JPH06302187A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH06302187A
JPH06302187A JP5112268A JP11226893A JPH06302187A JP H06302187 A JPH06302187 A JP H06302187A JP 5112268 A JP5112268 A JP 5112268A JP 11226893 A JP11226893 A JP 11226893A JP H06302187 A JPH06302187 A JP H06302187A
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JP5112268A
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Inventor
Hideo Omori
秀雄 大森
Koki Hagitani
広喜 萩谷
Yosuke Yugawa
洋介 湯川
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Hitachi Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 RAMポートのビット線選択動作に影響され
ることなくSAMポートのデータレジスタへのデータ転
送タイミングを任意に設定しうる画像メモリ等の半導体
記憶装置を実現する。この結果、画像メモリ等のリード
データ転送モードのサイクルタイムを短縮し、画像メモ
リの高速化を推進する。 【構成】 リードデータ転送モードにおいてSAMポー
トからシリアルに出力されるリードデータの第1ビット
をランダム入出力回路RIOCから出力し第2ビット以
降をシリアル入出力回路SIOCから出力する画像メモ
リ等のセンスアンプSAに、そのゲートがメモリアレイ
MARYの対応する相補ビット線B0*〜Bn*に結合
され対応する相補ビット線の読み出し信号を電流信号に
変換して読み出し用共通データ線CDR*に伝達するセ
ンスMOSFETN3及びN4を設け、いわゆるダイレ
クトセンス方式を採る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体記憶装置に関
し、例えば、RAMポート(ランダムアクセスポート)
及びSAMポート(シリアルアクセスポート)を備える
画像メモリ(デュアルポートメモリ)に利用して特に有
効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】RAMポート及びSAMポートを備え、
例えば画像システム等において文字又は図形等をディス
プレイに表示するために供される画像メモリがある。画
像メモリは、RAMポートの選択されたワード線に結合
される複数のメモリセルから対応する相補ビット線に出
力される一連のリードデータをSAMポートのデータレ
ジスタにパラレル転送し、さらにシリアル入出力端子を
介してシリアルに出力するためのリードデータ転送モー
ドを有する。
【0003】RAMポート及びSAMポートを備える画
像メモリ(デュアルポートメモリ)については、例え
ば、日経マグロウヒル社発行の1986年3月24日付
『日経エレクトロニクス』第243頁〜第264頁等に
記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記に記載される従来
の画像メモリにおいて、RAMポートの選択されたワー
ド線に結合される複数のメモリセルから対応する相補ビ
ット線に出力される一連のリードデータは、リードデー
タ転送モードによって一旦SAMポートのデータレジス
タに転送された後、シリアル入出力回路からシリアル入
出力端子を介してシリアルに外部出力される。したがっ
て、RAMポートが起動されてからシリアル入出力端子
を介してリードデータの先頭ビットが出力されるまでに
は比較的長い時間を要し、これによって画像メモリの高
速化が制約を受ける。これに対処するため、図1に例示
されるように、ランダム入出力回路RIOCとシリアル
入出力回路SIOCとの間に信号経路FBを設け、リー
ドデータの先頭ビットだけはデータレジスタを介するこ
となく直接シリアル入出力回路SIOCに伝達して、画
像メモリの高速化を推進する方法が採られる。
【0005】ところが、画像メモリを含む画像システム
の高速化が進むにしたがって、上記信号経路FBを有す
る画像メモリにも次のような問題点が残されていること
が本願発明者等によって明らかとなった。すなわち、上
記画像メモリのメモリアレイMARYを構成する相補ビ
ット線B0*〜Bn*は、図4に例示されるように、セ
ンスアンプSAの対応する一対のスイッチMOSFET
(金属酸化物半導体型電界効果トランジスタ。この明細
書では、MOSFETをして絶縁ゲート型電界効果トラ
ンジスタの総称とする)N7及びN8を介して相補共通
データ線CD*(ここで、例えば非反転共通データ線C
DTと反転共通データ線CDBをあわせて相補共通デー
タ線CD*のように*を付して表す。また、それが有効
とされるとき選択的にハイレベルとされるいわゆる非反
転信号等については、その名称の末尾にTを付して表
し、それが有効とされるとき選択的にロウレベルとされ
るいわゆる反転信号等については、その名称の末尾にB
を付して表す。以下同様)に選択的に接続され、この相
補共通データ線CD*は、ライトアンプWAの出力端子
に結合されるとともに、メインアンプMAの入力端子に
結合され、さらにプリチャージ回路PCに結合される。
プリチャージ回路PCは、いわゆるプルアップMOSF
ETを含み、非選択時に回路の電源電圧及び接地電位間
のほぼ中間電位HVにプリチャージされた相補共通デー
タ線CD*の非反転及び反転信号線に対して、ランダム
入出力回路RIOCに含まれるメインアンプの感度が最
高となるような所定のバイアス電位VBを与える。
【0006】一方、データレジスタDRは、例えば一対
のインバータI1及びI2が交差結合されてなりメモリ
アレイMARYの相補ビット線B0*〜Bn*に対応し
て設けられるn+1個の単位レジスタと、これらの単位
レジスタの非反転及び反転入出力ノードとメモリアレイ
MARYの対応する相補ビット線B0*〜Bn*との間
に設けられ転送制御信号DTに従って選択的にかつ一斉
にオン状態とされるn+1対のスイッチMOSFETN
9及びN10とを含む。
【0007】画像メモリがリードデータ転送モードとさ
れ、リードデータの先頭ビットに対応する相補ビット線
Bs*と相補共通データ線CD*が接続状態とされると
き、この相補ビット線Bs*に確立された2値読み出し
信号のレベルは、図5及び図6に示されるように、プリ
チャージ回路PCのプルアップMOSFETの影響を受
けてその振幅が圧縮される。このとき、データレジスタ
DRに対するデータ転送を行うために転送制御信号DT
がハイレベルとされスイッチMOSFETN9及びN1
0が一斉にオン状態とされると、図6に示されるよう
に、それまでデータレジスタDRの対応する単位レジス
タに保持されていた反転データによって相補ビット線B
s*の2値読み出し信号が反転し、対応するメモリセル
の保持データが破壊される。また、これに対処するた
め、図5に示されるように、データレジスタDRに対す
るデータ転送を相補ビット線Bs*の選択動作が終了し
た後に行おうとした場合、対応するメモリセルの保持デ
ータの破壊を防止することはできるが、リードデータの
第1ビットSOD1が出力されてから第2ビットSOD
2を出力できるまでの時間tcが長くなり、これによっ
て画像メモリのリードデータ転送モードのサイクルタイ
ムが制約を受けるものとなる。
【0008】この発明の目的は、RAMポートにおける
ビット線選択動作に影響されることなくSAMポートに
おけるデータレジスタへのリードデータ転送タイミング
を任意に設定しうる画像メモリ等の半導体記憶装置を提
供することにある。この発明の他の目的は、画像メモリ
等のリードデータ転送モードのサイクルタイムを短縮
し、画像メモリ等の高速化を推進することにある。
【0009】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、リードデータ転送モードにお
いてSAMポートからシリアルに出力されるリードデー
タの第1ビットをRAMポートのランダム入出力回路か
ら出力し第2ビット以降をSAMポートのシリアル入出
力回路から出力する画像メモリ等のセンスアンプに、そ
のゲートがメモリアレイの対応する相補ビット線に結合
され対応する相補ビット線の読み出し信号を電流信号に
変換して読み出し用共通データ線に伝達するセンスMO
SFETを設け、いわゆるダイレクトセンス方式を採
る。
【0011】
【作用】上記手段によれば、メモリアレイの相補ビット
線と読み出し用共通データ線との間を直流的に分離し、
選択された相補ビット線の読み出し信号レベルに対する
共通データ線レベルの影響をなくすることができるた
め、対応するメモリセルの保持データを破壊することな
く、RAMポートにおけるビット線選択動作とSAMポ
ートにおけるデータレジスタへのリードデータ転送とを
同時に行うことができる。この結果、画像メモリ等のリ
ードデータ転送モードのサイクルタイムを短縮し、画像
メモリ等の高速化を推進することができる。
【0012】
【実施例】図1には、この発明が適用された画像メモリ
の一実施例のブロック図が示されている。また、図2に
は、図1の画像メモリに含まれるメモリアレイ及びその
周辺部の一実施例の回路図が示されている。これらの図
をもとに、この実施例の画像メモリの構成及び動作の概
要ならびにその特徴について説明する。なお、図2の各
回路素子ならびに図1の各ブロックを構成する回路素子
は、公知の半導体集積回路の製造技術により、特に制限
されないが、単結晶シリコンのような1個の半導体基板
上に形成される。また、以下の回路図において、そのチ
ャンネル(バックゲート)部に矢印が付されるMOSF
ETはPチャンネル型であって、矢印の付されないNチ
ャンネルMOSFETと区別して示される。
【0013】図1において、この実施例の画像メモリ
は、半導体基板面の大半を占めて配置されるメモリアレ
イMARYをその基本構成要素とする。メモリアレイM
ARYは、図2に示されるように、同図の垂直方向に平
行して配置されるm+1本のワード線W0〜Wmと、水
平方向に平行して配置されるn+1組の相補ビット線B
0*〜Bn*とを含む。これらのワード線及び相補ビッ
ト線の交点には、情報蓄積キャパシタCs及びアドレス
選択MOSFETQaからなる(m+1)×(n+1)
個のダイナミック型メモリセルが格子状に配置される。
【0014】メモリアレイMARYの同一の列に配置さ
れるm+1個のメモリセルのアドレス選択MOSFET
Qaのドレインは、対応する相補ビット線B0*〜Bn
*の非反転又は反転信号線に所定の規則性をもって交互
に結合される。また、メモリアレイMARYの同一の行
に配置されるn+1個のメモリセルのアドレス選択MO
SFETQaのゲートは、対応するワード線W0〜Wm
に共通結合される。メモリアレイMARYのすべてのメ
モリセルの情報蓄積キャパシタCsの他方の電極には、
所定のプレート電圧VPが共通に供給される。
【0015】メモリアレイMARYを構成するワード線
W0〜Wmは、XアドレスデコーダXDに結合され、択
一的に選択状態とされる。XアドレスデコーダXDに
は、XアドレスバッファXBからi+1ビットの内部ア
ドレス信号X0〜Xiが供給され、タイミング発生部T
Gから内部制御信号XGが供給される。また、Xアドレ
スバッファXBには、アドレス入力端子A0〜Aiを介
してXアドレス信号AX0〜AXiが時分割的に供給さ
れ、タイミング発生回路TGから内部制御信号XLが供
給される。
【0016】XアドレスバッファXBは、アドレス入力
端子A0〜Aiを介して供給されるXアドレス信号AX
0〜AXiを内部制御信号XLに従って取り込み、保持
するとともに、これらのXアドレス信号をもとに内部ア
ドレス信号X0〜Xiを形成し、XアドレスデコーダX
Dに供給する。XアドレスデコーダXDは、内部制御信
号XGのハイレベルを受けて選択的に動作状態とされ、
内部アドレス信号X0〜Xiをデコードして、メモリア
レイMARYの対応するワード線W0〜Wmを択一的に
ハイレベルの選択状態とする。
【0017】次に、メモリアレイMARYを構成する相
補ビット線B0*〜Bn*は、その一方においてセンス
アンプSAの対応する単位回路に結合され、その他方に
おいてデータレジスタDRの対応する単位回路に結合さ
れる。このうち、センスアンプSAには、RAMポート
用YアドレスデコーダRYDから書き込み用ビット線選
択信号YSW0〜YSWn及び読み出し用ビット線選択
信号YSR0〜YSRnが供給され、タイミング発生回
路TGから内部制御信号PAが供給される。また、RA
Mポート用YアドレスデコーダYDRには、Yアドレス
バッファYBからi+1ビットの内部アドレス信号Y0
〜Yiが供給され、タイミング発生回路TGから内部制
御信号RYGが供給される。YアドレスバッファYBに
は、アドレス入力端子A0〜Aiを介してYアドレス信
号AY0〜AYiが時分割的に供給され、タイミング発
生回路TGから内部制御信号YLが供給される。
【0018】ここで、センスアンプSAは、図2に示さ
れるように、メモリアレイMARYの相補ビット線B0
*〜Bn*に対応して設けられるn+1個の単位回路を
備える。これらの単位回路のそれぞれは、Pチャンネル
MOSFETP1及びNチャンネルMOSFETN1な
らびにPチャンネルMOSFETP2ならびにNチャン
ネルMOSFETN2からなる一対のCMOSインバー
タが交差結合されてなる単位増幅回路を含む。各単位増
幅回路を構成するPチャンネルMOSFETP1及びP
2のソースはコモンソース線SPに共通結合された後、
Pチャンネル型の駆動MOSFETP3を介して回路の
電源電圧に結合される。この駆動MOSFETP3のゲ
ートには、内部制御信号PAのインバータI3による反
転信号PBが供給される。一方、各単位増幅回路を構成
するNチャンネルMOSFETN1及びN2のソースは
コモンソース線SNに共通結合された後、Nチャンネル
型の駆動MOSFETN11を介して回路の接地電位に
結合される。この駆動MOSFETN11のゲートに
は、内部制御信号PAが供給される。なお、回路の電源
電圧は、+5Vのような正の電源電圧とされる。
【0019】これにより、センスアンプSAの各単位回
路を構成する単位増幅回路は、内部制御信号PAがハイ
レベルとされその反転信号PBがロウレベルとされるこ
とで選択的に動作状態とされる。この動作状態におい
て、各単位増幅回路は、メモリアレイMARYの選択さ
れたワード線に結合されるn+1個のメモリセルから対
応する相補ビット線B0*〜Bn*を介して出力される
微小読み出し信号を増幅し、ハイレベル又はロウレベル
の2値読み出し信号とする。
【0020】センスアンプSAの各単位回路は、さら
に、単位増幅回路の非反転及び反転入出力ノードすなわ
ちメモリアレイMARYの相補ビット線B0*〜Bn*
と書き込み用共通データ線CDW*との間に設けられる
Nチャンネル型の一対のスイッチMOSFETN7及び
N8と、そのゲートが対応する単位増幅回路の非反転及
び反転入出力ノードすなわちメモリアレイMARYの対
応する相補ビット線B0*〜Bn*に結合されるNチャ
ンネル型の一対のセンスMOSFETN3及びN4とを
含む。このうち、スイッチMOSFETN7及びN8の
ゲートはそれぞれ共通結合され、RAMポート用Yアド
レスデコーダRYDから対応する書き込み用ビット線選
択信号YSW0〜YSWnが供給される。
【0021】一方、センスMOSFETN3及びN4の
ソースは、回路の接地電位に結合され、そのドレイン
は、Nチャンネル型の一対のスイッチMOSFETN5
及びN6(第2のスイッチ手段)を介して読み出し用共
通データ線CDR*に結合される。スイッチMOSFE
TN5及びN6のゲートはそれぞれ共通結合され、RA
Mポート用YアドレスデコーダRYDから対応する読み
出し用ビット線選択信号YSR0〜YSRnが供給され
る。この実施例において、書き込み用ビット線選択信号
YSW0〜YSWnは、画像メモリがライトモードで選
択状態とされるときYアドレス信号AY0〜AYiつま
りは内部アドレス信号Y0〜Yiに従って択一的にハイ
レベルとされる。また、読み出し用ビット線選択信号Y
SR0〜YSRnは、画像メモリがリードモードで選択
状態とされるとき、同じくYアドレス信号AY0〜AY
iつまりは内部アドレス信号Y0〜Yiに従って択一的
にハイレベルとされる。
【0022】センスアンプSAの各単位回路のスイッチ
MOSFETN7及びN8は、対応する書き込み用ビッ
ト線選択信号YSW0〜YSWnがハイレベルとされる
ことで選択的にオン状態となり、メモリアレイMARY
の対応する相補ビット線B0*〜Bn*と書き込み用共
通データ線CDW*とを選択的に接続状態とする。一
方、センスアンプSAの各単位回路のスイッチMOSF
ETN5及びN6は、対応する読み出し用ビット線選択
信号YSR0〜YSRnがハイレベルとされることで選
択的にオン状態となり、対応するセンスMOSFETN
3及びN4のドレインと読み出し用共通データ線CDR
*との間を選択的に接続状態とする。このとき、センス
MOSFETN3及びN4は、メモリアレイMARYの
対応する相補ビット線B0*〜Bn*に確立された2値
読み出し信号を電流信号に変換し、読み出し用共通デー
タ線CDR*を介してランダム入出力回路RIOCのメ
インアンプMAに伝達する。
【0023】YアドレスバッファYBは、アドレス入力
端子A0〜Aiを介して供給されるYアドレス信号AY
0〜AYiを内部制御信号YLに従って取り込み、保持
するとともに、これらのYアドレス信号をもとに内部ア
ドレス信号Y0〜Yiを形成し、RAMポート用Yアド
レスデコーダRYDに供給する。これらの内部アドレス
信号は、SAMポート用YアドレスデコーダSYDにも
供給される。RAMポート用YアドレスデコーダRYD
は、内部制御信号RYGのハイレベルを受けて選択的に
動作状態とされ、内部アドレス信号Y0〜Yiをデコー
ドする。このとき、画像メモリがライトモードであると
内部アドレス信号Y0〜Yiのデコード結果をもとに対
応する書き込み用ビット線選択信号YSW0〜YSWn
を択一的にハイレベルとし、画像メモリがリードモード
であると対応する読み出し用ビット線選択信号YSR0
〜YSRnを択一的にハイレベルとする。
【0024】書き込み用共通データ線CDW*及び読み
出し用共通データ線CDR*は、ランダム入出力回路R
IOCに結合される。ランダム入出力回路RIOCは、
データ入力バッファ及びライトアンプならびにメインア
ンプ及びデータ出力バッファを含む。このうち、データ
入力バッファの入力端子はランダム入出力端子RDIO
に結合され、その出力端子はライトアンプの入力端子に
結合される。このライトアンプの出力端子は、書き込み
用共通データ線CDW*に結合される。一方、メインア
ンプの入力端子は読み出し用共通データ線CDR*に結
合され、その出力端子はデータ出力バッファの入力端子
に結合される。このデータ出力バッファの出力端子は、
ランダム入出力端子RDIOに結合される。
【0025】ランダム入出力回路RIOCのデータ入力
バッファは、画像メモリがライトモードで選択状態とさ
れるとき、ランダム入出力端子RDIOを介して供給さ
れるライトデータを取り込み、ライトアンプに伝達す
る。これらのライトデータは、ライトアンプによって所
定の相補書き込み信号とされた後、書き込み用共通デー
タ線CDW*を介してメモリアレイMARYの選択され
た1個のメモリセルに書き込まれる。一方、ランダム入
出力回路RIOCのメインアンプは、画像メモリがリー
ドモードで選択状態とされるとき、メモリアレイMAR
Yの選択された1個のメモリセルから読み出し用共通デ
ータ線CDR*を介して電流信号として出力される読み
出し信号を電圧信号に変換した後、増幅し、データ出力
バッファに伝達する。これらの読み出し信号は、データ
出力バッファからランダム入出力端子RDIOを介して
外部に送出される。
【0026】この実施例において、ランダム入出力回路
RIOCは、さらに、読み出し用共通データ線CDR*
に結合されるバイアス回路BCを備える。このバイアス
回路BCは、画像メモリがリードモードで選択状態とさ
れるとき、読み出し用共通データ線CDR*に対してメ
インアンプの感度が最大となる所定のバイアス電圧を与
える。一方、この実施例の画像メモリでは、ランダム入
出力回路RIOCのメインアンプの出力端子が、信号経
路FBを介してシリアル入出力回路SIOCに結合され
る。この信号経路FBは、後述するように、画像メモリ
がリードデータ転送モードとされるとき、選択されたワ
ード線に結合されるn+1個のメモリセルから出力され
る一連のリードデータの第1ビットを直接シリアル入出
力回路SIOCに伝達するためのものであり、この信号
経路FBが設けられることによって画像メモリのリード
データ転送モードの高速化が図られる。
【0027】以上のメモリアレイMARY,Xアドレス
デコーダXD,センスアンプSA,RAMポート用Yア
ドレスデコーダRYDならびにランダム入出力回路RI
OCは、この実施例の画像メモリのRAMポートを構成
する。
【0028】次に、データレジスタDRは、図2に示さ
れるように、メモリアレイMARYの相補ビット線B0
*〜Bn*に対応して設けられるn+1個の単位回路を
備える。これらの単位回路のそれぞれは、一対のCMO
SインバータI1及びI2が交差結合されてなる単位レ
ジスタと、これらの単位レジスタの非反転及び反転入出
力ノードとメモリアレイMARYの対応する相補ビット
線B0*〜Bn*との間に設けられるNチャンネル型の
一対のスイッチMOSFETN9及びN10(第1のス
イッチ手段)とを含む。スイッチMOSFETN9及び
N10のゲートには、タイミング発生回路TGから転送
制御信号DTが共通に供給される。データレジスタDR
の各単位レジスタの非反転及び反転入出力ノードは、そ
の他方においてデータセレクタDSLの対応するスイッ
チMOSFETに結合され、さらにこれらのスイッチM
OSFETを介してSAMポート用共通データ線SCD
*に選択的に接続状態とされる。
【0029】この実施例において、データレジスタDR
のインバータI1及びI2からなる単位レジスタは、前
記センスアンプSAの単位増幅回路に比較して小さな駆
動能力を持つべく設計される。また、転送制御信号DT
は、画像メモリがライトデータ転送モードで選択状態と
される場合、RAMポートのメモリアレイMARYにお
けるワード線の選択動作が終了しセンスアンプSAによ
る微小読み出し信号の増幅動作が開始される直前に一時
的にハイレベルとされ、画像メモリがリードデータ転送
モードで選択状態とされる場合には、後述するように、
カラムアドレスストローブ信号CASBの立ち下がりを
受けて読み出し用ビット線選択信号YSR0〜YSRn
が択一的にハイレベルとされてから、言い換えるならば
センスアンプSAによる相補ビット線B0*〜Bn*の
選択動作が開始されてから所定の時間が経過した時点
で、しかもセンスアンプSAによるビット線選択動作が
行われている間に、一時的にハイレベルとされる。
【0030】データレジスタDRのスイッチMOSFE
TN9及びN10は、転送制御信号DTがハイレベルと
されることで選択的にかつ一斉にオン状態とされ、デー
タレジスタDRの各単位レジスタとメモリアレイMAR
Yの対応する相補ビット線B0*〜Bn*とを接続状態
とする。このとき、画像メモリがライトデータ転送モー
ドとされる場合、シリアル入出力回路SIOCからSA
Mポート用共通データ線SCD*及びデータセレクタD
SLを介してデータレジスタDRの各単位レジスタにシ
リアルに入力されたライトデータが、メモリアレイMA
RYの対応する相補ビット線B0*〜Bn*にパラレル
に転送された後、センスアンプSAの対応する単位増幅
回路によって増幅され、選択されたワード線に結合され
るn+1個のメモリセルに一斉に書き込まれる。一方、
画像メモリがリードデータ転送モードとされる場合、メ
モリアレイMARYの選択されたワード線に結合される
n+1個のメモリセルから対応する相補ビット線B0*
〜Bn*に出力されセンスアンプSAの対応する単位増
幅回路によって増幅された2値読み出し信号が、データ
レジスタDRの各単位レジスタにパラレル転送される。
【0031】データセレクタDSLは、データレジスタ
DRの各単位レジスタに対応して設けられるn+1対の
スイッチMOSFETを含む。これらのスイッチMOS
FETのゲートはそれぞれ共通結合され、SAMポート
用YアドレスデコーダSYDから対応するレジスタ選択
信号が供給される。SAMポート用Yアドレスデコーダ
SYDには、前記YアドレスバッファYBから内部アド
レス信号Y0〜Yiが供給され、タイミング発生部TG
から内部制御信号SYGが供給される。
【0032】データセレクタDSLの各スイッチMOS
FETは、対応するレジスタ選択信号がハイレベルとさ
れることで択一的にオン状態となり、データレジスタD
Rの対応する単位レジスタとSAMポート用共通データ
線SCD*つまりはシリアル入出力回路SIOCとを択
一的に接続状態とする。これにより、ライトデータ転送
モードにおいてシリアル入出力端子SDIOからシリア
ル入出力回路SIOCを介してシリアルに入力されるラ
イトデータは、データセレクタDSLの選択動作によっ
て直並列変換された後、転送制御信号DTがハイレベル
とされることでメモリアレイMARYの選択されたn+
1個のメモリセルにパラレルに書き込まれる。一方、リ
ードデータ転送モードにおいてメモリアレイMARYの
選択されたワード線に結合されるn+1個のメモリセル
から対応する相補ビット線B0*〜Bn*に出力される
リードデータは、転送制御信号DTがハイレベルとされ
ることでデータレジスタDRの対応する単位レジスタに
パラレル転送された後、データセレクタDSLの選択動
作によって並直列変換され、シリアル入出力回路SIO
からシリアル入出力端子SDIOを介してシリアルに出
力される。
【0033】SAMポート用YアドレスデコーダSYD
は、特に制限されないが、内部アドレス信号Y0〜Yi
を受けるアドレスデコーダと、このアドレスデコーダの
出力信号を受けるポインタとを含む。このうち、アドレ
スデコーダは、内部制御信号SYGがハイレベルとされ
ることで選択的に動作状態とされ、内部アドレス信号Y
0〜Yiをデコードしてその出力信号を択一的にハイレ
ベルとする。一方、SAMポート用Yアドレスデコーダ
SYDのポインタは、アドレスデコーダの択一的にハイ
レベルとされる出力信号を受けてリング状にシフトし、
その出力信号すなわち前記レジスタ選択信号を順次択一
的にハイレベルとされる。なお、SAMポート用Yアド
レスデコーダのデコード結果は、画像メモリのライトデ
ータ転送モード又はリードデータ転送モードにおいて最
初に入力又は出力すべきライトデータ又はリードデータ
の先頭ビット位置を指定する。
【0034】ところで、この実施例の画像メモリでは、
前述のように、ランダム入出力回路RIOC及びシリア
ル入出力回路SIOC間に、リードデータ転送モード
時、リードデータの第1ビットをランダム入出力回路R
IOCからシリアル入出力回路SIOCに直接伝達する
ための信号経路FBが設けられる。このため、RAMポ
ート用YアドレスデコーダSYDによって形成されるレ
ジスタ選択信号は、その第1ビットが意図的に無効とさ
れ、第2ビット以降のみがデータセレクタDSLに伝達
される。
【0035】SAMポート用共通データ線SCD*は、
シリアル入出力回路SIOCに結合される。シリアル入
出力回路SIOCは、前記ランダム入出力回路RIOC
と同様、データ入力バッファ及びライトアンプならびに
メインアンプ及びデータ出力バッファを含む。このう
ち、データ入力バッファの入力端子はシリアル入出力端
子SDIOに結合され、その出力端子はライトアンプの
入力端子に結合される。このライトアンプの出力端子
は、SAMポート用共通データ線SCD*に結合され
る。一方、メインアンプの入力端子はSAMポート用共
通データ線SCD*に結合され、その出力端子はデータ
出力バッファの入力端子に結合される。データ出力バッ
ファの出力端子は、シリアル入出力端子SDIOに結合
される。
【0036】シリアル入出力回路SIOCのデータ入力
バッファは、画像メモリがシリアルライトモードで選択
状態とされるとき、シリアル入出力端子SDIOを介し
て供給されるライトデータを取り込み、ライトアンプに
伝達する。これらのライトデータは、ライトアンプによ
って所定の相補書き込み信号とされた後、SAMポート
用共通データ線SCD*及びデータセレクタDSLを介
してデータレジスタDRの選択された1個の単位レジス
タに書き込まれる。一方、シリアル入出力回路SIOC
のメインアンプは、画像メモリがシリアルリードモード
で選択状態とされるとき、データレジスタDRの選択さ
れた1個の単位レジスタからSAMポート用共通データ
線SCD*を介して出力されるリードデータを増幅し、
データ出力バッファに伝達する。これらの読み出し信号
は、データ出力バッファからシリアル入出力端子SDI
Oを介して外部にシリアルに送出される。
【0037】以上のデータレジスタDR、データセレク
タDSL、SAMポート用YアドレスデコーダSYDな
らびにシリアル入出力回路SIOCは、この実施例の画
像メモリのSAMポートを構成する。
【0038】タイミング発生回路TGは、起動制御信号
として供給されるロウアドレスストローブ信号RAS
B,カラムアドレスストローブ信号CASB,ライトイ
ネーブル信号WEB,出力イネーブル信号DOEB及び
データ転送制御信号DT/OEBをもとに各種の内部制
御信号及び転送制御信号を形成し、画像メモリの各部に
供給する。また、シリアルクロック信号SCをもとにシ
リアル入力又は出力動作のための図示されないタイミン
グ信号を形成し、SAMポート用YアドレスデコーダS
YD及びシリアル入出力回路SIO等に供給する。
【0039】図3には、図1の画像メモリのリードデー
タ転送モードの一実施例の信号波形図が示されている。
同図により、この実施例の画像メモリのリードデータ転
送モードの概要とその特徴について説明する。なお、図
3では、Yアドレス信号AY0〜AYiにより指定され
る相補ビット線が選択ビット線Bs*として示され、そ
れ以外の相補ビット線が非選択ビット線Bus*として
示される。また、データレジスタDRの選択ビット線B
s*に対応する単位レジスタの相補入出力ノードが選択
単位レジスタの相補入出力ノードSBs*として示さ
れ、非選択ビット線Bus*に対応する単位レジスタの
相補入出力ノードが非選択単位レジスタの相補入出力ノ
ードSBus*として示される。
【0040】図3において、この実施例の画像メモリ
は、ロウアドレスストローブ信号RASBがロウレベル
とされることで選択状態とされ、このロウアドレススト
ローブ信号RASBの立ち下がりエッジにおいてデータ
転送制御信号DT/OEBがロウレベルとされかつ図示
されないライトイネーブル信号WEBがハイレベルとさ
れることでリードデータ転送モードとされる。カラムア
ドレスストローブ信号CASBは、ロウアドレスストロ
ーブ信号RASBに所定時間だけ遅れてロウレベルとさ
れる。アドレス入力端子A0〜Aiには、ロウアドレス
ストローブ信号RASBの立ち下がりエッジに同期し
て、選択すべきワード線を指定するためのXアドレス信
号AX0〜AXiが供給され、カラムアドレスストロー
ブ信号CASBの立ち下がりエッジに同期して、シリア
ル出力すべきリードデータの第1ビットを指定するため
のYアドレス信号AY0〜AYiが供給される。
【0041】画像メモリでは、ロウアドレスストローブ
信号RASBの立ち下がりを受けてまず内部制御信号X
Lがハイレベルとされ、少しずつ遅れて内部制御信号X
G及びPAが順次ハイレベルとされる。アドレス入力端
子A0〜Aiを介して入力されるXアドレス信号AX0
〜AXiは、内部制御信号XLがハイレベルとされるこ
とでXアドレスバッファXBに取り込まれ、内部アドレ
ス信号X0〜Xiとなる。これらの内部アドレス信号X
0〜Xiは、内部制御信号XGがハイレベルとされるこ
とでXアドレスデコーダXDによりデコードされ、その
結果としてメモリアレイMARYの対応するワード線W
sが択一的にハイレベルの選択状態とされる。これによ
り、ワード線Wsに結合されるn+1個のメモリセルが
選択状態とされ、その微小読み出し信号が対応する選択
ビット線Bs*及び非選択ビット線Bus*に出力され
る。これらの微小読み出し信号は、内部制御信号PAが
ハイレベルとされることでセンスアンプSAの対応する
単位増幅回路により増幅され、ハイレベル又はロウレベ
ルの2値読み出し信号となる。
【0042】次に、カラムアドレスストローブ信号CA
SBがロウレベルに変化されると、画像メモリでは、ま
ず内部制御信号YLがハイレベルとされ、やや遅れて内
部制御信号RYG及びSYGがハイレベルとされ、内部
制御信号RYGがハイレベルとされる間に転送制御信号
DTが一時的にハイレベルとされる。アドレス入力端子
A0〜Aiを介して入力されるYアドレス信号AY0〜
AYiは、内部制御信号YLがハイレベルとされること
でYアドレスバッファYBに取り込まれ、内部アドレス
信号Y0〜Yiとなる。これらの内部アドレス信号は、
内部制御信号RYGがハイレベルとされることでRAM
ポート用YアドレスデコーダRYDによりデコードさ
れ、その結果として対応する読み出し用ビット線選択信
号YSRsが択一的にハイレベルとされる。一方、内部
アドレス信号Y0〜Yiは、内部制御信号SYGがハイ
レベルとされることでSAMポート用Yアドレスデコー
ダSYDによってもデコードされ、その結果として対応
するレジスタ選択信号が択一的にハイレベルとされる。
なお、レジスタ選択信号は、前述のように、その第1ビ
ットが意図的に無効とされ、第2ビット以降が有効とさ
れる。
【0043】RAMポートのセンスアンプSAでは、読
み出し用ビット線選択信号YSRsが択一的にハイレベ
ルとされることで、選択ビット線Bs*に確立された2
値読み出し信号が択一的に選択され、読み出し用共通デ
ータ線CDR*を介してランダム入出力回路RIOCに
伝達される。この読み出し信号は、ランダム入出力回路
RIOCのメインアンプによって増幅された後、信号経
路FBを介してシリアル入出力回路SIOCに伝達さ
れ、リードデータの第1ビットSOD1としてシリアル
入出力端子SDIOから出力される。一方、SAMポー
トのデータレジスタDRでは、転送制御信号DTが一時
的にハイレベルとされることで、メモリアレイMARY
の選択されたワード線Wsに結合されるn+1個のメモ
リセルから対応する相補ビット線に出力されセンスアン
プSAの対応する単位増幅回路によって増幅された2値
読み出し信号がデータレジスタDRの対応する単位レジ
スタにパラレルに取り込まれる。これらのリードデータ
は、データセレクタDSLによってまずその第2ビット
が択一的に選択され、SAMポート用共通データ線SC
D*を介してシリアル入出力回路SIOCに伝達され
る。そして、リードデータの第1ビットSOD1が出力
された後、第2ビットSDO2としてシリアル入出力端
子SDIOから出力される。以下、同様な動作が繰り返
され、リードデータの第3ビット以降が順次シリアル入
出力端子SDIOから送出される。
【0044】ところで、この実施例に画像メモリのリー
ドデータ転送モードでは、前述のように、転送制御信号
DTが読み出し用ビット線選択信号YSR0〜YSRn
が択一的にハイレベルとされる間に、言い換えるならば
センスアンプSAによる相補ビット線B0*〜Bn*の
選択動作が行われている間に一時的にハイレベルとさ
れ、選択ビット線Bs*ならびに非選択ビット線Bus
*に確立された2値読み出し信号のレベルは、それまで
データレジスタDRの対応する単位レジスタに保持され
ていた反転データによってその信号振幅が一時的に圧縮
される。しかし、この実施例の画像メモリは、前述のよ
うに、ダイレクトセンス方式を採り、相補ビット線B0
*〜Bn*は、対応するセンスMOSFETを介して言
わば間接的に読み出し用共通データ線CDR*に接続状
態とされる。このため、相補ビット線B0*〜Bn*
は、読み出し用共通データ線CDR*に結合される比較
的大きな負荷容量やバイアス回路BCのレベルによって
そのレベルが影響を受けず、信号振幅の圧縮によってそ
の保持データが反転することはない。
【0045】つまり、この実施例の画像メモリでは、保
持データの反転のおそれがないために、転送制御信号D
Tのタイミングを任意に設定することが可能となり、セ
ンスアンプSAによる相補ビット線B0*〜Bn*の選
択動作が行われている間にデータレジスタDRに対する
データ転送が可能となる。この結果、対応するメモリセ
ルの保持データを破壊することなく、リードデータの第
1ビットSDO1が出力されてから第2ビットSDO2
を出力できるまでの時間つまりはリードデータ転送モー
ドのサイクルタイムtcを短縮することが可能となり、
これによって画像メモリの高速化を推進することができ
るものとなる。
【0046】以上の本実施例に示されるように、この発
明をRAMポート及びSAMポートを備える画像メモリ
等の半導体記憶装置に適用することで、次のような作用
効果を得ることができる。すなわち、 (1)リードデータ転送モードにおいてSAMポートか
らシリアルに出力されるリードデータの第1ビットをラ
ンダム入出力回路から出力し第2ビット以降をシリアル
入出力回路から出力する画像メモリ等のセンスアンプ
に、そのゲートがメモリアレイの対応する相補ビット線
に結合され対応する相補ビット線の読み出し信号を電流
信号に変換して読み出し用共通データ線に伝達するセン
スMOSFETを設け、いわゆるダイレクトセンス方式
を採ることで、メモリアレイの相補ビット線と読み出し
用共通データ線との間を直流的に分離し、選択された相
補ビット線の読み出し信号レベルに対する共通データ線
レベルの影響をなくすることができるという効果が得ら
れる。 (2)上記(1)項により、メモリセルの保持データを
破壊することなく、RAMポートにおけるビット線選択
動作とSAMポートにおけるデータレジスタへのデータ
転送とを同時に行うことができるという効果が得られ
る。 (3)上記(1)項及び(2)項により、画像メモリ等
のリードデータ転送モードのサイクルタイムを短縮し、
画像メモリ等の高速化を推進することができるという効
果が得られる。
【0047】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、画像メモリのRAMポート及びSA
Mポートは、複数のランダム入力端子及びシリアル入出
力端子を備えることができるし、各入出力端子は、入力
端子及び出力端子にそれぞれ専用化することも可能であ
る。画像メモリは、複数のメモリアレイを備えることが
できるし、これらのメモリアレイに対応して複数のXア
ドレスデコーダ及びセンスアンプならびにYアドレスデ
コーダを備えることができる。メモリアレイMARY
は、複数のサブメモリアレイからなるいわゆる分割アレ
イ方式を採ることができるし、シェアドセンス方式を採
ることもできる。SAMポート用YアドレスデコーダS
YDは、ポインタに代えて、レジスタ選択信号を順次形
成するためのアドレスカウンタを備えることができる。
画像メモリは、アドレスマルチプレクス方式を採ること
を必須条件としないし、そのブロック構成や起動制御信
号の組み合わせならびに名称等は、種々の実施形態を採
りうる。
【0048】図2において、センスアンプSAの駆動M
OSFETP3及びN11は、所定の間隔をおいて順次
オン状態とされる複数の駆動MOSFETに置き換える
ことができる。また、データレジスタDRの単位レジス
タは、センスアンプSAの単位増幅回路と同様に、所定
の内部制御信号に従って選択的に動作状態とされるもの
であってもよい。画像メモリは、複数の書き込み用共通
データ線及び読み出し用共通データ線ならびにSAMポ
ート用共通データ線を備えることができるし、メモリア
レイMARY,センスアンプSA及びデータレジスタD
Rの具体的な回路構成や電源電圧の極性及び絶対値なら
びにMOSFETの導電型等、種々の実施形態を採りう
る。
【0049】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である画像メ
モリに適用した場合について説明したが、それに限定さ
れるものではなく、例えば、複数のアクセスポートを備
える各種のメモリ集積回路やこのようなメモリ集積回路
を内蔵する論理集積回路装置等にも適用できる。本発明
は、少なくとも読み出し信号を増幅するためのセンスア
ンプとパラレル転送のためのデータレジスタとを備える
半導体記憶装置に広く適用できる。
【0050】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、リードデータ転送モードにお
いてSAMポートからシリアルに出力されるリードデー
タの第1ビットをランダム入出力回路から出力し第2ビ
ット以降をシリアル入出力回路から出力する画像メモリ
等のセンスアンプに、そのゲートがメモリアレイの対応
する相補ビット線に結合され対応する相補ビット線の読
み出し信号を電流信号に変換して読み出し用共通データ
線に伝達するセンスMOSFETを設け、いわゆるダイ
レクトセンス方式を採ることで、メモリアレイの相補ビ
ット線と読み出し用共通データ線との間を直流的に分離
し、選択された相補ビット線の読み出し信号レベルに対
する共通データ線のプリチャージ回路の影響をなくする
ことができるため、対応するメモリセルの保持データを
破壊することなく、RAMポートにおけるビット線選択
動作とSAMポートにおけるデータレジスタへのリード
データ転送とを同時に行うことができる。この結果、画
像メモリ等のリードデータ転送モードのサイクルタイム
を短縮し、画像メモリ等の高速化を推進することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用された画像メモリの一実施例を
示すブロック図である。
【図2】図1の画像メモリに含まれるメモリアレイ及び
その周辺部の一実施例を示す部分的な回路図である。
【図3】図1の画像メモリのリードデータ転送モードの
一実施例を示す信号波形図である。
【図4】従来の画像メモリに含まれるメモリアレイ及び
その周辺部の一例を示す部分的な回路図である。
【図5】図4の画像メモリのリードデータ転送モードに
おいてビット線選択後にデータ転送が行われる場合の一
例を示す信号波形図である。
【図6】図4の画像メモリのリードデータ転送モードに
おいてビット線選択中にデータ転送が行われる場合の一
例を示す信号波形図である。
【符号の説明】
RAM・・・RAMポート(ランダムアクセスポー
ト)、SAM・・・SAMポート(シリアルアクセスポ
ート)、RIOC・・・ランダム入出力回路、SIOC
・・・シリアル入出力回路、MARY・・・メモリアレ
イ、SA・・・センスアンプ、DR・・・データレジス
タ、XD・・・Xアドレスデコーダ、RYD・・・RA
Mポート用Yアドレスデコーダ、SYD・・・SAMポ
ート用Yアドレスデコーダ、PNT・・・ポインタ、X
B・・・Xアドレスバッファ、YB・・・Yアドレスバ
ッファ、TG・・・タイミング発生回路。WA・・・ラ
イトアンプ、MA・・・メインアンプ、BC・・・・バ
イアス回路、PC・・・プリチャージ回路。Qa・・・
アドレス選択MOSFET、Cs・・・情報蓄積キャパ
シタ、P1〜P3・・・PチャンネルMOSFET、N
1〜N11・・・NチャンネルMOSFET、I1〜I
3・・・CMOSインバータ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 湯川 洋介 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直交して配置されるワード線及びビット
    線ならびにこれらのワード線及びビット線の交点に格子
    状に配置されるダイナミック型のメモリセルを含むメモ
    リアレイと、上記ビット線に対応して設けられる単位レ
    ジスタならびにこれらの単位レジスタと対応するビット
    線との間に設けられ所定の転送制御信号に従って選択的
    にかつ一斉にオン状態とされる第1のスイッチ手段を含
    むデータレジスタと、上記ビット線に対応して設けられ
    る単位増幅回路ならびにそのゲートが対応するビット線
    に結合され対応するビット線の読み出し信号を電流信号
    として選択的に共通データ線に伝達するセンスMOSF
    ETを含むセンスアンプとを具備することを特徴とする
    半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 上記センスアンプは、上記共通データ線
    と対応する上記センスMOSFETとの間に設けられ対
    応するビット線選択信号に従って選択的にオン状態とさ
    れる第2のスイッチ手段を含むものであって、上記第1
    のスイッチ手段は、上記第2のスイッチ手段がオン状態
    とされる間にオン状態とされるものであることを特徴と
    する請求項1の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 上記半導体記憶装置は、RAMポート及
    びSAMポートを具備し、これらのRAMポート及びS
    AMポートに対応して設けられるランダム入出力回路及
    びシリアル入出力回路を具備するものであって、選択さ
    れたワード線に結合される複数のメモリセルから出力さ
    れ上記SAMポートを介してシリアルに出力される一連
    のリードデータは、その第1ビットが上記ランダム入出
    力回路から出力されその第2ビット以降が上記シリアル
    入出力回路から出力されるものであることを特徴とする
    請求項1又は請求項2の半導体記憶装置。
JP5112268A 1993-04-15 1993-04-15 半導体記憶装置 Pending JPH06302187A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6333884B1 (en) 1998-07-22 2001-12-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device permitting improved integration density and reduced accessing time
US6542428B2 (en) 1998-12-24 2003-04-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device allowing increase in capacity and operation speed with a suppressed layout area

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US6542428B2 (en) 1998-12-24 2003-04-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device allowing increase in capacity and operation speed with a suppressed layout area
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