JPS61294618A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS61294618A JPS61294618A JP13397685A JP13397685A JPS61294618A JP S61294618 A JPS61294618 A JP S61294618A JP 13397685 A JP13397685 A JP 13397685A JP 13397685 A JP13397685 A JP 13397685A JP S61294618 A JPS61294618 A JP S61294618A
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- Japan
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- magnetic head
- soft magnetic
- magnetic
- film
- parts
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- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特に高抗磁力を
有する磁気媒体に対し、信号の記録再生を行なうのに好
適な磁気ヘッドの製造方法に関する。
有する磁気媒体に対し、信号の記録再生を行なうのに好
適な磁気ヘッドの製造方法に関する。
近年、ビデオテープレコーダなどの記録密度を向上させ
る必要性から、記録媒体である磁気テープなどの抗磁力
は従来のａ ｏ ｏｏｅから１． ｓ ｏ Ｏｏｅへと
大幅に増加してきた。このような媒体を磁化させるため
には、強い磁界を発生できる磁気ヘッドが必要となる。
る必要性から、記録媒体である磁気テープなどの抗磁力
は従来のａ ｏ ｏｏｅから１． ｓ ｏ Ｏｏｅへと
大幅に増加してきた。このような媒体を磁化させるため
には、強い磁界を発生できる磁気ヘッドが必要となる。
従来の磁気ヘッドに用いられているフェライト系の酸化
物材料は結晶構造上では７エリ磁性を有しているため、
飽和磁束密度が翫０００ガウス以下であり、抗磁力の大
きい媒体を磁化するには能力が不足していた。このため
酸化物磁性材料よりも大きい飽和磁束密度をもつ金属材
料を用いることが必要であるが、金属材料は一般にフェ
ライトに比べて電気抵抗が小さいため、高周波における
渦電流損失が太き（なるという欠点があった。、この欠
点を補なう手段として、従来は材料を薄板化する方法や
磁束が最も飽和しやすいコアのギャップ近傍のみに金属
材料を用い、他の部分にフェライトを用いるいわゆるメ
タルインギャップ構造にする方法などが提案されていた
。
物材料は結晶構造上では７エリ磁性を有しているため、
飽和磁束密度が翫０００ガウス以下であり、抗磁力の大
きい媒体を磁化するには能力が不足していた。このため
酸化物磁性材料よりも大きい飽和磁束密度をもつ金属材
料を用いることが必要であるが、金属材料は一般にフェ
ライトに比べて電気抵抗が小さいため、高周波における
渦電流損失が太き（なるという欠点があった。、この欠
点を補なう手段として、従来は材料を薄板化する方法や
磁束が最も飽和しやすいコアのギャップ近傍のみに金属
材料を用い、他の部分にフェライトを用いるいわゆるメ
タルインギャップ構造にする方法などが提案されていた
。
しかしながら、上述したような従来の方法によると・、
材料を薄板化した場合には一応の所期の特性が得られる
が、製造上工程が多くなり高価になるという問題があり
、またメタルインギャップ構造にした場合には製造は容
易であるがフェライトと金属材料との界面が磁気ギャッ
プを形成するため、特定の周波数の整数倍の周波数の信
号の再生出力の低下が生ずるとい５問題があった。この
再生出力の低下は、本来のコアのギャップと前記の疑似
ギャップとの距離なＰとしたとき、このＰと信号波要人
との関係がｒ （ｎ ２ ）入＝ Ｐ−（１） Ｌ＋
となるところで発生する傾向があった０ここでｎは整数
である。
材料を薄板化した場合には一応の所期の特性が得られる
が、製造上工程が多くなり高価になるという問題があり
、またメタルインギャップ構造にした場合には製造は容
易であるがフェライトと金属材料との界面が磁気ギャッ
プを形成するため、特定の周波数の整数倍の周波数の信
号の再生出力の低下が生ずるとい５問題があった。この
再生出力の低下は、本来のコアのギャップと前記の疑似
ギャップとの距離なＰとしたとき、このＰと信号波要人
との関係がｒ （ｎ ２ ）入＝ Ｐ−（１） Ｌ＋
となるところで発生する傾向があった０ここでｎは整数
である。
本発明は上述した点に鑑みてなされたものであり、再生
出力の低下を抑制することのできる安価な磁気ヘッドの
製造方法を提供することを目的とする。
出力の低下を抑制することのできる安価な磁気ヘッドの
製造方法を提供することを目的とする。
本発明は酸化物軟磁性材料により形成されたコアの磁気
ギャップの少くとも一方の側の面Ｋ、バイアススパッタ
法により金属軟磁性材料の層を形成することＫより、所
期の目的を達成するようにしたものである。
ギャップの少くとも一方の側の面Ｋ、バイアススパッタ
法により金属軟磁性材料の層を形成することＫより、所
期の目的を達成するようにしたものである。
以下、本発明に係るメタルインギャップ構造の磁気ヘッ
ドの製造方法の一実施例を図面を参照して説明する。
ドの製造方法の一実施例を図面を参照して説明する。
第１図に本発明の一実施例を示す。磁気ヘッドを構成す
る一対のＭａＺｎ ：フェライト１などの酸化物軟磁性
体よりなるコアのギャップの対向面１８を、それぞれ第
１図（ａ）に示すよ５にラッピングにより表面粗さＩＡ
ｍ程度に仕上げる。次にケミカルエツチングにより加工
変質層を除去した後、２極ＲＦマグネ、トロンスパッタ
装置などにより、センダストＭ２を第１図伽）に示すよ
５に膜厚的５μ−となるよ５にスパッタとエツチングを
同時に進行させるバイアススパッタ均一法を用いて形成
する。このバイアススパッタは例えば下記に示すような
条件で行なう。
る一対のＭａＺｎ ：フェライト１などの酸化物軟磁性
体よりなるコアのギャップの対向面１８を、それぞれ第
１図（ａ）に示すよ５にラッピングにより表面粗さＩＡ
ｍ程度に仕上げる。次にケミカルエツチングにより加工
変質層を除去した後、２極ＲＦマグネ、トロンスパッタ
装置などにより、センダストＭ２を第１図伽）に示すよ
５に膜厚的５μ−となるよ５にスパッタとエツチングを
同時に進行させるバイアススパッタ均一法を用いて形成
する。このバイアススパッタは例えば下記に示すような
条件で行なう。
アルゴン圧 ｓｘｌｏＴｏｗ
スパッタ用ＲＦ Ｌ １５ Ｗ／ｅｘａ”バイアス用
電圧 ＤＣ５００Ｖ このとき下地であるフェライト１の表面の凹凸とほぼ同
様の形状となるセンダスト膜２表面２ａの凹凸は、アル
ゴンの入射方向が図中真下に向くため凹凸の山部人と谷
部Ｃとにおいては入射角が０度に近く傾斜部Ｂにおいて
は入射角が４５度に近くなり、後述する理由でエツチン
グ速度の速いＢ部でエツチングされたセンダスト膜が０
部に再付着して平担化され、センダスト膜２の表面２ａ
の表面粗さは第１図０に示すように約Ｑ、０４μｍとな
る。
電圧 ＤＣ５００Ｖ このとき下地であるフェライト１の表面の凹凸とほぼ同
様の形状となるセンダスト膜２表面２ａの凹凸は、アル
ゴンの入射方向が図中真下に向くため凹凸の山部人と谷
部Ｃとにおいては入射角が０度に近く傾斜部Ｂにおいて
は入射角が４５度に近くなり、後述する理由でエツチン
グ速度の速いＢ部でエツチングされたセンダスト膜が０
部に再付着して平担化され、センダスト膜２の表面２ａ
の表面粗さは第１図０に示すように約Ｑ、０４μｍとな
る。
上述したよ５にセンダスト膜２でギヤツブ膜ヲ形成した
後、通常の方法でダイシングマシンなどニヨり第２図に
示すように巻線溝３、ギャップ４、ガラス充填溝５を形
成した後、別忙用意したコア半体６とガラス融着し、切
断分割してメタルインギャップヘッドができる。
後、通常の方法でダイシングマシンなどニヨり第２図に
示すように巻線溝３、ギャップ４、ガラス充填溝５を形
成した後、別忙用意したコア半体６とガラス融着し、切
断分割してメタルインギャップヘッドができる。
上述した本実施例に示す製造方法によると、第３図に示
すアルゴンガスの入射角とセンダスト膜のエツチングレ
ートとの関係から明らかなよ５に、入射角４５度近辺に
おいて最もエツチング量が多いことから、前述のように
センダスト膜２の第１図６）に示すＢ部で最も多くエツ
チングされ０部へ再付着して表面が平担になる。このた
めフェライトｌとセンダスト膜２との接合界面がギャッ
プ面と平行でなくなり、（１）式におけるｎが存在しな
いため再生出力の低下は発生しない。
すアルゴンガスの入射角とセンダスト膜のエツチングレ
ートとの関係から明らかなよ５に、入射角４５度近辺に
おいて最もエツチング量が多いことから、前述のように
センダスト膜２の第１図６）に示すＢ部で最も多くエツ
チングされ０部へ再付着して表面が平担になる。このた
めフェライトｌとセンダスト膜２との接合界面がギャッ
プ面と平行でなくなり、（１）式におけるｎが存在しな
いため再生出力の低下は発生しない。
上述した実施例においては、酸化物軟磁性材料力”Ｍｎ
Ｚｔｓフェライトであり、金属軟磁性材料がセンダスト
である場合について説明したが、これらの材料は他の同
性質のものであってもよい。また前記７ｓライトの表面
仕上粗さは１μｍに限定されるものでなく、センダスト
膜の厚さも５μ肩に限定されるものではない。また本実
施例ではセンダスト膜を巻線溝を有する側のコア忙形成
した場合について説明したが、反対側のコアに形成して
も、あるいは両側のコアに形成してもよい。
Ｚｔｓフェライトであり、金属軟磁性材料がセンダスト
である場合について説明したが、これらの材料は他の同
性質のものであってもよい。また前記７ｓライトの表面
仕上粗さは１μｍに限定されるものでなく、センダスト
膜の厚さも５μ肩に限定されるものではない。また本実
施例ではセンダスト膜を巻線溝を有する側のコア忙形成
した場合について説明したが、反対側のコアに形成して
も、あるいは両側のコアに形成してもよい。
上述したように本発明によれば、酸化物軟磁性体のコア
半休の対向面の少くとも一方の面を粗（仕上げ、この面
上に金属軟磁性体をバイアススパッタ法で形成して表面
を平担にして、平担なギャップ対向面を持たせたもので
あるから、再生出力の低下を防ぐことができる。
半休の対向面の少くとも一方の面を粗（仕上げ、この面
上に金属軟磁性体をバイアススパッタ法で形成して表面
を平担にして、平担なギャップ対向面を持たせたもので
あるから、再生出力の低下を防ぐことができる。
第１図は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の一実施例
による工程を示す断面図、第２図は本実施例により製造
された磁気ヘッドを示す斜視図、第３図はアルゴンガス
の入射角とセンダスト膜のエツチングレートとの関係な
示すグラフである。 ｌ・・・ＭｎＺｎフェ２イト（酸化物軟磁性材料）１ａ
・・・対向面（接合面） ２・−センダスト膜（金属軟磁性材料）４・・・磁気ギ
ャップ 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第１図
による工程を示す断面図、第２図は本実施例により製造
された磁気ヘッドを示す斜視図、第３図はアルゴンガス
の入射角とセンダスト膜のエツチングレートとの関係な
示すグラフである。 ｌ・・・ＭｎＺｎフェ２イト（酸化物軟磁性材料）１ａ
・・・対向面（接合面） ２・−センダスト膜（金属軟磁性材料）４・・・磁気ギ
ャップ 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第１図
Claims (2)
- （１）酸化物軟磁性材料により形成されたコアの磁気ギ
ャップの少くとも一方の側に隣接して金属軟磁性材料を
設けた磁気ヘッドの製造方法において、前記コアの磁気
ギャップ面にバイアススパッタ法により前記金属軟磁性
材料の層を形成するようにしたことを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。 - （２）前記酸化物軟磁性体の前記金属軟磁性体との接合
面を０．５〜２．０μｍの粗さに形成したことを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13397685A JPS61294618A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13397685A JPS61294618A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294618A true JPS61294618A (ja) | 1986-12-25 |
Family
ID=15117473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13397685A Pending JPS61294618A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61294618A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01133204A (ja) * | 1987-07-14 | 1989-05-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH01173415A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-10 | Nippon Chemicon Corp | 磁気ヘッド |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51140708A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-03 | Victor Co Of Japan Ltd | Magnetic head |
| JPS5558824A (en) * | 1978-10-24 | 1980-05-01 | Sanyo Electric Co Ltd | Magnetic head |
| JPS5732369A (en) * | 1980-07-31 | 1982-02-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Sputtering and vapor-depositing method and formation of magnetic gap by said method |
-
1985
- 1985-06-21 JP JP13397685A patent/JPS61294618A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51140708A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-03 | Victor Co Of Japan Ltd | Magnetic head |
| JPS5558824A (en) * | 1978-10-24 | 1980-05-01 | Sanyo Electric Co Ltd | Magnetic head |
| JPS5732369A (en) * | 1980-07-31 | 1982-02-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Sputtering and vapor-depositing method and formation of magnetic gap by said method |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01133204A (ja) * | 1987-07-14 | 1989-05-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH01173415A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-10 | Nippon Chemicon Corp | 磁気ヘッド |
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