JPH06259767A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH06259767A JPH06259767A JP7285193A JP7285193A JPH06259767A JP H06259767 A JPH06259767 A JP H06259767A JP 7285193 A JP7285193 A JP 7285193A JP 7285193 A JP7285193 A JP 7285193A JP H06259767 A JPH06259767 A JP H06259767A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録媒体の高保磁力を保ちつつ、残留磁
化を高めることにより、再生出力およびＳ／Ｎを改善す
る。 【構成】 ＮｉＰ／Ａｌ基板上に、ＲＦマグネトロンス
パッタ法により１ａｔ％以上のＰｔ添加ＣｏＣｒＴａ系
／Ｃｒ膜を形成し、次いで加熱処理を行う。
化を高めることにより、再生出力およびＳ／Ｎを改善す
る。 【構成】 ＮｉＰ／Ａｌ基板上に、ＲＦマグネトロンス
パッタ法により１ａｔ％以上のＰｔ添加ＣｏＣｒＴａ系
／Ｃｒ膜を形成し、次いで加熱処理を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハード磁気ディスク用
の高密度薄膜媒体の製造方法に関するものである。
の高密度薄膜媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ハード磁気ディスク用の高密度記録媒体
として、塗布媒体に代わりスパッタ法による金属薄膜媒
体が現在主流となってきている。この薄膜媒体は高密度
記録を実現するため、高出力、高密度特性および高Ｓ／
Ｎ等が要求され、媒体の磁気特性で残留磁化並びに保磁
力を高くする必要がある。そこで、高保磁力でかつ高い
残留磁化を得るために、基板としてディスク円周方向に
テクスチャ溝をつけたＮｉＰ／Ａｌ基板を用い、下地膜
としてＣｒ膜を形成し、次に磁性膜としてＣｏＮｉＣｒ
膜、ＣｏＣｒＴａ膜等を形成する磁気記録媒体が提案さ
れている（電子情報通信学会技術研究報告、ＣＰＭ８８
−９１、ＣＰＭ８８−９２、１９８８年）。さらに、Ｃ
ｏＮｉＣｒ／Ｃｒ媒体およびＮ添加ＣｏＮｉＣｒ／Ｃｒ
媒体について、媒体形成後、加熱処理を行い、さらに保
磁力を高めることも行われてきた（特開平３−２３５２
１８号公報および特開昭６３−９１８２０号公報）。
として、塗布媒体に代わりスパッタ法による金属薄膜媒
体が現在主流となってきている。この薄膜媒体は高密度
記録を実現するため、高出力、高密度特性および高Ｓ／
Ｎ等が要求され、媒体の磁気特性で残留磁化並びに保磁
力を高くする必要がある。そこで、高保磁力でかつ高い
残留磁化を得るために、基板としてディスク円周方向に
テクスチャ溝をつけたＮｉＰ／Ａｌ基板を用い、下地膜
としてＣｒ膜を形成し、次に磁性膜としてＣｏＮｉＣｒ
膜、ＣｏＣｒＴａ膜等を形成する磁気記録媒体が提案さ
れている（電子情報通信学会技術研究報告、ＣＰＭ８８
−９１、ＣＰＭ８８−９２、１９８８年）。さらに、Ｃ
ｏＮｉＣｒ／Ｃｒ媒体およびＮ添加ＣｏＮｉＣｒ／Ｃｒ
媒体について、媒体形成後、加熱処理を行い、さらに保
磁力を高めることも行われてきた（特開平３−２３５２
１８号公報および特開昭６３−９１８２０号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の高保磁力化を目
的とした加熱処理について、ＣｏＣｒＴａ系／Ｃｒ媒体
に適用した場合、かえって保磁力が減少することを生じ
るが、角形比の改善の効果が得られ残留磁化は高められ
ることがわかっている。一方、本発明者はＣｏＣｒＴａ
合金膜について、第４元素としてＰｔを添加することに
より高保磁力の磁気記録媒体が得られることを見い出し
ているが（特開平４−２４５０１６号公報参照）、さら
に超高記録密度実現のため、残留磁化の高い媒体が求め
られている。本発明は、このような従来の事情に対処し
てなされたもので、ＣｏＣｒＴａ系／Ｃｒ媒体の高保磁
力を減少させることなく、角形比の改善を行い、残留磁
化を高めた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目
的とする。
的とした加熱処理について、ＣｏＣｒＴａ系／Ｃｒ媒体
に適用した場合、かえって保磁力が減少することを生じ
るが、角形比の改善の効果が得られ残留磁化は高められ
ることがわかっている。一方、本発明者はＣｏＣｒＴａ
合金膜について、第４元素としてＰｔを添加することに
より高保磁力の磁気記録媒体が得られることを見い出し
ているが（特開平４−２４５０１６号公報参照）、さら
に超高記録密度実現のため、残留磁化の高い媒体が求め
られている。本発明は、このような従来の事情に対処し
てなされたもので、ＣｏＣｒＴａ系／Ｃｒ媒体の高保磁
力を減少させることなく、角形比の改善を行い、残留磁
化を高めた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目
的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上にＣｒ
下地膜を形成し、次いでＰｔを添加したＣｏＣｒＴａ系
合金からなる磁性膜を形成することよりなる磁気記録媒
体の製造方法であって、磁性膜の成膜後に加熱処理を行
うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。本
発明において、Ｐｔの添加量は１ａｔ％以上であること
を好適とする。
下地膜を形成し、次いでＰｔを添加したＣｏＣｒＴａ系
合金からなる磁性膜を形成することよりなる磁気記録媒
体の製造方法であって、磁性膜の成膜後に加熱処理を行
うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。本
発明において、Ｐｔの添加量は１ａｔ％以上であること
を好適とする。
【０００５】
【作用】ＣｏＣｒＴａ系合金の磁性膜を成膜した後に加
熱処理を行うことにより、残留磁化の高い磁気記録媒体
となる。またＣｏＣｒＴａ系合金の磁性膜にさらにＰｔ
を添加したことにより、媒体成膜後に加熱処理を行って
も高い保磁力が維持されるので、結果として、高保磁力
を減少させることなく、角形比を改善し残留磁化の高い
磁気記録媒体が得られる。
熱処理を行うことにより、残留磁化の高い磁気記録媒体
となる。またＣｏＣｒＴａ系合金の磁性膜にさらにＰｔ
を添加したことにより、媒体成膜後に加熱処理を行って
も高い保磁力が維持されるので、結果として、高保磁力
を減少させることなく、角形比を改善し残留磁化の高い
磁気記録媒体が得られる。
【０００６】
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する。
本実施例の磁気記録媒体の成膜は、ＲＦマグネトロン方
式のスパッタ装置にて行った。ターゲットは下地膜用と
して３ＮのＣｒターゲット、磁性膜用としてＣｏＣｒＴ
ａ（１２ａｔ％Ｃｒ，２ａｔ％Ｔａ）合金ターゲット上
にＰｔペレットを置く複合ターゲットを用いた。また、
基板はテクスチャ溝つき（表面粗さＲmax ＝４００オン
グストローム）ＮｉＰ／Ａｌ基板を用いた。
本実施例の磁気記録媒体の成膜は、ＲＦマグネトロン方
式のスパッタ装置にて行った。ターゲットは下地膜用と
して３ＮのＣｒターゲット、磁性膜用としてＣｏＣｒＴ
ａ（１２ａｔ％Ｃｒ，２ａｔ％Ｔａ）合金ターゲット上
にＰｔペレットを置く複合ターゲットを用いた。また、
基板はテクスチャ溝つき（表面粗さＲmax ＝４００オン
グストローム）ＮｉＰ／Ａｌ基板を用いた。
【０００７】まず、本実施例のスパッタ条件を表１に示
す。ここで、磁性膜におけるＰｔの添加量はＣｏＣｒＴ
ａ合金ターゲット上に置くＰｔペレットの個数により変
化させた。このようにして作製した種々のＰｔ組成のＣ
ｏＣｒＴａＰｔ／Ｃｒ媒体について、加熱処理前後の磁
気特性をＶＳＭにより測定した。保磁力（Ｈｃ）の結果
を図１に、残留磁化（Ｂｒ）の結果を図２に示す。な
お、組成はＥＰＭＡにより分析を行った。また、加熱処
理は２５０℃と一定とし、２時間大気中で行った。
す。ここで、磁性膜におけるＰｔの添加量はＣｏＣｒＴ
ａ合金ターゲット上に置くＰｔペレットの個数により変
化させた。このようにして作製した種々のＰｔ組成のＣ
ｏＣｒＴａＰｔ／Ｃｒ媒体について、加熱処理前後の磁
気特性をＶＳＭにより測定した。保磁力（Ｈｃ）の結果
を図１に、残留磁化（Ｂｒ）の結果を図２に示す。な
お、組成はＥＰＭＡにより分析を行った。また、加熱処
理は２５０℃と一定とし、２時間大気中で行った。
【０００８】図１から、本発明の製造方法によるＰｔ添
加の加熱処理後の媒体はＰｔ添加量１ａｔ％以上におい
て、加熱処理前の媒体と比較して保磁力が同等か多少改
善されることがわかった。また、Ｐｔ添加により保磁力
が約４００ Ｏｅ増加した。図２から、Ｐｔ添加の有無
に係わらず加熱処理後の媒体のＢｒは加熱処理前の媒体
と比較して１割強の改善がなされることがわかった。な
お、飽和磁化はＰｔ添加量が多いところでは多少増加す
る傾向が見られるが、加熱処理に係わらずほぼ一定であ
ったので、Ｂｒの改善はほとんどが角形比の改善による
ものである。また、加熱処理の温度については、ＮｉＰ
／Ａｌ基板の耐熱限界温度（約３００℃）を考慮して上
記実施例では２５０℃としたが、それ以上の温度（特に
耐熱限界のないガラス基板等）および以下の温度でも同
じ傾向がみられ、いずれの温度でも加熱処理の効果が得
られた。さらに、加熱時間も２時間にこだわる必要はな
く、特に加熱温度が高い場合には短い時間でも効果があ
った。また、真空中、窒素雰囲気中および酸素雰囲気中
等、いずれの雰囲気でも加熱処理の効果が得られた。
加の加熱処理後の媒体はＰｔ添加量１ａｔ％以上におい
て、加熱処理前の媒体と比較して保磁力が同等か多少改
善されることがわかった。また、Ｐｔ添加により保磁力
が約４００ Ｏｅ増加した。図２から、Ｐｔ添加の有無
に係わらず加熱処理後の媒体のＢｒは加熱処理前の媒体
と比較して１割強の改善がなされることがわかった。な
お、飽和磁化はＰｔ添加量が多いところでは多少増加す
る傾向が見られるが、加熱処理に係わらずほぼ一定であ
ったので、Ｂｒの改善はほとんどが角形比の改善による
ものである。また、加熱処理の温度については、ＮｉＰ
／Ａｌ基板の耐熱限界温度（約３００℃）を考慮して上
記実施例では２５０℃としたが、それ以上の温度（特に
耐熱限界のないガラス基板等）および以下の温度でも同
じ傾向がみられ、いずれの温度でも加熱処理の効果が得
られた。さらに、加熱時間も２時間にこだわる必要はな
く、特に加熱温度が高い場合には短い時間でも効果があ
った。また、真空中、窒素雰囲気中および酸素雰囲気中
等、いずれの雰囲気でも加熱処理の効果が得られた。
【０００９】
【表１】
【００１０】次に、本発明の製造方法による媒体の記録
再生特性について述べる。Ｐｔ添加量を５ａｔ％として
ＣｏＣｒＴａＰｔ／Ｃｒ媒体を形成し、さらに保護膜と
して３００オングストローム厚のカーボンを成膜した。
これらの媒体について、２５０℃で２時間の加熱処理を
行い、その前後の記録再生特性を調べた。表２に記録再
生特性の評価結果と磁気特性を示す。表中、１は加熱処
理前の媒体、２は加熱処理後の媒体である。これらから
本発明の製造方法によるＰｔ添加の加熱処理後の媒体は
加熱処理前の媒体と比較して既に述べた通り磁気特性で
高保磁力を保持しつつ残留磁化が高められており、それ
により記録再生特性で再生電圧（Ｖ）およびＳ／Ｎが改
善されていることがわかる。
再生特性について述べる。Ｐｔ添加量を５ａｔ％として
ＣｏＣｒＴａＰｔ／Ｃｒ媒体を形成し、さらに保護膜と
して３００オングストローム厚のカーボンを成膜した。
これらの媒体について、２５０℃で２時間の加熱処理を
行い、その前後の記録再生特性を調べた。表２に記録再
生特性の評価結果と磁気特性を示す。表中、１は加熱処
理前の媒体、２は加熱処理後の媒体である。これらから
本発明の製造方法によるＰｔ添加の加熱処理後の媒体は
加熱処理前の媒体と比較して既に述べた通り磁気特性で
高保磁力を保持しつつ残留磁化が高められており、それ
により記録再生特性で再生電圧（Ｖ）およびＳ／Ｎが改
善されていることがわかる。
【００１１】
【表２】
【００１２】なお、本実施例ではＣｏＣｒＴａ系合金と
してＣｏＣｒＴａを用いたが、Ｈｆ等の１元素以上を添
加した他のＣｏＣｒＴａ系合金についても上記と同様に
Ｐｔ添加および加熱処理を実施した結果、上記と同様の
効果が得られた。
してＣｏＣｒＴａを用いたが、Ｈｆ等の１元素以上を添
加した他のＣｏＣｒＴａ系合金についても上記と同様に
Ｐｔ添加および加熱処理を実施した結果、上記と同様の
効果が得られた。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の製造方法
による加熱処理を行ったＣｏＣｒＴａＰｔ／Ｃｒ媒体
は、以下に示す効果があった。 （１）ＣｏＣｒＴａ磁性膜にＰｔを１ａｔ％以上添加し
て、加熱処理を行うことにより、高保磁力を保ちつつ角
形比を改善させ残留磁化を高められた。 （２）本発明の方法によって得られる媒体は、加熱処理
を行わない媒体と比較して、再生出力およびＳ／Ｎが改
善された。
による加熱処理を行ったＣｏＣｒＴａＰｔ／Ｃｒ媒体
は、以下に示す効果があった。 （１）ＣｏＣｒＴａ磁性膜にＰｔを１ａｔ％以上添加し
て、加熱処理を行うことにより、高保磁力を保ちつつ角
形比を改善させ残留磁化を高められた。 （２）本発明の方法によって得られる媒体は、加熱処理
を行わない媒体と比較して、再生出力およびＳ／Ｎが改
善された。
【図１】加熱処理前後の保磁力（Ｈｃ）について、Ｃｏ
ＣｒＴａ膜へのＰｔ添加量との関係を示した図である。
ＣｒＴａ膜へのＰｔ添加量との関係を示した図である。
【図２】加熱処理前後の残留磁化（Ｂｒ）について、Ｃ
ｏＣｒＴａ膜へのＰｔ添加量との関係を示した図であ
る。
ｏＣｒＴａ膜へのＰｔ添加量との関係を示した図であ
る。
Claims (2)
- 【請求項１】 基板上にＣｒ下地膜を形成し、次いでＰ
ｔを添加したＣｏＣｒＴａ系合金からなる磁性膜を形成
することよりなる磁気記録媒体の製造方法であって、磁
性膜の成膜後に加熱処理を行うことを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 Ｐｔの添加量が１ａｔ％以上である請求
項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7285193A JPH06259767A (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7285193A JPH06259767A (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06259767A true JPH06259767A (ja) | 1994-09-16 |
Family
ID=13501298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7285193A Pending JPH06259767A (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06259767A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62117143A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-05-28 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH03273525A (ja) * | 1990-03-23 | 1991-12-04 | Kobe Steel Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH04228105A (ja) * | 1990-08-15 | 1992-08-18 | Hitachi Metals Ltd | 高保磁力の薄膜記録媒体とその製造方法 |
| JPH04245016A (ja) * | 1991-01-31 | 1992-09-01 | Nec Corp | 磁気記録媒体 |
-
1993
- 1993-03-09 JP JP7285193A patent/JPH06259767A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62117143A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-05-28 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH03273525A (ja) * | 1990-03-23 | 1991-12-04 | Kobe Steel Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH04228105A (ja) * | 1990-08-15 | 1992-08-18 | Hitachi Metals Ltd | 高保磁力の薄膜記録媒体とその製造方法 |
| JPH04245016A (ja) * | 1991-01-31 | 1992-09-01 | Nec Corp | 磁気記録媒体 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19960618 |