JPH06267852A - 液体原料の気化装置 - Google Patents
液体原料の気化装置Info
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- JPH06267852A JPH06267852A JP5112393A JP5112393A JPH06267852A JP H06267852 A JPH06267852 A JP H06267852A JP 5112393 A JP5112393 A JP 5112393A JP 5112393 A JP5112393 A JP 5112393A JP H06267852 A JPH06267852 A JP H06267852A
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- liquid raw
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液体原料の気化装置において、きめ細かい気
泡を連続的に、かつ均一に発生させることにより、液体
原料の気化効率を向上させる。 【構成】 導入パイプ3からキャリアガスが供給される
と、バブリングノズル3bから液体原料中に気泡が発生
する。バブリングノズル3bは、導入パイプ3の周辺
に、近傍のバブリングノズル3bが干渉しないよう、略
均等間隔に、かつ放射状に、複数の細管で構成され、導
入パイプ3の先端部3aに、溶接等によって気密を保っ
て取り付けられている。また、バブリングノズル3bの
全開口面積は、導入パイプ3の開口面積よりも小さくな
っている。
泡を連続的に、かつ均一に発生させることにより、液体
原料の気化効率を向上させる。 【構成】 導入パイプ3からキャリアガスが供給される
と、バブリングノズル3bから液体原料中に気泡が発生
する。バブリングノズル3bは、導入パイプ3の周辺
に、近傍のバブリングノズル3bが干渉しないよう、略
均等間隔に、かつ放射状に、複数の細管で構成され、導
入パイプ3の先端部3aに、溶接等によって気密を保っ
て取り付けられている。また、バブリングノズル3bの
全開口面積は、導入パイプ3の開口面積よりも小さくな
っている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、CVD(Chemic
al Vapor Deposition)装置に液体
原料を供給するための気化装置に関し、特に、TEOS
(テトラエトキシシラン)、TMB(トリメチルボロ
ン)等の液体の有機ボロンソースをバブリングによって
気化させるバブリング方式の気化装置に適用して有効な
技術に関するものである。
al Vapor Deposition)装置に液体
原料を供給するための気化装置に関し、特に、TEOS
(テトラエトキシシラン)、TMB(トリメチルボロ
ン)等の液体の有機ボロンソースをバブリングによって
気化させるバブリング方式の気化装置に適用して有効な
技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種のバブリング方式の気化装置とし
ては、たとえば、特開昭61−257232号公報に記
載されているものがある。
ては、たとえば、特開昭61−257232号公報に記
載されているものがある。
【0003】この気化装置は、キャリアガスを液漕内の
液体原料中に導入するパイプの外周面に多数の細孔を設
けたもので、この細孔からキャリアガスを気泡として、
前記液体原料中に発生させる。このキャリアガスの気泡
が、液体原料中に浮き上がっていく過程において、気泡
中に液体原料を気化させることによって、キャリアガス
とともに気体になった原料が次行程に供給される。
液体原料中に導入するパイプの外周面に多数の細孔を設
けたもので、この細孔からキャリアガスを気泡として、
前記液体原料中に発生させる。このキャリアガスの気泡
が、液体原料中に浮き上がっていく過程において、気泡
中に液体原料を気化させることによって、キャリアガス
とともに気体になった原料が次行程に供給される。
【0004】また、液層内の液体原料の液量は、センサ
によって検知され、液量が減少すると直ちに補給され、
液量は常に一定に保たれている。
によって検知され、液量が減少すると直ちに補給され、
液量は常に一定に保たれている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この気化装
置であると、パイプの周囲に多数の細孔があることによ
って、気泡がパイプ周辺に集中してしまい、近傍の気泡
同士が結び付いて気泡が大きくなってしまう。
置であると、パイプの周囲に多数の細孔があることによ
って、気泡がパイプ周辺に集中してしまい、近傍の気泡
同士が結び付いて気泡が大きくなってしまう。
【0006】気泡が大きくなると、単位表面積あたりの
キャリアガス体積が大きくなって、液体原料が気泡中に
気化する割合が小さくなり、気化効率が低下してしま
う。
キャリアガス体積が大きくなって、液体原料が気泡中に
気化する割合が小さくなり、気化効率が低下してしま
う。
【0007】さらに、気泡が大きくなってしまうと、液
体原料表面での液体の飛散が生じ、導出パイプ内に付着
してしまい、導出パイプに接続されているMFC(マス
フローコントローラ)等の機能が損なわれてしまう。
体原料表面での液体の飛散が生じ、導出パイプ内に付着
してしまい、導出パイプに接続されているMFC(マス
フローコントローラ)等の機能が損なわれてしまう。
【0008】また、気泡が大きくなり間欠的に発生する
と、液層内の圧力が一定とならず、気化量に変動をきた
してしまい、さらに、液面の変動が大きくなり、正確な
液量が検知できなくなるので、ウエハの膜厚の均一性を
保てなくなってしまう。
と、液層内の圧力が一定とならず、気化量に変動をきた
してしまい、さらに、液面の変動が大きくなり、正確な
液量が検知できなくなるので、ウエハの膜厚の均一性を
保てなくなってしまう。
【0009】本発明の目的は、きめ細かい気泡を連続的
に、また、液漕内に均一に発生させることによって、液
体原料の気化効率を向上させる気化装置を提供すること
にある。
に、また、液漕内に均一に発生させることによって、液
体原料の気化効率を向上させる気化装置を提供すること
にある。
【0010】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
【0011】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0012】すなわち、キャリアガスの導入パイプの先
端に、該導入パイプの口径よりも小さい開口孔を有した
複数本の細管を機密を保って設けたものである。
端に、該導入パイプの口径よりも小さい開口孔を有した
複数本の細管を機密を保って設けたものである。
【0013】また、複数本の細管を導入パイプの周辺
に、略均等にかつ放射状に配設したものである。
に、略均等にかつ放射状に配設したものである。
【0014】さらに、複数本の細管の総開口面積が、導
入パイプの開口面積よりも小さいものである。
入パイプの開口面積よりも小さいものである。
【0015】また、細管の開口口径が、気化効率を向上
させるために、0.26mm以下の細管よりなるものであ
る。
させるために、0.26mm以下の細管よりなるものであ
る。
【0016】
【作用】上記のような構成の液体原料の気化装置によれ
ば、導入パイプの先端に接続された複数の細管が相互に
離れているので、発生した気泡が液体中を浮上していく
間に結び付くことをきわめて減少させることができる。
ば、導入パイプの先端に接続された複数の細管が相互に
離れているので、発生した気泡が液体中を浮上していく
間に結び付くことをきわめて減少させることができる。
【0017】また、複数の細管によって、均一できめ細
かい気泡を連続的に得ることができる。
かい気泡を連続的に得ることができる。
【0018】それにより、液体原料の気化効率が向上
し、気化量も一定にすることができる。
し、気化量も一定にすることができる。
【0019】
【実施例】図1は、本発明の一実施例による液体原料の
気化装置の側面の概略断面図である。
気化装置の側面の概略断面図である。
【0020】本実施例において、液体原料の気化装置の
液漕1の上面部には、液体原料を供給するための原料供
給パイプ2、液体原料をバブリングさせるための窒素や
アルゴン等のキャリアガスを供給するための導入パイプ
3、バブリング後のガスを、図示しない反応炉等に出力
するためのバブリングガス出力パイプ4が設けられてい
る。
液漕1の上面部には、液体原料を供給するための原料供
給パイプ2、液体原料をバブリングさせるための窒素や
アルゴン等のキャリアガスを供給するための導入パイプ
3、バブリング後のガスを、図示しない反応炉等に出力
するためのバブリングガス出力パイプ4が設けられてい
る。
【0021】導入パイプ3の先端部3aには、複数の細
管で構成されているバブリングノズル3bが、たとえ
ば、溶接等によって気密を保って取り付けられている。
このバブリングノズル3bは、導入パイプ3の周辺に略
均等間隔に、そして放射状に、近傍のバブリングノズル
3bが干渉しないように配設されている。
管で構成されているバブリングノズル3bが、たとえ
ば、溶接等によって気密を保って取り付けられている。
このバブリングノズル3bは、導入パイプ3の周辺に略
均等間隔に、そして放射状に、近傍のバブリングノズル
3bが干渉しないように配設されている。
【0022】また、バブリングノズル3bの全開口面積
は、導入パイプの開口面積よりも、小さくなっている。
は、導入パイプの開口面積よりも、小さくなっている。
【0023】次に、導入パイプ3には、キャリアガスの
流量を調節するためのマスフローコントローラ3cが、
そして、バブリングガス出力パイプ4には、キャリアガ
スと高沸点気体の混合流量を測定するためのマスフロー
メータ4aがそれぞれ取り付けられている。
流量を調節するためのマスフローコントローラ3cが、
そして、バブリングガス出力パイプ4には、キャリアガ
スと高沸点気体の混合流量を測定するためのマスフロー
メータ4aがそれぞれ取り付けられている。
【0024】さらに、液漕1の下部には、液体原料を排
出するための排出パイプ5が接続されており、また、液
漕1の内部には、液漕1内の液量を一定にするための液
面センサ6が配設されている。
出するための排出パイプ5が接続されており、また、液
漕1の内部には、液漕1内の液量を一定にするための液
面センサ6が配設されている。
【0025】次に、本実施例における動作について説明
する。
する。
【0026】原料供給パイプ2によって、液漕1に供給
された液体原料は、所定の位置まで達すると液面センサ
6によって検知され、供給が停止される。その後、導入
パイプ3からキャリアガスの供給が開始され、バブリン
グを行う。
された液体原料は、所定の位置まで達すると液面センサ
6によって検知され、供給が停止される。その後、導入
パイプ3からキャリアガスの供給が開始され、バブリン
グを行う。
【0027】導入パイプ3からキャリアガスが供給され
ると、導入パイプ3の先端部3aに取り付けられた、そ
れぞれのバブリングノズル3bから液体原料中に気泡が
発生する。このバブリングノズル3bは、口径が小さく
なっているので、きめ細かい小さな気泡となり、また、
連続的に、かつ均一に放出されることになる。
ると、導入パイプ3の先端部3aに取り付けられた、そ
れぞれのバブリングノズル3bから液体原料中に気泡が
発生する。このバブリングノズル3bは、口径が小さく
なっているので、きめ細かい小さな気泡となり、また、
連続的に、かつ均一に放出されることになる。
【0028】さらに、バブリングノズル3bが放射状に
配設されているために、近傍の気泡同士が結び付いて気
泡が大きくなってしまうことは、きわめて少なくなる。
配設されているために、近傍の気泡同士が結び付いて気
泡が大きくなってしまうことは、きわめて少なくなる。
【0029】ここで、気泡中に液体原料が気化できる最
大濃度Kは、液体原料の蒸気圧をPs,液漕の液体上の
気圧をPoとすると、 K=Ps/Po (式1) と表される。
大濃度Kは、液体原料の蒸気圧をPs,液漕の液体上の
気圧をPoとすると、 K=Ps/Po (式1) と表される。
【0030】液体原料の気化する速さは気液界面の面積
に比例するので、気泡の単位面積あたりの体積が小さく
なれば、短時間で気化効率をあげることができ、気泡が
小さくなればなる程泡中の液体原料の濃度はKに近づ
く。
に比例するので、気泡の単位面積あたりの体積が小さく
なれば、短時間で気化効率をあげることができ、気泡が
小さくなればなる程泡中の液体原料の濃度はKに近づ
く。
【0031】さらに、単位表面積あたりの気泡の流量V
(体積に相当する)は、キャリアガスの流量をq、気泡
の数をNとすると、 V=(q/(36πN))1/3 (式2) となり、気泡の数Nが増加すれば気化効率が向上するこ
とになる。
(体積に相当する)は、キャリアガスの流量をq、気泡
の数をNとすると、 V=(q/(36πN))1/3 (式2) となり、気泡の数Nが増加すれば気化効率が向上するこ
とになる。
【0032】一方、気泡の数Nが増加すれば、気泡の半
径aは、 a=(3q/(4πN))1/3 (式3) となるので、気泡は小さくなる。
径aは、 a=(3q/(4πN))1/3 (式3) となるので、気泡は小さくなる。
【0033】次に、本実施例による実験結果を示す。
【0034】(実験例1)本発明の気化装置によって、
バブリングノズルの内径を変化させ、液体原料中に発生
させた気泡の数、気泡の表面積、気化効率を測定する。
バブリングノズルの内径を変化させ、液体原料中に発生
させた気泡の数、気泡の表面積、気化効率を測定する。
【0035】また、実験条件は、たとえば、次に示すも
のである。
のである。
【0036】液体原料はフロン113、キャリアガスは
窒素ガス、キャリアガスの流量は10cc/min、液
体原料の温度は25℃、気圧は1気圧とする。
窒素ガス、キャリアガスの流量は10cc/min、液
体原料の温度は25℃、気圧は1気圧とする。
【0037】次に、図2に測定結果を示す。図2に示す
ように、内径0.1mmのバブリングノズルを使用したと
きに、1分間に900個以上の気泡が発生しており、接
ガス全表面積(計算値)は、230cm2 /minで、
ほぼ100%の気化効率が得られる。
ように、内径0.1mmのバブリングノズルを使用したと
きに、1分間に900個以上の気泡が発生しており、接
ガス全表面積(計算値)は、230cm2 /minで、
ほぼ100%の気化効率が得られる。
【0038】また、表1に他の内径のバブリングノズル
の気化効率を示す。
の気化効率を示す。
【0039】
【表1】
【0040】この実験では、キャリアガスを10cc/
minの流量としたが、バブリングノズルの1本あたり
の流量を増加させると、気泡の大きさは小さくなる。こ
のため、バブリングノズルの流し得る限界の流量を流す
ことが望ましい。
minの流量としたが、バブリングノズルの1本あたり
の流量を増加させると、気泡の大きさは小さくなる。こ
のため、バブリングノズルの流し得る限界の流量を流す
ことが望ましい。
【0041】(実験例2)バブリングノズルの内径およ
びバブリングノズル数を変化させ、キャリアガスの最大
流量を測定する。
びバブリングノズル数を変化させ、キャリアガスの最大
流量を測定する。
【0042】開口合計面積と最大流量の関係を図3に示
す。0.1mm径のバブリングノズル1本でのキャリアガ
スの限界流量は、33cc/minであり、0.26mm
径でのバブリングノズル1本でのキャリアガスの限界流
量は、223cc/minとなる。よって、キャリアガ
スの流量を増加させるには、バブリングノズルの数を増
やすことが有効となる。
す。0.1mm径のバブリングノズル1本でのキャリアガ
スの限界流量は、33cc/minであり、0.26mm
径でのバブリングノズル1本でのキャリアガスの限界流
量は、223cc/minとなる。よって、キャリアガ
スの流量を増加させるには、バブリングノズルの数を増
やすことが有効となる。
【0043】図3より、2500cc/minの流量を
得るには、内径0.25mmのバブリングノズルを12本
用いれば良い。この場合も、バブリングノズルの流し得
る限界の流量を流すことが望ましい。
得るには、内径0.25mmのバブリングノズルを12本
用いれば良い。この場合も、バブリングノズルの流し得
る限界の流量を流すことが望ましい。
【0044】それにより、本実施例によれば、きめ細か
い気泡を均一に、連続して発生させることができ、気化
効率が向上し、気化量も一定にできる。
い気泡を均一に、連続して発生させることができ、気化
効率が向上し、気化量も一定にできる。
【0045】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0046】
【発明の効果】本発明によって開示される発明のうち、
代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれ
ば、以下のとおりである。
代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれ
ば、以下のとおりである。
【0047】(1)本発明によれば、きめ細かい気泡を
均一に、連続して発生させることができる。
均一に、連続して発生させることができる。
【0048】(2)また、液体原料の液面の波立ちが小
さくなるので、液面が正確に検知されるようになり、液
体原料の液体の飛散によるMFC等の詰まりがなくな
る。
さくなるので、液面が正確に検知されるようになり、液
体原料の液体の飛散によるMFC等の詰まりがなくな
る。
【0049】(3)さらに、上記(1)および(2)に
より、気化効率が向上し、気化量を一定にできる。
より、気化効率が向上し、気化量を一定にできる。
【0050】(4)また、上記(3)により、ウエハの
膜厚を均一にすることができるので、半導体集積回路装
置の生産効率が良くなる。
膜厚を均一にすることができるので、半導体集積回路装
置の生産効率が良くなる。
【図1】本発明の一実施例による液体原料の気化装置の
側面の概略断面図である。
側面の概略断面図である。
【図2】本発明の実験例1による気泡数、気泡全表面積
と気化効率との関係図である。
と気化効率との関係図である。
【図3】本発明の実験例2による開口合計面積と最大流
量の関係図である。
量の関係図である。
1 液漕 2 原料供給パイプ 3 導入パイプ 3a 先端部 3b バブリングノズル(細管) 3c マスフローコントローラ 4 バブリングガス出力パイプ 4a マスフローメータ 5 排出パイプ 6 液面センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内山 太郎 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 鈴木 新平 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 日 立電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 谷口 和雄 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 日 立電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 風間 洋一郎 埼玉県熊谷市三ヶ尻5200番地 日立金属株 式会社磁性材料研究所内 (72)発明者 毛利 昌宏 三重県桑名市大福2番地 日立金属株式会 社桑名工場内 (72)発明者 石川 誠 三重県桑名市大福2番地 日立金属株式会 社桑名工場内
Claims (4)
- 【請求項1】 液体原料を蒸気化させるバブリング方式
の気化装置において、キャリアガスの導入パイプの一端
に、該導入パイプの口径よりも小さい開口孔を有した複
数本の細管が、気密を保って設けられた構造よりなるこ
とを特徴とする液体原料の気化装置。 - 【請求項2】 前記複数本の細管が、前記導入パイプの
周辺に、略均等にかつ放射状に配設されていることを特
徴とする請求項1記載の液体原料の気化装置。 - 【請求項3】 前記複数本の細管の総開口面積が、前記
導入パイプの開口面積よりも小さいことを特徴とする請
求項1または2記載の液体原料の気化装置。 - 【請求項4】 前記細管の開口径が、0.26mm以下で
あることを特徴とする請求項1、2または3記載の液体
原料の気化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5112393A JPH06267852A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 液体原料の気化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5112393A JPH06267852A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 液体原料の気化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06267852A true JPH06267852A (ja) | 1994-09-22 |
Family
ID=12878034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5112393A Pending JPH06267852A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 液体原料の気化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06267852A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009016799A (ja) * | 2007-06-07 | 2009-01-22 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| WO2010122972A1 (ja) * | 2009-04-21 | 2010-10-28 | 株式会社堀場エステック | 液体原料気化装置 |
| US7955648B2 (en) * | 2005-09-15 | 2011-06-07 | Hiap L. Ong and Kyoritsu Optronics, Co., Ltd | Thin alignment layers for liquid crystal displays |
| JP2015134964A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 送達デバイス、その製造方法、およびそれを含む物品 |
| JP2016208026A (ja) * | 2015-04-18 | 2016-12-08 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated | 前駆体材料の送達のための容器及び方法 |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP5112393A patent/JPH06267852A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US10443128B2 (en) | 2015-04-18 | 2019-10-15 | Versum Materials Us, Llc | Vessel and method for delivery of precursor materials |
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