JPH06263875A - ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法 - Google Patents
ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法Info
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- JPH06263875A JPH06263875A JP23936593A JP23936593A JPH06263875A JP H06263875 A JPH06263875 A JP H06263875A JP 23936593 A JP23936593 A JP 23936593A JP 23936593 A JP23936593 A JP 23936593A JP H06263875 A JPH06263875 A JP H06263875A
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Abstract
表し、R2 は置換または非置換のアルキル基を表す)で
示されるオルガノトリアルコキシシランを有機酸の存在
下に加水分解して、一般式: R1 Si(OH)3 (II) (式中のR1 の意味は上記のとおりである)で示される
オルガノシラントリオールまたはその部分縮合物を得る
工程、ついで該オルガノシラントリオールまたはその部
分縮合物をアルカリの水溶液または該水溶液と有機溶媒
との混合液中で重縮合反応させる工程、を具備するポリ
オルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法である。 【効果】 従来法では製造が困難であったポリメチルシ
ルセスキオキサン以外のものも含めて、各種の有機基を
含む球状で粒子径が揃ったポリオルガノシルセスキオキ
サン微粒子を効率よく製造できる。
Description
オキサン微粒子の製造方法に関し、さらに詳しくは、ケ
イ素原子に結合可能な有機基の範囲が広く、粒子径が非
常に小さく、かつ粒子の形状が球状で、その粒子径がよ
く揃ったポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造
方法に関する。
粉末を得る方法として、オルガノトリクロロシラン、オ
ルガノトリアルコキシシランのような3官能性シランを
アルカリの水溶液中で反応させる方法が知られている。
例えば、ベルギー国特許第572,412号公報には、
メチルトリクロロシランを噴霧水中で加水分解させる
か、または多量の水中に撹拌しながら滴下して加水分解
させ、固体状のポリメチルシルセスキオキサンを得る方
法が開示されている。
熱量が大きく、多量の塩化水素が副成するので装置が腐
食されるという問題のほか、生成したポリメチルシルセ
スキオキサン粉末とともに副成した塩化水素と未加水分
解のメチルトリクロロシランが残ることから、比較的多
量の塩素原子が残存するという問題点がある。
昭54−72300号公報には、塩素量が0.1〜5.
0重量%であるメチルトリアルコキシシランおよび/ま
たはその部分加水分解物を、アルカリ土類金属水酸化物
またはアルカリ金属炭酸塩を含む水溶液中で、加水分解
・縮合させる方法が開示されている。
シルセスキオキサン粉末とともにアルカリ土類金属やア
ルカリ金属が比較的多量に残存するので各種合成樹脂用
充填剤などとして利用する場合、吸湿しやすいという問
題点がある。またこの方法では、原料のメチルトリアル
コキシシランおよび/またはその部分加水分解物の塩素
量を予め0.1〜0.5重量%に調整しなければならな
いという問題点もある。
キシシランおよび/またはその部分加水分解縮合物を該
シランおよび/またはその部分加水分解縮合物中に存在
する塩素原子を中和するのに十分な量に触媒としての量
を加えた量のアンモニアまたはアミンの水溶液中で加水
分解・縮合させることによって、上記の問題点を解決
し、自由流動性に優れたポリメチルシルセスキオキサン
粉末を得る技術を提案している(特開昭60−1381
3号公報参照)。
コキシシランおよび/またはその部分加水分解縮合物ま
たはメチルトリアルコキシシランおよび/またはその部
分加水分解縮合物と有機溶剤との混合液を上層にし、ア
ンモニアおよび/またはアミンと有機溶剤との混合液を
下層にして、これらの界面でメチルトリアルコキシシラ
ンおよび/またはその部分加水分解縮合物を加水分解・
縮合させて、粒子の形状が各々独立した真球状であり、
粒度分布が平均粒子径の±30%の範囲であるポリメチ
ルシルセスキオキサン粉末を製造し得ることを見出した
(特開昭63−77940号公報参照)。
て、メチルトリアルコキシシランおよび/またはその部
分加水分解物の使用量を水の重量の1/10以下とする
こと、とくにアンモニアおよび/またはアミンの濃度を
0.01〜5重量%とすることにより、平均粒子径が
0.05〜0.8μm の球状ポリメチルシルセスキオキ
サン粉末が得られることを見出した(特開昭63−29
5637号公報参照)。
セスキオキサン粉末は、粒子の形状が球状で、粒子径が
小さく、疎水性が高く、凝集性が小さく、比重が小さい
という特徴をもつうえに、粒子径の揃ったものが得られ
るという利点がある。それゆえ、塗料、プラスチック、
ゴム、化粧品、紙などの改質用添加剤としても用いられ
ている。
イ素原子に結合した有機基はメチル基に限定され、メチ
ル基以外の有機基をもつオルガノトリアルコキシシラン
から直接ポリオルガノシルセスキオキサン粉末を得よう
としても、粒子径の揃った微粒子を収率よく得ることは
できない。そのため、屈折率の高い透明プラスチックに
添加しても透明性を保つような、任意の高い屈折率を有
するポリオルガノシルセスキオキサン粉末を得ようとす
る場合、またはフィルムに添加した場合にフィルム面が
擦れあっても傷つかないように硬さを調整したポリオル
ガノシルセスキオキサン粉末を得ようとする場合など、
分子中のケイ素原子に結合した有機基の一部または全部
としてメチル基以外の基を導入しようとする試みは成功
していなかった。
に広範囲の有機基が結合した、球状で粒子径が揃ってお
り、かつその粒子径がきわめて小さいものであるポリオ
ルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法を提供する
ことを目的とする。
炭化水素基を表し、R2 は置換または非置換のアルキル
基を表す)で示されるオルガノトリアルコキシシランを
有機酸の存在下に加水分解して、一般式(II)
る)で示されるオルガノシラントリオールまたはその部
分縮合物を得る工程、ついで該オルガノシラントリオー
ルまたはその部分縮合物をアルカリの水溶液または該水
溶液と有機溶媒との混合液中で重縮合反応させる工程を
具備することを特徴とするポリオルガノシルセスキオキ
サン微粒子の製造方法である。
微粒子は球状で、かつ粒径が揃っている。また本発明に
よって新たに製造が可能になったポリオルガノシルセス
キオキサン微粒子は、その平均粒子径が0.01μm 以
上のものである。
子においてケイ素原子に結合する基としては、例えば置
換または非置換の1価の炭化水素基を例示することがで
き、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基のようなアルキル基;シクロ
ヘキシル基のようなシクロアルキル基;2−フェニルプ
ロピル基のようなアラルキル基;フェニル基、トリル基
のようなアリール基;ビニル基、アリル基のようなアル
ケニル基;およびクロロメチル基、γ−クロロプロピル
基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシ
プロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル
基、γ−メルカプトプロピル基、3,3,3−トリフル
オロプロピル基のような置換炭化水素基を例示すること
ができ、これらは1種類で用いても2種類以上を併用し
ても差支えない。
される。
式(I)で示されるオルガノトリアルコキシシランを有
機酸の存在下で加水分解して前記一般式(II)で示され
るオルガノシラントリオールまたはその部分縮合物を得
る工程である。
置換の1価の炭化水素基としては、上記したようにポリ
オルガノシルセスキオキサン微粒子のケイ素原子に結合
するものと同一の1価の炭化水素基を例示することがで
きる。
に小さく、かつ粒子径の揃った球状のポリオルガノシル
セスキオキサン微粒子を得ることができるということか
らは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ビニル基またはフェニル基が好
ましい。また、化学的に安定で、かつ炭素官能性基によ
り極性などの特異な性質を生成物に与え、さらに粒子径
が小さく、かつ揃っている球状のポリオルガノシルセス
キオキサン微粒子を得ることができるということから
は、γ−クロロプロピル基、γ−メタクリロキシプロピ
ル基、γ−グリシドキシプロピル基のような置換プロピ
ル基;および3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基
が好ましい。これらの基のうち、γ−グリシドキシプロ
ピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基のよ
うなエポキシ環含有基の場合は、加水分解反応の触媒で
ある有機酸や重縮合反応の触媒であるアルカリにより、
一部のエポキシ環が開環し、とくに後者の触媒としてア
ンモニアを用いるときは、開環反応により窒素含有基が
生成するが、それは本発明の目的を何ら損なうものでは
ない。
置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基などのアルキル基;およびメトキシエ
チル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基などの置
換アルキル基を例示することができる。これらの中で
も、反応速度の点からメチル基、エチル基が好ましく、
とくにメチル基が好ましい。
ノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプ
ロポキシシラン、メチルトリス(メトキシエトキシ)シ
ラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリス(メトキシエトキシ)シラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
などを例示することができ、これらは1種類を用いても
2種類以上を併用しても差支えない。
媒となる有機酸を溶解させた水溶液中において、オルガ
ノトリアルコキシシランと有機酸とを、撹拌、混合等の
方法で接触させることにより行なう。
は反応速度が速いことと、最終的に得られるポリオルガ
ノシルセスキオキサン微粒子の用途を制限するようなイ
オン性物質などの不純物を残さないか、もしくは残して
も少量である点から優れているものである。かかる有機
酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、モノクロロ酢
酸、シュウ酸、クエン酸などを例示することができる
が、少量で加水分解の反応速度を上げ、かつ生成したポ
リオルガノシラントリオールの部分縮合反応を抑制する
ことからギ酸および酢酸が好ましい。
種類によっても異なるが、オルガノトリアルコキシシラ
ンを加水分解する場合に用いる水の量100重量部に対
して1×10-3〜1重量部が好ましく、5×10-3〜
0.1重量部がさらに好ましい。1×10-3重量部未満
の場合には反応が十分に進行せず、1重量部を超える場
合には不純物中の酸基として系中に残存する濃度が高く
なるばかりでなく、生成したオルガノシラントリオール
が縮合しやすくなる。
トリアルコキシシラン1モルに対して2〜10モルが好
ましい。水の量が2モル未満の場合には加水分解反応が
十分に進行せず、10モルを超える場合にはオルガノシ
ラントリオールの部分縮合物が析出してしまう。
温または加熱状態で行なってもよいが、オルガノシラン
トリオールを収率よく得るためには5〜60℃に保持し
た状態で反応を行なわせることが好ましい。
で得られたオルガノシラントリオールまたはその部分縮
合物から重縮合反応によりポリオルガノシルセスキオキ
サン微粒子を得る工程である。この第2工程の反応は、
アルカリの水溶液または該アルカリの水溶液と有機溶媒
との混合液中で行なう。
のであり、第1工程で用いられた有機酸の中和剤とし
て、また第2工程の重縮合反応の触媒として作用するも
のである。かかるアルカリとしては、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物;アンモニア;およびモノメチルアミン、ジ
メチルアミンのような有機アミン類を例示することがで
きる。これらのなかでも、ポリオルガノシルセスキオキ
サン微粒子の用途を制限するような微量の不純物を残さ
ないことからアンモニアおよび有機アミン類が好まし
く、さらには毒性が低く、除去が容易なことからアンモ
ニアがとくに好ましい。
なことから水溶液として用いる。
縮合反応の触媒として有効に作用する量であり、例えば
アルカリとしてアンモニアを用いた場合には水または水
と有機溶媒との混合物100重量部に対して0.05重
量部以上を用いる。
もに有機溶媒を併用することが、微粒子を得るためには
好ましい。
く、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ
プロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、アセトン、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジアセトンアルコールなどを
例示することができる。
液またはこれと有機溶媒との混合液(以下、「アルカリ
溶液」という)を反応容器に仕込んだのち、この反応容
器内に第1工程で得られたオルガノシラントリオールま
たはその部分縮合物(以下、「シラノール化合物」とい
う)の水溶液もしくはこのシラノール化合物の水溶液を
さらに水または上記の有機溶媒で希釈した溶液(以下、
「シラノール溶液」という)を添加して前記アルカリ溶
液と接触させることにより行なう。
ない。シラノール溶液の添加速度もとくに制限されず、
例えば最適の添加速度はシラノール化合物の種類と、ア
ルカリ溶液中の有機溶媒の有無、その種類により決定さ
れる。例えば、シラノール溶液をアルカリの水溶液に添
加する場合には5分以上かけることが好ましく、10〜
240分かけることがさらに好ましい。また、シラノー
ル溶液を有機溶媒を含むアルカリ溶液中に添加する場合
には5分以内で行なうことが好ましい。
よりポリオルガノシルセスキオキサン微粒子を、水また
は水/有機溶媒の混合液中にディスパージョンまたはゾ
ルとして得ることができる。本発明のポリオルガノシル
セスキオキサン微粒子はこのようなディスパージョンま
たはゾルの形で用いることができるが、必要に応じてさ
らに乾燥、解砕などの適当な処理を施して微粉体とした
ものを用いることもできる。
リオルガノシルセスキオキサン微粒子は、その比表面積
(BET法により測定)が100〜1,000m2/g程度
のものである。
は製造が困難であったポリメチルシルセスキオキサン以
外のものを含めて、各種の有機基を含むポリオルガノシ
ルセスキオキサン微粒子を、原料組成比どおりの組成
で、収率および装置効率よく得ることができる。
ガノシルセスキオキサン微粒子は、塗料、プラスチッ
ク、ゴム、紙などの充填剤や添加剤として有用である。
とくにプラスチックフィルムの滑り性向上剤、透明プラ
スチック用充填剤および補強剤として好適である。
素官能性有機基が結合したポリオルガノシルセスキオキ
サン微粒子の製造が可能になったが、これらはその炭素
官能性を生かして、プラスチック成形品の表面改質処理
などに用いることができる。
さらに詳しく説明する。これらの例において部は重量部
を表す。
080部を仕込み、酢酸0.2部を添加して均一な溶液
とした。これを30℃で撹拌しつつ、メチルトリメトキ
シシラン1,360部を添加したところ、加水分解反応
が進行し、10分間で温度は60℃に上昇し、透明な反
応液が得られた。ついで、撹拌を4時間継続したのち濾
過を行なってシラノール溶液を得た。
000部と28%アンモニア水溶液50部をとり、温度
を25℃に設定した。これを撹拌しながら第1工程で得
られたシラノール溶液488部を約10分間かけて滴下
した。滴下終了後、16時間撹拌を続けた。撹拌中にポ
リメチルシルセスキオキサン微粒子が析出して、反応液
は乳白色のディスパージョンに変わった。これを遠心分
離機にかけて微粒子を沈降させたのち取出し、200℃
の乾燥機で24時間乾燥させたところ、131部の白色
微粒子が得られた。これはメチルトリメトキシシランを
基準にした理論収量の98%に相当する。
ろ、ほとんどの粒子は球状を呈しており、粒子径は最大
値が0.3μm 、最小値は0.05μm であり、平均粒
子径は0.1μm であった。
00℃に加熱して熱分解させたところ、残量は89.0
%であった。これはポリメチルシルセスキオキサンが酸
化熱分解して二酸化ケイ素になる理論量89.6%に近
い値である。また、この熱分解物をX線分析した結果、
非晶質シリカであることが確認された。このことから得
られた白色微粒子がポリメチルシルセスキオキサンであ
ることが確認された。
および水を用いて、反応温度を30〜40℃に制御し、
反応時間を24時間にしたほかは実施例1と同様の方法
で第1工程を行ないシラノール溶液を得た。このシラノ
ール溶液を表1に示す量用い、アンモニア水溶液および
水の量と滴下時間を表1に示すようにしたほかは実施例
1と同様にして、ケイ素原子にメチル基と他の炭化水素
基とが結合したポリオルガノシルセスキオキサン微粒子
を得た。得られた微粒子の収率、形状、粒子径、加熱残
分は表1のとおりである。
をKBr錠剤法によって行った。図1はそのスペクトル
である。1,000〜1,160cm-1のSi−O−Si
結合の吸収、2,960cm-1のC−H結合の吸収、1,
265cm-1および775cm-1のメチル基の吸収のほか、
3,055cm-1、1,600cm-1、1,429cm-1およ
び700cm-1にフェニル基に帰属する吸収が見られる。
原子にメチル基と炭素官能性基が結合したポリオルガノ
シルセスキオキサン微粒子を得た。各測定結果を表2に
示す。
器にエタノール900部、水180部および28%アン
モニア水溶液9部をとり、温度を25℃に設定した。つ
いで、撹拌しながら実施例1の第1工程で得られたシラ
ノール溶液540部を約10秒間で添加し、系が均一に
なるようにさらに30秒間撹拌を続行した。その後、撹
拌を止め、静置状態で24時間放置したところ、系は半
透明なゲル状を呈していた。このゲル状物を取出し乾燥
して、ポリメチルシルセスキオキサン微粒子を得た。
鏡により測定したところ、最大値は0.04μm であ
り、最小値は0.01μm であった。
析をKBr錠剤法によって行った。図2はそのスペクト
ルである。1,000〜1,160cm-1のSi−O−S
i結合の吸収、2,960cm-1のC−H結合の吸収、
1,265cm-1および775cm-1のメチル基の吸収が見
られる。
電子顕微鏡によって撮影した像を図3に示す。
ラノール溶液を用い、表3に示す配合量によったほかは
実施例10と同様にして有機溶媒を併用する方法でポリ
オルガノシルセスキオキサン微粒子を得た。得られた微
粒子の粒子径は表3に示すとおりであった。
い(実施例15〜17)、またはメチルトリメトキシシ
ランの代わりにメチルトリス(メトキシエトキシ)シラ
ンを用いた(実施例18)ほかは実施例1と同様にして
ポリメチルシルセスキオキサン微粒子を得た。得られた
微粒子の収率および形状、粒子径、加熱残分は表4のと
おりであった。
ルトリメトキシシラン68部とフェニルトリメトキシシ
ラン99部の混合物を滴下したほかは実施例2の第2工
程と同様にしてポリオルガノシルセスキオキサン微粒子
の製造を行なった。この場合にアルコキシシラン混合物
を滴下したのち撹拌を続けると、約10分後に系は乳白
色を呈し、粒子が形成されていることが観察されたが、
一方、反応容器の底部に油状物が沈降した。この油状物
を分液して分析を行なったところ、ほとんどが未反応の
フェニルトリメトキシシランであることが確認された。
生成した白色の粒子は赤外分光分析の結果、ケイ素原子
に結合したフェニル基が僅かに存在するポリメチルフェ
ニルシルセスキオキサンであった。また、沈降したフェ
ニルトリメトキシシランはその後の加水分解反応と縮合
反応の進行によりゲル状の塊を形成した。
に、メチルトリメトキシシラン303部、ヘキシルトリ
メトキシシラン20.5部およびフェニルトリメトキシ
シラン40部の混合物を用いたほかは実施例5の第2工
程と同様にして重縮合反応を行った。この場合にアルコ
キシシラン混合物の全量を速やかに添加して、上層にア
ルコキシシラン層、下層にアンモニア水溶液層の2層状
態を保持するようにゆっくりと撹拌した。添加後、約1
0分余りで反応容器の底部にフェニルトリメトキシシラ
ンが沈降し、さらに反応容器の壁面に油状物が確認され
た。この油状物を取出して分析したところ、ヘキシルト
リメトキシシランとその部分加水分解物であることが確
認された。沈降したフェニルトリメトキシシランは時間
の経過とともに加水分解反応および縮合反応の進行によ
りゲル状の塊となり、反応容器の壁面の油状物は弾性の
あるゲル状物に変わった。
キサン微粒子のIRスペクトルである。
オキサン微粒子のIRスペクトルである。
オキサン微粒子の粒子構造を示す透過型電子顕微鏡写真
である。
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(I) R1 Si(OR2)3 (I) (式中、R1 は置換または非置換の1価の炭化水素基を
表し、R2 は置換または非置換のアルキル基を表す)で
示されるオルガノトリアルコキシシランを有機酸の存在
下に加水分解して、一般式(II) R1 Si(OH)3 (II) (式中のR1 の意味は上記のとおりである)で示される
オルガノシラントリオールまたはその部分縮合物を得る
工程、 ついで該オルガノシラントリオールまたはその部分縮合
物をアルカリの水溶液または該水溶液と有機溶媒との混
合液中で重縮合反応させる工程、を具備することを特徴
とするポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方
法。 - 【請求項2】 R1 が炭素数6以下のアルキル基、ビニ
ル基、フェニル基、置換プロピル基または置換シクロヘ
キシルエチル基である請求項1記載のポリオルガノシル
セスキオキサン微粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23936593A JPH07103238B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23936593A JPH07103238B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63042303A Division JPH0618879B2 (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06263875A true JPH06263875A (ja) | 1994-09-20 |
| JPH07103238B2 JPH07103238B2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=17043686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23936593A Expired - Lifetime JPH07103238B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07103238B2 (ja) |
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000178357A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-27 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | シリコ―ン微粒子の製造方法 |
| JP2000186148A (ja) * | 1998-12-21 | 2000-07-04 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 球状ポリメチルシルセスキオキサン微粒子の製造方法 |
| KR100343552B1 (ko) * | 2000-07-22 | 2002-07-20 | 한국화학연구원 | 균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법 |
| JP2004203780A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 紫外線遮蔽性球状シリコーン微粒子とその製造方法、並びに化粧料 |
| JP2005320314A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-11-17 | Kao Corp | 毛髪化粧料 |
| JP2006160676A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Kao Corp | 毛髪化粧料 |
| JP2006182715A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Kao Corp | 毛髪改質方法 |
| JP2007077037A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Kao Corp | 毛髪化粧料 |
| JP2008088430A (ja) * | 2006-09-08 | 2008-04-17 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法 |
| JP2008208158A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Nikko Rika Kk | 球状ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法 |
| JP2010528171A (ja) * | 2007-05-28 | 2010-08-19 | コーロン インダストリーズ,インコーポレイテッド | ポリアルキルシルセスキオキサン粒子およびその製造方法 |
| US8420064B2 (en) | 2004-04-07 | 2013-04-16 | Kao Corporation | Hair-treating agent and methods of treating hair |
| US8927636B2 (en) | 2009-09-14 | 2015-01-06 | Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation | Polycarbonate resin composition and molded article |
| WO2020009068A1 (ja) * | 2018-07-03 | 2020-01-09 | 株式会社トクヤマ | 球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子 |
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Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004138128A (ja) | 2002-10-16 | 2004-05-13 | Nissan Motor Co Ltd | 自動車エンジン用摺動部材 |
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| EP1479946B1 (en) | 2003-05-23 | 2012-12-19 | Nissan Motor Co., Ltd. | Piston for internal combustion engine |
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| JP4117553B2 (ja) | 2003-08-13 | 2008-07-16 | 日産自動車株式会社 | チェーン駆動装置 |
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| EP1508611B1 (en) | 2003-08-22 | 2019-04-17 | Nissan Motor Co., Ltd. | Transmission comprising low-friction sliding members and transmission oil therefor |
-
1993
- 1993-09-27 JP JP23936593A patent/JPH07103238B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000178357A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-27 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | シリコ―ン微粒子の製造方法 |
| JP2000186148A (ja) * | 1998-12-21 | 2000-07-04 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 球状ポリメチルシルセスキオキサン微粒子の製造方法 |
| KR100343552B1 (ko) * | 2000-07-22 | 2002-07-20 | 한국화학연구원 | 균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법 |
| JP2004203780A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 紫外線遮蔽性球状シリコーン微粒子とその製造方法、並びに化粧料 |
| US8420064B2 (en) | 2004-04-07 | 2013-04-16 | Kao Corporation | Hair-treating agent and methods of treating hair |
| JP2005320314A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-11-17 | Kao Corp | 毛髪化粧料 |
| JP2006160676A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Kao Corp | 毛髪化粧料 |
| JP2006182715A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Kao Corp | 毛髪改質方法 |
| JP2007077037A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Kao Corp | 毛髪化粧料 |
| JP2008088430A (ja) * | 2006-09-08 | 2008-04-17 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法およびシリカ粒子の製造方法 |
| JP2008208158A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Nikko Rika Kk | 球状ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子の製造方法 |
| JP2013256676A (ja) * | 2007-05-28 | 2013-12-26 | Kolon Industries Inc | ポリアルキルシルセスキオキサン粒子 |
| JP2010528171A (ja) * | 2007-05-28 | 2010-08-19 | コーロン インダストリーズ,インコーポレイテッド | ポリアルキルシルセスキオキサン粒子およびその製造方法 |
| US8748552B2 (en) | 2007-05-28 | 2014-06-10 | Kolon Industries, Inc. | Polyalkylsilsesquioxane particulates and a preparation method thereof |
| US8927636B2 (en) | 2009-09-14 | 2015-01-06 | Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation | Polycarbonate resin composition and molded article |
| WO2020009068A1 (ja) * | 2018-07-03 | 2020-01-09 | 株式会社トクヤマ | 球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子 |
| CN112004860A (zh) * | 2018-07-03 | 2020-11-27 | 株式会社德山 | 球状聚甲基倍半硅氧烷粒子 |
| JPWO2020009068A1 (ja) * | 2018-07-03 | 2021-09-02 | 株式会社トクヤマ | 球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子 |
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