JPH06301132A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳
剤層と親水性コロイド層とを有するハロゲン化銀写真感
光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層がアスペクト比
3以上の平板状ハロゲン化銀粒子を含有し、かつ支持体
から最も遠い位置の親水性コロイド層中に25℃におけ
る水に対する溶解度が0.025重量%以下である単量体の
少なくとも1種を重合してなるポリマーラテックスを少
なくとも1種含有することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料により達成。 【効果】 超迅速処理でも写真性能を損なうことなく、
高感度で、乾燥性に優れ、擦り傷耐性のあるハロゲン化
銀写真感光材料の提供。
剤層と親水性コロイド層とを有するハロゲン化銀写真感
光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層がアスペクト比
3以上の平板状ハロゲン化銀粒子を含有し、かつ支持体
から最も遠い位置の親水性コロイド層中に25℃におけ
る水に対する溶解度が0.025重量%以下である単量体の
少なくとも1種を重合してなるポリマーラテックスを少
なくとも1種含有することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料により達成。 【効果】 超迅速処理でも写真性能を損なうことなく、
高感度で、乾燥性に優れ、擦り傷耐性のあるハロゲン化
銀写真感光材料の提供。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀写真感光材
料に関し、詳しくは自動現像機による迅速処理で擦り
傷、乾燥性に優れたハロゲン化銀写真感光材料に関す
る。
料に関し、詳しくは自動現像機による迅速処理で擦り
傷、乾燥性に優れたハロゲン化銀写真感光材料に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、ハロゲン化銀写真感光材料は高感
度、高コントラスト、優れた粒状性、鮮鋭性などに加え
て迅速処理性、特にDry to Dry で45秒と言う超迅速処
理での処理性能が求められている。 特に医療診断用X線
写真感光材料では、確定診断の迅速化のため迅速処理化
が求められ、例えば血管中にカテーテルを挿入して像影
剤を高圧で注入する血管造影撮影、手術中にX線撮影す
る術中撮影等では迅速処理が必須の条件となる。
度、高コントラスト、優れた粒状性、鮮鋭性などに加え
て迅速処理性、特にDry to Dry で45秒と言う超迅速処
理での処理性能が求められている。 特に医療診断用X線
写真感光材料では、確定診断の迅速化のため迅速処理化
が求められ、例えば血管中にカテーテルを挿入して像影
剤を高圧で注入する血管造影撮影、手術中にX線撮影す
る術中撮影等では迅速処理が必須の条件となる。
【0003】上記要望を満たすための手段として、撮
影、搬送、処理などの自動化と共に、ハロゲン化銀写真
感光材料の迅速処理性の付与が計られてきた。しかし、
迅速処理では高温(30〜40℃)、高pHのため画質の劣
化、高速搬送による乾燥不良、処理剤に起因するキャリ
ーオーバー量の増加等の問題がある。
影、搬送、処理などの自動化と共に、ハロゲン化銀写真
感光材料の迅速処理性の付与が計られてきた。しかし、
迅速処理では高温(30〜40℃)、高pHのため画質の劣
化、高速搬送による乾燥不良、処理剤に起因するキャリ
ーオーバー量の増加等の問題がある。
【0004】このような高画質化に対応するため、近時
平板状ハロゲン化銀粒子が用いられている。平板状ハロ
ゲン化銀粒子は比表面積が大きいため、増感色素による
色増感効率の向上が見られ、いわゆるカバリングパワー
(被覆力)の向上が計られ、さらに、X線用ハロゲン化
銀写真感光材料ではクロスオーバー光を顕著に減少させ
るとともに、光散乱が少なく解像力の高い画像が得られ
る。
平板状ハロゲン化銀粒子が用いられている。平板状ハロ
ゲン化銀粒子は比表面積が大きいため、増感色素による
色増感効率の向上が見られ、いわゆるカバリングパワー
(被覆力)の向上が計られ、さらに、X線用ハロゲン化
銀写真感光材料ではクロスオーバー光を顕著に減少させ
るとともに、光散乱が少なく解像力の高い画像が得られ
る。
【0005】しかし、この平板状粒子の欠点は、圧力カ
ブリ、未露光感光材料の取り扱いの際の折り曲げなどの
外力で黒化故障を生じたり、自動現像機などの搬送によ
り接触する部材により筋状のカブリを生ずる。
ブリ、未露光感光材料の取り扱いの際の折り曲げなどの
外力で黒化故障を生じたり、自動現像機などの搬送によ
り接触する部材により筋状のカブリを生ずる。
【0006】このため従来より、様々な手段により圧力
耐性を改良する試みが検討されている。例えば、結晶内
部に沃化銀含有量の高い沃臭化銀相を有するコア/シェ
ル型のハロゲン化銀から成る乳剤を用いることにより若
干の改良はなされたが、逆に画像が白く抜ける故障が生
ずる欠点があり満足できない。
耐性を改良する試みが検討されている。例えば、結晶内
部に沃化銀含有量の高い沃臭化銀相を有するコア/シェ
ル型のハロゲン化銀から成る乳剤を用いることにより若
干の改良はなされたが、逆に画像が白く抜ける故障が生
ずる欠点があり満足できない。
【0007】また、擦り傷耐性の改良に必要な量のバイ
ダー成分を用いた場合、処理性の劣化。特に乾燥性、キ
ャリーオーバーの劣化が激しい。
ダー成分を用いた場合、処理性の劣化。特に乾燥性、キ
ャリーオーバーの劣化が激しい。
【0008】また、黒化改良のための手段として、 外圧
を緩和する目的でラテックスを添加する手段が米国特許
第3,632,342号に開示されているが、これらの手段で
は、ハロゲン化銀乳剤層に添加した場合は保存で感度、
ガンマ、最高濃度、カブリ等センシトメトリー性能を大
きく劣化せしめる。
を緩和する目的でラテックスを添加する手段が米国特許
第3,632,342号に開示されているが、これらの手段で
は、ハロゲン化銀乳剤層に添加した場合は保存で感度、
ガンマ、最高濃度、カブリ等センシトメトリー性能を大
きく劣化せしめる。
【0009】さらに保護層に添加した場合、著しく帯電
防止能が低下しスタチックマークが発生したり、フィル
ム同士のくっつきによる搬送不良が発生する原因とな
る。
防止能が低下しスタチックマークが発生したり、フィル
ム同士のくっつきによる搬送不良が発生する原因とな
る。
【0010】本発明において種々検討の結果、本発明の
ポリマーラテックスを保護層に添加することにより、擦
り傷を改良すると共にセンシトメトリー性能を劣化せし
めることなく、帯電性、くっつき性を改良することを見
いだした。
ポリマーラテックスを保護層に添加することにより、擦
り傷を改良すると共にセンシトメトリー性能を劣化せし
めることなく、帯電性、くっつき性を改良することを見
いだした。
【0011】さらに驚くべきことに、保護層に本発明の
ラテックスを用いたことでフィルムの表面が改質された
ため、水洗工程後の水滴の付着量が減少して、結果的に
乾燥性が大きく向上することがわかった。
ラテックスを用いたことでフィルムの表面が改質された
ため、水洗工程後の水滴の付着量が減少して、結果的に
乾燥性が大きく向上することがわかった。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、超迅速処理でも写真性能を損な
うことなく、高感度で、乾燥性に優れ、擦り傷耐性のあ
るハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
して、本発明の課題は、超迅速処理でも写真性能を損な
うことなく、高感度で、乾燥性に優れ、擦り傷耐性のあ
るハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、支
持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層と親水性
コロイド層とを有するハロゲン化銀写真感光材料におい
て、該ハロゲン化銀乳剤層がアスペクト比3以上の平板
状ハロゲン化銀粒子を含有し、かつ支持体から最も遠い
位置の親水性コロイド層中に25℃における水に対する溶
解度が0.025重量%以下である単量体の少なくとも1種
を重合してなるポリマーラテックスを少なくとも1種含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
り達成された。
持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層と親水性
コロイド層とを有するハロゲン化銀写真感光材料におい
て、該ハロゲン化銀乳剤層がアスペクト比3以上の平板
状ハロゲン化銀粒子を含有し、かつ支持体から最も遠い
位置の親水性コロイド層中に25℃における水に対する溶
解度が0.025重量%以下である単量体の少なくとも1種
を重合してなるポリマーラテックスを少なくとも1種含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
り達成された。
【0014】以下、本発明について具体的に説明する。
【0015】本発明の写真感光材料に用いられる乳剤は
公知の方法で製造することができる。例えば、リサーチ
・ディスクロージャー(RD)No.17643(1978年12月)・
22〜23頁の1・乳剤製造法(Emulsion Preparation and
types)、及び同(RD)No.18716(1979年11月)・648
頁に記載の方法で調製することができる。
公知の方法で製造することができる。例えば、リサーチ
・ディスクロージャー(RD)No.17643(1978年12月)・
22〜23頁の1・乳剤製造法(Emulsion Preparation and
types)、及び同(RD)No.18716(1979年11月)・648
頁に記載の方法で調製することができる。
【0016】また、T.H.James著“Thetheory of the ph
otographic process”第4版、Macmillan社刊(1977
年)38〜104頁に記載の方法、G.F.Dauffin著「写真乳剤
化学」“Photographic Emulsion Chemistry”、Focal p
ress 社刊(1966年)、P.Glafkides著「写真の物理と化
学」“Chimie et physique photographique”Paul Mon
tel 社刊(1967年)、V.L.Zelikman 他著「写真乳剤の
製造と塗布」“Making and Coating photographic Emul
sion”Focal press 社刊(1964年)などに記載の方法に
より調製される。
otographic process”第4版、Macmillan社刊(1977
年)38〜104頁に記載の方法、G.F.Dauffin著「写真乳剤
化学」“Photographic Emulsion Chemistry”、Focal p
ress 社刊(1966年)、P.Glafkides著「写真の物理と化
学」“Chimie et physique photographique”Paul Mon
tel 社刊(1967年)、V.L.Zelikman 他著「写真乳剤の
製造と塗布」“Making and Coating photographic Emul
sion”Focal press 社刊(1964年)などに記載の方法に
より調製される。
【0017】即ち、中性法、酸性法、アンモニア法など
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。本発明の実施態様の1つとしては、沃化銀を粒子
内部に局在させた単分散乳剤が挙げられる。
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。本発明の実施態様の1つとしては、沃化銀を粒子
内部に局在させた単分散乳剤が挙げられる。
【0018】本発明においては、平板状粒子が好ましく
用いられる。平板状ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.2
〜2.5μmが好ましく、特に好ましくは0.5〜2.0μmであ
る。
用いられる。平板状ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.2
〜2.5μmが好ましく、特に好ましくは0.5〜2.0μmであ
る。
【0019】平板状ハロゲン化銀乳剤は、粒子直径/厚
さ(アスペクト比と呼ぶ)の平均値(平均アスペクト比
と呼ぶ)が3以上であり、好ましくは6〜60であり、よ
り好ましくは7〜50、特に好ましくは8〜20である。
さ(アスペクト比と呼ぶ)の平均値(平均アスペクト比
と呼ぶ)が3以上であり、好ましくは6〜60であり、よ
り好ましくは7〜50、特に好ましくは8〜20である。
【0020】平均厚さは0.4μm以下が好ましく、より好
ましくは0.3μm以下、特に好ましくは0.05〜0.25μmで
ある。
ましくは0.3μm以下、特に好ましくは0.05〜0.25μmで
ある。
【0021】本発明において、ハロゲン化銀粒子の直径
は、ハロゲン化銀粒子の電子顕微鏡写真の観察から粒子
の球相当径として定義される。ハロゲン化銀粒子の厚さ
は、平板状ハロゲン化銀粒子を構成する二つの平行な面
の距離のうち最小のものと定義される。
は、ハロゲン化銀粒子の電子顕微鏡写真の観察から粒子
の球相当径として定義される。ハロゲン化銀粒子の厚さ
は、平板状ハロゲン化銀粒子を構成する二つの平行な面
の距離のうち最小のものと定義される。
【0022】平板状ハロゲン化銀粒子の厚さは、ハロゲ
ン化銀粒子の影の付いた電子顕微鏡写真又はハロゲン化
銀乳剤を支持体に塗布し乾燥したサンプル断層の電子顕
微鏡写真から求めることができる。
ン化銀粒子の影の付いた電子顕微鏡写真又はハロゲン化
銀乳剤を支持体に塗布し乾燥したサンプル断層の電子顕
微鏡写真から求めることができる。
【0023】平均アスペクト比を求めるためには、最低
100サンプルの測定を行う。
100サンプルの測定を行う。
【0024】本発明のハロゲン化銀乳剤において、平板
状ハロゲン化銀粒子が全ハロゲン化銀粒子に占める割合
は50%以上であり、好ましくは60%以上、特に好ましく
は70%以上である。
状ハロゲン化銀粒子が全ハロゲン化銀粒子に占める割合
は50%以上であり、好ましくは60%以上、特に好ましく
は70%以上である。
【0025】平板状ハロゲン化銀乳剤は単分散性である
ものが好ましく用いられ、平均粒径を中心に±20%の粒
径範囲に含まれるハロゲン化銀粒子が50重量%以上のも
のが特に好ましく用いられる。
ものが好ましく用いられ、平均粒径を中心に±20%の粒
径範囲に含まれるハロゲン化銀粒子が50重量%以上のも
のが特に好ましく用いられる。
【0026】平板状ハロゲン化銀乳剤は、塩化銀、臭化
銀、塩沃化銀、塩臭化銀、沃臭化銀塩沃臭化銀等ハロゲ
ン組成は任意であるが、高感度という点から沃塩臭化銀
が好ましく、平均沃化銀含有率は、0〜4.0モル%であ
って特に好ましくは0.2〜3.0モル%で、平均塩化銀含有
率は0〜5モル%である。
銀、塩沃化銀、塩臭化銀、沃臭化銀塩沃臭化銀等ハロゲ
ン組成は任意であるが、高感度という点から沃塩臭化銀
が好ましく、平均沃化銀含有率は、0〜4.0モル%であ
って特に好ましくは0.2〜3.0モル%で、平均塩化銀含有
率は0〜5モル%である。
【0027】平板状ハロゲン化銀乳剤の製造方法は、特
開昭58-113926号、同58-113927号、同58-113934号、同6
2-1855号、ヨーロッパ特許219,849号、同219,850号等を
参考にすることもできる。又、単分散性の平板状ハロゲ
ン化銀乳剤の製造方法として、特開昭61-6643号を参考
にすることができる。
開昭58-113926号、同58-113927号、同58-113934号、同6
2-1855号、ヨーロッパ特許219,849号、同219,850号等を
参考にすることもできる。又、単分散性の平板状ハロゲ
ン化銀乳剤の製造方法として、特開昭61-6643号を参考
にすることができる。
【0028】高アスペクト比を持つ平板状の沃臭化銀乳
剤の製造方法としては、pBrが2以下に保たれたゼラチ
ン水溶液に硝酸銀水溶液又は硝酸銀水溶液とハロゲン化
物水溶液を同時に添加して種晶を発生させ、次にダブル
ジェット法により成長させることによって得ることがで
きる。
剤の製造方法としては、pBrが2以下に保たれたゼラチ
ン水溶液に硝酸銀水溶液又は硝酸銀水溶液とハロゲン化
物水溶液を同時に添加して種晶を発生させ、次にダブル
ジェット法により成長させることによって得ることがで
きる。
【0029】平板状ハロゲン化銀粒子の大きさは、粒子
形成時の温度、銀塩及びハロゲン化物水溶液の添加速度
によってコントロールできる。
形成時の温度、銀塩及びハロゲン化物水溶液の添加速度
によってコントロールできる。
【0030】平板状ハロゲン化銀乳剤の平均沃化銀含有
率は、添加するハロゲン化物水溶液の組成、即ち臭化物
と沃化物の比を変えることによりコントロールすること
ができる。
率は、添加するハロゲン化物水溶液の組成、即ち臭化物
と沃化物の比を変えることによりコントロールすること
ができる。
【0031】乳剤は可溶性塩類を除去するためヌードル
水洗法、フロキュレーション沈降法などの水洗方法がな
されてよい。好ましい水洗法としては、例えば特公昭35
-16086号記載のスルホ基を含む芳香族炭化水素系アルデ
ヒド樹脂を用いる方法、又は特開平2-7037号記載の凝集
高分子剤例示G3,G8などを用いる方法が特に好まし
い脱塩法として挙げられる。
水洗法、フロキュレーション沈降法などの水洗方法がな
されてよい。好ましい水洗法としては、例えば特公昭35
-16086号記載のスルホ基を含む芳香族炭化水素系アルデ
ヒド樹脂を用いる方法、又は特開平2-7037号記載の凝集
高分子剤例示G3,G8などを用いる方法が特に好まし
い脱塩法として挙げられる。
【0032】本発明に係る乳剤は、物理熟成又は化学熟
成前後の工程において、各種の写真用添加剤を用いるこ
とができる。公知の添加剤としては、例えば RD No.176
43(1978年12月)、同No.18716(1979年11月)及び同N
o.308119(1989年12月)に記載された化合物が挙げられ
る。これら三つのリサーチ・ディスクロージャーに示さ
れている化合物種類と記載箇所を次表に掲載した。
成前後の工程において、各種の写真用添加剤を用いるこ
とができる。公知の添加剤としては、例えば RD No.176
43(1978年12月)、同No.18716(1979年11月)及び同N
o.308119(1989年12月)に記載された化合物が挙げられ
る。これら三つのリサーチ・ディスクロージャーに示さ
れている化合物種類と記載箇所を次表に掲載した。
【0033】 添加剤 RD-17643 RD-18716 RD-308119 頁 分類 頁 分類 頁 分類 化学増感剤 23 III 648 右上 996 III 増感色素 23 IV 648〜649 996〜8 IV 減感色素 23 IV 998 B 染料 25〜26 VIII 649〜650 1003 VIII 現像促進剤 29 XXI 648 右上 カブリ抑制剤・安定剤 24 IV 649 右上 1006〜7 VI 増白剤 24 V 998 V 界面活性剤 26〜7 XI 650 右 1005〜6 XI 帯電防止剤 27 XII 650 右 1006〜7 XIII 可塑剤 27 XII 650 右 1006 XII スベリ剤 27 XII マット剤 28 XVI 650 右 1008〜9 XVI バインダー 26 XXII 1003〜4 IX 支持体 28 XVII 1009 XVII 本発明に係る感光材料に用いることのできる支持体とし
ては、例えば前述のRD-17643の28頁及びRD-308119の100
9頁に記載されているものが挙げられる。適当な支持体
としてはプラスチックフィルムなどで、これら支持体の
表面には塗布層の接着をよくするために、下塗層を設け
たり、コロナ放電、紫外線照射などを施してもよい。
ては、例えば前述のRD-17643の28頁及びRD-308119の100
9頁に記載されているものが挙げられる。適当な支持体
としてはプラスチックフィルムなどで、これら支持体の
表面には塗布層の接着をよくするために、下塗層を設け
たり、コロナ放電、紫外線照射などを施してもよい。
【0034】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、支
持体から最も遠い位置にハロゲン化銀感光乳剤層の保護
層として親水性コロイド層を設ける。この目的に用いら
れるコロイドとしては、ゼラチン、コロイド状アルブミ
ン、ポリサッカロイド、セルロース誘導体、合成樹脂、
例えばポリビニールアルコール誘導体を含むポリビニー
ル化合物、アクリルアミドポリマー等一般に写真分野で
使用される親水性コロイドを挙げることができる。
持体から最も遠い位置にハロゲン化銀感光乳剤層の保護
層として親水性コロイド層を設ける。この目的に用いら
れるコロイドとしては、ゼラチン、コロイド状アルブミ
ン、ポリサッカロイド、セルロース誘導体、合成樹脂、
例えばポリビニールアルコール誘導体を含むポリビニー
ル化合物、アクリルアミドポリマー等一般に写真分野で
使用される親水性コロイドを挙げることができる。
【0035】本発明に用いられるポリマーラテックスを
形成する単量体としては少なくとも1種は25℃における
水に対する溶解度が0.25重量%以下であり、好ましく
は、0.015重量%以下である。この様なエチレン性単量
体としては例えばヘキシルアクリレート、2-エチルヘキ
シルアクリレート、オクチルアクリレート、tert−オク
チルアクリレート、ノニルアクリレート、isoーノニルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、n-ステアリ
ルアクリレート、ラウリルアクリレート、トリデシルア
クリレート等のアクリル酸エステル類、ブチルメタクリ
レート、isoーブチルメタクリレート、tert-ブチルメタ
クリレート、ヘキシルメタリレート、2-エチルヘキシル
メタリレート、オクチルメタリレート、iso-オクチルメ
タクリレート、tert−オクチルメタリレート、ノニルメ
タリレート、isoーノニルメタリレート、シクロヘキシル
メタリレート、n-ステアリルメタリレート、ラウリルメ
タクリレート、トリデシルメタクリレート等のメタクリ
ル酸エステル類等やジビニルベンゼン等が挙げられる。
形成する単量体としては少なくとも1種は25℃における
水に対する溶解度が0.25重量%以下であり、好ましく
は、0.015重量%以下である。この様なエチレン性単量
体としては例えばヘキシルアクリレート、2-エチルヘキ
シルアクリレート、オクチルアクリレート、tert−オク
チルアクリレート、ノニルアクリレート、isoーノニルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、n-ステアリ
ルアクリレート、ラウリルアクリレート、トリデシルア
クリレート等のアクリル酸エステル類、ブチルメタクリ
レート、isoーブチルメタクリレート、tert-ブチルメタ
クリレート、ヘキシルメタリレート、2-エチルヘキシル
メタリレート、オクチルメタリレート、iso-オクチルメ
タクリレート、tert−オクチルメタリレート、ノニルメ
タリレート、isoーノニルメタリレート、シクロヘキシル
メタリレート、n-ステアリルメタリレート、ラウリルメ
タクリレート、トリデシルメタクリレート等のメタクリ
ル酸エステル類等やジビニルベンゼン等が挙げられる。
【0036】本発明に用いられるポリマーラテックスを
形成する単量体の25℃の水に対する溶解度は、新実験化
学講座基本操作1(丸善化学、1975)に記載されている
方法で測定することができる。この方法で測定すると上
記本発明の単量体の25℃の水に対する溶解度は、例えば
2-エチルヘキシルアクリレートで0.01重量%、2-エチル
ヘキシルメタクリレートで0.01重量%、シクロヘキシル
メタクリレートで0.00重量%である。比較の単量体であ
るスチレンで0.03重量%、ブチルアクリレートで0.32重
量%ブチルメタクリレートで0.03重量%であった。
形成する単量体の25℃の水に対する溶解度は、新実験化
学講座基本操作1(丸善化学、1975)に記載されている
方法で測定することができる。この方法で測定すると上
記本発明の単量体の25℃の水に対する溶解度は、例えば
2-エチルヘキシルアクリレートで0.01重量%、2-エチル
ヘキシルメタクリレートで0.01重量%、シクロヘキシル
メタクリレートで0.00重量%である。比較の単量体であ
るスチレンで0.03重量%、ブチルアクリレートで0.32重
量%ブチルメタクリレートで0.03重量%であった。
【0037】本発明で用いられるポリマーラテックス
は、上記単量体化合物の他の単量体化合物を共重合して
も良く、共重合するエチレン性単量体化合物としては、
例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、オレフィン類、スチレン類、ク
ロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル類、マレイ
ン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、アクリルア
ミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルケト
ン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不
飽和ニトリル類、多官能単量体、各種不飽和酸から選ば
れる1種又は2種以上を組み合わせた単量体化合物を挙
げることができる。
は、上記単量体化合物の他の単量体化合物を共重合して
も良く、共重合するエチレン性単量体化合物としては、
例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、オレフィン類、スチレン類、ク
ロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル類、マレイ
ン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、アクリルア
ミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルケト
ン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不
飽和ニトリル類、多官能単量体、各種不飽和酸から選ば
れる1種又は2種以上を組み合わせた単量体化合物を挙
げることができる。
【0038】これらの単量体化合物について更に具体的
に示すと、アクリル酸エステル類としては、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、n-プロピルアクリレー
ト、イソプロピルアクリレート、n-ブチルアクリレー
ト、イソブチルアクリレート、sec-ブチルアクリレー
ト、tert-ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
ヘキシルアクリレート、2-クロロエチルアクリレート、
2-ブロモエチルアクリレート、4-クロロブチルアクリレ
ート、シアノエチルアクリレート、2-アセトキシエチル
アクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、メ
トキシベンジルアクリレート、2-クロロシクロヘキシル
アクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、2-ヒ
ドロキシエチルアクリレート、5-ヒドロキシペンチルア
クリレート、2,2-ジメチル-3-ヒド ロキシプロピルアク
リレート、2-メトキシエチルアクリレート、3-メトキシ
ブチルアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、
2-iso-プロポキシアクリレート、2-ブトキシエチルアク
リレート、2-(2-メトキシエトキシ)エチルアクリレー
ト、2-(2-ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、ω-
メトキシポリエチレング リコールアクリレート(付加
モル数n=9)、1-ブロモ-2-メトキシエチルアク リレ
ート、1,1-ジクロロ-2-エトキシエチルアクリレートな
どが挙げられる。
に示すと、アクリル酸エステル類としては、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、n-プロピルアクリレー
ト、イソプロピルアクリレート、n-ブチルアクリレー
ト、イソブチルアクリレート、sec-ブチルアクリレー
ト、tert-ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
ヘキシルアクリレート、2-クロロエチルアクリレート、
2-ブロモエチルアクリレート、4-クロロブチルアクリレ
ート、シアノエチルアクリレート、2-アセトキシエチル
アクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、メ
トキシベンジルアクリレート、2-クロロシクロヘキシル
アクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、2-ヒ
ドロキシエチルアクリレート、5-ヒドロキシペンチルア
クリレート、2,2-ジメチル-3-ヒド ロキシプロピルアク
リレート、2-メトキシエチルアクリレート、3-メトキシ
ブチルアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、
2-iso-プロポキシアクリレート、2-ブトキシエチルアク
リレート、2-(2-メトキシエトキシ)エチルアクリレー
ト、2-(2-ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、ω-
メトキシポリエチレング リコールアクリレート(付加
モル数n=9)、1-ブロモ-2-メトキシエチルアク リレ
ート、1,1-ジクロロ-2-エトキシエチルアクリレートな
どが挙げられる。
【0039】メタクリル酸エステル類の例としては、メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ス
ルホプロピルメタクリレート、N-エチル-N-フェニルア
ミノエチルメタクリレート、2-(3-フェニルプロピルオ
キシ)エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキ
シエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタ
クリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタク
リレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、4-ヒド
ロキシブチルメタクリレート、トリエチレングリコール
モノメタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタ
クリレート、2-メトキシエチルメタクリレート、3-メト
キシブチルメタクリレート、2-アセトキシエチルメタク
リレート、2-アセトアセトキシエチルメタクリレート、
2-エトキシエチルメタクリレート、2-iso-プロポキシエ
チルメタクリレート、2-ブトキシエチルメタクリレー
ト、2-(2-メトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2-
(2-エトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2-(2-ブ
トキシエトキシ)エチルメタクリレート、ω-メトキシポ
リエチレングリコールメタクリレート(付加モル数n=
6)、アリルメタクリレート、メタクリル酸ジメチルア
ミノエチルメチルクロライド塩などを挙げることができ
る。
チルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ス
ルホプロピルメタクリレート、N-エチル-N-フェニルア
ミノエチルメタクリレート、2-(3-フェニルプロピルオ
キシ)エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキ
シエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタ
クリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタク
リレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、4-ヒド
ロキシブチルメタクリレート、トリエチレングリコール
モノメタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタ
クリレート、2-メトキシエチルメタクリレート、3-メト
キシブチルメタクリレート、2-アセトキシエチルメタク
リレート、2-アセトアセトキシエチルメタクリレート、
2-エトキシエチルメタクリレート、2-iso-プロポキシエ
チルメタクリレート、2-ブトキシエチルメタクリレー
ト、2-(2-メトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2-
(2-エトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2-(2-ブ
トキシエトキシ)エチルメタクリレート、ω-メトキシポ
リエチレングリコールメタクリレート(付加モル数n=
6)、アリルメタクリレート、メタクリル酸ジメチルア
ミノエチルメチルクロライド塩などを挙げることができ
る。
【0040】ビニルエステル類の例としては、ビニルア
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフ
ェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル
などが挙げられる。
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフ
ェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル
などが挙げられる。
【0041】またオレフィン類の例としては、ジシクロ
ペンタジエン、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペ
ンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、ク
ロロプレン、ブタジエン、2,3-ジメチルブタジエン等を
挙げることができる。
ペンタジエン、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペ
ンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、ク
ロロプレン、ブタジエン、2,3-ジメチルブタジエン等を
挙げることができる。
【0042】スチレン類としては、例えば、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメ
チルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレ
ン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレ
ン、トリフルオロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチ
ルエステルなどが挙げられる。
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメ
チルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレ
ン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレ
ン、トリフルオロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチ
ルエステルなどが挙げられる。
【0043】クロトン酸エステル類の例としては、クロ
トン酸ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。
トン酸ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。
【0044】またイタコン酸ジエチル類としては、例え
ば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチルなどが挙げられる。マレイン酸ジエステル
類としては、例えば、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジメチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。フマ
ル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジエチ
ル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルなどが挙げら
れる。アクリルアミド類としては、アクリルアミド、メ
チルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、tert-ブチ ル
アクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベン
ジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミ
ド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエ
チルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチ
ルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β-シア
ノエチルアクリルアミド、N-(2-アセトアセトキシエチ
ル)アクリルアミドなど;メタクリルアミド類、例え
ば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチ
ルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチ
ルメタクリルアミド、tert-ブチルメタクリルアミド、
シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジル メタクリ
ルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキ
シエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタ
クリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメ
タクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β-シア
ノエチル メタクリルアミド、N-(2-アセトアセトキシエ
チル)メタクリルアミドなど;アリル化合物、例えば、
酢酸アリル、カプロン酸アリル、ラウリン酸アリル、安
息香酸アリルなど;ビニルエーテル類、例えば、メチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニ
ルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチル
アミノエチルビニルエーテルなど;ビニルケトン類、例
えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メ
トキシエチルビニルケトンなど;ビニル異節環化合物、
例えば、ビニルピリジン、N-ビニルイミダゾール、N-ビ
ニルオキサゾリドン、N-ビニルトリアゾール、N-ビニル
ピロリドンなど;グリシジルエステル類、例えば、グリ
シジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなど;
不飽和ニトリル類、例えば、アクリロニトリル、メタク
リロニトリルなど;多官能性単量体、例えば、ジビニル
ベンゼン、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリ
コールジメタクリレートなど。
ば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチルなどが挙げられる。マレイン酸ジエステル
類としては、例えば、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジメチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。フマ
ル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジエチ
ル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルなどが挙げら
れる。アクリルアミド類としては、アクリルアミド、メ
チルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、tert-ブチ ル
アクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベン
ジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミ
ド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエ
チルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチ
ルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β-シア
ノエチルアクリルアミド、N-(2-アセトアセトキシエチ
ル)アクリルアミドなど;メタクリルアミド類、例え
ば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチ
ルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチ
ルメタクリルアミド、tert-ブチルメタクリルアミド、
シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジル メタクリ
ルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキ
シエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタ
クリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメ
タクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β-シア
ノエチル メタクリルアミド、N-(2-アセトアセトキシエ
チル)メタクリルアミドなど;アリル化合物、例えば、
酢酸アリル、カプロン酸アリル、ラウリン酸アリル、安
息香酸アリルなど;ビニルエーテル類、例えば、メチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニ
ルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチル
アミノエチルビニルエーテルなど;ビニルケトン類、例
えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メ
トキシエチルビニルケトンなど;ビニル異節環化合物、
例えば、ビニルピリジン、N-ビニルイミダゾール、N-ビ
ニルオキサゾリドン、N-ビニルトリアゾール、N-ビニル
ピロリドンなど;グリシジルエステル類、例えば、グリ
シジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなど;
不飽和ニトリル類、例えば、アクリロニトリル、メタク
リロニトリルなど;多官能性単量体、例えば、ジビニル
ベンゼン、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリ
コールジメタクリレートなど。
【0045】更に、アクリル酸、メタクリル酸、イタコ
ン酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル、例えば、
イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコ
ン酸モノブチルなど;マレイン酸モノアルキル、例え
ば、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノブチルなど;シトラコン酸、スチレンスル
ホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン
酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、
アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオ
キシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルス
ルホン酸など;メタクリロイルオキシアルキルスルホン
酸、例えば、メタクリロイルオキシジメチルスルホン
酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メタクリ
ロイルオキシプロピルスルホン酸など;アクリルアミド
アルキルスルホン酸、例えば、2-アクリルアミド-2-メ
チルエタンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプ
ロパンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルブタン
スルホン酸など;メタクリルアミドアルキルスルホン
酸、例えば、2-メタクリルアミド-2-メチルエタンスル
ホン酸、2-メタクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン
酸、2-メタクリルアミド-2-メチルブタンスルホン酸な
ど;アクリロイルオキシアルキルホスフェート、例え
ば、アクリロイルオキシエチルホスフェート、3-アクリ
ロイルオキシプロピル-2-ホスフェートなど;メタクリ
ロイルオキシアルキルホスフェート、例えば、メタクリ
ロイルオキシエチルホスフェート、3-メタクリロイルオ
キシプロピル-2-ホスフェートなど;親水基を2個有す
る3-アリロキシ-2-ヒドロキシプロパンスルホン酸ナフ
チルなどが挙げられる。これらの酸はアルカリ金属(例
えば、Na、Kなど)又はアンモニウムイオンの塩であ
ってもよい。さらにその他の単量体化合物としては、米
国特許3,459,790号、同3,438,708号、同3,554,987号、
同4,215,195号、同4,247,673号、特開昭57‐205735号公
報明細書等に記載されている 架橋性単量体を用いるこ
とができる。このような架橋性単量体の例としては、具
体的にはN-(2-アセトアセトキシエチル)アクリルアミ
ド、N-{2-(2-アセトアセトキシエトキシ)エチル}アクリ
ルアミド等を挙げることができる。
ン酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル、例えば、
イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコ
ン酸モノブチルなど;マレイン酸モノアルキル、例え
ば、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノブチルなど;シトラコン酸、スチレンスル
ホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン
酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、
アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオ
キシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルス
ルホン酸など;メタクリロイルオキシアルキルスルホン
酸、例えば、メタクリロイルオキシジメチルスルホン
酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メタクリ
ロイルオキシプロピルスルホン酸など;アクリルアミド
アルキルスルホン酸、例えば、2-アクリルアミド-2-メ
チルエタンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプ
ロパンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルブタン
スルホン酸など;メタクリルアミドアルキルスルホン
酸、例えば、2-メタクリルアミド-2-メチルエタンスル
ホン酸、2-メタクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン
酸、2-メタクリルアミド-2-メチルブタンスルホン酸な
ど;アクリロイルオキシアルキルホスフェート、例え
ば、アクリロイルオキシエチルホスフェート、3-アクリ
ロイルオキシプロピル-2-ホスフェートなど;メタクリ
ロイルオキシアルキルホスフェート、例えば、メタクリ
ロイルオキシエチルホスフェート、3-メタクリロイルオ
キシプロピル-2-ホスフェートなど;親水基を2個有す
る3-アリロキシ-2-ヒドロキシプロパンスルホン酸ナフ
チルなどが挙げられる。これらの酸はアルカリ金属(例
えば、Na、Kなど)又はアンモニウムイオンの塩であ
ってもよい。さらにその他の単量体化合物としては、米
国特許3,459,790号、同3,438,708号、同3,554,987号、
同4,215,195号、同4,247,673号、特開昭57‐205735号公
報明細書等に記載されている 架橋性単量体を用いるこ
とができる。このような架橋性単量体の例としては、具
体的にはN-(2-アセトアセトキシエチル)アクリルアミ
ド、N-{2-(2-アセトアセトキシエトキシ)エチル}アクリ
ルアミド等を挙げることができる。
【0046】これらの単量体化合物のうち、アクリル酸
エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル
類、スチレン類、オレフィン類が好ましく用いられる。
エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル
類、スチレン類、オレフィン類が好ましく用いられる。
【0047】本発明のポリマーラテックスの重合の際用
いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界
面活性剤のいずれも用いることができるが、好ましくは
アニオン性界面活性剤及び/またはノニオン性界面活性
剤である。アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活
性剤としては、それぞれ当業界で公知の種々の化合物を
使用できるが、特に好ましくはアニオン性界面活性剤が
用いられる。
いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界
面活性剤のいずれも用いることができるが、好ましくは
アニオン性界面活性剤及び/またはノニオン性界面活性
剤である。アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活
性剤としては、それぞれ当業界で公知の種々の化合物を
使用できるが、特に好ましくはアニオン性界面活性剤が
用いられる。
【0048】本発明のポリマーラテックスの重合の際に
用いられる水溶性高分子としては、例えば合成高分子及
び天然水溶性高分子が挙げられるが、本発明ではいずれ
も好ましく用いることができる。このうち、合成水溶性
高分子としては、分子構造中に例えばノニオン性基を有
するもの、アニオン性基を有するもの、カチオン性基を
有するもの、ノニオン性基とアニオン性基を有するも
の、ノニオン性基とカチオン性基を有するもの、アニオ
ン性基とカチオン性基を有するもの等が挙げられる。ノ
ニオン性基としては、例えばエーテル基、アルキレンオ
キサイド基、ヒドロキシ基、アミド基、アミノ基等が挙
げられる。アニオン性基としては、例えばカルボン酸基
あるいはその塩、燐酸基あるいはその塩、スルホン酸基
あるいはその塩等が挙げられる。カチオン性基として
は、例えば4級アンモニウム塩基、三級アミノ基等が挙
げられる。
用いられる水溶性高分子としては、例えば合成高分子及
び天然水溶性高分子が挙げられるが、本発明ではいずれ
も好ましく用いることができる。このうち、合成水溶性
高分子としては、分子構造中に例えばノニオン性基を有
するもの、アニオン性基を有するもの、カチオン性基を
有するもの、ノニオン性基とアニオン性基を有するも
の、ノニオン性基とカチオン性基を有するもの、アニオ
ン性基とカチオン性基を有するもの等が挙げられる。ノ
ニオン性基としては、例えばエーテル基、アルキレンオ
キサイド基、ヒドロキシ基、アミド基、アミノ基等が挙
げられる。アニオン性基としては、例えばカルボン酸基
あるいはその塩、燐酸基あるいはその塩、スルホン酸基
あるいはその塩等が挙げられる。カチオン性基として
は、例えば4級アンモニウム塩基、三級アミノ基等が挙
げられる。
【0049】また、天然水溶性高分子としても、分子構
造中に例えばノニオン性基を有するもの、アニオン性基
を有するもの、カチオン性基を有するもの、ノニオン性
基とアニオン性基を有するもの、ノニオン性基とカチオ
ン性基を有するもの、アニオン性基とカチオン性基を有
するもの等が挙げられる。
造中に例えばノニオン性基を有するもの、アニオン性基
を有するもの、カチオン性基を有するもの、ノニオン性
基とアニオン性基を有するもの、ノニオン性基とカチオ
ン性基を有するもの、アニオン性基とカチオン性基を有
するもの等が挙げられる。
【0050】本発明のポリマーラテックスの重合の際に
用いられる水溶性ポリマーとしては、合成水溶性ポリマ
ー、天然水溶性のいずれの場合にも、アニオン性基を有
するもの、及びノニオン性基とアニオン性基を有するも
のを好ましく用いることができる。
用いられる水溶性ポリマーとしては、合成水溶性ポリマ
ー、天然水溶性のいずれの場合にも、アニオン性基を有
するもの、及びノニオン性基とアニオン性基を有するも
のを好ましく用いることができる。
【0051】本発明において、水溶性ポリマーとは、20
℃の水100gに対して、0.05g以上溶解すればよく、好ま
しくは0.1g以上のものである。
℃の水100gに対して、0.05g以上溶解すればよく、好ま
しくは0.1g以上のものである。
【0052】天然水溶性ポリマーとしては、水溶性高分
子水分散法樹脂の総合技術資料集(経営開発センター)
に詳しく記載されているものが挙げられるが、好ましく
はリグニン、澱粉、プルラン、セルロース、デキストラ
ン、デキストリン、グリコーゲン、アルギン酸、ゼラチ
ン、コラーゲン、グァーガム、アラビアゴム、ラミナラ
ン、リケニン、ニグラン等およびこれらの誘導体であ
る。また天然水溶性高分子の誘導体としては、スルホン
化、カルボキシル化、燐酸化、スルホアルキレン化、カ
ルボキシアルキレン化、アルキル燐酸化したものおよび
その塩が好ましく用いられる。特に好ましくは、グルコ
ース、ゼラチン、デキストラン、セルロースおよびその
誘導体である。
子水分散法樹脂の総合技術資料集(経営開発センター)
に詳しく記載されているものが挙げられるが、好ましく
はリグニン、澱粉、プルラン、セルロース、デキストラ
ン、デキストリン、グリコーゲン、アルギン酸、ゼラチ
ン、コラーゲン、グァーガム、アラビアゴム、ラミナラ
ン、リケニン、ニグラン等およびこれらの誘導体であ
る。また天然水溶性高分子の誘導体としては、スルホン
化、カルボキシル化、燐酸化、スルホアルキレン化、カ
ルボキシアルキレン化、アルキル燐酸化したものおよび
その塩が好ましく用いられる。特に好ましくは、グルコ
ース、ゼラチン、デキストラン、セルロースおよびその
誘導体である。
【0053】本発明に用いるポリマーラテックスは、種
々の方法で容易に製造することができる。例えば、乳化
重合法、或いは溶液重合、又は塊状重合等で得たポリマ
ーを再分散する方法等がある。
々の方法で容易に製造することができる。例えば、乳化
重合法、或いは溶液重合、又は塊状重合等で得たポリマ
ーを再分散する方法等がある。
【0054】乳化重合法では、水を分散媒とし、水に対
して10〜50重量%の単量体と単量体に対して0.05〜5重
量%の重合開始剤、0.1〜20重量%の分散剤を用い、約3
0〜100℃、好ましくは60〜90℃で3〜8時間攪拌下重合
させることによって得られる。単量体の濃度、開始剤
量、反応温度、時間等は幅広くかつ容易に変更できる。
して10〜50重量%の単量体と単量体に対して0.05〜5重
量%の重合開始剤、0.1〜20重量%の分散剤を用い、約3
0〜100℃、好ましくは60〜90℃で3〜8時間攪拌下重合
させることによって得られる。単量体の濃度、開始剤
量、反応温度、時間等は幅広くかつ容易に変更できる。
【0055】開始剤としては、水溶性過酸化物(例えば
過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等)、水溶性アゾ
化合物(例えば2,2′-アゾビス-(2-アミジノプロパン)-
ハイドロクロライド等)等を挙げることができる。
過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等)、水溶性アゾ
化合物(例えば2,2′-アゾビス-(2-アミジノプロパン)-
ハイドロクロライド等)等を挙げることができる。
【0056】分散剤としては水溶性ポリマーの他にアニ
オン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性
活性剤、両性活性剤が挙げられ、これらを単独で用いて
もまた併用しても良く、好ましくは水溶性ポリマーとノ
ニオン活性剤またはアニオン性活性剤との併用である 溶液重合では一般に適当な溶剤(例えばエタノール、メ
タノール、水等)中で適当な濃度の単量体の混合物(通
常、溶剤に対して40重量%以下、好ましくは10〜25重量
%の混合物)を重合開始剤(例えば、過酸化ベンゾイ
ル、アゾビスイソブチロニトリル、過硫酸アンモニウム
等)の存在下で適当な温度(例えば40〜120℃、好まし
くは50〜100℃)に加熱することにより共重合反応が行
われる。その後、生成したコポリマーを溶かさない媒質
中に反応混合物を注ぎこみ、生成物を沈降させ、ついで
乾燥することにより未反応混合物を分離除去する。
オン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性
活性剤、両性活性剤が挙げられ、これらを単独で用いて
もまた併用しても良く、好ましくは水溶性ポリマーとノ
ニオン活性剤またはアニオン性活性剤との併用である 溶液重合では一般に適当な溶剤(例えばエタノール、メ
タノール、水等)中で適当な濃度の単量体の混合物(通
常、溶剤に対して40重量%以下、好ましくは10〜25重量
%の混合物)を重合開始剤(例えば、過酸化ベンゾイ
ル、アゾビスイソブチロニトリル、過硫酸アンモニウム
等)の存在下で適当な温度(例えば40〜120℃、好まし
くは50〜100℃)に加熱することにより共重合反応が行
われる。その後、生成したコポリマーを溶かさない媒質
中に反応混合物を注ぎこみ、生成物を沈降させ、ついで
乾燥することにより未反応混合物を分離除去する。
【0057】次いでコポリマーは溶かすが水には溶けな
い溶媒(例えば酢酸エチル、ブタノール等)にコポリマ
ーを溶かし、分散剤(例えば界面活性剤、水溶性ポリマ
ー等)の存在下、激しく分散し、その後溶媒を留去しポ
リマーラテックスを得る。
い溶媒(例えば酢酸エチル、ブタノール等)にコポリマ
ーを溶かし、分散剤(例えば界面活性剤、水溶性ポリマ
ー等)の存在下、激しく分散し、その後溶媒を留去しポ
リマーラテックスを得る。
【0058】本発明で用いるポリマーラテックスを形成
するポリマーのTg(ガラス転移温度)は、60℃以下で
あることが好ましく特に好ましくは40℃以下である。
するポリマーのTg(ガラス転移温度)は、60℃以下で
あることが好ましく特に好ましくは40℃以下である。
【0059】本発明で用いられるエチレン性単量体類の
多くのポリマーのTgは、ブランドラップらによる“ポ
リマーハンドブック”III−139頁からIII−179頁(1966
年)(ワイリーアンドサンズ社版)に記載されており、
コポリマーのTg(°K )は下記の式で表される。
多くのポリマーのTgは、ブランドラップらによる“ポ
リマーハンドブック”III−139頁からIII−179頁(1966
年)(ワイリーアンドサンズ社版)に記載されており、
コポリマーのTg(°K )は下記の式で表される。
【0060】 Tg(コポリマー)=v1Tg1+v2Tg2+…+vWTgW 但し上式中v1,v2…vWはコポリマー中の単量体の重
量分率を表し、Tg1,Tg2…TgWはコポリマー中の各単
量体のホモポリマーのTg(°K)を表す。
量分率を表し、Tg1,Tg2…TgWはコポリマー中の各単
量体のホモポリマーのTg(°K)を表す。
【0061】上式に従って計算されたTgには、±5℃
の精度がある。
の精度がある。
【0062】本発明で用いるポリマーラテックスの合成
法に関しては、米国特許2,852,386号、同2,853,457号、
同3,411,911号、同3,411,912号、同4,197,127号、ベル
ギー特許688,882号、同691,360号、同712,823号、特公
昭45‐5331号、特開昭60‐18540号、同51-130217号、同
58-137831号、同55-50240号などに詳しく記載されてい
る。
法に関しては、米国特許2,852,386号、同2,853,457号、
同3,411,911号、同3,411,912号、同4,197,127号、ベル
ギー特許688,882号、同691,360号、同712,823号、特公
昭45‐5331号、特開昭60‐18540号、同51-130217号、同
58-137831号、同55-50240号などに詳しく記載されてい
る。
【0063】本発明で用いるポリマーラテックスの平均
粒径は、0.5〜300nmのものであればいずれも好ましく使
用することができ、30〜250nmが特に好ましい。
粒径は、0.5〜300nmのものであればいずれも好ましく使
用することができ、30〜250nmが特に好ましい。
【0064】本発明で用いるポリマーラテックスの粒子
サイズは、'高分子ラテックスの化学'(高分子刊行会、
1973年)に記載されている電子顕微鏡写真法、石鹸滴定
法、光散乱法、遠心沈降法により測定できるが、光散乱
法が好ましく用いられる。光散乱法の装置としては、DL
S700(大塚電子社製)を用いた。
サイズは、'高分子ラテックスの化学'(高分子刊行会、
1973年)に記載されている電子顕微鏡写真法、石鹸滴定
法、光散乱法、遠心沈降法により測定できるが、光散乱
法が好ましく用いられる。光散乱法の装置としては、DL
S700(大塚電子社製)を用いた。
【0065】又、分子量の規定は特にはないが、好まし
くは総分子量で1,000〜1,000,000、更に好ましくは2,00
0〜500,000である。
くは総分子量で1,000〜1,000,000、更に好ましくは2,00
0〜500,000である。
【0066】本発明で用いるポリマーラテックスは、そ
のままもしくは水に分散させて写真構成層に含有するこ
とができる。該ポリマーラテックスの含有量は、写真構
成層バインダーに対し5〜70重量%添加するのが好まし
い。添加場所としては、感光性層、非感光性層を問わな
い。
のままもしくは水に分散させて写真構成層に含有するこ
とができる。該ポリマーラテックスの含有量は、写真構
成層バインダーに対し5〜70重量%添加するのが好まし
い。添加場所としては、感光性層、非感光性層を問わな
い。
【0067】本発明で用いるポリマーラテックスは、ポ
リマー色素やポリマー紫外線吸収剤等の機能性ポリマー
がラテックスの形で添加されている場合も含む。
リマー色素やポリマー紫外線吸収剤等の機能性ポリマー
がラテックスの形で添加されている場合も含む。
【0068】以下に本発明に係わるポリマーラテックス
及びその合成に使用された分散剤の具体例を示す。モノ
マー単位のサフィックスはそれぞれの含有百分率を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
及びその合成に使用された分散剤の具体例を示す。モノ
マー単位のサフィックスはそれぞれの含有百分率を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0069】
【化1】
【0070】
【化2】
【0071】
【化3】
【0072】
【化4】
【0073】
【化5】
【0074】
【化6】
【0075】本発明において、ポリマーラテックスの使
用量はゼラチン100に対して重量比で10%以上、300%以
下、好ましくは30%以上、200%以下である。ポリマー
ラテックスの使用量が少なすぎる場合は本発明の効果が
充分に発揮されず、また使用量が多すぎる場合は充分な
膜強度が得られない。更に本発明に使用される水溶性ポ
リマーは、ポリマーラテックス100に対して重量比で0.5
%以上、30%以下、好ましくは1%以上、15%以下であ
る。
用量はゼラチン100に対して重量比で10%以上、300%以
下、好ましくは30%以上、200%以下である。ポリマー
ラテックスの使用量が少なすぎる場合は本発明の効果が
充分に発揮されず、また使用量が多すぎる場合は充分な
膜強度が得られない。更に本発明に使用される水溶性ポ
リマーは、ポリマーラテックス100に対して重量比で0.5
%以上、30%以下、好ましくは1%以上、15%以下であ
る。
【0076】ハロゲン化銀のバインダーとしては、ゼラ
チン、ゼラチン誘導体を用いるのが有利である。ゼラチ
ンとしては、石灰処理ゼラチンの他、ブレティン・オブ
/ソサエティ・オブ・サイエンティフィッウ・フォトグ
ラフィー・オブ・ジャパン(Bull.Soc. Sci.Phot.Japa
n) No.16、30頁(1966年)に記載されたような酸処理ゼラ
チンをもちいてもよく、またゼラチンの加水分解物や酸
素分解物も用いることができる。ゼラチン誘導体として
は、ゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イソシア
ナート類、ブロモ酢酸アルカンサルトン類、ビニルスル
ホンアミド類マレインイミド化合物類、ポリアルキレン
オキシド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を反応さ
せて得られるものが用いられる。その具体例は米国特許
2,614,928号、同3,132,945号、同3,186,846号、同3,31
2,553号、英国特許861,414号、同1,033,189号、同1,00
5,784号、特公昭42-26845号公報などに記載されてい
る。
チン、ゼラチン誘導体を用いるのが有利である。ゼラチ
ンとしては、石灰処理ゼラチンの他、ブレティン・オブ
/ソサエティ・オブ・サイエンティフィッウ・フォトグ
ラフィー・オブ・ジャパン(Bull.Soc. Sci.Phot.Japa
n) No.16、30頁(1966年)に記載されたような酸処理ゼラ
チンをもちいてもよく、またゼラチンの加水分解物や酸
素分解物も用いることができる。ゼラチン誘導体として
は、ゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イソシア
ナート類、ブロモ酢酸アルカンサルトン類、ビニルスル
ホンアミド類マレインイミド化合物類、ポリアルキレン
オキシド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を反応さ
せて得られるものが用いられる。その具体例は米国特許
2,614,928号、同3,132,945号、同3,186,846号、同3,31
2,553号、英国特許861,414号、同1,033,189号、同1,00
5,784号、特公昭42-26845号公報などに記載されてい
る。
【0077】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。
る。
【0078】実施例1種乳剤の調製1 60℃、pAg=8、pH=2.0にコントロールしつつ、ダブ
ルジェット法で平均粒径0.3μmの沃化銀2モル%を含む
沃臭化銀の単分散立方晶粒子を調製した。
ルジェット法で平均粒径0.3μmの沃化銀2モル%を含む
沃臭化銀の単分散立方晶粒子を調製した。
【0079】得られた反応液を40℃にて花王アトラス社
製デモールN水溶液と硫酸マグネシウム水溶液を用いて
脱塩したのち、 ゼラチン水溶液を加えて再分散し種乳剤
を得た。
製デモールN水溶液と硫酸マグネシウム水溶液を用いて
脱塩したのち、 ゼラチン水溶液を加えて再分散し種乳剤
を得た。
【0080】種乳剤からの成長1 上述の種乳剤を用い次のように粒子を成長させた。ま
ず、40℃に保たれたゼラチン水溶液に種乳剤を分散し、
さらにアンモニア水と酢酸でpH9.7に調製した。この液
にアンモニア性硝酸銀イオン水溶液及び臭化カリウムと
沃化カリウムの水溶液をダブルジェット法で添加した。
添加中はpAg=7.3、pHを9.7に制御し、沃化銀含有率35
モル%の層を形成した。次にアンモニア性硝酸銀水溶液
と臭化カリウム水溶液をダブルジェト法で添加した。目
標粒径の95%まではpAg=9.0に保ち、pHは9.0〜8.0に
まで連続的に変化させた。その後、pAgを11.0に調製し
pH8.0に保ちながら目標粒径まで成長させた。続いて酢
酸でpH=6.0まで下げ、5,5′-ジクロロ-9-エチル-3,3′
-ジ-(3-スルホプロピル)オキサカルボシアニンナトリウ
ム塩の無水物(減感色素 GD-1)を400mg/モルAgX添加
し、花王アトラス社製デモールN水溶液と硫酸マグネシ
ウム水溶液を用いて脱塩した後、ゼラチン溶液を加えて
再分散した。
ず、40℃に保たれたゼラチン水溶液に種乳剤を分散し、
さらにアンモニア水と酢酸でpH9.7に調製した。この液
にアンモニア性硝酸銀イオン水溶液及び臭化カリウムと
沃化カリウムの水溶液をダブルジェット法で添加した。
添加中はpAg=7.3、pHを9.7に制御し、沃化銀含有率35
モル%の層を形成した。次にアンモニア性硝酸銀水溶液
と臭化カリウム水溶液をダブルジェト法で添加した。目
標粒径の95%まではpAg=9.0に保ち、pHは9.0〜8.0に
まで連続的に変化させた。その後、pAgを11.0に調製し
pH8.0に保ちながら目標粒径まで成長させた。続いて酢
酸でpH=6.0まで下げ、5,5′-ジクロロ-9-エチル-3,3′
-ジ-(3-スルホプロピル)オキサカルボシアニンナトリウ
ム塩の無水物(減感色素 GD-1)を400mg/モルAgX添加
し、花王アトラス社製デモールN水溶液と硫酸マグネシ
ウム水溶液を用いて脱塩した後、ゼラチン溶液を加えて
再分散した。
【0081】この方法により平均沃化銀含有率2.0モル
の頂点が丸みを帯びた14面体で平均粒径0.40μm、0.65
μm、1.00μm、変動係数(δ/r)がそれぞれ0.17、0.
16、0.16の単分散沃臭化銀乳剤を(A)、(B)、(C)
を調製した。
の頂点が丸みを帯びた14面体で平均粒径0.40μm、0.65
μm、1.00μm、変動係数(δ/r)がそれぞれ0.17、0.
16、0.16の単分散沃臭化銀乳剤を(A)、(B)、(C)
を調製した。
【0082】種乳剤の調製2 40℃で激しく撹拌した過酸化水素処理ゼラチンを含む0.
05Nの臭化カリウム水溶液に硝酸銀水溶液と過酸化水素
処理ゼラチンを含む等モルの臭化カリウム水溶液をダブ
ルジェット法で添加し、1.5分後から30分間かけて25℃
まで液温度を下げてから硝酸銀1モル当たり80ミリリッ
トルのアンモニア水(28%)を加え5分間撹拌を続け
た。
05Nの臭化カリウム水溶液に硝酸銀水溶液と過酸化水素
処理ゼラチンを含む等モルの臭化カリウム水溶液をダブ
ルジェット法で添加し、1.5分後から30分間かけて25℃
まで液温度を下げてから硝酸銀1モル当たり80ミリリッ
トルのアンモニア水(28%)を加え5分間撹拌を続け
た。
【0083】その後、酢酸にてpHを6.0に合わせ、花王
アトラス社製デモールN水溶液と硫酸マグネシウム水溶
液を用いて脱塩した後、ゼラチン水溶液を加えて再分散
した。
アトラス社製デモールN水溶液と硫酸マグネシウム水溶
液を用いて脱塩した後、ゼラチン水溶液を加えて再分散
した。
【0084】得られた種乳剤は、平均粒径0.23μm、変
動係数0.28の球型粒子だった。
動係数0.28の球型粒子だった。
【0085】種乳剤からの成長2 上述の種乳剤を用い、次のように粒を成長させた。75℃
で激しく撹拌したオセインゼラチンとプロピルオキシ・
ポリエチレンオキシジサクシネート・ジナトリウム塩を
含む水溶液に臭化カリウムと沃化カリウムの水溶液及び
硝酸銀水溶液をダブルジェット法で添加した。この間p
H=5.8、pAg=9.0に保った。添加終了後、pHを6.0に合
わせ、GD-1を400mg/モルAgX添加した。
で激しく撹拌したオセインゼラチンとプロピルオキシ・
ポリエチレンオキシジサクシネート・ジナトリウム塩を
含む水溶液に臭化カリウムと沃化カリウムの水溶液及び
硝酸銀水溶液をダブルジェット法で添加した。この間p
H=5.8、pAg=9.0に保った。添加終了後、pHを6.0に合
わせ、GD-1を400mg/モルAgX添加した。
【0086】さらに40℃にて花王アトラス社製デモール
N水溶液を用いて脱塩した後、ゼラチン水溶液を加えて
再分散した。この方法によりpAgと沃化カリウム変化さ
せて平均沃化銀含有率1.5モル%で投影面積直径0.96μ
m、変動係数0.25、アスペクト比(投影面積直径/粒子
の厚さ)2.0、3.5、5.0、8.0の平板状沃臭化銀乳剤D−
1、D−2、D−3、D−4を調製した。
N水溶液を用いて脱塩した後、ゼラチン水溶液を加えて
再分散した。この方法によりpAgと沃化カリウム変化さ
せて平均沃化銀含有率1.5モル%で投影面積直径0.96μ
m、変動係数0.25、アスペクト比(投影面積直径/粒子
の厚さ)2.0、3.5、5.0、8.0の平板状沃臭化銀乳剤D−
1、D−2、D−3、D−4を調製した。
【0087】(ポリマーラテックスの製造法) 製造例1(Lx−1の合成) 1,000mlの4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロー
ト、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し
脱酸素を行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃とな
るまで加熱した。分散剤としてSf−1、4.5gを添加
し、さらに開始剤として過硫酸アンモニウム0.45gを添
加し、次いでエチルヘキシルアクリレート90gを滴下ロ
ートで約1時間かけて滴下する。滴下終了後5時間その
まま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去
する。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整しポリ
マーラテックスを得る。粒径は150nmであった。
ト、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し
脱酸素を行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃とな
るまで加熱した。分散剤としてSf−1、4.5gを添加
し、さらに開始剤として過硫酸アンモニウム0.45gを添
加し、次いでエチルヘキシルアクリレート90gを滴下ロ
ートで約1時間かけて滴下する。滴下終了後5時間その
まま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去
する。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整しポリ
マーラテックスを得る。粒径は150nmであった。
【0088】製造例2(Lx−2の合成) 1,000mlの4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロー
ト、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し
脱酸素を行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃とな
るまで加熱した。分散剤として本発明に係わるP−3、
4.5gを添加し、さらに開始剤として過硫酸アンモニウ
ム0.45gを添加し、次いでエチルヘキシルアクリレート
90gを滴下ロートで約1時間かけて滴下する。滴下終了
後4時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応
単量体を除去する。その後冷却しアンモニア水でpH6
に調整しポリマーラテックスを得る。粒径は200nmであ
った。 製造例3(Lx−10の合成) 500mlの3つ口フラスコに、ジオキサン200mlを入れ窒素
ガスで脱酸素を行う。その後、イソノニルアクリレート
15g、シクロヘキシルアクリレート35gを添加し、更に
開始剤としてアゾビスイソ酪酸ジメチル1.2gを加え、6
0℃で6時間反応を続ける。反応終了後、反応液を3リ
ットルの蒸留水に激しく攪拌しながら加え、白色結晶を
得る。
ト、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し
脱酸素を行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃とな
るまで加熱した。分散剤として本発明に係わるP−3、
4.5gを添加し、さらに開始剤として過硫酸アンモニウ
ム0.45gを添加し、次いでエチルヘキシルアクリレート
90gを滴下ロートで約1時間かけて滴下する。滴下終了
後4時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応
単量体を除去する。その後冷却しアンモニア水でpH6
に調整しポリマーラテックスを得る。粒径は200nmであ
った。 製造例3(Lx−10の合成) 500mlの3つ口フラスコに、ジオキサン200mlを入れ窒素
ガスで脱酸素を行う。その後、イソノニルアクリレート
15g、シクロヘキシルアクリレート35gを添加し、更に
開始剤としてアゾビスイソ酪酸ジメチル1.2gを加え、6
0℃で6時間反応を続ける。反応終了後、反応液を3リ
ットルの蒸留水に激しく攪拌しながら加え、白色結晶を
得る。
【0089】この白色結晶を濾取、乾燥した後、酢酸エ
チル100mlに溶解し、Sf−2、2gを添加した蒸留水50
0mlに激しく攪拌しながら加え、次いで酢酸エチルを除
去しポリマーラテックスを得る。粒径は180nmであっ
た。
チル100mlに溶解し、Sf−2、2gを添加した蒸留水50
0mlに激しく攪拌しながら加え、次いで酢酸エチルを除
去しポリマーラテックスを得る。粒径は180nmであっ
た。
【0090】製造例4(比較用ラテックスLの合成) 水40リットルに名糖産業製 KMDS(デキストラン硫酸エ
ステルナトリウム塩)0.25kg及び過硫酸アンモニウム0.
05kgを加えた液に、液温81℃で攪拌しつつ窒素雰囲気下
で、n-ブチルアクリレート4.51kg、スチレン5.49kg及び
アクリル酸0.1kgの混合液を1時間かけて添加、その後
過硫酸アンモニウムを0.005kg加え、更に1.5時間攪拌
後、冷却し、アンモニア水を用いてpHを6に調製し
た。
ステルナトリウム塩)0.25kg及び過硫酸アンモニウム0.
05kgを加えた液に、液温81℃で攪拌しつつ窒素雰囲気下
で、n-ブチルアクリレート4.51kg、スチレン5.49kg及び
アクリル酸0.1kgの混合液を1時間かけて添加、その後
過硫酸アンモニウムを0.005kg加え、更に1.5時間攪拌
後、冷却し、アンモニア水を用いてpHを6に調製し
た。
【0091】得られたラテックス液をWhotman社製 GF
/Dフィルターで濾別し、水で50.5kgに仕上げ、平均粒
径250nmの単分散なラテックス(L)を作製した。
/Dフィルターで濾別し、水で50.5kgに仕上げ、平均粒
径250nmの単分散なラテックス(L)を作製した。
【0092】試料の調製 得られた乳剤(A)、(B)、(C)、(D−1)〜
(D−4)それぞれに55℃にて GD-1 と、5,5′-ジ-(ブ
トキシカルボニル)-1,1′-ジエチル-3,3′-ジ-(4-スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニンナトリウム
塩の無水物を(200:1の重量比) ハロゲン化銀1モル当
たり(A)は975mg、(B)は600mg、(C)は390mg、
(D−1)〜(D−4)は500mg添加した。
(D−4)それぞれに55℃にて GD-1 と、5,5′-ジ-(ブ
トキシカルボニル)-1,1′-ジエチル-3,3′-ジ-(4-スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニンナトリウム
塩の無水物を(200:1の重量比) ハロゲン化銀1モル当
たり(A)は975mg、(B)は600mg、(C)は390mg、
(D−1)〜(D−4)は500mg添加した。
【0093】10分後、塩化金酸、チオ硫酸ナトリウム、
チオシアン酸アンモニウムを加えて化学熟成を行った。
熟成終了15分前に、沃化カリウムをハロゲン化銀1モル
当たり200mg添加し、その後4-ヒドロキシ-6-メチルー1,
3,3a,7-テトラザインデンをハロゲン化銀1モル当たり
3×10-2モル加え、ゼラチンを70g含む水溶液に分散し
た。熟成済みの4種類の乳剤の内、(A)、(B)、
(C)は重量比で15:65:20の割合で混合し乳剤(R−
1)とし、(D−1)、(D−2)、(D−3)、(D
−4)は単独のまま用いた。
チオシアン酸アンモニウムを加えて化学熟成を行った。
熟成終了15分前に、沃化カリウムをハロゲン化銀1モル
当たり200mg添加し、その後4-ヒドロキシ-6-メチルー1,
3,3a,7-テトラザインデンをハロゲン化銀1モル当たり
3×10-2モル加え、ゼラチンを70g含む水溶液に分散し
た。熟成済みの4種類の乳剤の内、(A)、(B)、
(C)は重量比で15:65:20の割合で混合し乳剤(R−
1)とし、(D−1)、(D−2)、(D−3)、(D
−4)は単独のまま用いた。
【0094】これら乳剤のそれぞれに対し特開平2-3017
44号、95頁16行目〜96頁20行目に示された通りの添加剤
を加えた。
44号、95頁16行目〜96頁20行目に示された通りの添加剤
を加えた。
【0095】さらに下記に示す染料乳化分散液1.2gを加
え乳剤塗布液とした。
え乳剤塗布液とした。
【0096】染料乳化分散液の調製法 下記の染料10Kgをトリクレジルホスヘイト28リットルと
酢酸エチル85リットルからなる溶媒に55℃で溶解した。
これをオイル系溶媒と称する。一方アニオン界面活性剤
(AS)を1.35Kgを含む9.3%ゼラチン水溶液を水系溶
媒と称する。
酢酸エチル85リットルからなる溶媒に55℃で溶解した。
これをオイル系溶媒と称する。一方アニオン界面活性剤
(AS)を1.35Kgを含む9.3%ゼラチン水溶液を水系溶
媒と称する。
【0097】次にオイル系溶剤と水系溶剤を分散釜に入
れ、液温を40℃に保ちながら分散した。
れ、液温を40℃に保ちながら分散した。
【0098】
【化7】
【0099】また保護層に用いた添加剤は次の通りであ
る。添加量は塗布液1リットル当たりの量で示す。
る。添加量は塗布液1リットル当たりの量で示す。
【0100】 保護層用塗布液 石灰処理イナートゼラチン 68g 酸処理ゼラチン 2g ナトリウム-i-アミル-n-デシルスルホサクシネート 0.3g 本発明のポリマーラテックス 表1に示す量 ポリメチルメタクリレート(面積平均粒径5.0μmのマット剤) 1.1g 二酸化ケイ素粒子(面積平均粒径3.0μmのマット剤) 0.5g ルドックスAM(デュポン社製コロイドシリカ) 30g グリオキザール40%水溶液(硬膜剤) 1.5ミリリットル CH2=CHSO2(CH2)2O(硬膜剤) 500mg
【0101】
【化8】
【0102】尚、乳剤層は片面当り銀換算値で2.0g/
m2、ゼラチン付量として2.5g/m2、 保護層はゼラチン付
量として0.99g/m2となるように2台のスライドホッパー
型コーターで毎分90mのスピードで、グリシジルメタク
リレート−メチルアクリレート−ブチルメタクリレート
共重合体(50:10:40wt%)を濃度が10wt%に成るよう
に希釈して得た共重合体水性分散液を下引き液として塗
設した175μmのポリエチレンテレフタレートベース上に
乳剤層、保護層を両面同時塗布し、2分15秒で乾燥して
No.1〜15の試料を得た。これらの試料の構成を表1に
示す。
m2、ゼラチン付量として2.5g/m2、 保護層はゼラチン付
量として0.99g/m2となるように2台のスライドホッパー
型コーターで毎分90mのスピードで、グリシジルメタク
リレート−メチルアクリレート−ブチルメタクリレート
共重合体(50:10:40wt%)を濃度が10wt%に成るよう
に希釈して得た共重合体水性分散液を下引き液として塗
設した175μmのポリエチレンテレフタレートベース上に
乳剤層、保護層を両面同時塗布し、2分15秒で乾燥して
No.1〜15の試料を得た。これらの試料の構成を表1に
示す。
【0103】
【表1】
【0104】このようにして得られた試料を用いて下記
の評価を行った。
の評価を行った。
【0105】<センシトメトリー>得られた試料を蛍光
増感紙 KO-250(コニカ[株]製)で挟み、管電圧90KV
P、20mA、0.05秒のX線を照射し、距離法にてセンシト
メトリーカーブを作成し感度及びガンマを求めた。感度
の値はカブリ+1.0の濃度を得るのに必要なX線量の逆
数として求めた。結果は試料No.1の感度を100とした場
合の相対感度で表した。
増感紙 KO-250(コニカ[株]製)で挟み、管電圧90KV
P、20mA、0.05秒のX線を照射し、距離法にてセンシト
メトリーカーブを作成し感度及びガンマを求めた。感度
の値はカブリ+1.0の濃度を得るのに必要なX線量の逆
数として求めた。結果は試料No.1の感度を100とした場
合の相対感度で表した。
【0106】また、ガンマは特性曲線の濃度1.0と2.0の
ガンマ値、即ち濃度1.0の点と2.0の点を結んだ直線の傾
きをθとしたときのtanθをガンマ(γ)とした。
ガンマ値、即ち濃度1.0の点と2.0の点を結んだ直線の傾
きをθとしたときのtanθをガンマ(γ)とした。
【0107】なお、現像は自動現像機SRX-501(コニカ
[株]製)で現像温度が35℃、定着温度が33℃、水洗水
は温度18℃で毎分3.5lを供給し、乾燥温度45℃で全処理
工程を次ぎに示す45秒モードで処理した。
[株]製)で現像温度が35℃、定着温度が33℃、水洗水
は温度18℃で毎分3.5lを供給し、乾燥温度45℃で全処理
工程を次ぎに示す45秒モードで処理した。
【0108】 [処理工程] 工程 処理温度(℃) 処理時間(秒) 補充量 挿入 − 1.2 現像+渡り 35 14.6 33cc/四ッ切 定着+渡り 33 8.2 63cc/四ッ切 水洗+渡り 18 7.2 3.5l/分 スクイズ 40 5.7 乾燥 45 8.1 合計 − 45.0 現像処理液 亜硫酸カリウム 70g ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸三ナトリウム 8g 1,4-ジヒドロキシベンゼン 28g 硼酸 10g 5-メチルベンゾトリアゾール 0.04g 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 0.01g メタ重亜硫酸ナトリウム 5g 酢酸(90%) 13g トリエチレングリコール 15g 1-フェニル-3-ピラゾリドン 1.2g 5-ニトロインダゾール 0.2g グルタールアルデヒド 4g 1リットルの水に溶かし、水酸化ナトリウムでpH10.4
の液とした。
の液とした。
【0109】 スターター液 臭化カリウム 300g 氷酢酸 144g 1リットルの水溶液に仕上げた。
【0110】 定着液 チオ硫酸ナトリウム5水塩 4.5g エチレンジアミン四酢酸2ナトリウム 0.5g チオ硫酸アンモニウム 150g 無水亜硫酸ナトリウム 8g 酢酸カリウム 16g 硫酸アルミニウム10〜18水塩 10g 硫酸(50wt%) 5g クエン酸 1g 硼酸 7g 氷酢酸 5g 1リットルの水溶液にして氷酢酸でpH4.2の液とした。
【0111】処理性の試験として下記乾燥性、耐傷性、
表面比抵抗を評価して表2に示した。
表面比抵抗を評価して表2に示した。
【0112】<乾燥性の評価>試料を大角サイズに裁断
し、現像後の濃度が 1.0になるような露光を与え、 前記
の処理条件で超迅速処理し、 試料フィルムが乾燥部を通
過直後のフィルムを手で触れ、 乾燥の程度を総合評価
し、5(優)〜1(劣)の5段階表示で表した。
し、現像後の濃度が 1.0になるような露光を与え、 前記
の処理条件で超迅速処理し、 試料フィルムが乾燥部を通
過直後のフィルムを手で触れ、 乾燥の程度を総合評価
し、5(優)〜1(劣)の5段階表示で表した。
【0113】評価基準 1; 全面に濡れている。
【0114】2; 半分以上湿っており、フィルムは容
易にくっつき、引っかくと容易に傷がつく。
易にくっつき、引っかくと容易に傷がつく。
【0115】3; 部分的に湿っているがくっつかな
い。
い。
【0116】4; 湿った感じ僅かにし、表面が冷た
い。
い。
【0117】5; 手触りがさらさらで温かい。
【0118】評価点3〜5までは問題ないが1〜2は実
用に耐えない。
用に耐えない。
【0119】<耐傷性試験>暗室内で、市販のナイロン
タワシを用いて100g/cm2の荷重をかけてこすった
後、前記の自動現像機で現像処理しA〜Dの4段階評価
を行った。
タワシを用いて100g/cm2の荷重をかけてこすった
後、前記の自動現像機で現像処理しA〜Dの4段階評価
を行った。
【0120】評価基準 A:ほとんど擦り傷がない。
【0121】B:実用上問題のないレベルだが、擦り傷
が若干ある。
が若干ある。
【0122】C:擦り傷が目立つ程度に発生し、実用状
問題である。
問題である。
【0123】D:擦り傷が非常に多く、傷の巾太く濃度
も濃い。
も濃い。
【0124】<表面比抵抗>試料を相対湿度20%RHの条
件下で1時間調湿し、電極間間隔14mm、 長さ100mmの黄
銅性電極に挟み、 武田理化[株]製絶縁計TR-8651型で23
℃、20%RHの条件下で1分間測定した。 <くっつき試験>試料を7cm×13.5cmの大きさに裁断
し、80%RHで1時間調湿後、2枚のフィルム同志を重ね
1kg荷重をかけて3日間放置した。3日後、フィルムを
剥がす時の感触レベルをもってくっつきのレベルとし
た。下記に評価基準を示す。
件下で1時間調湿し、電極間間隔14mm、 長さ100mmの黄
銅性電極に挟み、 武田理化[株]製絶縁計TR-8651型で23
℃、20%RHの条件下で1分間測定した。 <くっつき試験>試料を7cm×13.5cmの大きさに裁断
し、80%RHで1時間調湿後、2枚のフィルム同志を重ね
1kg荷重をかけて3日間放置した。3日後、フィルムを
剥がす時の感触レベルをもってくっつきのレベルとし
た。下記に評価基準を示す。
【0125】評価基準 5:サラサラしている。
【0126】4:僅かにくっついている。
【0127】3:はっきりとくっついており、剥がす時
に音がする。
に音がする。
【0128】2:くっつきがあり、乳剤が剥がれる。
【0129】1:1/2 以上くっついていて、剥がれに
くい。
くい。
【0130】以上の評価結果を表2に示す。
【0131】
【表2】
【0132】表2の結果から明らかなように、本発明の
セレン増感されたアスペクト比3以上の平板状ハロゲン
化銀粒子を含有し、かつ支持体から最も遠い親水性コロ
イド層に水に対する溶解度が25℃で0.025重量%以下で
あるポリマーラテックスを含有せしめたハロゲン化銀写
真感光材料は感度、乾燥性、擦り傷耐性、帯電防止性、
クッツキ性に優れた写真性能、処理性能を示している。
セレン増感されたアスペクト比3以上の平板状ハロゲン
化銀粒子を含有し、かつ支持体から最も遠い親水性コロ
イド層に水に対する溶解度が25℃で0.025重量%以下で
あるポリマーラテックスを含有せしめたハロゲン化銀写
真感光材料は感度、乾燥性、擦り傷耐性、帯電防止性、
クッツキ性に優れた写真性能、処理性能を示している。
【0133】
【発明の効果】本発明により、超迅速処理でも写真性能
を損なうことなく、高感度で、乾燥性に優れ、擦り傷耐
性のあるハロゲン化銀写真感光材料を提供することがで
きた。
を損なうことなく、高感度で、乾燥性に優れ、擦り傷耐
性のあるハロゲン化銀写真感光材料を提供することがで
きた。
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層と親水性コロイド層とを有するハロゲン化銀写
真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層がアスペク
ト比3以上の平板状ハロゲン化銀粒子を含有し、かつ支
持体から最も遠い位置の親水性コロイド層中に25℃にお
ける水に対する溶解度が0.025重量%以下である単量体
の少なくとも1種を重合してなるポリマーラテックスを
少なくとも1種含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5090077A JPH06301132A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US08/225,231 US5415987A (en) | 1993-04-16 | 1994-04-08 | Silver halide photographic light-sensitive material |
| DE69425452T DE69425452T2 (de) | 1993-04-16 | 1994-04-13 | Photographisches lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial |
| EP94105644A EP0620481B1 (en) | 1993-04-16 | 1994-04-13 | Silver Halide photographic light-sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5090077A JPH06301132A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06301132A true JPH06301132A (ja) | 1994-10-28 |
Family
ID=13988466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5090077A Pending JPH06301132A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5415987A (ja) |
| EP (1) | EP0620481B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06301132A (ja) |
| DE (1) | DE69425452T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009048231A3 (en) * | 2007-10-11 | 2009-06-04 | Lg Chemical Ltd | Fluorene-based polymer containing urethane groups, preparation method thereof and negative-type photosensitive resin composition comprising the same |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5709986A (en) * | 1996-01-30 | 1998-01-20 | Eastman Kodak Company | Photographic elements employing polymeric particles |
| US6426167B2 (en) * | 1999-07-15 | 2002-07-30 | Eastman Kodak Company | Water-resistant protective overcoat for image recording materials |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4439520A (en) * | 1981-11-12 | 1984-03-27 | Eastman Kodak Company | Sensitized high aspect ratio silver halide emulsions and photographic elements |
| US4507385A (en) * | 1983-03-25 | 1985-03-26 | Eastman Kodak Company | Acrylonitrile copolymers as protective overcoats in photographic elements |
| JPS61251844A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US4612279A (en) * | 1985-07-22 | 1986-09-16 | Eastman Kodak Company | Protective overcoat for photographic elements |
| JPH0648353B2 (ja) * | 1987-02-13 | 1994-06-22 | 三菱製紙株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US5173396A (en) * | 1989-10-14 | 1992-12-22 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
| US5179147A (en) * | 1990-05-23 | 1993-01-12 | Eastman Kodak Company | Protective overcoat compositions and photographic elements containing same |
| US5298376A (en) * | 1991-10-01 | 1994-03-29 | Eastman Kodak Company | Photographic silver halide material with improved color saturation |
-
1993
- 1993-04-16 JP JP5090077A patent/JPH06301132A/ja active Pending
-
1994
- 1994-04-08 US US08/225,231 patent/US5415987A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-13 EP EP94105644A patent/EP0620481B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-13 DE DE69425452T patent/DE69425452T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009048231A3 (en) * | 2007-10-11 | 2009-06-04 | Lg Chemical Ltd | Fluorene-based polymer containing urethane groups, preparation method thereof and negative-type photosensitive resin composition comprising the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69425452D1 (de) | 2000-09-14 |
| EP0620481A2 (en) | 1994-10-19 |
| US5415987A (en) | 1995-05-16 |
| EP0620481A3 (en) | 1994-11-23 |
| EP0620481B1 (en) | 2000-08-09 |
| DE69425452T2 (de) | 2001-01-18 |
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