JPH0624045B2 - 複合型磁気ヘッド用コアの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は、複合型磁気ヘッド用コアの製造方法に係り、
特に高保持力媒体に対して好適な複合型磁気ヘッドを与
える複合型磁気ヘッド用コアを有利に製造し得る方法に
関するものである。

（背景技術） 高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力：Ｈｃを大きくすれば有利であることが知られてい
るが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を記録するために
は、磁気ヘッドからの漏れ磁界を強くする必要がある。
ところが、現在、磁気ヘッドを構成するコアに用いられ
ているフェライト材は、その飽和磁束密度：Ｂｓが４０
００〜５０００ガウスであるため、得られる記録磁界の
強さに限度があり、磁気記録媒体の保磁力が１０００エ
ルステッドを越える場合には、記録が不充分になるとい
う欠点がある。

そこで、かかる問題を解決するために、近年では、磁気
ギャップを形成するフェライト材の対向面の少なくとも
何れか一方に、金属磁性材料で総称されるＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ合金（センダスト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金（パーマロ
イ）等の結晶質合金、或いは非晶質合金にて形成された
所定厚さの磁性層を設けて、かかる磁気ギャップ部に存
在せしめることによって、高保磁力媒体に対して有効な
特性を付与せしめた、所謂メタルインギャップ構造を有
する複合型磁気ヘッド用コアが、提案されている。

ところで、このような複合型磁気ヘッド用コアは、従来
では、例えば、次のようにして製造されている。即ち、
互いに突き合わされて接合されることにより、環状の磁
路を構成すると共に、かかる突合せ面間に磁気ギャップ
を形成する第一及び第二のフェライトブロックを用い、
それぞれの突合せ面に鏡面加工を施した後、少なくとも
一方の突合せ面に金属磁性材料からなる磁性層を形成
し、次いで、それら第一及び第二のフェライトブロック
を、ギャップ接合用のガラス膜等によって、突合せ面に
おいて接合せしめて、一体的な組合せ接合体と為し、更
にその後、このフェライトブロックの組合せ接合体を所
定の位置にて切断することにより、目的とする複合型磁
気ヘッド用コアを切り出すようにしているのである。

しかしながら、このような複合型磁気ヘッド用コアの製
造方式にあっては、コア本体を構成するフェライトと、
該フェライトの磁気ギャップ形成部位における突合せ面
に被着された磁性層を構成する金属磁性材との熱膨張係
数差が大きいために（例えば、フェライト：１１０〜１
２０×１０^-7、センダスト：１４０〜１５０×１
０^-7）、前記第一及び第二のフェライトブロックの接合
時における加熱によって、それらフェライトと金属磁性
層とに対して大きな内部応力が蓄えられることとなる。
そして、それ故、この状態で、後工程におけるコアの切
出し等の機械加工を行なうと、金属磁性層がフェライト
との界面から剥離したり、或いは界面近くのフェライト
にクラックが入るなどといった不具合が生じ易く、製品
性能の安定性が充分に確保し難いと共に、歩留りが悪い
といった、大きな問題を内在していたのである。

（解決課題） ここにおいて、本発明は、上述の如き事情を背景として
為されたものであって、その解決課題とするところは、
コアの切出し等の機械加工時における金属磁性層の剥離
やフェライトへのクラックの発生を有効に防止し得て、
性能安定性及び信頼性に優れた複合型磁気ヘッド用コア
を、高い歩留りをもって製造することのできる方法を提
供することにある。

（解決手段） そして、かかる課題を解決するために、本発明にあって
は、第一及び第二のフェライトブロックを突き合わせて
接合せしめる一方、それらフェライトブロックの突合せ
部に、金属磁性層を介在して、所定間隙の磁気ギャップ
を形成してなる、環状の磁路を有する組合せ体を作製し
た後、該組合せ体を所定の位置にて切断することによ
り、かかる磁気ギャップの形成部位にギャップ幅規定用
トラック部を設けた複合型磁気ヘッド用コアを製造する
に際して、前記二つのフェライトブロックの少なくとも
一方のものの他方のフェライトブロックに対する突合せ
面における、少なくとも前記磁気ギャップの形成部位を
含む部分において、前記金属磁性層を与える所定の金属
磁性材を一体的に被着せしめた後、エッチング処理によ
ってパターニングを行ない、前記トラック部の幅と同等
かそれよりも大きく、且つ該磁気ギャップ形成部位にお
ける前記組合せ体の切断幅よりも狭い幅をもって、前記
金属磁性層を前記複合型磁気ヘッド用コアに対応してト
ラック幅方向に不連続に設け、そしてそれら二つのフェ
ライトブロックを、それらの突合せ面において接合した
後、その得られた組合せ体から、前記金属磁性層を切断
加工することなく、目的とする複合型磁気ヘッド用コア
を切り出すようにした、複合型磁気ヘッド用コアの製造
方法を、その特徴とするものである。

（実施例） 以下、本発明を更に具体的に明らかにするために、図面
に示される実施例を参照しつつ、その構成を詳細に説明
することとする。なお、本実施例においては、第１図に
示されている如く、固定磁気ディスク装置（ＲＤＤ）に
用いられる、浮上型磁気ヘッド用スライダの一種であっ
て、スライダ本体１２と、該スライダ本体１２に対して
一体的に設けられて、該スライダ本体と協働して磁気ヘ
ッドのための閉磁路を構成するＣ字形状のヨーク部１
４、１４とによって構成されてなる磁気ヘッド用コアス
ライダ１６の製造に対して、本発明を適用した場合につ
いて説明する。即ち、かかる磁気ヘッド用コアスライダ
１６にあっては、そのディスク摺動側面１１上におい
て、記録媒体の摺動方向に互いに平行に延びる左右の空
気ベアリング部（面）１０ａ、１０ｂと、それら各空気
ベアリング部１０ａ、１０ｂの延長上に位置する、略中
央に磁気ギャップが設けられた狭幅のトラック部１３
と、更に該トラック部１３の延長上に位置する、該トラ
ック部１３の幅よりは広いが前記ベアリング部１０の幅
よりは狭い凸部１５とが、スライダ本体１２側よりヨー
ク部１４側に延びる形態をもって形成されてなる構造と
されている。

先ず、かかる磁気ヘッド用コアスライダ１６を製造する
に際しては、第２図に示されている如き、第一及び第二
のフェライトブロック１８、２０が準備される。かかる
第一のフェライトブロック１８は、前記ヨーク部１４を
与え、第二のフェライトブロック２０は、前記スライダ
本体１２を与えるものである。そして、これらのフェラ
イトブロック１８、２０には、従来からの高透磁率のフ
ェライト材が用いられ、またそれらフェライトブロック
１８、２０は、所定厚さの長板状のブロック形状とさ
れ、それらの突合せによって、磁気ヘッドのための閉磁
路、即ち環状の磁路が構成せしめられることとなるので
ある。なお、高透磁率のフェライトブロックとしては、
Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の単結
晶体或いは多結晶体が用いられ、また単結晶体と多結晶
体の複合体も有利に用いられる。また、単結晶体を用い
るにあたっては、（１００），（１１０），（３１
１），（３３２），（６１１），（２１１）等の結晶面
が空気ベアリング面（ディスク摺動面）として有利に選
択される。

そして、これら第一及び第二のフェライトブロック１
８、２０には、前記磁気ギャップを構成する、それらの
突合せ面２２、２２に対して、それぞれ、研磨加工によ
る鏡面仕上げが施されることとなる。

また、かかる鏡面仕上げの後、第３図に示されているよ
うに、第一及び第二のフェライトブロック１８、２０に
おける少なくとも一方のものの突合せ面２２側に、ブロ
ック長手方向に延びるコイル巻線用の巻線溝２４が、少
なくとも一条形成される。なお、本実施例では、第一及
び第二のフェライトブロック１８、２０が一体的に接合
されたブロック組合せ体を２個取りするようになってい
ることから、かかる巻線溝２４が、それら両フェライト
ブロック１８、２０に対して、二条づつ設けられると共
に、それらの巻線溝２４、２４における、前記磁気ギャ
ップの対応部位には、それぞれの後部において、補強用
のガラスを埋め込むためのガラス充填溝２５が形成され
る。

次に、かかる巻線溝２４、２４が形成された第一及び第
二のフェライトブロック１８、２０には、その少なくと
も一方のものの他方のフェライトブロックに対する突合
せ面２２における、少なくとも前記磁気ギャップの対応
部位に対して、フェライトより飽和磁束密度の高い金属
磁性材が、スパッタリング等によって被着せしめられ
る。この金属磁性材には、Ｆｅ−Ｓｉ（Ｓｉ：6.5重量
％），Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金（センダスト），Ｎｉ−Ｆ
ｅ合金（パーマロイ）等で代表される公知の結晶質合金
があり、一方非晶質合金としても、例えばＦｅ−Ｃｏ−
Ｓｉ−Ｂ系で代表される周知のメタル−メタロイド系合
金やＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ等の周知のメタル−メタル系合金
等が用いられる。なお、Ｆｅ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ
系合金を用いる場合には、耐食性向上のために、５重量
％以下のＣｒ，Ｔｉ，Ｔａ等の元素添加が適宜行なわれ
る。また、このような磁性材の被着には、他に、真空蒸
着、イオンプレーティング、ＣＶＤ、メッキ等でも可能
であるが、組成変動等が大きいことや、被着物質が限定
されることから、スパッタリング法が好適に採用され
る。

なお、特に本実施例では、第一のフェライトブロック１
８における突合せ面２２において、巻線溝２４、２４お
よびガラス充填溝２５、２５の内面をも含む全面に対し
て、金属磁性材が被着されることとなる。

そして、第４図に示されている如く、このように金属磁
性材２６が被着せしめられた第一のフェライトブロック
１８には、第二のフェライトブロック２０に対する突合
せ面上に、所定大きさの金属磁性層を形成するため、そ
の金属磁性材２６の表面上に、所定パターンのマスク２
８が形成される。

ここにおいて、かかるマスク２８は、少なくとも前記磁
気ギャップの対応部位において、前記トラック部１３の
幅と同等かそれよりも大きく、且つ前記ヨーク部１４の
幅よりも小さい幅をもって形成されることとなる。ま
た、該マスク２８は、ガラス充填溝２５の内面にも付与
することが可能である。

また、本実施例においては、かかるマスク２８が、第一
のフェライトブロック１８におけるバックギャップ対応
部位にも、前記ヨーク部１４の幅と同等かそれよりも小
さい幅、例えばヨーク部１４の９割程度の幅をもって、
形成されている。

なお、このような所定パターンのマスク２８の形成に
は、スクリーン印刷等の公知の手法が、必要精度と経済
性の点から適宜に選択され、中でも、好適にはパターン
精度と工程の簡便さから、フォトレジストを用いた露光
による方法が採用され、例えば、レジストを第一のフェ
ライトブロック１８における突合せ面２２に塗布した
後、上記したギャップ形成部位およびバックギャップ形
成部位を残して、他の部分のレジストは除去し、金属磁
性材２６を露出させること等によって実施されることと
なる。また、かかるマスク２８には、ポジ型或いはネガ
型のフォトレジストや、真空蒸着、スパッタリング若し
くはＣＶＤ法等によって形成されたＣｒ等の金属やＳｉ
Ｏ若しくはＳｉＯ_２等の各種のマスクを使用することが
可能であり、操作性・経済性と併せて、マスクの金属磁
性材２６表面への密着性等の点から適宜に選択されるこ
ととなる。

そして、かかる所定パターンのマスク２８が付与され
た、第一のフェライトブロック１８における金属磁性材
２６には、その露出せしめられた部分に対してエッチン
グ処理が施され、不要部分が除去される。このようなパ
ターニングによって、第５図及び第６図に示される如
く、第一のフェライトブロック１８の突合せ面２２にお
ける、磁気ギャップ対応部位には、前記トラック部１３
の幅と同等かそれよりも大きく、且つ前記ヨーク部１４
の幅と同等かそれよりも小さい幅：ｄ_１を有する第一の
金属磁性膜３０が、またバックギャップの対応部位に
は、ヨーク部１４の幅と同等かそれよりも小さい幅：ｄ
_２を有する第二の金属磁性膜３２が、目的とする磁気ヘ
ッド用コアに対応して、それぞれトラック幅方向に不連
続に形成されることとなるのである。なお、かかるエッ
チング処理は、通常の電解エッチング或いは化学エッチ
ングにて行なわれることとなる。

次いで、これら第一及び第二の金属磁性膜３０、３２が
被着された第一のフェライトブロック１８には、必要に
応じて、それら第一及び第二の金属磁性膜３０、３２の
表面に対して、通常の切削、研磨操作が施されて、所定
厚さに仕上げられる。

さらに、その後、第一及び第二のフェライトブロック１
８、２０における少なくとも磁気ギャップ対応部位、即
ち第一のフェライトブロック１８における第一の金属磁
性膜３０表面および第二のフェライトブロック２０にお
ける該第一の金属磁性膜３０に対する対向面の、少なく
とも何れか一方の面上に、ＳｉＯ_２、ガラス等のギャッ
プ形成用非磁性材が、所定厚さにスパッタリング等にて
適用され、所定厚さの非磁性層が形成される。なお、本
実施例では、第７図に示されているように、かかる非磁
性層３４が、第一のフェライトブロック１８の突合せ面
２２に対して、巻線溝２４の内面を除く略全面に亘っ
て、そこに被着された前記第一及び第二の金属磁性膜３
０、３２を被覆するようにして形成されることとなる。
けだし、巻線溝２４の内面にも、非磁性層を付与するこ
とも可能である。

そして、かかる非磁性層３４の形成後、第８図に示され
ているように、第一及び第二のフェライトブロック１
８、２０を、それぞれの突合せ面側で対向、整列せし
め、かかる状態で、ガラス充填溝２５内にガラス棒を差
し込み、加熱，加圧することにより、かかるガラス棒を
溶融させて、それら第一及び第二のフェライトブロック
１８、２０を、それらの突合せ面間において接合する。
例えば、軟化点４５０℃のガラス棒を用い、５００〜６
００℃で接合するのである。即ち、このようにして得ら
れた、第一及び第二のフェライトブロック１８、２０か
ら成る接合体３６にあっては、第一のフェライトブロッ
ク１８に被着された第一の金属磁性膜３０と第二のフェ
ライトブロック２０との対向面間に、前記非磁性層３４
が介在せしめられると共に、金属磁性膜３０の存在しな
い方向面間が、補強ガラス３８にて充填され、一体的に
固着されているのである（第１０図及び第１１図参
照）。

さらに、このような接合体３６は、第８図に示される切
断線４０に沿って切断されて二分割され、これによっ
て、第９図に示されているように、それぞれ、一つの巻
線孔３９を有するブロック組合せ体４２の二つが形成さ
れる。

そして、かくして得られたブロック組合せ体４２には、
前記ディスク摺動側面１１を構成する切断面４４に対し
て、研磨が施され、磁気ギャップ対応部位が、所定のギ
ャップデプス長に仕上げられる。そして、第１０図及び
第１１図に示されている如く、かかる研磨加工により、
各磁気ギャップ対応部位において、前記第一の金属磁性
膜３０が表面に露呈され、それによって、前記非磁性層
３４に対応した間隙を有する磁気ギャップ４１が形成さ
れることとなるのである。

次いで、かかるブロック組合せ体４２には、空気ベアリ
ング部１０やトラック部１３、凸部１５をディスク摺動
面１１上に形成するために、第１２図に示される如く、
かかるディスク摺動面を構成する切断面４４上に、所定
パターンのマスク４６が形成される。

なお、かかるマスク４６としては、前記金属磁性膜３
０、３２の形成に際して用いられるマスク２８と同様、
フォトレジストを用いた露光による方法など、公知の各
種の形成手法および材料が採用可能であり、操作性およ
び経済性の点から適宜に選択されることとなる。

そして、このように所定パターンのマスク４６が付与さ
れたブロック組合せ体４２には、その露出せしめられた
部分に対して所定深さのエッチング処理が施され、これ
によって、第１３図及び第１４図に示されている如く、
マスクパターン（４６）に対応する凹凸パターンが形成
され、ここに、所定幅の空気ベアリング部１０、狭幅の
トラック部１３および該トラック部１３よりは幅広で、
空気ベアリング部１０よりは幅の狭い凸部１５が、それ
ぞれ、所定高さにおいて形成されるのである。なお、か
かるエッチング処理は、通常の電解エッチング或いは化
学エッチングにて行なわれることとなる。

また、そこにおいて、かかるエッチング処理にて、トラ
ック部１３の幅を所定寸法に仕上げることにより、該ト
ラック部１３における磁気ギャップの幅を規制するよう
にすることも可能であるが、特に好適には、上述の如き
エッチング処理に先立って、或いはエッチング処理の
後、第１５図に示されているように、各トラック部１３
の形成部位に対して、レーザ照射乃至はレーザ誘起エッ
チング（反応液若しくは反応ガス中でのレーザ照射）に
より、それぞれ、二条のトラック幅規制用溝４７、４７
を所定間隔をもって平行に形成することにより、磁気ギ
ャップの幅を規制することが望ましい。なお、かかるレ
ーザ誘起エッチングの手法は、本願出願人が先に出願し
た、特願昭６３−５３６７８号、特願昭６３−４７５４
０号および特願昭６３−２３９２４４号等に詳述されて
おり、ここでは省略することとする。

次いで、上述の如きエッチング処理が施されたブロック
組合せ体４２には、スライダの長さを決めるべく、その
幅方向の両端部を切断する加工が施され、例えば第１３
図に示される如く、かかるブロック組合せ体４２が切断
線４８、５０にて切断された後、第１６図に示されるよ
うに、空気ベアリング部１０の長手方向のリーディング
部に、それぞれ、所定の傾斜角度と長さとを有するテー
パ部（リーディングランプ）５２が形成され、更にその
後、第１７図に示される如く、各トラック部１３および
凸部１５周りのフェライトブロックが、それらの周りに
微少領域を残して切除せしめられることとなり、それに
よって略Ｃ字形状を有する前記ヨーク部１４が形成せし
められる。

さらに、このようなヨーク部１４が形成されたブロック
組合せ体４２より、第１７図に示される如く、二つの空
気ベアリング部１０、１０が対となるように、切断線５
４、５４に沿って、ブロック幅方向に平行に組合せ体４
２を所定の位置にて切断することにより、前記第１図に
示されている如き、本発明の目的とする磁気ヘッド用コ
アスライダ１６の少なくとも１個が、切り出されること
となるのである。

ところで、そこにおいて、上述の如き構造とされたブロ
ック組合せ体４２にあっては、トラック部１３における
磁気ギャップ４１の一方の対向面を構成する第一の金属
磁性膜３０が、トラック幅方向に不連続に、ヨーク部１
４よりも小さな幅をもって形成されていることから、前
述の如きヨーク部１４の形成に際しての切断時にも、か
かる第一の金属磁性膜３０が切断、研磨されることがな
いのであり、それ故、そのような切断加工に際しての、
該第一の金属磁性膜３０のフェライトブロックからの剥
離や、或いはフェライトブロックにおけるクラックの発
生が、極めて有効に回避され得るのである。

そして、それ故、かかる製造手法に従えば、性能安定性
及び信頼性に優れた複合型磁気ヘッド用コアを、高い歩
留りをもって、有利に製造することができるのである。

また、前述の如き、本実施例においては、第一のフェラ
イトブロック１８におけるバックギャップ対応部位に被
着された第二の金属磁性膜３２にあっても、ヨーク部１
４よりも小さな幅をもって形成されていることから、そ
の切断が回避され得るのであり、それ故、かかるバック
ギャップ形成部位においても、金属磁性膜３２の剥離等
による不良が有利に防止され得るのである。

以上、本発明の具体的構成について、実施例を参照しつ
つ、詳述してきたが、本発明は、かかる実施例および上
述の具体的説明によって、何等限定して解釈されるもの
ではない。

例えば、バックギャップ形成部位への金属磁性膜３２の
配設は、必ずしも必要なものではなく、第１８図に示さ
れているように、バックギャップ形成部位において、第
一及び第二のフェライトブロック１８、２０を、非磁性
層３４等の接合層を介して、直接に接合するようにして
も良い。

また、第１９図に示されている如く、第二の金属磁性膜
３２を、バックギャップ形成部位における第一のフェラ
イトブロック１８の突合せ面上において、部分的に被着
せしめて、該突合せ面と第二のフェライトブロック２０
との間に、補強ガラス３８が充填された領域を形成する
ことにより、かかる第一及び第二のフェライトブロック
１８、２０の接合強度の向上を図ることも可能である。

さらに、本発明においては、前記実施例の製造工程にの
み限定されるものではなく、例えば、フェライトブロッ
ク１８、２０における磁気ギャップ対応面上に、金属磁
性材２６を被着し、それにエッチング処理によるパター
ニング操作を施すことにより、所定パターンの金属磁性
膜３０をトラック幅方向に不連続に形成した後に、かか
るフェライトブロック１８、２０に対して巻線溝２４を
形成することも可能であり、或いはまた、フェライトブ
ロック１８、２０における磁気ギャップ形成面上に金属
磁性材２６を被着せしめた後、続いて、該金属磁性材２
６の上に、非磁性層３４を被着せしめ、その後、かかる
非磁性層３４の表面上にマスク２８を付与して、エッチ
ングによるパターニング操作を施すことにより、金属磁
性膜３０および非磁性層３４を、一体的な所定形状を有
する積層構造をもって形成すること等も可能である。な
お、金属磁性材２６及び非磁性層３４に対するエッチン
グ手法としては、例えば、イオンミリングによる連続エ
ッチングや、或いは非磁性層と金属磁性層とでエッチン
グ液を換えて行なう化学エッチング等が採用され得る。

また、前記実施例では、二つの磁気ギャップ４１を備え
た磁気ヘッド用コアスライダ１６の製造に際して、本発
明を適用したものの一例を示したが、一つ或いは三つ以
上の磁気ギャップを有する磁気ヘッド用コアスライダ１
６の製造に対して本発明を適用することも勿論可能であ
り、更に、本発明手法は、単に例示のＲＤＤ用ヘッドに
止まらず、ＦＤＤ用ヘッド、ＶＴＲ用ヘッド、更にはＤ
ＡＴ用ヘッド等の、各種複合型磁気ヘッドのためのコア
の製造に際して、何れも適用可能であることは、言うま
でもないところである。

その他、一々列挙はしないが、本発明は、当業者の知識
に基づいて、種々なる変更、修正、改良等を加えた態様
において実施され得るものであり、また、そのような実
施態様が、本発明の趣旨を逸脱しない限り、何れも、本
発明の範囲内に含まれるものであることは、言うまでも
ないところである。

（発明の効果） 上述の説明から明らかなように、本発明手法に従えば、
第一及び第二のフェライトブロックからなる組合せ体に
おいて、その磁気ギャップの形成部位に配される金属磁
性層が、該磁気ギャップ形成部位における切出し幅より
も小さな幅をもってトラック幅方向に不連続に形成され
ており、かかる組合せ体から目的とする複合型磁気ヘッ
ド用コアを得るに際しても、該金属磁性層に対する切断
加工が回避され得るところから、そのような切断加工に
際しての、金属磁性層の剥離やフェライトブロックにお
けるクラックの発生が、極めて有効に回避され得るので
ある。

そして、それ故、かかる本発明手法によれば、複合型磁
気ヘッド用コアを、優れた性能安定性と高い歩留りをも
って、工業上、有利に製造することができるのであり、
また製品の信頼性も極めて有効に向上され得ることとな
るのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明手法が有利に適用される固定磁気ディ
スク装置用の磁気ヘッド用コアスライダの一例を示す斜
視図である。また、第２図乃至第１７図は、それぞれ、
かかる第１図に示されているコアスライダを本発明手法
にて製造するに際しての各工程の説明図であって、第２
図は、組み合わされる第一及び第二のフェライトブロッ
クを示す斜視図であり、第３図は、それら第一及び第二
のフェライトブロックに対してコイル巻線用の溝加工が
施された状態を示す斜視図であり、第４図は、かかる第
一のフェライトブロックに被着された金属磁性材に対し
てマスクを付与した状態を示す斜視図であり、第５図
は、かかるマスクが施された第一のフェライトブロック
に対してエッチングを施すことにより金属磁性膜が形成
された状態を示す斜視図であり、第６図は、かかる第一
のフェライトブロックにおける金属磁性膜の形成部位を
拡大して示す要部正面図であり、第７図は、かかる第一
のフェライトブロックに対して非磁性層が被着された状
態を示す要部拡大断面図であり、第８図は、第一及び第
二のフェライトブロックが一体化された接合体を示す斜
視図であり、第９図は、かかる接合体を切断することに
よって得られたブロック組合せ体を示す斜視図であり、
第１０図は、かかるブロック組合せ体の要部横断面図で
あり、第１１図は、第１０図におけるＸＩ−ＸＩ断面に
相当する要部断面図であり、第１２図は、かかるブロッ
ク組合せ体に対してマスクを付与した状態を示す部分平
面図であり、第１３図及び第１４図は、かかるブロック
組合せ体に対してエッチング処理が施された状態を示す
部分平面図及び部分正面図であり、第１５図は、かかる
ブロック組合せ体に対してレーザ誘起エッチングが施さ
れた状態を示す要部平面図であり、第１６図は、かかる
ブロック組合せ体に対して切断操作およびテーパ加工の
施された状態を示す部分平面図であり、第１７図は、ヨ
ーク部の切り出し状態及びコアスライダの切り出しのた
めの切断部位を示すブロック組合せ体の部分平面図であ
る。更に、第１８図及び第１９図は、それぞれ、本発明
手法に従って磁気ヘッド用コアを製造するに際しての、
別の実施例における一工程を示す、前記第１０図に対応
するブロック組合せ体の要部横断面図である。 １２：スライダ本体、１３：トラック部 １４：ヨーク部 １６：磁気ヘッド用コアスライダ １８：第一のフェライトブロック ２０：第二のフェライトブロック ２２：突合せ面、２４：巻線溝 ２６：金属磁性材、２８：マスク ３０：第一の金属磁性膜 ３２：第二の金属磁性膜 ３４：非磁性層、３６：接合体 ３８：補強ガラス ４０，４８，５０，５４：切断線 ４１：磁気ギャップ、４２：ブロック組合せ体 ４６：マスク、４７：トラック幅規制用溝

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−159306（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−183012（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−209705（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】第一及び第二のフェライトブロックを突き
   合わせて接合せしめる一方、それらフェライトブロック
   の突合せ部に、金属磁性層を介在して、所定間隙の磁気
   ギャップを形成してなる、環状の磁路を有する組合せ体
   を作製した後、該組合せ体を所定の位置にて切断するこ
   とにより、かかる磁気ギャップの形成部位にギャップ幅
   規定用トラック部を設けた複合型磁気ヘッド用コアを製
   造するに際して、 前記二つのフェライトブロックの少なくとも一方のもの
   の他方のフェライトブロックに対する突合せ面におけ
   る、少なくとも前記磁気ギャップの形成部位を含む部分
   において、前記金属磁性層を与える所定の金属磁性材を
   一体的に被着せしめた後、エッチング処理によってパタ
   ーニングを行ない、前記トラック部の幅と同等かそれよ
   りも大きく、且つ該磁気ギャップ形成部位における前記
   組合せ体の切断幅よりも狭い幅をもって、前記金属磁性
   層を前記複合型磁気ヘッド用コアに対応してトラック幅
   方向に不連続に設け、そしてそれら二つのフェライトブ
   ロックを、それらの突合せ面において接合した後、その
   得られた組合わせ体から、前記金属磁性層を切断加工す
   ることなく、目的とする複合型磁気ヘッド用コアを切り
   出すようにしたことを特徴とする複合型磁気ヘッド用コ
   アの製造方法。