JPH0628832B2 - 微動機構 - Google Patents

微動機構

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JPH0628832B2
JPH0628832B2 JP60122779A JP12277985A JPH0628832B2 JP H0628832 B2 JPH0628832 B2 JP H0628832B2 JP 60122779 A JP60122779 A JP 60122779A JP 12277985 A JP12277985 A JP 12277985A JP H0628832 B2 JPH0628832 B2 JP H0628832B2
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JP
Japan
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piezoelectric element
movement mechanism
fine movement
side wall
expansion
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JP60122779A
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JPS61284350A (ja
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勝 大塚
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Canon Inc
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Canon Inc
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
    • B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は電子ビーム露光装置、電子顕微鏡等、真空中で
微小な動きを要求する装置に用いる微小変位アクチュエ
ーターに関するものである。
［従来の技術］ 印加電圧に応じて伸縮する圧電素子を利用した微小変位
に発生用アクチュエーターは大気中に於て多用されてき
たが、真空内で使用すると絶縁破壊を生じるため高真空
領域（10-5トル以上）で用いることができなかった。
［発明が解決しようとする問題点と解決手段］ 本発明の目的は、高真空領域において使用できる圧電素
子を利用した微小変位発生用アクチュエーターを提供す
ることにある。
この目的は本発明に従って圧電素子を圧電素子の伸縮方
向に伸縮することのできる気密ハウジングに圧電素子を
収容することによって達成される。すなわち、本発明の
微動機構は、外部から電圧を印加されるようになってい
る圧電素子、この圧電素子の伸縮方向における圧電素子
の上面と下面に取付けた上板と下板、及びこの上板と下
板とを密封包囲し、前記の伸縮方向に移動できる側壁を
備えており、前記圧電素子と前記側壁との間には密封空
間が形成されていることを特徴とする。特に前記の側壁
はベローズ、またはＯリングを介して入れ子になってい
る２つの包囲壁から成っている。
［実施例］ 第１図は本発明の実施例の縦断面図である。この図で１
は圧電素子の上面を取付ける上板、２は圧電素子の下面
を取付ける下板、３は圧電素子、４は上板１と下板２を
つなぎあわせ圧電素子３を包囲、密封するベローズ、そ
して５は圧電素子に印加する電圧を供給する電極であ
る。上、下板とベローズで密封される空間には、例えば
空気、不活性ガス等の気体、または絶縁油等の流体を封
入しておく。
電極５に外部電源より電圧を印加することにより圧電素
子３は伸縮するが、この際上下板１，２及びベローズ４
によって外気の雰囲気（高真空領域）としゃ断されてい
るため外気の雰囲気とは無関係に所要の機能を果すこと
ができる。
第２図は本発明の別の実施例の縦断面図である。第１図
の実施例と同じ部分には同じ参照数字を付して示してい
る。第２図において、６は上方の包囲壁であり、７は下
方の包囲壁であって、これらの包囲壁はＯリング８を介
して相互に入れ子になっている。Ｏリング８は包囲壁６
の内壁に沿って摺動して気密を保つ。
いずれの実施例でも圧電素子３に外部電源（図示せず）
から電極５を介して電圧を加えるとこれに応じて側壁は
圧電素子の伸縮とともに上下動して上下いずれかの板に
接着している部材へ微小変位を与える。
本発明の微動機構では圧電素子を外気雰囲気に無関係に
動作させることができるため外気雰囲気は真空に限らず
例えば海水のような導電性の液体であってもよいし、ま
たは圧電素子を使用できない雰囲気であってもよい。
［発明の効果］ 本願発明によれば、微動機構を高真空中や導電性液体中
に置いても、絶縁破壊等を生じることなく使用すること
ができる。特に、圧電素子が側壁と密閉空間とによる二
重の保護作用で、圧電素子をより完全に保護すると共
に、側壁が圧電素子から離れているために、伸縮がしや
すく且つ伸縮ストロークを大きくとることができ、した
がって、実用性の高い微動機構を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の実施例の縦断面図である。 第２図は本発明の別の実施例の縦断面図である。 図中； １：上板、２：下板、３：圧電素子、４：ベローズ、
５：電極、６：上方包囲壁、７：下方包囲壁、８：Ｏリ
ング。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】外部から電圧が印加されるようになってい
    る圧電素子と、 この圧電素子の伸縮方向における圧電素子の上面と下面
    に取付けた上板と下板と、 この上板と下板とを密封包囲し、前記の伸縮方向に伸縮
    できる側壁とを備え、 前記圧電素子と前記側壁との間には密封空間が形成され
    ていることを特徴とする微動機構。
  2. 【請求項２】前記の側壁がベローズである特許請求の範
    囲第１項に記載の微動機構。
  3. 【請求項３】前記の側壁がＯリングを介して入れ子にな
    っている２つの包囲壁から成り、Ｏリングが摺動するこ
    とにより前記圧電素子の伸縮方向に移動する特許請求の
    範囲第１項に記載の微動機構。
  4. 【請求項４】前記密封空間には不活性ガスが封入されて
    いる特許請求の範囲第１項に記載の微動機構。
  5. 【請求項５】前記密封空間には液体が封入されている特
    許請求の範囲第１項に記載の微動機構。
JP60122779A 1985-06-07 1985-06-07 微動機構 Expired - Lifetime JPH0628832B2 (ja)

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JPS61284350A JPS61284350A (ja) 1986-12-15
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JPS61284350A (ja) 1986-12-15

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