 アルキルであるか、又はR7 とR8 は、一
緒になって、トリメチレン、テトラメチレン又は式(2):
換の、直鎖若しくは分岐鎖のC2 −C12アルキレン又
はシクロヘキシレン若しくはフェニレンであり、R7 及
びR8 は、互いに独立に、Cl、Br、フェニル若しく
はC1 −C4 アルキルであるか、又はR7 とR8 は、一
緒になって、トリメチレン、テトラメチレン又は式(2):
【0070】
【化15】
【0071】の基である)で示される基を含むものであ
る。
る。
【0072】そのようなポリマーは、例えば米国特許第
4,193,927 号明細書に記載されている。
4,193,927 号明細書に記載されている。
【0073】光重合し得る、又は光二量化し得る物質
は、加工又は使用時の慣用のさらなる添加剤及びを光開
始剤又は光化学的増感剤を追加的に含有していてもよ
い。
は、加工又は使用時の慣用のさらなる添加剤及びを光開
始剤又は光化学的増感剤を追加的に含有していてもよ
い。
【0074】カチオンにより硬化し得る系は、好ましく
は、分子中に少なくとも2個のエポキシド基及び光開始
剤を含むエポキシドである。適切な開始剤の例は、シク
ロペンタジエニルアレーン金属塩、シクロペンタジエニ
ル金属カルボニル塩及びオニウム塩であって、例えば上
記出版物中に記載されている。この硬化し得る系は、加
工及び使用時の慣用の添加剤を含有してもよい。
は、分子中に少なくとも2個のエポキシド基及び光開始
剤を含むエポキシドである。適切な開始剤の例は、シク
ロペンタジエニルアレーン金属塩、シクロペンタジエニ
ル金属カルボニル塩及びオニウム塩であって、例えば上
記出版物中に記載されている。この硬化し得る系は、加
工及び使用時の慣用の添加剤を含有してもよい。
【0075】感光性ポリイミドは、例えばドイツ国公開
特許第1,962,588 号公報、ヨーロッパ公開特許第0,132,
221 号公報、第0,134,752 号公報、第0,162,017 号公報
及び第0,182,745 号公報に記載されている。
特許第1,962,588 号公報、ヨーロッパ公開特許第0,132,
221 号公報、第0,134,752 号公報、第0,162,017 号公報
及び第0,182,745 号公報に記載されている。
【0076】本発明による組成物は、公知の方法を用い
て基板上にコーティングされ、そして、全域照射によっ
て保護被覆が形成されるか、又は、フォトマスク下での
照射若しくは誘導レーザービームを用いた局所的照射、
若しくはホログラフィー的方法そしてそれに続く現像に
よって、レリーフ画像が形成されるかのいずれかであ
る。
て基板上にコーティングされ、そして、全域照射によっ
て保護被覆が形成されるか、又は、フォトマスク下での
照射若しくは誘導レーザービームを用いた局所的照射、
若しくはホログラフィー的方法そしてそれに続く現像に
よって、レリーフ画像が形成されるかのいずれかであ
る。
【0077】更に、本発明は、(a)無色の有機溶媒、
重合体又は有機ガラス若しくは合わせガラス、及び
(b)少なくとも一つの表面の被覆剤として溶解又は混
入された、式(I)若しくは(II)、又は(V)若しく
は(VI)の化合物、或はそれらの混合物:を含む組成物
にも関する。成分(b)は、成分(a)に基づいて、
0.001〜20重量%、特に0.001〜10重量
%、さらに特には0.01〜5重量%の量で存在する。
有機溶液を、他の物質、例えば、無機ガラスのような固
体の基材を被覆するのに用いることができ、次いで、こ
れを光学的切換え可能な基材として用いることができ
る。式(I)及び(II)、又は(V)及び(VI)の化合
物は、基材上に昇華させることもできる。被覆された基
材は、例えば透明な重合体からなる保護被覆を備えるこ
とができる。固体基材も、重合体と、式(I)若しくは
(II)、又は(V)若しくは(VI)の化合物のうちの少
なくとも一種の化合物とを含む組成物で被覆することが
できる。適切な溶媒の例は、炭化水素類、ハロゲン化炭
化水素類、ケトン類、カルボン酸エステル及びラクトン
類、N−アルキル化された酸アミド及びラクタム類、ア
ルカノール類、並びにエーテル類である。
重合体又は有機ガラス若しくは合わせガラス、及び
(b)少なくとも一つの表面の被覆剤として溶解又は混
入された、式(I)若しくは(II)、又は(V)若しく
は(VI)の化合物、或はそれらの混合物:を含む組成物
にも関する。成分(b)は、成分(a)に基づいて、
0.001〜20重量%、特に0.001〜10重量
%、さらに特には0.01〜5重量%の量で存在する。
有機溶液を、他の物質、例えば、無機ガラスのような固
体の基材を被覆するのに用いることができ、次いで、こ
れを光学的切換え可能な基材として用いることができ
る。式(I)及び(II)、又は(V)及び(VI)の化合
物は、基材上に昇華させることもできる。被覆された基
材は、例えば透明な重合体からなる保護被覆を備えるこ
とができる。固体基材も、重合体と、式(I)若しくは
(II)、又は(V)若しくは(VI)の化合物のうちの少
なくとも一種の化合物とを含む組成物で被覆することが
できる。適切な溶媒の例は、炭化水素類、ハロゲン化炭
化水素類、ケトン類、カルボン酸エステル及びラクトン
類、N−アルキル化された酸アミド及びラクタム類、ア
ルカノール類、並びにエーテル類である。
【0078】適切な重合体の例は、熱硬化性、熱可塑
性、及び構造的に架橋された重合体である。この重合体
は、好ましくは透明である。そのような重合体及び有機
ガラスは、当業者には公知である。本発明による化合物
は、慣用の方法、例えば、溶液法及び溶媒の除去、カレ
ンダ加工、又は押出し成形により混入される。また本発
明の化合物は、その製造の前後又はその間に基材に混入
することもできる。
性、及び構造的に架橋された重合体である。この重合体
は、好ましくは透明である。そのような重合体及び有機
ガラスは、当業者には公知である。本発明による化合物
は、慣用の方法、例えば、溶液法及び溶媒の除去、カレ
ンダ加工、又は押出し成形により混入される。また本発
明の化合物は、その製造の前後又はその間に基材に混入
することもできる。
【0079】更に、本発明は、光の作用で着色された材
料を製造する方法であって、式(I)若しくは(II)、
又は(V)若しくは(VI)の化合物を該材料中に混入
し、次いで、材料を露光することを含むことを特徴とす
る方法にも関する。
料を製造する方法であって、式(I)若しくは(II)、
又は(V)若しくは(VI)の化合物を該材料中に混入
し、次いで、材料を露光することを含むことを特徴とす
る方法にも関する。
【0080】更に、本発明は、露光に対するカラーイン
ジケータ又は光学的切換え可能なカラーフィルタとして
の式(I)若しくは(II)、又は(V)若しくは(VI)
の化合物の用途にも関する。
ジケータ又は光学的切換え可能なカラーフィルタとして
の式(I)若しくは(II)、又は(V)若しくは(VI)
の化合物の用途にも関する。
【0081】更に、本発明は、情報の可逆的な光学的記
憶に用いるための式(I)若しくは(II)、又は(V)
若しくは(VI)の化合物の用途であって、化合物を含有
する記憶活性層に光、好ましくはレーザー光を用いて情
報が書き込まれる用途にも関する。書き込まれる情報
は、好ましくはレーザー光を用いて再消去することがで
き、そのため、循環的な書き込み及び消去が可能とな
る。
憶に用いるための式(I)若しくは(II)、又は(V)
若しくは(VI)の化合物の用途であって、化合物を含有
する記憶活性層に光、好ましくはレーザー光を用いて情
報が書き込まれる用途にも関する。書き込まれる情報
は、好ましくはレーザー光を用いて再消去することがで
き、そのため、循環的な書き込み及び消去が可能とな
る。
【0082】記憶活性層を形成するために、上記の方法
に従って、式(I)若しくは(II)、又は(V)若しく
は(VI)の化合物を透明なマトリックス中に溶解し、平
面的な基材に塗布して薄層とすることができる。記憶活
性層の厚さは、約0.1〜100μm 、好ましくは0.
3〜3μm である。
に従って、式(I)若しくは(II)、又は(V)若しく
は(VI)の化合物を透明なマトリックス中に溶解し、平
面的な基材に塗布して薄層とすることができる。記憶活
性層の厚さは、約0.1〜100μm 、好ましくは0.
3〜3μm である。
【0083】適切な支持材の例は、金属、金属合金、ガ
ラス、無機物、セラミック及び熱硬化性又は熱可塑性プ
ラスチックである。支持材は、0.01mm〜1cm、好ま
しくは0.1mm〜0.5cmの厚さを有することができ
る。好適な支持材は、ガラス、及び単独重合体又は共重
合体のプラスチックである。適切なプラスチックの例
は、熱可塑性ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエス
テル、ポリアクリレート及びポリメタクリレート、ポリ
ウレタン、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリイミド、熱硬化性ポリエステル並びに
エポキシ樹脂である。
ラス、無機物、セラミック及び熱硬化性又は熱可塑性プ
ラスチックである。支持材は、0.01mm〜1cm、好ま
しくは0.1mm〜0.5cmの厚さを有することができ
る。好適な支持材は、ガラス、及び単独重合体又は共重
合体のプラスチックである。適切なプラスチックの例
は、熱可塑性ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエス
テル、ポリアクリレート及びポリメタクリレート、ポリ
ウレタン、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリイミド、熱硬化性ポリエステル並びに
エポキシ樹脂である。
【0084】1層又はそれ以上、例えば1〜10層、好
ましくは1〜5層、特に好ましくは1〜3層の式(I)
の同一又は異なる化合物を支持材に塗布してもよい。層
の数及びさらなる層の数は、主として、層構造の光学的
密度に従うが、しかもなお、記録に用いられる波長での
適当な透過性が確保されなければならない。
ましくは1〜5層、特に好ましくは1〜3層の式(I)
の同一又は異なる化合物を支持材に塗布してもよい。層
の数及びさらなる層の数は、主として、層構造の光学的
密度に従うが、しかもなお、記録に用いられる波長での
適当な透過性が確保されなければならない。
【0085】例えば100〜5000オングストロー
ム、好ましくは100〜3000オングストローム、 特
に300〜1500オングストロームの厚さを有する反
射層を記憶活性層又は支持材に塗布することができる。
特に適切な反射層の材料は金属であって、記録及び再生
に用いたレーザ放射を充分に反射する。アルミニウム又
は金の反射層は、高い反射率及び製造が容易であること
により、特に好適である。
ム、好ましくは100〜3000オングストローム、 特
に300〜1500オングストロームの厚さを有する反
射層を記憶活性層又は支持材に塗布することができる。
特に適切な反射層の材料は金属であって、記録及び再生
に用いたレーザ放射を充分に反射する。アルミニウム又
は金の反射層は、高い反射率及び製造が容易であること
により、特に好適である。
【0086】層構造にもよるが、例えば反射層、記憶活
性層又は追加された補助的な層である最上部の層は、
0.1〜100μm 、好ましくは0.1〜50μm 、特
に好ましくは0.5〜15μm の厚さを有することがで
きる保護被覆を好都合に備えている。適切な保護材料
は、主としてプラスチックであって、直接にか、接着層
の助けを得るかして支持材又は最上層に薄い被覆として
塗布される。良好な表面特性を有し、改質されて、例え
ば書き込みがなされてもよい、機械的及び熱的に安定的
なプラスチックが好都合に選ばれる。これらは、熱硬化
性であるか、熱可塑性である。好適であるのは、放射線
硬化された(例えばUV照射による)保護被覆であっ
て、これらは、特に製造が簡単かつ経済的である。放射
線硬化し得る材料は、非常に多数が公知である。放射線
硬化し得る単量体及びオリゴマーの例は、ジオール、ト
リオール及びテトラオールのアクリル酸塩及びメタクリ
ル酸塩、芳香族テトラカルボン酸及びアミノ基に対する
少なくとも2カ所のオルト位にC1 −C4 アルキル基を
有する芳香族ジアミンから生成されるポリイミド、並び
にジアルキル基、例えばジメチルマレイミジル基を有す
るオリゴマーである。特定の例は、ポリアクリレートに
基づくUVで架橋し得る重合体、例えば、Morton Inter
national/Dr. RengerからのRENGOLUX(登録商
標)RZ3200/003又は3203/001であ
る。
性層又は追加された補助的な層である最上部の層は、
0.1〜100μm 、好ましくは0.1〜50μm 、特
に好ましくは0.5〜15μm の厚さを有することがで
きる保護被覆を好都合に備えている。適切な保護材料
は、主としてプラスチックであって、直接にか、接着層
の助けを得るかして支持材又は最上層に薄い被覆として
塗布される。良好な表面特性を有し、改質されて、例え
ば書き込みがなされてもよい、機械的及び熱的に安定的
なプラスチックが好都合に選ばれる。これらは、熱硬化
性であるか、熱可塑性である。好適であるのは、放射線
硬化された(例えばUV照射による)保護被覆であっ
て、これらは、特に製造が簡単かつ経済的である。放射
線硬化し得る材料は、非常に多数が公知である。放射線
硬化し得る単量体及びオリゴマーの例は、ジオール、ト
リオール及びテトラオールのアクリル酸塩及びメタクリ
ル酸塩、芳香族テトラカルボン酸及びアミノ基に対する
少なくとも2カ所のオルト位にC1 −C4 アルキル基を
有する芳香族ジアミンから生成されるポリイミド、並び
にジアルキル基、例えばジメチルマレイミジル基を有す
るオリゴマーである。特定の例は、ポリアクリレートに
基づくUVで架橋し得る重合体、例えば、Morton Inter
national/Dr. RengerからのRENGOLUX(登録商
標)RZ3200/003又は3203/001であ
る。
【0087】適切な被覆方法の例は、浸漬法、注ぎ込
み、刷毛塗り、ナイフ塗布、回転塗布、及び高度の真空
中で実施される真空蒸着である。例えば注ぎ込み法を用
いる場合、一般に、追加的に結合剤を含有してもよい有
機溶媒が用いられる。溶媒を用いる場合、用いた支持材
がこれらの溶媒に不活性であることが確認されるべきで
ある。すべての層は、好ましくは、特に減圧下での真空
蒸着によって、形成される。適切な被覆法は、例えばヨ
ーロッパ公開特許第0,401,791 号公報に記載されてい
る。
み、刷毛塗り、ナイフ塗布、回転塗布、及び高度の真空
中で実施される真空蒸着である。例えば注ぎ込み法を用
いる場合、一般に、追加的に結合剤を含有してもよい有
機溶媒が用いられる。溶媒を用いる場合、用いた支持材
がこれらの溶媒に不活性であることが確認されるべきで
ある。すべての層は、好ましくは、特に減圧下での真空
蒸着によって、形成される。適切な被覆法は、例えばヨ
ーロッパ公開特許第0,401,791 号公報に記載されてい
る。
【0088】本発明による記録材料の構造は、主として
読み出し方法に依存するが、公知の作用原理は、透過性
又は反射率の変化の測定である。記録材料が光透過性の
変化に従って構成されるならば、下記の構造、すなわち
(所望される場合は1枚を超える層の)透明支持材/記
録層、及び適切ならば、透明な保護被覆が可能である。
記録及び読み出しのための光は、支持材又は記録層のい
ずれかから、あるいは、存在するならば、保護被覆側か
ら進入でき、光検出器が常に反対側に存在する。
読み出し方法に依存するが、公知の作用原理は、透過性
又は反射率の変化の測定である。記録材料が光透過性の
変化に従って構成されるならば、下記の構造、すなわち
(所望される場合は1枚を超える層の)透明支持材/記
録層、及び適切ならば、透明な保護被覆が可能である。
記録及び読み出しのための光は、支持材又は記録層のい
ずれかから、あるいは、存在するならば、保護被覆側か
ら進入でき、光検出器が常に反対側に存在する。
【0089】記録材料が反射率の変化に従って構成され
るのであれば、例えば、下記の別の構造、すなわち、透
明支持材/(所望ならば1枚を超える層の)記録層/反
射層及び、適切ならば、保護コーティング(透明である
必要はない)、又は支持材(透明である必要はない)/
反射層/記録層、及び、適切ならば、透明な保護被覆を
用いることができる。前者の場合、光は支持材側から射
し込むのに対し、後者の場合は、放射は記録層側、又は
存在する場合の保護被覆側から進入する。両方の場合に
おいて、光検出器は光源と同じ側に存在する。一般に、
本発明に従って用いられるべき記録材料の最初に述べた
構造が好ましい。
るのであれば、例えば、下記の別の構造、すなわち、透
明支持材/(所望ならば1枚を超える層の)記録層/反
射層及び、適切ならば、保護コーティング(透明である
必要はない)、又は支持材(透明である必要はない)/
反射層/記録層、及び、適切ならば、透明な保護被覆を
用いることができる。前者の場合、光は支持材側から射
し込むのに対し、後者の場合は、放射は記録層側、又は
存在する場合の保護被覆側から進入する。両方の場合に
おいて、光検出器は光源と同じ側に存在する。一般に、
本発明に従って用いられるべき記録材料の最初に述べた
構造が好ましい。
【0090】情報の書き込みは、記憶活性層の440〜
650nm、好ましくは480〜600nmの波長範囲のス
ペクトル光、好ましくはコヒーレント(レーザー)光を
用いた走査、ホログラフィー又はホトグラフィーによる
露光によって実施することができる。
650nm、好ましくは480〜600nmの波長範囲のス
ペクトル光、好ましくはコヒーレント(レーザー)光を
用いた走査、ホログラフィー又はホトグラフィーによる
露光によって実施することができる。
【0091】読み出しは、記憶活性層の局所的に変化し
た透過、反射、屈折又は蛍光を介して、書き込み波長の
減少した放射出力を用いて実施することができる。
た透過、反射、屈折又は蛍光を介して、書き込み波長の
減少した放射出力を用いて実施することができる。
【0092】消去は、300〜450nm、好ましくは3
00〜400nmの波長範囲での、式(I)若しくは(I
I)、及び/又は(V)若しくは(VI)の化合物を含有
する記憶活性層の局所的又は全域露光によって実施する
ことができる。
00〜400nmの波長範囲での、式(I)若しくは(I
I)、及び/又は(V)若しくは(VI)の化合物を含有
する記憶活性層の局所的又は全域露光によって実施する
ことができる。
【0093】本発明による用途の利点は、書き込み、読
み出し及び消去に必要とされる波長は、商業的に入手で
きるレーザー(例えば周波数を2倍化又は3倍化する、
アルゴンイオンレーザー:488/514nm又は351
/363nm、ネオジムYAGレーザー:532nm又は3
55nm、XeFエキシマーレーザー:351nm、HeC
dレーザー:325nm及び442nm)の範囲にあること
である。
み出し及び消去に必要とされる波長は、商業的に入手で
きるレーザー(例えば周波数を2倍化又は3倍化する、
アルゴンイオンレーザー:488/514nm又は351
/363nm、ネオジムYAGレーザー:532nm又は3
55nm、XeFエキシマーレーザー:351nm、HeC
dレーザー:325nm及び442nm)の範囲にあること
である。
【0094】更に利点となるのは、450〜650nmの
範囲での書き込まれた状態と消去されたそれとの間の吸
光の達成可能な高いコントラスト、及び結果として起こ
る記憶活性層の高い活動特性である。
範囲での書き込まれた状態と消去されたそれとの間の吸
光の達成可能な高いコントラスト、及び結果として起こ
る記憶活性層の高い活動特性である。
【0095】もう一つの利点は、書き込みの際の量子収
率が比較的低く、また読み取りの際の上書きの危険性
も、そのために非常に軽減されていることである。
率が比較的低く、また読み取りの際の上書きの危険性
も、そのために非常に軽減されていることである。
【0096】逆に、消去の際の量子収率が相対的に高く
て、急速な広域消去を可能にしていることも利点であ
る。
て、急速な広域消去を可能にしていることも利点であ
る。
【0097】更なる利点は、読み取りの際に化合物が蛍
光を発し、蛍光を介しての記憶状態の高感度検出が可能
であることである。その上、読み取りに費やされるエネ
ルギーが、基本的には蛍光を介して放散され、記憶活性
層の望ましくない加熱を熱的に中和することある。
光を発し、蛍光を介しての記憶状態の高感度検出が可能
であることである。その上、読み取りに費やされるエネ
ルギーが、基本的には蛍光を介して放散され、記憶活性
層の望ましくない加熱を熱的に中和することある。
【0098】更に、化合物の高い光安定性、及び結果的
に高い達成可能な書き込み/読み取りのサイクル数も利
点である。
に高い達成可能な書き込み/読み取りのサイクル数も利
点である。
【0099】最後に、消去波長を有する適切な光量子を
読み取りの際に混合することによって、周期的なデータ
更新が可能であることも更に一つの利点である。
読み取りの際に混合することによって、周期的なデータ
更新が可能であることも更に一つの利点である。
【0100】
【実施例】下記の実施例によって、発明を例示する。
【0101】A.出発化合物の製造 実施例A1:5,6,7,8−テトラクロロ−1−メチ
ルベンゾ[f]インドール−4,9−ジオンの製造
ルベンゾ[f]インドール−4,9−ジオンの製造
【0102】(a)3,4,5,6−テトラクロロ−2
−(ピロール−2−イルカルボニル)安息香酸 ヨウ化エチル23.3ml(280ミリモル)を、アルゴ
ンの下で、アニソール70mlにマグネシウム6.9g
(28ミリモル)を加えた混合物に滴加し、混合物を6
5℃で1時間加熱した。次いで、混合物を0〜5℃に冷
却し、アニソール140mlにピロール19.6g (28
0ミリモル)を溶解した溶液を滴加し、次いで、混合物
を室温で15分間、そして50℃で15分間保持した。
30℃で、アニソール70mlに溶解したテトラクロロフ
タル酸無水物57.2g (200ミリモル)を手早く加
え、混合物を100℃で1時間加熱した。冷却後、希酢
酸(2:5)210mlを用いて混合物を酸性化し、有機
相をデカンテーションによって取り出し、10%NaO
Hで処理し、沈澱した酸のナトリウム塩を濾取した。濾
過物をHCl水溶液で酸性化して、相当する酸14.8
g (21%) を単離した。
−(ピロール−2−イルカルボニル)安息香酸 ヨウ化エチル23.3ml(280ミリモル)を、アルゴ
ンの下で、アニソール70mlにマグネシウム6.9g
(28ミリモル)を加えた混合物に滴加し、混合物を6
5℃で1時間加熱した。次いで、混合物を0〜5℃に冷
却し、アニソール140mlにピロール19.6g (28
0ミリモル)を溶解した溶液を滴加し、次いで、混合物
を室温で15分間、そして50℃で15分間保持した。
30℃で、アニソール70mlに溶解したテトラクロロフ
タル酸無水物57.2g (200ミリモル)を手早く加
え、混合物を100℃で1時間加熱した。冷却後、希酢
酸(2:5)210mlを用いて混合物を酸性化し、有機
相をデカンテーションによって取り出し、10%NaO
Hで処理し、沈澱した酸のナトリウム塩を濾取した。濾
過物をHCl水溶液で酸性化して、相当する酸14.8
g (21%) を単離した。
【0103】(b)3,4,5,6−テトラクロロ−2
−(1−メチルピロール−2−イルカルボニル)安息香
酸 3,4,5,6−テトラクロロ−2−(ピロール−2−
イルカルボニル)安息香酸のナトリウム塩4g (11ミ
リモル)、35%KOH43ml及びヨウ化メチル3.3
ml(54ミリモル)を45℃で20時間加熱し、生じた
沈澱を室温で濾取し、水洗し、乾燥し、相当する安息香
酸3g (77%)を得た。融点:>270℃。
−(1−メチルピロール−2−イルカルボニル)安息香
酸 3,4,5,6−テトラクロロ−2−(ピロール−2−
イルカルボニル)安息香酸のナトリウム塩4g (11ミ
リモル)、35%KOH43ml及びヨウ化メチル3.3
ml(54ミリモル)を45℃で20時間加熱し、生じた
沈澱を室温で濾取し、水洗し、乾燥し、相当する安息香
酸3g (77%)を得た。融点:>270℃。
【0104】(c)標記化合物の製造 3,4,5,6−テトラクロロ−2−(1−メチルピロ
ール−2−イルカルボニル)安息香酸2.8g (8ミリ
モル)及びAlCl3 8.4g (63ミリモル)の混合
物をニトロベンゼン42ml中で120℃で12時間加熱
した。反応混合物を2規定HCl中に注入し、有機相を
トルエン及びテトラヒドロフラン(THF)との混合物
(1:1)中にとり、溶液を10%NaHCO3 水溶液
及び水で洗浄し、乾燥し、そして蒸留によって溶媒を除
去した。クロマトグラフィーによる精製(シリカゲル、
塩化メチレン)によって、相当するキノン260mg(1
0%)を得た:融点:238〜240℃。
ール−2−イルカルボニル)安息香酸2.8g (8ミリ
モル)及びAlCl3 8.4g (63ミリモル)の混合
物をニトロベンゼン42ml中で120℃で12時間加熱
した。反応混合物を2規定HCl中に注入し、有機相を
トルエン及びテトラヒドロフラン(THF)との混合物
(1:1)中にとり、溶液を10%NaHCO3 水溶液
及び水で洗浄し、乾燥し、そして蒸留によって溶媒を除
去した。クロマトグラフィーによる精製(シリカゲル、
塩化メチレン)によって、相当するキノン260mg(1
0%)を得た:融点:238〜240℃。
【0105】実施例A2:7,10−ジクロロベンゾ
[b]ナフト[2,3−d]チオフェン−6,11−ジ
オンの製造
[b]ナフト[2,3−d]チオフェン−6,11−ジ
オンの製造
【0106】(a)2−(ベンゾチオフェン−2−イル
カルボニル)−3,6−ジクロロ安息香酸 無水ジエチルエーテル15mlにベンゾチオフェン3.4
g (25.3ミリモル)を溶解した溶液を、アルゴンの
下で保持されていたn−ブチルリチウム(ヘキサン中で
1.6モル)17.3ml(27.7ミリモル)及び無水
ジエチルエーテル20mlの溶液に0〜10℃で滴加し
た。この混合物を室温で30分間撹拌し、次いで、1時
間還流した。この溶液を、無水ジエチルエーテル25ml
及び無水THF45mlに3,6−ジクロロフタル酸無水
物5g (23ミリモル)を溶解した溶液に0〜10℃で
加え、混合物を0〜5℃で2.5時間、そして室温で1
2時間撹拌して加水分解し、有機相を分離し、水洗し、
Na2 SO4 を用いて乾燥し、そしてロータリーエバポ
レーター上で溶媒を除去した。残留物をカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、酢酸エチル)を用いて精製し
て、5.1g (63%)を得た。分解温度:120℃。
カルボニル)−3,6−ジクロロ安息香酸 無水ジエチルエーテル15mlにベンゾチオフェン3.4
g (25.3ミリモル)を溶解した溶液を、アルゴンの
下で保持されていたn−ブチルリチウム(ヘキサン中で
1.6モル)17.3ml(27.7ミリモル)及び無水
ジエチルエーテル20mlの溶液に0〜10℃で滴加し
た。この混合物を室温で30分間撹拌し、次いで、1時
間還流した。この溶液を、無水ジエチルエーテル25ml
及び無水THF45mlに3,6−ジクロロフタル酸無水
物5g (23ミリモル)を溶解した溶液に0〜10℃で
加え、混合物を0〜5℃で2.5時間、そして室温で1
2時間撹拌して加水分解し、有機相を分離し、水洗し、
Na2 SO4 を用いて乾燥し、そしてロータリーエバポ
レーター上で溶媒を除去した。残留物をカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、酢酸エチル)を用いて精製し
て、5.1g (63%)を得た。分解温度:120℃。
【0107】(b)標記化合物の製造 ニトロベンゼン20mlに溶解した無水AlCl3 3.9
g (29.2ミリモル)とともに2−(ベンゾチオフェ
ン−2−イルカルボニル)−3,6−ジクロロ安息香酸
1.5g (4.3ミリモル)を135℃で2時間加熱し
た。2規定HClを用いて反応混合物を加水分解し、ト
ルエン/THF(1:1)で抽出した。10%NaHC
O3 水溶液で有機相を洗浄し、Na2 SO4 を用いて乾
燥し、溶媒を蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン1:1)を用
いて精製して、生成物0.73g (51%)を得た。融
点:>250℃。
g (29.2ミリモル)とともに2−(ベンゾチオフェ
ン−2−イルカルボニル)−3,6−ジクロロ安息香酸
1.5g (4.3ミリモル)を135℃で2時間加熱し
た。2規定HClを用いて反応混合物を加水分解し、ト
ルエン/THF(1:1)で抽出した。10%NaHC
O3 水溶液で有機相を洗浄し、Na2 SO4 を用いて乾
燥し、溶媒を蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン1:1)を用
いて精製して、生成物0.73g (51%)を得た。融
点:>250℃。
【0108】実施例A3:5,10−ジクロロアントラ
[2,3−b]チオフェン−4,11−ジオン及び4,
11−ジクロロアントラ[2,3−b]チオフェン−
5,10−ジオンの製造
[2,3−b]チオフェン−4,11−ジオン及び4,
11−ジクロロアントラ[2,3−b]チオフェン−
5,10−ジオンの製造
【0109】(a)5,10−ジヒドロキシアントラ
[2,3−b]チオフェン−4,11−ジオンの製造 チオフェン−2,3−ジカルボン酸無水物1g (6.5
ミリモル)、1,4−ジヒドロキシナフタレン0.7g
(4.4ミリモル)、ホウ酸無水物0.45g(6.5
ミリモル)、亜ジチオン酸ナトリウム6mg及びテトラ
メチレンスルホン2.5mlを混合して220℃で2時間
加熱した。混合物が再び110℃に達したときに、熱水
10mlを加え、沈澱を吸引濾過した。生成物を水洗し、
乾燥し、そしてカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、塩化メチレン)によって精製して、生成物0.29
g (22%)を得た。融点:215〜220℃。
[2,3−b]チオフェン−4,11−ジオンの製造 チオフェン−2,3−ジカルボン酸無水物1g (6.5
ミリモル)、1,4−ジヒドロキシナフタレン0.7g
(4.4ミリモル)、ホウ酸無水物0.45g(6.5
ミリモル)、亜ジチオン酸ナトリウム6mg及びテトラ
メチレンスルホン2.5mlを混合して220℃で2時間
加熱した。混合物が再び110℃に達したときに、熱水
10mlを加え、沈澱を吸引濾過した。生成物を水洗し、
乾燥し、そしてカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、塩化メチレン)によって精製して、生成物0.29
g (22%)を得た。融点:215〜220℃。
【0110】(b)標記化合物の製造 5,10−ジヒドロキシアントラ[2,3−b]チオフ
ェン−4,11−ジオン295mg(1ミリモル)をオキ
シ塩化リン5ml中で120℃で3日間撹拌し、溶液を氷
冷水に注入し、黒色沈澱を濾取し、水及びメタノールで
洗浄し、そして乾燥し、相当するキノン225mg(68
%)を得た。融点:226〜228℃。。
ェン−4,11−ジオン295mg(1ミリモル)をオキ
シ塩化リン5ml中で120℃で3日間撹拌し、溶液を氷
冷水に注入し、黒色沈澱を濾取し、水及びメタノールで
洗浄し、そして乾燥し、相当するキノン225mg(68
%)を得た。融点:226〜228℃。。
【0111】実施例A4:5−ベンジル−10−クロロ
ベンゾ[b]カルバゾール−6,11−ジオンの製造 無水ジエチルエーテル/THF(10:1)132mlに
N,N−ジエチル−3−クロロベンズアミド1g (4.
7ミリモル)を溶解した溶液を不活性気体下で−72℃
に冷却し、テトラメチレンジアミン0.7ml(4.7ミ
リモル)を加えた。ヘキサンに溶解した1.4M sec
−ブチルリチウム3.4mlを加え、混合物をこの温度で
2時間保持し、ジエチルエーテル/THF(5:1)4
8mlに溶解した1−ベンジルインドール−3−カルバル
デヒド1.1g (4.7ミリモル)を滴加した。1.5
時間後、混合物を−20℃まで徐々に温め、次いで、再
び−72℃に冷却し、更に4.25mlの1.4M sec
−ブチルリチウムを加え、混合物を一夜で、室温まで温
めた。有機相を水洗し、乾燥し、そしてロータリーエバ
ポレーターで溶媒を蒸発させた。カラムクロマトグラフ
ィー(シリカゲル、トルエン)を用いた精製によって、
相当するキノン260mg(15%)を得た。融点:19
5〜200℃。
ベンゾ[b]カルバゾール−6,11−ジオンの製造 無水ジエチルエーテル/THF(10:1)132mlに
N,N−ジエチル−3−クロロベンズアミド1g (4.
7ミリモル)を溶解した溶液を不活性気体下で−72℃
に冷却し、テトラメチレンジアミン0.7ml(4.7ミ
リモル)を加えた。ヘキサンに溶解した1.4M sec
−ブチルリチウム3.4mlを加え、混合物をこの温度で
2時間保持し、ジエチルエーテル/THF(5:1)4
8mlに溶解した1−ベンジルインドール−3−カルバル
デヒド1.1g (4.7ミリモル)を滴加した。1.5
時間後、混合物を−20℃まで徐々に温め、次いで、再
び−72℃に冷却し、更に4.25mlの1.4M sec
−ブチルリチウムを加え、混合物を一夜で、室温まで温
めた。有機相を水洗し、乾燥し、そしてロータリーエバ
ポレーターで溶媒を蒸発させた。カラムクロマトグラフ
ィー(シリカゲル、トルエン)を用いた精製によって、
相当するキノン260mg(15%)を得た。融点:19
5〜200℃。
【0112】実施例A5:10−クロロ−5−フェニル
ベンゾ[b]カルバゾール−6,11−ジオンの製造 実施例A4と同様にして、1−フェニルインドール−3
−カルバルデヒド1gから10−クロロ−5−フェニル
ベンゾ[b]カルバゾール−6,11−ジオン60mg
(3.5%)を得た。融点:>280℃。
ベンゾ[b]カルバゾール−6,11−ジオンの製造 実施例A4と同様にして、1−フェニルインドール−3
−カルバルデヒド1gから10−クロロ−5−フェニル
ベンゾ[b]カルバゾール−6,11−ジオン60mg
(3.5%)を得た。融点:>280℃。
【0113】実施例A6:1−ベンジル−5−クロロベ
ンズ[f]インドール−4,9−ジオンの製造
ンズ[f]インドール−4,9−ジオンの製造
【0114】(a)7−クロロ−3−(1−ベンジルピ
ロール−2−イル)フタリド 無水ジエチルエーテル/THF(10:1)825mlに
N,N−ジエチル−2−クロロベンズアミド6.3g
(30ミリモル)を溶解した溶液を不活性気体下で−7
2℃に冷却し、テトラメチレンジアミン4.5ml(30
ミリモル)を加えた。ヘキサンに溶解した1.4M se
c−ブチルリチウム24mlを加え、混合物をこの温度で
2.5時間保持し、ジエチルエーテル5mlに溶解した1
−ベンジルピロール−2−カルバルデヒド5.5g (3
0ミリモル)を滴加した。2時間後、この混合物を徐々
に室温まで温めた。有機相を水洗し、乾燥し、そしてロ
ータリーエバポレーターで溶媒を蒸発させた。残留物を
クロロホルムに溶解し、シリカゲル8g を加え、混合物
を17時間還流した。冷却した反応混合物を濾過し、そ
して溶媒を蒸発させた。カラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル、塩化メチレン)を用いた精製によって、相当
するフタリド4.4g (42%)を得た。融点:134
〜136℃。
ロール−2−イル)フタリド 無水ジエチルエーテル/THF(10:1)825mlに
N,N−ジエチル−2−クロロベンズアミド6.3g
(30ミリモル)を溶解した溶液を不活性気体下で−7
2℃に冷却し、テトラメチレンジアミン4.5ml(30
ミリモル)を加えた。ヘキサンに溶解した1.4M se
c−ブチルリチウム24mlを加え、混合物をこの温度で
2.5時間保持し、ジエチルエーテル5mlに溶解した1
−ベンジルピロール−2−カルバルデヒド5.5g (3
0ミリモル)を滴加した。2時間後、この混合物を徐々
に室温まで温めた。有機相を水洗し、乾燥し、そしてロ
ータリーエバポレーターで溶媒を蒸発させた。残留物を
クロロホルムに溶解し、シリカゲル8g を加え、混合物
を17時間還流した。冷却した反応混合物を濾過し、そ
して溶媒を蒸発させた。カラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル、塩化メチレン)を用いた精製によって、相当
するフタリド4.4g (42%)を得た。融点:134
〜136℃。
【0115】(b)6−クロロ−2−(1−ベンジルピ
ロール−2−イルメチル)安息香酸 ピリジン150mlに溶解した7−クロロ−3−(1−ベ
ンジルピロール−2−イル)フタリド3g (9.3ミリ
モル)を15%KOH水溶液670ml、水500ml及び
銅活性化亜鉛24g とともに24時間還流した。沈澱を
吸引濾過し、濃HClを用いて濾液をpH5〜6に調整
し、CH2 Cl2 で抽出した。Na2 SO4 を用いて有
機相を乾燥させ、そして溶媒を蒸発させた。残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル、CH2 Cl2 /
ヘキサン2:1)を用いて精製し、生成物0.48g
(16%)を得た。
ロール−2−イルメチル)安息香酸 ピリジン150mlに溶解した7−クロロ−3−(1−ベ
ンジルピロール−2−イル)フタリド3g (9.3ミリ
モル)を15%KOH水溶液670ml、水500ml及び
銅活性化亜鉛24g とともに24時間還流した。沈澱を
吸引濾過し、濃HClを用いて濾液をpH5〜6に調整
し、CH2 Cl2 で抽出した。Na2 SO4 を用いて有
機相を乾燥させ、そして溶媒を蒸発させた。残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル、CH2 Cl2 /
ヘキサン2:1)を用いて精製し、生成物0.48g
(16%)を得た。
【0116】(c)標記化合物の製造 6−クロロ−2−(1−ベンジルピロール−2−イルメ
チル)安息香酸360mg(1.1ミリモル)をCH2 C
l2 4mlに懸濁し、トリフルオロ酢酸無水物1.6ml
(1.1ミリモル)を加え、混合物を室温で6時間撹拌
した。10%NaHCO3 水溶液を用いて有機相を中和
し、水洗し、Na2 SO4 を用いて乾燥し、そして溶媒
を蒸発させた。残留物をメタノールに溶解した40%ト
リトンB(登録商標)4ml及びメタノール20mlに溶解
し、この溶液を長時間通気した。次いで、CH2 Cl2
を加え、有機相を2規定HClで洗浄し、次いで水で中
性まで洗浄し、Na2 SO4 を用いて乾燥し、そして溶
媒を蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、CH2 Cl2 /ヘキサン2:1)を用い
て精製し、生成物20mg(6%)を得た。
チル)安息香酸360mg(1.1ミリモル)をCH2 C
l2 4mlに懸濁し、トリフルオロ酢酸無水物1.6ml
(1.1ミリモル)を加え、混合物を室温で6時間撹拌
した。10%NaHCO3 水溶液を用いて有機相を中和
し、水洗し、Na2 SO4 を用いて乾燥し、そして溶媒
を蒸発させた。残留物をメタノールに溶解した40%ト
リトンB(登録商標)4ml及びメタノール20mlに溶解
し、この溶液を長時間通気した。次いで、CH2 Cl2
を加え、有機相を2規定HClで洗浄し、次いで水で中
性まで洗浄し、Na2 SO4 を用いて乾燥し、そして溶
媒を蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、CH2 Cl2 /ヘキサン2:1)を用い
て精製し、生成物20mg(6%)を得た。
【0117】実施例A7:N−フェニル−5−クロロベ
ンズ[f]インドール−4,9−ジオンの製造 1−フェニルピロール−2−カルバルデヒドを用い、実
施例A6と同様にして、56%の7−クロロ−3−(1
−フェニルピロール−2−イル)フタリドを得た。これ
を実施例A6(b)と同様にして、6−クロロ−2−
(1−フェニルピロール−2−イルメチル)安息香酸
(収率5%)へと転換し、次いで、実施例A6(c)と
同様にして、標記化合物(収率30%)へと転換した。
ンズ[f]インドール−4,9−ジオンの製造 1−フェニルピロール−2−カルバルデヒドを用い、実
施例A6と同様にして、56%の7−クロロ−3−(1
−フェニルピロール−2−イル)フタリドを得た。これ
を実施例A6(b)と同様にして、6−クロロ−2−
(1−フェニルピロール−2−イルメチル)安息香酸
(収率5%)へと転換し、次いで、実施例A6(c)と
同様にして、標記化合物(収率30%)へと転換した。
【0118】実施例A8:3−シアノ−5−及び−8−
ニトロ−2−フェニルナフト[2,3−b]フラン−
4,9−ジオンの異性体混合物の製造 2,3−ジクロロ−5−ニトロナフトキノン4g (1
4.7ミリモル)及びベンゾイルアセトニトリル3.2
g (22ミリモル)の懸濁液にピリジン40mlを加え、
混合物を4.5時間還流した。反応混合物を一夜、5℃
に冷却し、褐色沈澱を吸引濾過し、エタノール及びジエ
チルエーテルで洗浄し、乾燥した。クロマトグラフィー
(シリカゲル、トルエン/ヘキサン2:1)を用いた精
製によって、標記化合物660mg(13%)を得た。融
点:>300℃。
ニトロ−2−フェニルナフト[2,3−b]フラン−
4,9−ジオンの異性体混合物の製造 2,3−ジクロロ−5−ニトロナフトキノン4g (1
4.7ミリモル)及びベンゾイルアセトニトリル3.2
g (22ミリモル)の懸濁液にピリジン40mlを加え、
混合物を4.5時間還流した。反応混合物を一夜、5℃
に冷却し、褐色沈澱を吸引濾過し、エタノール及びジエ
チルエーテルで洗浄し、乾燥した。クロマトグラフィー
(シリカゲル、トルエン/ヘキサン2:1)を用いた精
製によって、標記化合物660mg(13%)を得た。融
点:>300℃。
【0119】実施例A9:3−アセチル−2−メチル−
5−及び−8−ニトロナフト[2,3−b]フラン−
4,9−ジオンの異性体混合物の製造
5−及び−8−ニトロナフト[2,3−b]フラン−
4,9−ジオンの異性体混合物の製造
【0120】無水エタノール50mlにナトリウムアセチ
ルアセトナート2.6g (22ミリモル)を溶解した溶
液を、無水エタノール100ml中の2,3−ジクロロ−
5−ニトロナフトキノン3g (11ミリモル)の懸濁液
に加え、混合物を40分間撹拌し、濾過した。2規定H
Clを用いて濾液を酸性化し、CH2 Cl2 で抽出し
た。有機相を水洗し、Na2 SO4 上で乾燥し、そして
溶媒を蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、CH2 Cl2 /ヘキサン1:1)を用い
て精製し、生成物3.4g (92%)を得た。このもの
をエタノール150mlに溶解し、トリブチルアミン30
mlを加え、混合物を1時間還流した。反応混合物を希H
Clに注入し、CH2 Cl2 で抽出した。有機相を希H
Cl、NaCl飽和水溶液及び水で洗浄し、Na2 SO
4 上で乾燥し、そして溶媒を蒸発させた。残渣をカラム
クロマトグラフィー(シリカゲル、CH2 Cl2 /ヘキ
サン1:1)を用いて精製し、生成物2.2g (73
%)を得た。融点:198〜202℃。
ルアセトナート2.6g (22ミリモル)を溶解した溶
液を、無水エタノール100ml中の2,3−ジクロロ−
5−ニトロナフトキノン3g (11ミリモル)の懸濁液
に加え、混合物を40分間撹拌し、濾過した。2規定H
Clを用いて濾液を酸性化し、CH2 Cl2 で抽出し
た。有機相を水洗し、Na2 SO4 上で乾燥し、そして
溶媒を蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、CH2 Cl2 /ヘキサン1:1)を用い
て精製し、生成物3.4g (92%)を得た。このもの
をエタノール150mlに溶解し、トリブチルアミン30
mlを加え、混合物を1時間還流した。反応混合物を希H
Clに注入し、CH2 Cl2 で抽出した。有機相を希H
Cl、NaCl飽和水溶液及び水で洗浄し、Na2 SO
4 上で乾燥し、そして溶媒を蒸発させた。残渣をカラム
クロマトグラフィー(シリカゲル、CH2 Cl2 /ヘキ
サン1:1)を用いて精製し、生成物2.2g (73
%)を得た。融点:198〜202℃。
【0121】実施例A10:2−カルボキシエチル−5
−エチル−7−及び−10−ニトロベンゾ[b]カルバ
ゾール−6,11−ジオンの異性体混合物の製造。
−エチル−7−及び−10−ニトロベンゾ[b]カルバ
ゾール−6,11−ジオンの異性体混合物の製造。
【0122】(a)2−(4−カルボキシエチルアニリ
ノ)−5−及び−8−ニトロ−1,4−ナフトキノンの
異性体混合物 2,3−ジクロロ−5−及び−8−ニトロ−1,4−ナ
フトキノン3g (11ミリモル)及びp−アミノ安息香
酸エチル1.82g (11ミリモル)をピリジン100
ml中で16時間還流した。反応混合物を2規定HClに
注入し、CH2Cl2 で抽出し、そして有機相を2規定
HClで洗浄し、Na2 SO4 上で乾燥し、そして溶媒
を蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル、CH2 Cl2 )を用いて精製し、生成物83
0mg(21%)を得た。
ノ)−5−及び−8−ニトロ−1,4−ナフトキノンの
異性体混合物 2,3−ジクロロ−5−及び−8−ニトロ−1,4−ナ
フトキノン3g (11ミリモル)及びp−アミノ安息香
酸エチル1.82g (11ミリモル)をピリジン100
ml中で16時間還流した。反応混合物を2規定HClに
注入し、CH2Cl2 で抽出し、そして有機相を2規定
HClで洗浄し、Na2 SO4 上で乾燥し、そして溶媒
を蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル、CH2 Cl2 )を用いて精製し、生成物83
0mg(21%)を得た。
【0123】(b)2−カルボキシエチル−7−及び−
10−ニトロベンゾ[b]カルバゾール−6,11−ジ
オンの異性体混合物 2−(4−カルボキシエチルアニリノ)−5−及び−8
−ニトロ−1,4−ナフトキノン1.4g (3.8ミリ
モル)、酢酸パラジウム(II)0.86g (3.8ミリ
モル)及びp−ベンゾキノン0.41g (3.8ミリモ
ル)を氷酢酸25ml中で110℃で7時間撹拌し、次い
で、水350ml中に導き、CH2 Cl2生成物を抽出し
た。有機相を水洗し、Na2 SO4 を用いて乾燥し、そ
して溶媒を蒸発させた。暗赤色の残留物をCH2 Cl2
/メタノール(1:5)とともに撹拌し、残留した橙色
の固体をメタノールで洗浄し、乾燥し、生成物213mg
(15%)を得た。融点:>300℃。
10−ニトロベンゾ[b]カルバゾール−6,11−ジ
オンの異性体混合物 2−(4−カルボキシエチルアニリノ)−5−及び−8
−ニトロ−1,4−ナフトキノン1.4g (3.8ミリ
モル)、酢酸パラジウム(II)0.86g (3.8ミリ
モル)及びp−ベンゾキノン0.41g (3.8ミリモ
ル)を氷酢酸25ml中で110℃で7時間撹拌し、次い
で、水350ml中に導き、CH2 Cl2生成物を抽出し
た。有機相を水洗し、Na2 SO4 を用いて乾燥し、そ
して溶媒を蒸発させた。暗赤色の残留物をCH2 Cl2
/メタノール(1:5)とともに撹拌し、残留した橙色
の固体をメタノールで洗浄し、乾燥し、生成物213mg
(15%)を得た。融点:>300℃。
【0124】(c)標記化合物の製造 2−カルボキシエチル−7−及び−10−ニトロベンゾ
[b]カルバゾール−6,11−ジオン195mg(0.
53ミリモル)、ヨウ化エチル170mg(1.07ミリ
モル)及び炭酸カリウム150mg(1.07ミリモル)
をDMF5mg中で40℃で3時間撹拌した。反応混合物
に10%HClを加え、そしてCH2 Cl2 を用いて生
成物を抽出した。有機相をNaCl飽和水溶液で洗浄
し、Na2SO4 を用いて乾燥し、そして溶媒を蒸発さ
せた。残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、CH2 Cl2 )を用いて精製し、生成物195mg
(93%)を得た。融点:271〜277℃。
[b]カルバゾール−6,11−ジオン195mg(0.
53ミリモル)、ヨウ化エチル170mg(1.07ミリ
モル)及び炭酸カリウム150mg(1.07ミリモル)
をDMF5mg中で40℃で3時間撹拌した。反応混合物
に10%HClを加え、そしてCH2 Cl2 を用いて生
成物を抽出した。有機相をNaCl飽和水溶液で洗浄
し、Na2SO4 を用いて乾燥し、そして溶媒を蒸発さ
せた。残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、CH2 Cl2 )を用いて精製し、生成物195mg
(93%)を得た。融点:271〜277℃。
【0125】実施例A11:5,8−ジクロロナフト
[2,3−d]チオフェン−4,9−ジオンの製造 マグネシウムの削りくず0.75g (30.75ミリモ
ル)、無水ジエチルエーテル36ml及び2−ブロモチオ
フェン4.01g (24.6ミリモル)から、還流下で
の撹拌によって、チオフェン−2−マグネシウム臭化物
の懸濁液を調製し、この懸濁液を45〜50℃で3,6
−ジクロロフタル酸無水物34g (24.6ミリモル)
の溶液に滴加した。この混合物を還流下で90分間撹拌
し、次いで、希塩酸を用いて加水分解し、そしてトルエ
ンで抽出した。加え併せた有機相をNa2 SO4 上で乾
燥し、次いで、溶媒を蒸発させた。粗製生成物(7.4
g)をニトロベンゼン77mlにとり、AlCl3 15.
3g を加え、そして混合物を135℃で6.5時間撹拌
した。冷却後、混合物を2規定HCl水溶液を用いて加
水分解し、次いで、テトラヒドロフラン/トルエンで抽
出した。加え併せた有機相をNaHCO3 水溶液、水及
び飽和NaClで洗浄し、Na2 SO4 上で乾燥し、次
いで溶媒を蒸発させた。シリカゲルによるカラムクロマ
トグラフィー(塩化メチレン/ヘキサン、3:2)及び
トルエン/ヘキサンからの再結晶によって、標記化合物
1.46g (30%)を得た。
[2,3−d]チオフェン−4,9−ジオンの製造 マグネシウムの削りくず0.75g (30.75ミリモ
ル)、無水ジエチルエーテル36ml及び2−ブロモチオ
フェン4.01g (24.6ミリモル)から、還流下で
の撹拌によって、チオフェン−2−マグネシウム臭化物
の懸濁液を調製し、この懸濁液を45〜50℃で3,6
−ジクロロフタル酸無水物34g (24.6ミリモル)
の溶液に滴加した。この混合物を還流下で90分間撹拌
し、次いで、希塩酸を用いて加水分解し、そしてトルエ
ンで抽出した。加え併せた有機相をNa2 SO4 上で乾
燥し、次いで、溶媒を蒸発させた。粗製生成物(7.4
g)をニトロベンゼン77mlにとり、AlCl3 15.
3g を加え、そして混合物を135℃で6.5時間撹拌
した。冷却後、混合物を2規定HCl水溶液を用いて加
水分解し、次いで、テトラヒドロフラン/トルエンで抽
出した。加え併せた有機相をNaHCO3 水溶液、水及
び飽和NaClで洗浄し、Na2 SO4 上で乾燥し、次
いで溶媒を蒸発させた。シリカゲルによるカラムクロマ
トグラフィー(塩化メチレン/ヘキサン、3:2)及び
トルエン/ヘキサンからの再結晶によって、標記化合物
1.46g (30%)を得た。
【0126】B.アリールオキシ置換化合物の製造
【0127】実施例B1〜B16:実施例A1〜A10
の化合物、フェノール及びK2 CO310mg(1.5ミ
リモル)を溶媒2ml中で115℃で14時間加熱した。
次いで、反応混合物を希HClに注入し、沈澱を吸引濾
過し、そして水及び少量のメタノールで洗浄し、減圧下
で乾燥した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、
塩化メチレン)を用いて粗製生成物を精製し、そして塩
化メチレン/ヘキサンから再結晶した。用いた溶媒は、
実施例B1〜B4、B7及びB9〜B15ではジメチル
スルホキシド、実施例B6及びB8ではフェノール、そ
して実施例B16ではトルエンである。フェノールの等
価体の数、及びセ氏での反応温度は:B1(4/10
0)、B2(2/80)、B3及びB4(1/90)、
B5(6/110)、B6(>1、フェノールが溶媒/
140)、B7(2/120)、B8(>1、フェノー
ルが溶媒/120)、B9(2.4/110)、B10
(2.5/80)、B11〜B14(2.5/60)、
B15(5/80)、B16(2.5/110)であ
る。その他の詳細を第1表に示した。
の化合物、フェノール及びK2 CO310mg(1.5ミ
リモル)を溶媒2ml中で115℃で14時間加熱した。
次いで、反応混合物を希HClに注入し、沈澱を吸引濾
過し、そして水及び少量のメタノールで洗浄し、減圧下
で乾燥した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、
塩化メチレン)を用いて粗製生成物を精製し、そして塩
化メチレン/ヘキサンから再結晶した。用いた溶媒は、
実施例B1〜B4、B7及びB9〜B15ではジメチル
スルホキシド、実施例B6及びB8ではフェノール、そ
して実施例B16ではトルエンである。フェノールの等
価体の数、及びセ氏での反応温度は:B1(4/10
0)、B2(2/80)、B3及びB4(1/90)、
B5(6/110)、B6(>1、フェノールが溶媒/
140)、B7(2/120)、B8(>1、フェノー
ルが溶媒/120)、B9(2.4/110)、B10
(2.5/80)、B11〜B14(2.5/60)、
B15(5/80)、B16(2.5/110)であ
る。その他の詳細を第1表に示した。
【0128】
【表1】
【0129】
【表2】
【0130】
【表3】
【0131】
【表4】
【0132】
【表5】
【0133】a)対応する出発化合物は、[J. Org. Ch
em.,24,1756(1959) 及びJ. Org. Chem.,26,3152(1961)
]の方法を用いて製造した。
em.,24,1756(1959) 及びJ. Org. Chem.,26,3152(1961)
]の方法を用いて製造した。
【0134】C.使用実施例
【0135】実施例C1〜C16:実施例B1〜B16
の化合物又は化合物の混合物(パラキノン類)をガラス
支持体に被覆し、350〜420nmの波長を有する光で
照射し、アナキノンBが形成された。得られたアナキノ
ンBを含有する層への450〜600nmの波長を有する
光による照射によって、パラキノンAを含有する層が更
に得られた。第2表に、出発化合物B1〜B16に対す
る[λmax (A)]、及び可逆的ホトクロミック系の対
応するアナキノン[λmax (B)]の吸光最大値を示し
た。
の化合物又は化合物の混合物(パラキノン類)をガラス
支持体に被覆し、350〜420nmの波長を有する光で
照射し、アナキノンBが形成された。得られたアナキノ
ンBを含有する層への450〜600nmの波長を有する
光による照射によって、パラキノンAを含有する層が更
に得られた。第2表に、出発化合物B1〜B16に対す
る[λmax (A)]、及び可逆的ホトクロミック系の対
応するアナキノン[λmax (B)]の吸光最大値を示し
た。
【0136】
【表6】
【0137】実施例C17:化合物B14の25mgを5
0℃でエトキシビスフェノールAジメチルアクリレート
1g に溶解し、50℃でビスフェノールAジグリシジル
ジアクリレート1g 及びアゾイソブチロニトリル10mg
を加え、澄明な橙色の混合物が形成されるまで撹拌しつ
つ混合した。
0℃でエトキシビスフェノールAジメチルアクリレート
1g に溶解し、50℃でビスフェノールAジグリシジル
ジアクリレート1g 及びアゾイソブチロニトリル10mg
を加え、澄明な橙色の混合物が形成されるまで撹拌しつ
つ混合した。
【0138】1mmのテフロンスペーサを有する2枚のガ
ラス板の間に配合物を導入し、80℃で20時間硬化さ
せた。
ラス板の間に配合物を導入し、80℃で20時間硬化さ
せた。
【0139】澄明な橙色のシートを部分的に隠蔽し、2
00W の水銀ショートアーク灯を用い、420nm長波長
パスフィルターを通じて2分間照射した。照射された帯
域は、青灰色に変色した。露光した帯域は、515nmの
長波長パスフィルターを通じた照射によって、最初の状
態に戻すことができる。
00W の水銀ショートアーク灯を用い、420nm長波長
パスフィルターを通じて2分間照射した。照射された帯
域は、青灰色に変色した。露光した帯域は、515nmの
長波長パスフィルターを通じた照射によって、最初の状
態に戻すことができる。
Claims (26)
- 【請求項1】 式(I)又は(II): 【化1】 (式中、Xは−O−、−S−又は−NR8 −であり;R
1 及びR2 は、互いに独立に、H、C1 −C4 アルキ
ル、C1 −C4 アルコキシ、フェニル、ベンジル、−O
R9 、−CN、−CO2 R10、−CO−R11若しくはハ
ロゲンであるか、又はR1 とR2 は、一緒になって、−
CH=CR12−CR13=CH−であり;R3は−OR9
基であり;R4 はH、ハロゲン又は−OR9 基であり;
R5 及びR6は、互いに独立に、R1 及びR2 と同義で
あるか、又はR5 とR6 は、一緒になって、1,2−ベ
ンゾブタ−1,3−ジエン−1,4−ジイルであり;R
7 はH、ハロゲン又は−OR9 基であり;R8 は、H、
直鎖若しくは分岐鎖のC1 −C18アルキル、或はそれぞ
れ非置換又はC1 −C4 アルキル若しくはC1 −C4 ア
ルコキシで置換された、フェニル若しくはベンジルであ
り;R9 は、非置換又はC1 −C12アルキル、C1 −C
12アルコキシ、C1 −C12アルキルチオ、C1 −C12ア
ルキルスルフィニル、C1 −C12アルキルスルホニル、
フェニル、ベンジル、−CN、−CF3 、ハロゲン、−
CO−R11若しくは−CO2 R10で置換されたC6 −C
14アリールであり;R10は、H、C1 −C18アルキル、
シクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、C1 −C
12アルキルフェニル、ベンジル又はC1 −C12アルキル
ベンジルであり;R11は、H、C1 −C4 アルキル又は
フェニルであり;そしてR12及びR13は、独立に、R1
及びR2 と同義である)で示される化合物、又は式
(I)の化合物及び式(II)の化合物の混合物。 - 【請求項2】 アルキル又はアルコキシであるR1 及び
R2 が、メチル、エチル、メトキシ又はエトキシである
請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 ハロゲンであるR1 及びR2 が、F、C
l又はBrである請求項1記載の化合物。 - 【請求項4】 R1 及びR2 が、H若しくはR9 基であ
るか、又はR1 とR2 が、一緒になって、−CH=CH
−CH=CH−基である請求項1記載の化合物。 - 【請求項5】 ハロゲンであるR4 及びR7 がClであ
る請求項1記載の化合物。 - 【請求項6】 R8 がC1 −C4 アルキル、フェニル又
はベンジルである請求項1記載の化合物。 - 【請求項7】 R5 及びR6 が、H、C1 −若しくはC
2 −アルキル、C1−若しくはC2 −アルコキシ、−C
N、−CO2 −(C1 −C4 アルキル)、−CO−(C
1 −C4 アルキル)、フェニル又はベンジルであるか、
或はR5 とR6 が、一緒になって、1,2−ベンゾブタ
−1,3−ジエン−1,4−ジイル又は−CH=CR12
−CR13=CH−基(ここで、R12及びR13は、H、C
1 −若しくはC2 −アルキル、C1 −若しくはC2 −ア
ルコキシ、又は−CO2 −(C1 −C4 アルキル)であ
る)である請求項1記載の化合物。 - 【請求項8】 R12及びR13の一方がHである請求項7
記載の化合物。 - 【請求項9】 R9 が非置換又は置換フェニルである請
求項7記載の化合物。 - 【請求項10】 R10がH又はC1 −C18アルキルであ
る請求項1記載の化合物。 - 【請求項11】 R11がH、メチル、エチル又はフェニ
ルである請求項1記載の化合物。 - 【請求項12】 R12及びR13が、H、C1 −若しくは
C2 −アルキル、C1 −若しくはC2 −アルコキシ、又
は−CO2 −(C1 −C4 アルキル)である請求項1記
載の化合物。 - 【請求項13】 R12及びR13の一方がHであり、他方
がC1 −若しくはC2 −アルキル、C1 −若しくはC2
−アルコキシ、又は−CO2 −(C1 −C4ルキル)で
ある請求項12記載の化合物。 - 【請求項14】 R12及び/又はR13が、メトキシ、エ
トキシ、−C(O)OCH3 又は- C(O)OC2 H5
である請求項12又は13記載の化合物。 - 【請求項15】 R1 及びR2 が、H若しくは−OC6
H5 であるか、又はR1 とR2 が、一緒になって、−C
H=CH−CH=CH−であり、R3 が、−OC6 H5
であり、R4 及びR7 が、H、Cl又は−OC6 H5 で
あり、R5 及びR6 が、互いに独立に、H、−CN、メ
チル、エチル、−C6 H5 、−CO−CH3 若しくは−
C(O)−C2 H5 であるか、又はR5 とR6 が、一緒
になって、1,2−ベンゾブタ−1,3−ジエン−1,
4−ジイル若しくは−CH=CR12−CR13=CH−基
(ここで、R12及びR13は、互いに独立に、H、メチ
ル、エチル、メトキシ、エトキシ、−CO2 CH3 又は
−CO2 C2 H5 である)であり、そしてXが−O−、
−S−又は−NR8 −(ここで、R8 はC1 −C4アル
キル、ベンジル又はフェニルである)である請求項1記
載の化合物。 - 【請求項16】 請求項1記載の式(I)又は(II)の
化合物の製造方法であって、上昇した温度で、極性非プ
ロトン性又はプロトン性溶媒の存在下で、式(III )又
は(IV): 【化2】 (式中、R1 、R2 、R5 、R6 及びXは請求項1と同
義であり、Yはハロゲン又は−NO2 であり、そしてY
1 はH、ハロゲン又は−NO2 である)で示される化合
物を、式R9 O- M+ で示される化合物(ここで、R9
は請求項1と同義であり、そしてM+ はアルカリ金属カ
チオン又はアンモニウムカチオンである)の少なくとも
当量と反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項17】 式(III )又は(IV): 【化3】 (式中、R1 、R2 、R5 、R6 及びXは請求項1と同
義であり、Yはハロゲン又は−NO2 であり、そしてY
1 はH、ハロゲン又は−NO2 である)で示される化合
物。 - 【請求項18】 式(V)又は(VI): 【化4】 (式中、X及びR1 ないしR7 は請求項1と同義であ
る)で示される化合物。 - 【請求項19】 (a)放射線感受性有機材料、及び
(b)式(I)若しくは(II)、又は(V)若しくは
(VI)の化合物のうち少なくとも1種、或はそれらの混
合物を含むことを特徴とする放射線感受性組成物。 - 【請求項20】 式(I)若しくは(II)、又は(V)
若しくは(VI)の化合物、或はそれらの混合物が、成分
(a)に基づいて0.001〜20重量%の量で存在す
る請求項19記載の組成物。 - 【請求項21】 (a)無色の有機溶媒、重合体又は有
機ガラス若しくは合わせガラス;及び(b)少なくとも
一つの表面の被覆剤として溶解又は混入された、式
(I)若しくは(II)、又は(V)若しくは(VI)の化
合物、或はそれらの混合物;を含むことを特徴とする組
成物。 - 【請求項22】 成分(b)が、成分(a)に基づいて
0.001〜20重量%の量で存在する請求項21記載
の組成物。 - 【請求項23】 光の作用で着色された材料を製造する
方法であって、式(I)若しくは(II)、又は(V)若
しくは(VI)の化合物を材料中に混入し、次いで、材料
を露光することを特徴とする方法。 - 【請求項24】 対照又は吸光のための可逆的ホトクロ
ミック系としての式(I)若しくは(II)、又は(V)
若しくは(VI)の化合物の用途。 - 【請求項25】 露光に対するカラーインジケータ又は
光学的切換え可能なカラーフィルタとしての、式(I)
若しくは(II)、又は(V)若しくは(VI)の化合物の
用途。 - 【請求項26】 情報の可逆的な光学的記憶に用いるた
めの式(I)若しくは(II)、又は(V)若しくは(V
I)の化合物の用途であって、該化合物を含有する記憶
活性層に光、好ましくはレーザー光を用いて情報が書き
込まれることを特徴とする式(I)若しくは(II)、又
は(V)若しくは(VI)の化合物の用途。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH314192 | 1992-10-08 | ||
| CH3141/92-0 | 1992-10-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06199787A true JPH06199787A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=4249493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5253088A Pending JPH06199787A (ja) | 1992-10-08 | 1993-10-08 | ホトクロミック化合物、それらの製造方法及びそれらの用途 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0592366A1 (ja) |
| JP (1) | JPH06199787A (ja) |
| KR (1) | KR940009166A (ja) |
| CA (1) | CA2107806A1 (ja) |
| MX (1) | MX9306257A (ja) |
| TW (1) | TW252136B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018096401A1 (en) | 2016-11-22 | 2018-05-31 | Hitoshi Ban | New naphtho[2,3-b]furan derivatives |
| US10017488B2 (en) | 2014-02-07 | 2018-07-10 | Boston Biomedical, Inc. | 3-substituted carbonyl-naphtho[2,3-B]furane derivative or pharmaceutically acceptable salt thereof |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020047350A (ko) * | 2000-12-13 | 2002-06-22 | 이병철 | 반도체 조립공정에서의 공정진도의 확인방법 |
| EP1986247A1 (en) * | 2005-05-12 | 2008-10-29 | MERCK PATENT GmbH | Polyacene and semiconductor Formulation |
| HRP20160625T1 (hr) * | 2007-09-10 | 2016-08-12 | Boston Biomedical, Inc. | Novi inhibitori stat3 signalnog puta i inhibitori matičnih stanica raka |
| FR2940975B1 (fr) * | 2009-01-13 | 2011-02-25 | Centre Nat Rech Scient | Materiau composite photochrome |
| FR2983487B1 (fr) | 2011-12-06 | 2015-02-20 | Centre Nat Rech Scient | Compositions de materiaux photocommutables. |
| CA2908380A1 (en) | 2013-04-09 | 2014-10-16 | Boston Biomedical, Inc. | Methods for treating cancer |
| US10906914B2 (en) | 2015-01-08 | 2021-02-02 | The United States Of America, As Represented By The Secretary, Department Of Health And Human Services | Furoquinolinediones as inhibitors of TDP2 |
| WO2018102427A1 (en) | 2016-11-29 | 2018-06-07 | Boston Biomedical, Inc. | Naphthofuran derivatives, preparation, and methods of use thereof |
| WO2018213424A1 (en) | 2017-05-17 | 2018-11-22 | Boston Biomedical, Inc. | Methods for treating cancer |
| CN120136832A (zh) * | 2025-05-14 | 2025-06-13 | 云南民族大学 | 一种抗氧化活性的萘并[2,3-b]呋喃-5,8-二酮类化合物及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2501131A (en) * | 1947-01-22 | 1950-03-21 | Du Pont | Nitro-thiophanthraquinones |
| US2513574A (en) * | 1947-01-22 | 1950-07-04 | Du Pont | Halogen thiophanthraquinones |
| US2513790A (en) * | 1948-11-24 | 1950-07-04 | Du Pont | Mono-halogen-substitutedthiophanthraquinone |
| US3033879A (en) * | 1958-02-17 | 1962-05-08 | Du Pont | Halogeno-dinaphtho-furan-diones |
| US3447922A (en) * | 1964-12-28 | 1969-06-03 | Xerox Corp | Electrically photosensitive particles useful in photoelectrophoretic and xerographic imaging processes |
| GB1586366A (en) * | 1977-03-17 | 1981-03-18 | Ici Ltd | Process for the preparation of 4,9-dihydronaphtho(2,3-b)thiophene-4,9-diones |
| JPS549239A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-24 | Iwaki Seiyaku Kk | Process for preparing oo*nnarylamino*phenyacetate derivative |
| DE2855939A1 (de) * | 1978-12-23 | 1980-07-10 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von diphenoxyanthrachinonen |
| JPH0726091B2 (ja) * | 1985-03-06 | 1995-03-22 | 住友化学工業株式会社 | エレクトロクロミツク表示装置 |
| EP0438376B1 (de) * | 1990-01-18 | 1994-01-26 | Ciba-Geigy Ag | Photochrome Naphthacenchinone, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
-
1993
- 1993-09-10 TW TW082107437A patent/TW252136B/zh active
- 1993-09-29 EP EP93810689A patent/EP0592366A1/de not_active Withdrawn
- 1993-10-06 CA CA002107806A patent/CA2107806A1/en not_active Abandoned
- 1993-10-07 MX MX9306257A patent/MX9306257A/es unknown
- 1993-10-07 KR KR1019930020704A patent/KR940009166A/ko not_active Withdrawn
- 1993-10-08 JP JP5253088A patent/JPH06199787A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10017488B2 (en) | 2014-02-07 | 2018-07-10 | Boston Biomedical, Inc. | 3-substituted carbonyl-naphtho[2,3-B]furane derivative or pharmaceutically acceptable salt thereof |
| US10683274B2 (en) | 2014-02-07 | 2020-06-16 | Boston Biomedical, Inc. | 3-substituted carbonyl-naphtho[2,3-B]furane derivative or pharmaceutically acceptable salt thereof |
| WO2018096401A1 (en) | 2016-11-22 | 2018-05-31 | Hitoshi Ban | New naphtho[2,3-b]furan derivatives |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940009166A (ko) | 1994-05-20 |
| CA2107806A1 (en) | 1994-04-09 |
| TW252136B (ja) | 1995-07-21 |
| EP0592366A1 (de) | 1994-04-13 |
| MX9306257A (es) | 1994-04-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5488119A (en) | Polymerisable photochromic naphthacenediones, polymers of these monomers, process for their preparation and the use thereof | |
| US4685783A (en) | Polychromic tetracyclo-spiro-adamatylidene derivatives, and polychromic lens incorporating said compounds | |
| JP4301621B2 (ja) | クロメン化合物 | |
| JP4157239B2 (ja) | クロメン化合物 | |
| JP3801386B2 (ja) | クロメン化合物 | |
| JPH0558941A (ja) | 光互変性のナフタセンキノン類、それらの製法及び用途 | |
| JP4256985B2 (ja) | クロメン化合物 | |
| WO2002070624A1 (en) | Photochromic material | |
| JPH06199787A (ja) | ホトクロミック化合物、それらの製造方法及びそれらの用途 | |
| JPH08295690A (ja) | クロメン化合物 | |
| JPH05505641A (ja) | スクエアリリウムおよびクロコニリウム染料 | |
| JP2000344761A (ja) | クロメン化合物 | |
| JP2000219686A (ja) | クロメン化合物 | |
| JP2000229975A (ja) | クロメン化合物 | |
| JPH04210958A (ja) | 光互変性のナフタセンキノン類、それらの製法及び用途 | |
| JPS6324245A (ja) | 光学記録材料 | |
| US5492942A (en) | Pyran derivative, photosensitive resin composition, and hologram recording medium using it | |
| US5177218A (en) | Photochromic benzothioxanthone oxides, process for their preparation and the use thereof | |
| US5206395A (en) | Photochromic naphthacenequinones, process for their preparation and the use thereof | |
| EP0698608B1 (en) | Spiropyran compound | |
| US5112977A (en) | Substituted naphthacene-5,12-diones | |
| JP2002172864A (ja) | 2、2′−架橋ビフェニル化合物、光情報記録媒体および記録方法 | |
| JP2844704B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| JPH03107839A (ja) | パーフルオロアルキル基をもつ有機化合物及びそれを用いた単分子膜と用途 | |
| JPH05117218A (ja) | シクロブテン誘導体、その製造法及びその用途 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |