JPH0620029B2 - アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法 - Google Patents

アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法

Info

Publication number
JPH0620029B2
JPH0620029B2 JP59181312A JP18131284A JPH0620029B2 JP H0620029 B2 JPH0620029 B2 JP H0620029B2 JP 59181312 A JP59181312 A JP 59181312A JP 18131284 A JP18131284 A JP 18131284A JP H0620029 B2 JPH0620029 B2 JP H0620029B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
electrode foil
foil
positive
aluminum electrolytic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59181312A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6159717A (ja
Inventor
浩一 小島
正則 岡林
信義 神崎
健二 遠山
涼一 島谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP59181312A priority Critical patent/JPH0620029B2/ja
Priority to DE8585904288T priority patent/DE3575580D1/de
Priority to US06/862,502 priority patent/US4741812A/en
Priority to PCT/JP1985/000481 priority patent/WO1986001544A1/ja
Priority to EP85904288A priority patent/EP0194317B1/en
Publication of JPS6159717A publication Critical patent/JPS6159717A/ja
Publication of JPH0620029B2 publication Critical patent/JPH0620029B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004—Details
    • H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
    • H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
    • H01G9/055—Etched foil electrodes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/02—Etching
    • C25F3/04—Etching of light metals
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S204/00—Chemistry: electrical and wave energy
    • Y10S204/09—Wave forms

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Weting (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はアルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエッチ
ング方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点 従来のこの種のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔
は、アルミニウム箔の表面をエッチングし、表面に凹凸
をつけ電極箔の表面積を増加させて、電極箔の表面倍率
(=エッチング後の表面積/エッチング前の表面積)を
上げていた。その方法としては、従来から主に100W
・V・以下の低圧用アルミニウム電解コンデンサの電極
箔のエッチング方法には以下の2つの方法が通常採用さ
れている。
つまり、第1の方法として、塩酸を主成分としたエッチ
ング液を使用し、対向する2枚の極板の間に極板に平行
にアルミニウム箔を設置し、エッチング液中で、アルミ
ニウム箔には直接通電せず2つの極板間に交流電流を流
し、エッチングを行う方法がある。
つぎに第2の方法として、塩化ナトリウムを主成分とし
たエッチング液を使用し、アルミニウム箔をこのエッチ
ング液に浸漬し、エッチング液中でアルミニウム箔の片
側あるいは両側に設置した極板とアルミニウム箔との間
に直流電流あるいは交流電流あるいは交流重畳直流電流
を流しエッチングを行う方法である。
しかしながら、第1のエッチング方法では、正サイクル
と負サイクルの電流波形が対称のものしか得られず、正
と負の波形幅,正と負の電流密度を独立に変化させるこ
とができないため、表面倍率を十分高めることができ
ず、今後さらにアルミニウム電解コンデンサの小形化を
追求していくためには表面倍率が不十分であるという欠
点があった。又第2のエッチング方法では、エッチング
液にほぼ中性の塩化ナトリウム水溶液を使用しているた
め、電解エッチング中に溶出したアルミニウムイオンが
水酸化物(白粉)となって生産装置等に付着し、生産を
円滑に進め稼動率を高める上で大きな欠点となってい
た。
発明の目的 本発明はこのような従来の欠点を除去するもので、白粉
を生じない酸性の塩酸溶液中で高い表面倍率を有するア
ルミニウム箔を得、生産装置の稼動率を高めることを目
的とするものである。
発明の構成 この目的を達成するために、本発明は、アルミニウム箔
を白粉を生じない酸性の塩酸溶液を用いて交流電流で電
解エッチングする際の条件を、エッチング電流をアルミ
ニウム箔に直接流して正サイクルと負サイクルのエッチ
ング電流波形を独立に設定する方法により、アルミニウ
ム箔に印加される負サイクルの電気量と正サイクルの電
気量との比が0.2から2.0の範囲で、かつデューテ
ィ比が51〜90%の条件としたものである。
この方法により高い表面倍率を有するアルミニウム箔を
得ることができる。
実施例の説明 次に本発明の実施例について説明する。なお供試料とし
て純度99.99%、厚さ90μmの焼鈍済みアルミニ
ウム箔を用いた。
まず濃度10%塩酸溶液中で対極に炭素板を用い、アル
ミニウム箔に直接矩形波電流を流し、正パルス幅,負パ
ルス幅,正電流密度及び負電流密度を変化させ、正の電
気量が70C/cm2になるように温度40℃でエッチング
した。その結果、表面倍率は第1図に示すように負サイ
クルの電気量と正サイクルの電気量との比に依存し、こ
の比が0.2から2.0の範囲で表面倍率が高いことを
見い出した。これは、塩酸中での交流電流によるエッチ
ングは正サイクル時のアルミニウム溶解と負サイクル時
の水素還元でのPH上昇による皮膜生成との繰り返しに
より進行するが、負サイクルと正サイクルとの電気量比
が0.2以下の場合には、負サイクル時に箔の界面で水
素還元が十分進行せず皮膜がほとんと生成しないため、
全面腐食となり表面倍率が低く、又上記電気量比が2.
0以上の場合は負サイクル時に生成する皮膜量が多すぎ
るため、局部腐食となってエッチングが不均一にしか進
行せず表面倍率が低いと考えられる。
つぎに負サイクルと正サイクルとの電気量比を0.8に
固定し、正の電流密度が0.4A/cm2でデューティ比
(=正パルス幅/正パルス幅+負パルス幅)を変化さ
せ、前記と同様にエッチングした。その結果、表面倍率
は第2図に示すようにデューティ比が51%から90%
の範囲で高いことがわかった。これは、デューティ比が
50%以下の場合、負パルス幅が大きいため酸性の塩酸
中では化学溶解を受けて、生成したエッチングピットが
表面溶解して表面倍率が低くなり、一方デューティ比が
90%以上になると負パルス幅が小さすぎるため短時間
のうちに局部的にPHが上昇し、不均一な皮膜しか生成
せず、従って局部腐食が起こり表面倍率が低くなると考
えられる。
このように白粉の生じない塩酸溶液中でのエッチング条
件としては、負サイクルと正サイクルとの電気量比が
0.2から2.0の範囲、特に0.5から1.0の範囲
で、かつデューティ比が51〜90%の範囲で、高い表
面倍率が得られる。又、この効果は、エッチング電流波
形として矩形波だけでなく、台形波,正弦波でも同様の
効果が得られる。
こうして得られた上記エッチング条件と従来条件との表
面倍率を正の電流量70C/cm2で比較すると下表のよ
うになる。
このように塩酸溶液中では表面倍率を従来より約20%
高めることができた。
発明の効果 以上のように本発明のアルミニウム電解コンデンサ用電
極箔のエッチング方法によれば、白粉の生じない塩酸溶
液中で高い表面倍率を持つ電極箔が容易に得られ、電極
箔製造装置の稼動率の向上が可能となり、コンデンサの
低コスト化が可能となるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔
のエッチング方法において、アルミニウム箔に印加され
る負サイクルの電気量と正サイクルの電気量との比と表
面倍率との関係を示す特性図、第2図は本発明の同方法
においてデューティ比(=正波形幅/正波形幅+負波形
幅)と表面倍率との関係を示す特性図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠山 健二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 島谷 涼一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】アルミニウム箔の表面を酸性の塩酸溶液中
    で、交流電流を用いて電解エッチングする際の条件を、
    アルミニウム箔に印加される負サイクルの電気量と正サ
    イクルの電気量との比が0.2から2.0の範囲で、か
    つデューティ比が51〜90%の条件としたアルミニウ
    ム電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法。
  2. 【請求項2】エッチング電流波形が矩形波,台形波又は
    正弦波である特許請求の範囲第1項に記載のアルミニウ
    ム電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法。
JP59181312A 1984-08-30 1984-08-30 アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法 Expired - Lifetime JPH0620029B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59181312A JPH0620029B2 (ja) 1984-08-30 1984-08-30 アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法
DE8585904288T DE3575580D1 (de) 1984-08-30 1985-08-30 Methode zur herstellung von elektrolytischen kondensatoren.
US06/862,502 US4741812A (en) 1984-08-30 1985-08-30 Method for etching electrode foil aluminum electrolytic capacitors
PCT/JP1985/000481 WO1986001544A1 (en) 1984-08-30 1985-08-30 Process for etching electrode foil for aluminum electrolytic capacitor
EP85904288A EP0194317B1 (en) 1984-08-30 1985-08-30 Method of producing electrolytic capacitors.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59181312A JPH0620029B2 (ja) 1984-08-30 1984-08-30 アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6159717A JPS6159717A (ja) 1986-03-27
JPH0620029B2 true JPH0620029B2 (ja) 1994-03-16

Family

ID=16098477

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59181312A Expired - Lifetime JPH0620029B2 (ja) 1984-08-30 1984-08-30 アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4741812A (ja)
EP (1) EP0194317B1 (ja)
JP (1) JPH0620029B2 (ja)
DE (1) DE3575580D1 (ja)
WO (1) WO1986001544A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0812837B2 (ja) * 1987-04-27 1996-02-07 松下電器産業株式会社 アルミ電解コンデンサ用電極の製造法
JPH0637716B2 (ja) * 1987-08-21 1994-05-18 富士写真フイルム株式会社 電解処理方法
JPH0798430B2 (ja) * 1988-03-31 1995-10-25 富士写真フイルム株式会社 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
US5264110A (en) * 1990-03-06 1993-11-23 Dupont-Howson Ltd. Of Coal Road Electrolytic square wave graining
JP2759388B2 (ja) * 1991-01-23 1998-05-28 富士写真フイルム株式会社 印刷版用支持体の製造方法
US5500101A (en) * 1993-12-28 1996-03-19 Nihon Chikudenki Kogyo Kabushiki Kaisha Method of etching aluminum foil for electrolytic capacitor
JP1595451S (ja) * 2017-06-20 2018-01-22
CN110718393B (zh) * 2019-10-31 2021-11-30 湖南艾华集团股份有限公司 一种中高压铝电解电容器阳极箔的制备方法及电容器

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3193485A (en) * 1960-09-20 1965-07-06 Plessey Co Ltd Electrolytic treatment of aluminium for increasing the effective surface
GB1228575A (ja) * 1967-08-16 1971-04-15
JPS51142442A (en) * 1975-06-04 1976-12-08 Fujitsu Ltd Method of producing porous anodic elements of aluminum
US4140599A (en) * 1975-06-04 1979-02-20 Fujitsu Limited Process for producing porous aluminum anode element
GB1548689A (en) * 1975-11-06 1979-07-18 Nippon Light Metal Res Labor Process for electrograining aluminum substrates for lithographic printing
JPS585796B2 (ja) * 1976-12-21 1983-02-01 日本軽金属株式会社 オフセツト印刷用アルミニウム粗面板の製造法
DE3012135C2 (de) * 1979-03-29 1986-10-16 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa Träger für lithographische Druckplatten, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung zur Herstellung von vorsensibilisierten Druckplatten
JPS55158298A (en) * 1979-05-30 1980-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of support for lithographic plate
US4297184A (en) * 1980-02-19 1981-10-27 United Chemi-Con, Inc. Method of etching aluminum
US4319972A (en) * 1980-12-12 1982-03-16 Sprague Electric Company AC Etching of aluminum capacitor foil
DE3217552A1 (de) * 1982-05-10 1983-11-10 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger
JPS59215500A (ja) * 1983-05-19 1984-12-05 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理方法
JPS59227494A (ja) * 1983-06-09 1984-12-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JPS6068997A (ja) * 1983-09-27 1985-04-19 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6159717A (ja) 1986-03-27
EP0194317A1 (en) 1986-09-17
EP0194317A4 (en) 1986-09-04
US4741812A (en) 1988-05-03
EP0194317B1 (en) 1990-01-24
WO1986001544A1 (en) 1986-03-13
DE3575580D1 (de) 1990-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1985001612A1 (en) Process for producing anode foil for use in electrolytic aluminum capacitor
EP0661390B1 (en) Method of etching aluminum foil for electrolytic capacitors
JPS6159717A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法
US4455200A (en) Method for etching aluminum foil for electrolytic capacitors
JPH0474406A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
EP0189595B2 (en) Method for etching electrode foils for an aluminium electrolytic capacitor
JP3478039B2 (ja) アルミ電解コンデンサ用電極箔の化成方法
JP2802730B2 (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法
JP2847717B2 (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法
JPS58223311A (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法
JPH10112423A (ja) アルミ電解コンデンサ用陽極箔の化成方法
JP3460418B2 (ja) アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPS61121421A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPS60260123A (ja) アルミニウム電解コンデンサ
JPS61198710A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエツチング方法
JPS61121420A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPS63250866A (ja) 薄膜太陽電池用基板の製造方法
JP2715344B2 (ja) 印刷版用アルミニウム支持体の電解処理方法
JP2765105B2 (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPH06272097A (ja) アルミ電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法
JPS60170928A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JP2762556B2 (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JP2745520B2 (ja) アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPH11307394A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPH108299A (ja) アルミニウムエッチング箔とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term